JP2005215180A - 液晶表示装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 額縁部104の凹パターンの形状を表示領域102の凹パターンと異ならせて、凹パターンを駆動回路上や配線パターン32上を避けて配置することにより、あるいは凹パターンを保護パターンで被う。また、額縁部104に表示領域102と同等の面積密度の凹パターンを形成した後に、柱状スペーサ25、50を形成する際に、その柱状スペーサ50で額縁部104に形成された透明絶縁膜層の凹パターンを埋めるようにパターンニングする。
【選択図】 図2
Description
以下、図面を参照しながら本発明に係わる液晶表示装置の実施の形態について説明する。
本発明の第2の実施の形態を、既に示した図1へ適用した場合における概略断面図を図3に示す。この図3に示す第2の実施の形態では、額縁部104の駆動回路や配線パターン40の幅が比較的大きいため、表示領域102と額縁部104で同じ面積密度のマルチギャップ穴41を形成する場合において、駆動回路上や配線パターン40上にマルチギャップ穴41を形成せざるを得ない場合の例である。
図4に、本発明の第3の実施の形態を説明するための断面図を示す。この図4に示されるのは、既に示した図2に記載の断面図において、額縁部104のマルチギャップ穴19の部分に有機絶縁膜16を残して塞いだ状態である。この構造は、額縁部104と表示領域102のそれぞれの領域にマルチギャップ穴19を形成する際に、不要な部分の有機絶縁膜16の除去をハーフエッチング処理により行うことで実現できる。このハーフエッチング処理によれば、通常のエッチング工程と同様の工程でありながら、エッチング時間を額縁部104にかかる部分のみ少なく(半分程度に)するだけの処理で、額縁部104にかかるマルチギャップ穴19を有機絶縁膜16で塞ぐことができる。
図5は、本発明を適用した第4の実施の形態による液晶表示装置の表示領域102と額縁部104の構造を示している。この額縁部104には図示しない駆動回路や配線パターン32が配置されている。これらの配線パターン32等を覆うように上層の有機絶縁膜16と下層の層間絶縁膜33が形成されている。有機絶縁膜16の表面には、マルチギャップ用凹パターンとは別に、反射表示時の視角特性を改善するための凹凸パターンが設けられている。また有機絶縁膜16には、液晶層13の厚みに差をつけるための凹パターンとして、マルチギャップ穴19が下層の層間絶縁膜33に至る深さまで開いている。
13 液晶層
16 有機絶縁膜
17 透過画素電極
18 反射画素電極
19 マルチギャップ穴
25、50 柱状スペーサ
30 バックライトユニット
32 配線パターン
33 層間絶縁膜
100 アレイ基板
102 表示領域
104 額縁部
200 対向基板
Claims (5)
- マトリクス状に配置された複数の信号線及び複数の走査線、前記信号線と走査線の各交差部に配置されたスイッチング素子、前記信号線と前記走査線と前記スイッチング素子を覆うように配置された透明絶縁膜層、前記透明絶縁膜層に形成されたスルーホールを介して前記スイッチング素子の各々に電気的に接続された複数の画素電極を有する表示領域と、前記表示領域の周辺に形成され前記表示領域に信号を供給する駆動回路と配線を有する額縁部とが形成されたアレイ基板と、
前記画素電極と相対する対向電極が形成された対向基板と、
前記両基板間に充填された液晶層とを備え、
前記画素電極は、外光を反射して画像を表示する反射画素電極と、バックライト光を透過して画像を表示する透過画素電極とからなり、
前記反射画素電極上と前記透過画素電極上とで液晶層の厚みを異ならせる為に、前記透過画素電極下の前記透明絶縁膜層には凹パターンが形成され、
前記額縁部には、前記表示領域と同等の面積密度の前記凹パターンが形成される液晶表示装置において、
前記額縁部の凹パターンが前記駆動回路上と前記配線上とを避けて配置されていることを特徴とする液晶表示装置。 - マトリクス状に配置された複数の信号線及び複数の走査線、前記信号線と走査線の各交差部に配置されたスイッチング素子、前記信号線と前記走査線と前記スイッチング素子を覆うように配置された透明絶縁膜層、前記透明絶縁膜層に形成されたスルーホールを介して前記スイッチング素子の各々に電気的に接続された複数の画素電極を有する表示領域と、前記表示領域の周辺に形成され前記表示領域に信号を供給する駆動回路と配線を有する額縁部とが形成されたアレイ基板と、
前記画素電極と相対する対向電極が形成された対向基板と、
前記両基板間に充填された液晶層とを備え、
前記画素電極は、外光を反射して画像を表示する反射画素電極と、バックライト光を透過して画像を表示する透過画素電極とからなり、
前記反射画素電極上と前記透過画素電極上とで液晶層の厚みを異ならせる為に、前記透過画素電極下の前記透明絶縁膜層には凹パターンが形成され、
前記額縁部には、前記表示領域と同等の面積密度の前記凹パターンが形成される液晶表示装置において、
前記額縁部の前記凹パターンが被覆部材により被覆されていることを特徴とする液晶表示装置。 - 前記被覆部材は、
前記反射画素電極あるいは前記透過画素電極あるいは前記反射画素電極と前記透過画素電極との両方であることを特徴とする請求項2に記載の液晶表示装置。 - 前記被覆部材は、
前記アレイ基板と前記対向基板との間隔を規定する複数の柱状スペーサであることを特徴とする請求項2に記載の液晶表示装置。 - 前記被覆部材は、
前記透明絶縁膜層であることを特徴とする請求項2に記載の液晶表示装置。
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JP2006301451A (ja) * | 2005-04-22 | 2006-11-02 | Sharp Corp | 液晶表示装置 |
JP2009157295A (ja) * | 2007-12-28 | 2009-07-16 | Casio Comput Co Ltd | 液晶表示素子 |
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