CN104155795B - Cf基板的对组标记的制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种CF基板的对组标记的制作方法，包括：步骤1、提供CF基板(1)；步骤2、在所述CF基板(1)上形成有机材料层(2)的同时，于CF基板(1)上有效显示区的外围区域形成数个与所述有机材料层(2)同样材质的对组标记(3)，用于与TFT基板对组时对位；步骤3、对所述对组标记(3)进行黑化处理，使得该对组标记(3)在CCD探测时的识别度提高。该方法能够提高CCD探测时对对组标记的识别度，从而使得此种对组标记能为后续制程提供明确的对位基准。

Description

CF基板的对组标记的制作方法
技术领域
本发明涉及液晶显示技术领域，尤其涉及一种CF基板的对组标记的制作方法。
背景技术
液晶显示装置(Liquid Crystal Display，LCD，)具有机身薄、省电、无辐射等众多优点，得到了广泛的应用。如：液晶电视、移动电话、个人数字助理(PDA)、数字相机、计算机屏幕或笔记本电脑屏幕等。
通常液晶显示装置包括壳体、设于壳体内的液晶显示面板及设于壳体内的背光模组(Backlight module)。其中，液晶显示面板的结构主要是由一薄膜晶体管阵列基板(ThinFilm Transistor Array Substrate，TFT Array Substrate)、一彩色滤光片基板(ColorFilter，CF)、以及配置于两基板间的液晶层(Liquid Crystal Layer)所构成，其工作原理是通过在两片玻璃基板上施加驱动电压来控制液晶层的液晶分子的旋转，将背光模组的光线折射出来产生画面。
如图1所示，在传统液晶显示面板架构中，CF基板100的第一道制程为形成黑色矩阵(Black Matrix，BM)200，所述黑色矩阵200会形成像素区的遮光结构，同时该第一道制程还在像素区外围形成与所述黑色矩阵200的材质相同的对组标记300，用于为该CF基板100与TFT基板对组时提供对位基准。
随着液晶显示技术的发展，出现了一系列能够提高液晶显示面板的开口率的新技术，将黑色矩阵设置于TFT基板上的BOA(BM on Array)技术便是其中的一种。
但BOA技术也存在一些问题，如图2所示，由于BOA架构的面板中，黑色矩阵制作于TFT基板上，会导致另一侧的CF基板100’上仅剩色阻、光阻间隔物(Photo spacer，PS)200’、ITO像素电极等结构，而缺少高光学密度(Optical Density，OD)的材料，由于感光耦合探测器(Charge Coupled Device，CCD)对光学密度低的材料识别度不高，导致不能在CF基板上形成与传统架构液晶显示面板相同的对组标记，无法为后续制程提供明确的对位基准。
发明内容
本发明的目的在于提供一种CF基板的对组标记的制作方法，能够提高CCD探测时对对组标记的识别度，从而使得此种对组标记能为后续制程提供明确的对位基准。
为实现上述目的，本发明提供一种CF基板的对组标记的制作方法，包括如下步骤：
步骤1、提供CF基板；
步骤2、在所述CF基板上形成有机材料层的同时，于CF基板上有效显示区的外围区域形成数个与所述有机材料层同样材质的对组标记，用于与TFT基板对组时对位；
步骤3、对所述对组标记进行黑化处理，使得该对组标记在CCD探测时的识别度提高。
所述CF基板为BOA架构液晶显示面板中的CF基板。
所述步骤2中有机材料层为CF基板上的任意有机结构层。
所述步骤2中有机材料层为所述CF基板上所形成的第一层有机材料层。
所述步骤2中有机材料层为光阻间隔物层。
所述步骤3通过对应每一对组标记设定一处理区域的位置与尺寸，在所述处理区域的范围内采用增强方式对所述对组标记进行黑化处理。
所述处理区域完全覆盖所述对组标记，且所述处理区域的面积大于所述对组标记的面积。
通过由机台平台提供坐标信息，再通过光罩对所述坐标信息进行校准来最终确定所述处理区域的位置与尺寸，所述处理区域的尺寸由机台平台的定位精度、所述有机材料层的黄光制程精度共同决定。
所述增强方式为激光灼烧、紫外曝光、或碳化。
所述对组标记设于所述CF基板每相邻两边的相交处。
本发明的有益效果：本发明提供的CF基板的对组标记的制作方法，在CF基板上形成与有机材料层同样材质的对组标记，并对该对组标记进行黑化处理，提高了对组标记的光学密度，能够提高CCD探测时对对组标记的识别度，从而使得此种对组标记能为后续制程提供明确的对位基准。
为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本发明加以限制。
附图说明
下面结合附图，通过对本发明的具体实施方式详细描述，将使本发明的技术方案及其他有益效果显而易见。
附图中，
图1为传统液晶显示面板CF基板的示意图；
图2为现有BOA架构液晶显示面板CF基板的示意图；
图3为本发明CF基板的对组标记的制作方法的流程图；
图4为本发明CF基板的对组标记的制作方法的步骤2的示意图；
图5-图7为本发明CF基板的对组标记的制作方法的步骤3的示意图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明所采取的技术处理及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
请参阅图2至图7，本发明提供一种CF基板的对组标记的制作方法，包括如下步骤：
步骤1、提供CF基板1。
所述CF基板1为BOA架构液晶显示面板中的CF基板。由于BOA架构的液晶显示面板将黑色矩阵制作于TFT基板上，因此该步骤1中的CF基板1上不具有高光密度的材料，也不具有与传统架构液晶显示面板相同的对组标记。
步骤2、如图4所示，在所述CF基板1上形成有机材料层2的同时，于CF基板1上有效显示区的外围区域形成数个与所述有机材料层2同样材质的对组标记3。
具体的，所述有机材料层2可以是所述CF基板1上的任意有机结构层，如光阻间隔物层、色阻层等，并且使用与所述有机材料层2相同的材质形成对组标记3。进一步的，为了保证后续制程的精度，选择该有机材料层2为CF基板1上所形成的第一层有机层。优选的，所述有机材料层2为光阻间隔物层。
所述对组标记3位于所述CF基板1每相邻两边的相交处。由于此时对组标记3的材质为与有机材料层2同样的有机材料，其光学密度值很低，在CCD下很难识别，因此需要在后续步骤中对所述对组标记3进行黑化处理。
步骤3、请同时参阅图5-图7，对所述对组标记3进行黑化处理，使得该对组标记3在CCD探测时的识别度提高。
该步骤3的具体实施过程为：首先，对应每一对组标记3设定一处理区域4，通过由机台平台提供坐标信息，再通过光罩对所述坐标信息进行校准来最终确定所述处理区域4的位置与尺寸。然后如图6所示，在该处理区域4的范围内采用激光灼烧、紫外曝光、或碳化等增强方式对对组标记3进行黑化处理，提高所述对组标记3的光学密度值，从而提高CCD探测时对所述对组标记3的识别度，为后续制程提供明确的对位基准。
所述处理区域4的尺寸由机台平台的定位精度、所述有机材料层2的黄光制程精度等共同决定。如图7所示，为了使对组标记3完全得到黑化处理，所述处理区域4完全覆盖所述对组标记3，且所述处理区域4的面积大于所述对组标记3的面积。值得一提的是，在进行黑化处理时，所述对组标记3不一定位于处理区域4的正中心位置，只需保证对组标记3在处理区域4的范围内，被该处理区域4完全覆盖，能够被黑化完全即可。
综上所述，本发明提供的CF基板的对组标记的制作方法，在CF基板上形成与有机材料层同样材质的对组标记，并对该对组标记进行黑化处理，提高了对组标记的光学密度，能够提高CCD探测时对对组标记的识别度，从而使得此种对组标记能为后续制程提供明确的对位基准。
以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明后附的权利要求的保护范围。

Claims (9)

1.一种CF基板的对组标记的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤1、提供CF基板(1)；
步骤2、在所述CF基板(1)上形成有机材料层(2)的同时，于CF基板(1)上有效显示区的外围区域形成数个与所述有机材料层(2)同样材质的对组标记(3)，用于与TFT基板对组时对位；
步骤3、对所述对组标记(3)进行黑化处理，提高所述对组标记(3)的光学密度值，使得该对组标记(3)在CCD探测时的识别度提高；
所述步骤3通过对应每一对组标记(3)设定一处理区域(4)的位置与尺寸，在所述处理区域(4)的范围内采用黑化增强方式对所述对组标记(3)进行黑化处理。
2.如权利要求1所述的CF基板的对组标记的制作方法，其特征在于，所述CF基板(1)为黑色矩阵设置于TFT基板架构液晶显示面板中的CF基板。
3.如权利要求1所述的CF基板的对组标记的制作方法，其特征在于，所述步骤2中有机材料层(2)为CF基板(1)上的任意有机结构层。
4.如权利要求3所述的CF基板的对组标记的制作方法，其特征在于，所述步骤2中有机材料层(2)为所述CF基板(1)上所形成的第一层有机材料层。
5.如权利要求4所述的CF基板的对组标记的制作方法，其特征在于，所述步骤2中有机材料层(2)为光阻间隔物层。
6.如权利要求1所述的CF基板的对组标记的制作方法，其特征在于，所述处理区域(4)完全覆盖所述对组标记(3)，且所述处理区域(4)的面积大于所述对组标记(3)的面积。
7.如权利要求1所述的CF基板的对组标记的制作方法，其特征在于，由机台平台提供坐标信息，再通过光罩对所述坐标信息进行校准来最终确定所述处理区域(4)的位置与尺寸，所述处理区域(4)的尺寸由机台平台的定位精度、所述有机材料层(2)的黄光制程精度共同决定。
8.如权利要求1所述的CF基板的对组标记的制作方法，其特征在于，所述黑化增强方式为激光灼烧、紫外曝光或碳化。
9.如权利要求1所述的CF基板的对组标记的制作方法，其特征在于，所述对组标记(3)设于所述CF基板(1)每相邻两边的相交处。
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