JP2003090902A - 反射防止賦形フィルム及びそれを用いた反射防止加工方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光反射低減、及び表示視認性向上ができる、
微細凹凸による反射防止加工を、生産性良く低コストで
出来る様にする。 【解決手段】 反射防止賦形フィルム１０として、離型
性基材フィルム１の賦形面Ｅに、特定の微細凹凸２Ａを
設けたフィルムを使って、基材３に賦形すれば所望の反
射防止物品２０が得られる。微細凹凸２Ａの形状は、微
細凹凸の最凹部に於ける周期をＰ_MAXを、可視光の波長
帯域の真空中に於ける最小波長λ_MIN以下、水平断面内
での離型性基材フィルム材料部分の断面積占有率が、微
細凹凸の最凹部から最凸部に行くに従って連続的に漸次
減少して行く様な形状とする。反射防止加工は、例えば
射出成形型内にこのフィルムを装着し、その賦形面に加
熱溶融等で流動状態の樹脂を接触させて固化させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、携帯電話
機の液晶表示部等に用いる各種物品へ、反射防止機能を
付与する為の反射防止賦形フィルムと、それを用いた反
射防止加工方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】現在、液晶表示ディスプレイ（ＬＣＤ）
等を表示部に利用した携帯電話機等の各種機器の普及に
は目覚しいものがある。そして、この様な表示部を有す
る場合、その表示をより確実にし、また高機能なものと
する為に、各種工夫が成されることが多い。例えば、携
帯電話機等では、その表示部を、水、塵、外力等から保
護するために、ＬＣＤ等による表示パネルを露出させ
ず、外側に透明プラスチック板等による窓材を設けた構
成として保護する事が多い（特開平７−６６８５９号公
報等参照）。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、表示パ
ネルを保護する等の為に、その前方に窓材等を設ける
と、窓材の表裏両面で外光が反射し、表示の視認性が低
下するという問題があった。また、表示パネルの低消費
電力化が重要な要素である携帯電話機等では、表示の視
認性低下の他に更に、窓材の反射によって、表示パネル
からの光の一部が表示パネル側に戻される為に、表示パ
ネルの光の利用効率が低下し、その分、無駄な電力が消
費されているという問題もあった。

【０００４】そこで、反射防止が必要な各種物品に対し
て、例えば、蒸着、スパッタリング、或いは塗工等の手
法によって単層或いは低屈折率層と高屈折率層との多層
膜からなる反射防止層を設ける（特開２００１−１２７
８５２号公報等参照）等の技術が提案されている。しか
し、蒸着、スパッタリング等による反射防止層は、１回
又は多数回のバッチ処理により、屈折率を制御した薄膜
を形成する必要があるので、製品の安定性、良品率等に
問題がある上、バッチ式生産となるので、生産性が低
い。更に、前記した窓材を例にとれば、一旦射出成形で
成形品を作製してから、この成形品に蒸着等で反射防止
層を形成する為に、製造が２工程となる点でも生産性が
低かった。この為、反射防止加工は、生産コストが高い
という問題もあった。或いはまた、反射防止処理として
は、梨地処理によって光反射を低減する方法もあるが、
この方法では光を拡散させる点で、光の利用効率を上げ
ることはできない、という問題があった。

【０００５】そこで、本出願人は、これら従来技術に於
ける問題点を解決すべく、特開昭５０−７００４０号公
報に開示された、極めて微細な微細凹凸を表面に設ける
ことによって表面反射率を減少させる技術を、応用する
ことを試みた。但し、同号公報に開示された技術は、表
面反射を減らすべきレンズ等の光学部品に対して、その
表面にフォトレジスト等を塗布し、露光し、現像する等
して、該表面に一品毎に直接に、微細凹凸を作製する方
法であるので、作業能率が悪く、前記した携帯電話機の
窓材等の大量生産品に対しては、工業生産に必要な生産
性（量産性）は得られない。この為、本出願人は、微細
凹凸を、一旦、原版（マザー版）とするガラス基材上に
作製してから、このマザー版から、コンパクトディスク
の製造ライン等で用いられているニッケル電鋳法を利用
して、金属製の（賦形型）マスター版を作製し、このマ
スター版を、射出成形機の金型内に取りつけて、透明樹
脂を射出成形することで、透明な窓材の射出成形と同時
に、窓材の裏面に所望の反射防止性能を有する微細凹凸
を作製する事に成功した（特願２００１−１８５９６５
号：本特許出願時未公開）。この方法によれば、窓材の
作製後に、追加的に反射防止加工処理を行う事も無く、
成形と反射防止加工とが１工程で行え、しかも大量生産
可能な生産性も備えた方法となる。

【０００６】しかし、更なる生産性向上を考えた場合、
解決が望ましい次の様な課題が残った。すなわち、それ
は、賦形型は入れ子等として金型に組み込む関係上、金
型自体の一部であり、作業中に賦形型の表面が傷付いて
損傷した場合等では、金型交換が必要であり、その間は
生産が停止してしまい、しかも、金型交換は時間もかか
るという問題があった。従って、連続生産性が必ずしも
良い方法ではなかった。また、交換用の金型を製造する
為には、費用、時間とも多大なものとなると言う問題点
があった。

【０００７】すなわち、本発明の課題は、光の無駄な反
射を減らし、表示の視認性を向上させると共に、表示光
の光の利用効率も上げられる微細凹凸による反射防止加
工を、連続生産に適して生産性が良く、低コストで出来
る反射防止賦形フィルムと、それを用いた反射防止加工
方法を提供することである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】そこで、上記課題を解決
すべく、本発明による反射防止賦形フィルムは、離型性
基材フィルムの賦形面に、反射防止用の微細凹凸が形成
されて成る反射防止賦形フィルムであって、該微細凹凸
は、可視光の波長帯域の真空中に於ける最小波長をλ
_MIN、該微細凹凸の最凹部に於ける周期をＰ_MAXとしたと
きに、 Ｐ_MAX≦λ_MIN なる関係を有し、且つ該微細凹凸をその凹凸方向と直交
する面で切断したと仮定したときの断面内に於ける離型
性基材フィルムの材料部分の断面積占有率が、該微細凹
凸の最凹部から最凸部に行くに従って連続的に漸次減少
して行く様な凹凸である構成とした。

【０００９】この様な構成の反射防止賦形フィルムとす
ることで、この賦形フィルムを用いて、物品表面に微細
凹凸を賦形すれば、所望の反射防止機能を付与した反射
防止物品が得られる。しかも、その反射防止機能は、表
示の視認性を向上させると共に、表示光の光の利用効率
も上げられる。また、賦形フィルムというフィルム形態
の賦形型であるので、物品の一品毎に新しい賦形型（フ
ィルム）を使う、「使い捨て（切り）」の使用が実用上
可能となるので、賦形型（フィルム）の賦形面に傷が付
いたとしても、フィルム交換のみで修復でき、入れ子等
のブロック状の賦形型を取り替えたり、作り変えたりす
る面倒な作業が必要なくなる。従って、射出成形で射出
成形型内に賦形型を配置して物品の成形と同時にその表
面に反射防止加工を行う場合でも、賦形型の傷付きによ
る面倒な型交換による生産性低下は発生せず、生産性が
向上する。また、賦形フィルムというフィルム形態で
は、連続帯状で使用する事もできる為、使い回しも容易
であるので、物品一品毎に新たな賦形フィルム（面）
を、容易に供給できる。従って、反射防止加工を生産性
（量産性）良く低コストで実施できる。

【００１０】また、本発明の反射防止加工方法では、上
記本発明の反射防止賦形フィルムを用い、その賦形面
に、流動状態樹脂を接触させた後、該樹脂を固化させ、
而る後、反射防止賦形フィルムを固化した樹脂から剥離
することで、該樹脂面に、微細凹凸による反射防止機能
を付与する様にした。

【００１１】この様な反射防止加工方法とすることで、
樹脂からなる物品の表面に、所望の反射防止機能が付与
された反射防止物品が容易に得られる。しかも、その反
射防止機能は、表示の視認性を向上させると共に、表示
光の光の利用効率も上げられる。また、賦形型としてフ
ィルム形態の型を使用するので、上記反射防止賦形フィ
ルムによる作用効果で述べた如く、反射防止加工を生産
性（量産性）良く低コストで実施できる。なお、流動状
態の樹脂を賦形面に接触させるには、例えば、射出成形
法、キャスティング方法等が挙げられる。そして、流動
状態の樹脂の固化による反射防止物品の形状発現（成
形）と、その反射防止加工とが同時に１工程で完了する
点でも、生産性が良く低コストとなる。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を説明
する。

【００１３】〔概要〕先ず、図１（Ａ）は、本発明の反
射防止賦形フィルム１０の一形態を例示する断面図であ
る。同図の如く、本発明の反射防止賦形フィルム１０
は、離型性基材フィルム１の片面に、これらか詳述する
本発明特有の微細凹凸２Ａが形成された構成の賦形フィ
ルムである。該微細凹凸２Ａは、光波長以上の大きさの
凹凸によるマット面（艶消し）を利用して光を散乱（拡
散反射）させる方式の従来公知の反射防止処理乃至は防
眩処理とは異なり、可視光線の波長以下の大きさの本発
明特有の形状の凹凸である。なお、本発明の説明では、
微細凹凸について、反射防止賦形フィルム上のものと基
材上のものとを含めて言及する場合は別として、反射防
止賦形フィルム上のものは微細凹凸２Ａ、それが基材上
に賦形されて逆凹凸形状となったものは微細凹凸２とし
て、符号の違いで区別して使用する。

【００１４】そして、図１（Ｂ）は、図１（Ａ）の如き
本発明の反射防止賦形フィルム１０によって、その微細
凹凸２Ａとは逆凹凸形状の微細凹凸２が、基材３の表面
に賦形された反射防止物品２０の一例を概念的に示す断
面図である。基材３の表面に微細凹凸２を賦形するに
は、好適には、本発明の反射防止加工方法として、例え
ば、上記反射防止賦形フィルムを射出成形型内に挿入し
た状態で、樹脂を射出成形することで得られる。

【００１５】〔微細凹凸〕反射防止賦形フィルム１０が
有する微細凹凸２Ａによって、基材３表面に賦形された
所望の微細凹凸２が反射防止効果を有する理由は、該微
細凹凸２によって、基材と、外界（空気）との間の急激
で不連続な屈折率変化を、連続的で漸次変化する屈折率
変化に変えることが可能となるからである。それは、光
の反射は、物質界面の不連続な急激な屈折率変化によっ
て生じる現象であるから、物品表面に於ける屈折率変化
を、空間的に連続的に変化する様にすることによって、
該物品面に於ける光反射が減るのである。なお、反射防
止物品２０の基材３は、通常は透明で光は透過するが、
不透明の物であっても、その表面反射を低下する反射防
止効果は得られる。

【００１６】以下、反射防止賦形フィルムが有する微細
凹凸２Ａを賦形する事で、基材３に形状される微細凹凸
２が、反射防止効果を有する理由について、基材３が透
明である場合で詳述する。

【００１７】図２〜図４は、反射防止物品の表面に賦形
された微細凹凸２によって得られる屈折率分布を、概念
的に説明する概念図である。先ず、図２は、微細凹凸２
が表面に賦形された反射防止物品２０を構成する透明な
基材３について、該基材３が、Ｚ≦０の部分の空間を占
め、該基材の面、すなわちＺ＝０に於けるＸＹ平面上
に、Ｚ軸方向を凹凸方向とする多数の微細凹凸２が配置
された状態を示す。

【００１８】そして、本発明が反射防止賦形フィルム１
０上の微細凹凸２Ａを、その最凹部に於ける周期をＰ
_MAXとしたときに、このＰ_MAXが、可視光の波長帯域の真
空中に於ける最小波長をλ_MIN以下としてあるのは、該
微細凹凸２Ａの賦形により形成される基材３表面の微細
凹凸２は逆凹凸形状となるので、該微細凹凸２につい
て、図２の如く、その最凸部２ｔに於ける周期をＰ_MAX
としたときに、このＰ_MAXが、可視光の波長帯域の真空
中に於ける最小波長をλ_MIN以下となる様にする為であ
る。微細凹凸２Ａをこの様な形状としてある為、それが
賦形された微細凹凸２の形成面への到達光に対しては、
媒質（基材、及び空気）の屈折率に空間的な分布があっ
ても、それは注目する波長以下の大きさの分布である為
に、その分布がそのまま直接に光に作用せず、それが平
均化されたものとして作用する。従って、平均化された
後の屈折率（有効屈折率）が光が進行するに従って連続
的に変化する様な分布にしておけば、光の反射を防げる
のである。

【００１９】なお、本発明に於いて、（微細凹凸２Ａに
於ける）最凹部（すなわち、図２で示す微細凹凸２での
最凸部２ｔに該当。）に於ける周期Ｐ_MAXとは、隣接す
る微細凹凸２Ａの最凹部間の距離のうち最大の距離であ
って、個々の微細凹凸２Ａが規則的に配置され周期性を
有する（隣接する微細凹凸２Ａ同士間の距離が同一）構
成でも良いが、周期性が無い（隣接する微細凹凸２Ａ同
士間の距離が不揃い）構成でも良い。

【００２０】そして、図２では、直交座標系として、基
材３の包絡面に立てた法線方向にＺ軸を、また、それと
直交する平面内にＸ軸、Ｙ軸をとる。そして、今、光が
表面側から基材に入光して、該基材内部を進み、該基材
の表面近傍をＺ軸の負方向に向かって進行しつつあり、
丁度、Ｚ軸座標がｚのところに存在するとする。

【００２１】すると、ここのＺ＝ｚに居る光にとって
は、媒体の屈折率は基材が特定の微細凹凸２をなす為、
厳密には、Ｚ＝ｚに於いてＺ軸と直交するＸＹ平面（横
断面：水平断面）内に於いて、分布ｆ（ｘ，ｙ，ｚ）を
持つ様に見える。すなわち、ＸＹ平面内に於いて、基材
３の断面部分は屈折率ｎ_b（１．５程度）、其の他の部
分、具体的には空気ａの部分は屈折率ｎ_a（＝１．０程
度）となる（図３参照）。ところが実際には、光にとっ
ては、その波長（反射防止の対象とする光の波長が分布
を有する場合は、その波長帯域の最小波長λ_MINを考え
れば良い。）よりも小さな空間的スケールの屈折率分布
は、平均化されたものとして作用する結果、平均化され
た結果の有効屈折率は、前記ＸＹ平面内に於いて、屈折
率分布ｆ（ｘ，ｙ，ｚ）をＸＹ平面内に於いて積分した
もの、

【００２２】

【数１】

【００２３】となる。その結果、有効屈折率（ｎ_ef）の
分布はｚのみの関数ｎ_ef（ｚ）となる（図４参照）。

【００２４】よって、もしも、微細凹凸２に於ける基材
の凸部の断面積が、凹部に向かって連続的に増大する様
な形状であれば（ＸＹ平面内に於ける）基材部分と空気
部分との面積比がＺ軸方向に向かって連続的に変化する
為、有効屈折率ｎ_ef（ｚ）はｚに付いての連続関数にな
る。

【００２５】一方、屈折率ｎ₀の媒質から、屈折率ｎ₁の
媒質に光が入射する場合を考える。今、簡単の為に、入
射角θ＝０°（垂直入射）を考える。但し、入射角は入
射面の法線に対する角度とする。この場合、媒質界面で
の反射率Ｒは、偏光、及び入射角には依存せず、下記の
〔式２〕となる。

【００２６】

【数２】

【００２７】従って、（有効）屈折率のＺ方向への変化
が連続関数であるということは、Ｚ方向（光の進行方
向）に微小距離Δｚ隔てた２点、Ｚ＝ｚに於ける屈折率
をｎ₀、Ｚ＝ｚ＋Δｚに於ける屈折率をｎ₁、としたとき
に、

【００２８】Δｚ→０ ならば、 ｎ₁→ｎ₀

【００２９】となり（連続関数の定義より）、よって、
〔式２〕より、

【００３０】Ｒ→０

【００３１】となる。

【００３２】なお、ここで、より厳密に言うと、物体中
での光の波長は、真空中の波長をλ、物体の屈折率をｎ
としたときに、λ／ｎとなり、λよりは一般に或る程度
小となる。但し、物体が空気の場合の屈折率はｎ≒１の
為、λ／ｎ≒λと考えて良い。但し、硝子、アクリル樹
脂等の基材に使われる材料は、通常１．５前後の屈折率
である為、屈折率ｎ_bの基材中の波長（λ／ｎ_b）は、
０．７λ程度となる。この点を考慮すると、微細凹凸２
の部分に於いて、空気の側の部分（微細凹凸２の凹部）
について見れば、

【００３３】Ｐ_MAX≦λ_MIN

【００３４】の条件を満たすとき、屈折率平均化による
反射率低減効果が期待出来る。但し、

【００３５】λ_MIN／ｎ_b≦Ｐ_MAX≦λ_MIN

【００３６】である場合は、基材３の部分（微細凹凸２
の凸部）の寄与について見れば、屈折率平均化による反
射率低減効果は、少なくとも完全には期待出来ないこと
になる。しかし、それでも、空気部分に於ける寄与の
為、全体としては反射防止効果を有する。そして、

【００３７】Ｐ_MAX≦λ_MIN／ｎ_b

【００３８】の条件までも満たす場合は、空気部分、基
材部分とも、周期Ｐ_MAXが、最短波長よりも小さいと言
う条件が完全に満たされる為、屈折率平均化による反射
防止効果は、より完全となる。具体的には、λ_MINを可
視光波長帯域の下限３８０ｎｍ、ｎ_bを仮に１．５とす
れば、λ_MIN／ｎ_bは２５０ｎｍ、つまりＰ_MAXは２５０
ｎｍ以下とすれば良い。

【００３９】次に、賦形後の形状である微細凹凸２の形
状は、微細凹凸２をその凹凸方向と直交する面（ＸＹ平
面）で切断したと仮定したときの断面（水平断面）内に
於ける基材の材料部分の断面積占有率が、該微細凹凸２
の最凸部（頂上）から最凹部（谷底）に行くに従って連
続的に漸次増加して行く形状とする。特に、好ましく
は、最凸部に於いて完全に０に収束し、且つ最凹部に於
いて完全に１に収束する形状とする。具体的には例え
ば、図５（Ｂ）、図５（Ｃ）の如き形状が挙げられる。
但し、図５（Ｄ）、或いは図５（Ｅ）の如く、最凸部に
於いては、ほぼ０に漸近した形状、或いは、最凹部に於
いてほぼ１に漸近する様な形状であれば、或る程度の効
果は得られる。微細凹凸２の形状は、この様な条件を満
たせば、どんな形状でも良い。

【００４０】従って、この様な微細凹凸２を賦形で形成
する為の反射防止賦形フィルム上での微細凹凸２Ａの形
状としては、微細凹凸２Ａをその凹凸方向と直交する面
（ＸＹ平面）で切断したと仮定したときの断面（水平断
面）内に於ける離型性基材フィルムの材料部分の断面積
占有率が、該微細凹凸２Ａの最凹部から最凸部に行くに
従って連続的に漸次減少して行き、少なくとも最凹部で
ほぼ１に漸近するか、或いは、最凸部に於いてほぼ０に
漸近する様な形状であれば、どんな形状でも良い。特
に、好ましいのは、最凸部に於いて完全に０に収束し、
且つ最凹部に於いて完全に１に収束する断面積占有率を
有する形状である。

【００４１】この為には、反射防止賦形フィルム上での
微細凹凸２Ａの形状を、賦形後の形状である微細凹凸２
の形状で捉えれば、該微細凹凸２の山は少なくともその
一部の側面が斜めの斜面を有するものとすれば良いが、
下記する図５（Ｃ）の様に斜面と共に垂直側面がある形
状の微細凹凸２でも良い。

【００４２】例えば、個々の微細凹凸２の垂直断面形状
は、図５（Ａ）の如き正弦波等の曲線のみによる波状の
形状〔図２も参照〕、図５（Ｂ）及び図５（Ｃ）の如き
三角形等の直線のみによる形状、或いは、図５（Ｄ）の
如き三角形の最凸部が平坦面を成す形状である台形の形
状、図５（Ｅ）の如き隣接する三角形間の最凹部が平坦
面を成す形状等である。但し、図５（Ｄ）や図５（Ｅ）
の如く、最凸部或いは最凹部に平坦面を有する形状で
は、最凸部或いは最凹部の平坦面の部分で、その平坦面
の占める面積割合が大きい程、有効屈折率の変化がより
大きく不連続となる。その点で性能的には劣るものとな
る。しかし、この場合でも、微細凹凸２の最凸部から最
凹部に行くに従って有効屈折率を連続的に変化させるこ
とは出来る。従って、反射防止性能の点では、最凸部或
いは最凹部の平坦面の面積割合は少ない程好ましい。

【００４３】なお、もちろんだが、これら微細凹凸２の
形状を賦形する為には、反射防止賦形フィルム上の微細
凹凸２Ａの形状は、これらと逆凹凸形状となる形状とす
れば良い。

【００４４】また、有効屈折率ｎ_ef（ｚ）を空気中から
基材中に向かうＺ方向の関数として、ｎ_aからｎ_bに連続
的に変化する様にする為には、微細凹凸２の最凸部に於
いて、基材の断面積占有率が０に収束する図５（Ｂ）或
いは図５（Ｃ）の如き形状（すなわち、尖った形状）で
且つ最凹部に於いて該断面積占有率が連続的に１に収束
する形状が最も好ましい。

【００４５】次に、賦形で形成すべき微細凹凸２につい
て、個々の微細凹凸２の水平断面形状は、円形（例えば
図２）、楕円形、三角形、四角形、長方形、六角形、其
の他多角形等任意である。なお、水平断面形状は、微細
凹凸２の最凸部から最凹部の全てにわたって同じである
必要は無い。従って、微細凹凸２の立体形状は、例え
ば、水平断面形状が円形で垂直断面形状が正三角形の場
合の微細凹凸２の立体形状は円錐に、水平断面形状が円
形で垂直断面形状が三角形の場合の微細凹凸２の立体形
状は斜円錐に、水平断面形状が三角形で垂直断面形状が
正三角形の場合の微細凹凸２の立体形状は三角錐に、水
平断面形状が四角形で垂直断面形状が三角形の場合の微
細凹凸２の立体形状は四角錐になる。

【００４６】また、微細凹凸２の、水平面内に於ける配
置は、図２で例示した如く二次元的配置の他に、図６
（Ａ）の斜視図で例示の直線溝状の微細凹凸２の如く、
一次元的配置でも良く、どちらも効果は得られる。但
し、一次元的配置の場合は、光の波の振幅方向との関係
で、反射防止効果が得られる方向と得られない方向とが
出る、異方性が発生する。従って、図２の斜視図や図６
（Ｂ）及び（Ｃ）の平面図で例示の様な二次元的配置の
方が、方向性が全く無い点で好ましい。

【００４７】なお、個々の微細凹凸２の立体形状は全て
同一でも良いが、全て同一で無くても良い。また、個々
の微細凹凸２を二次元配置する場合に、周期は、個々の
微細凹凸２に於いて全て同一でも良いが、全て同一で無
くても良い。

【００４８】また、微細凹凸２の高さＨは、希望する反
射率（の低減効果）と基材表面に入射する可視光帯域の
最大波長に応じて決定する。例えば、特開昭５０−７０
０４０号公報（特にその第３図）記載の反射率、微細凹
凸の高さ、及び光波長との関係を基に設計する場合、例
えば、可視光帯域での反射率を、２％（未処理硝子の半
分）以下に低減させることを目標とするならば、その最
小高さＨ_MINが０．２λ_MAX以上、すなわち、

【００４９】Ｈ_MIN≧０．２λ_MAX

【００５０】また、可視光帯域での反射率を０．５％以
下にまで低減させることを目標とするならば、

【００５１】Ｈ_MIN≧０．４λ_MAX

【００５２】とするのが好ましい。なお、ここで、λ
_MAXは、可視光波長帯域の真空中に於ける最大波長であ
る。微細凹凸２の高さＨは、ゼロから高くなるに従って
反射率が低下して行くが、上記不等号条件を満足させる
高さまで達すると、有為な効果が得られる様になる。具
体的には、例えば、発光スペクトルの最大波長が、λ
_MAX＝６４０ｎｍの蛍光灯を用いたとすれば、Ｈ_MIN≧
０．２λ_MAX＝１２８ｎｍとかなる。すなわち、Ｈ_MINは
１２８ｎｍ以上とすれば良い。また、スペクトルの最大
波長がλ_MAX＝７８０ｎｍの太陽光線を考えるならば、
Ｈ_MIN≧０．２λ_MAX＝１５６ｎｍ、すなわち、Ｈ_MINは
１５６ｎｍ以上とすれば良い。また、最小高さＨ_MINと
周期Ｐ_MAXとの関係では、最小高さＨ_MIN／周期Ｐ_MAXの
比を、１／２〜４／１程度とする。

【００５３】ここで、賦形後の形状である微細凹凸２
で、その具体的形状及び大きさを例示すれば、形状は垂
直断面が正弦波状で水平断面が円形の円錐状の形状のも
のを多数、二次元的に規則的配置した集合体であり、周
期期Ｐ_MAXが５０〜３５０ｎｍ、最小高さＨ_MINを前記周
期Ｐ_MAXの１．５倍としたもの等がある。

【００５４】〔反射防止賦形フィルムの微細凹凸２Ａの
形成法〕反射防止賦形フィルム１０として、その離型性
基材フィルム１に上述した微細凹凸２Ａを形成する方法
は、特に限定は無い。但し、工業的生産性、コストを考
慮すると、先ず、微細凹凸の原版（マザー版）を作製
し、この原版から直接或いは多段の複製工程を経て本版
（マスター版）を作成し、この本版を用いて、離型性基
材フィルムに所望の微細凹凸２Ａを形成するのが好まし
い。

【００５５】原版の作製は、微細凹凸２Ａとなる凹凸形
状を最初に造形する工程であり、その作製方法として
は、半導体分野等に於ける微細加工技術を流用できる。
但し、半導体の場合は、凹凸形状はその側面が通常垂直
面で良く、本発明の如く斜面にする必要は特に無いた
め、本発明では、斜面が形成できる様にして微細加工す
る。

【００５６】上記の如き微細加工技術としては、電子線
描画法を利用できる。この方法では、先ず、ガラス基板
の上にレジスト層を形成した後、電子線描画法により該
レジスト層を露光し現像してパターニングしてレジスト
パターン層とする。この後、腐蝕マスクに該レジストパ
ターン層を利用してガラス基板をドライエッチング法等
により腐蝕することで、ガラス基板に微細凹凸形状が形
成される。この際、エッチング時にサイドエッチングさ
せて、斜面を形成する。また、ガラス基板腐蝕時の腐蝕
マスクとしてはレジストパターン層自体を直接用いても
良いが、斜面を有する深い凹凸形状を形成するには、好
ましくは、ガラス基板上にクロム等による金属層を設け
た後、レジスト膜を形成してレジストパターン層を得、
前記金属層をこのレジストパターン層を利用して金属パ
ターン層としてたものを、腐蝕マスクとして用いるのが
良い。

【００５７】また、レジスト膜へのパターン形成に際し
ては、電子線描画法の他に、レーザー描画法も利用でき
る。レーザ描画法では、ホログラム、回折格子等の作製
等に利用されているレーザ干渉法が利用できる。回折格
子の場合は、一次元的配置であるが、角度を変えて多重
露光すれば、二次元配置も可能となる。但し、レーザ干
渉法では、得られる微細凹凸は、通常規則的配置となる
が、電子線描画法では、予め所定の描画パターン情報を
記憶装置にデジタルデータとして記憶しておき、該描画
パターン情報により、走査する電子線のＯＮ、ＯＦＦ、
乃至は強弱を変調する。その為、規則配置の他にも、不
規則配置も可能である。また、レーザー描画法、及び電
子線描画法には、各々長所、短所も有る為、設計諸元、
目的、生産性等を考慮の上、適切な手法及び条件を適宜
選択すれば良い。

【００５８】次に、上記原版（マザー版）から本版（マ
スター版）を作製する方法には、公知の方法、例えば、
マザー版にニッケル等の金属めっきを行って、めっき層
を剥がし金属マスター版を作製する（電鋳法）。或い
は、このマスター版にもう一度めっきして、再度複製し
た型をマスター版としても良い。この際、本版は、原版
から直接或いは多段複製工程を経て得られたプレート状
のニッケル電鋳版を、中空円筒状の鉄等による金属シリ
ンダー表面に貼り込んだ円筒状の版を本版とする事によ
って、連続帯状の反射防止賦形フィルムが容易に製造出
来る様になる。

【００５９】そして、以上の様にして得られた本版を用
いて、離型性基材フィルム表面に微細凹凸２Ａを形成し
て、所望の反射防止賦形フィルムを作製することができ
る。反射防止賦形フィルムの作製方法は特に限定は無い
が、次に詳述する、円筒状の原版上（成形版胴）で樹脂
硬化する方法（以降、「成形版胴法」と呼称する）等が
量産性、形状再現性等の点で好適である他、その他の公
知の複製方法、例えば、２Ｐ法（Ｐｈｏｔｏ Ｐｏｌｙ
ｍｅｒ法）、熱エンボス法等でも作製できる。なお、成
形版胴法は、賦形型に特に円筒状の型を用いる形式の２
Ｐ法と言える方法である。また、２Ｐ法では、必要に応
じ適宜、フォトポリマーに揮発溶剤を添加した組成物を
使用しても良い。また、熱エンボス法の場合は、賦形時
は加熱されない反射防止賦形フィルムの利用方法とする
か、加熱してもそれに耐え得る耐熱性を備えた樹脂を使
うと良い。

【００６０】成形版胴法では、図７に示す如く、素材フ
ィルム４に微細凹凸２Ａを形成して離型性基材フィルム
１を作製する為に、フォトポリマーとして液状の電離放
射線硬化性樹脂（の未硬化物）を、成形版胴（ロール凹
版、賦形版とも呼称される）５０の少なくとも凹部に充
填させると共に該樹脂に素材フィルムを接触させ、該樹
脂が素材フィルムと成形版胴との間に保持されている状
態で電離放射線を照射して該樹脂を硬化させて微細凹凸
とする事で、素材フィルム４に微細凹凸２Ａを賦形す
る。この結果、微細凹凸２Ａが素材フィルム４の表面に
形成された離型性基材フィルム１として、本発明の反射
防止賦形フィルム１０が作製される。但し、図７に於い
ては、図示の便宜上、微細凹凸２Ａの寸法を実際よりも
大幅に拡大して図示してある。なお、この様な成形版胴
法による凹凸形成方法は、特開昭５７−８７３１８号公
報、特公昭５７−２２７５５号公報、特公昭６３−５０
０６６号公報、特開平７−３２４７６号公報等に開示さ
れるものであって、成形版胴の凹凸形状を忠実に電離放
射性硬化性樹脂の硬化物（微細凹凸）として素材フィル
ムに賦形する方法である。この方法は基本的には、以下
の工程からなる（図７参照）。

【００６１】（１）表面に目的とする微細凹凸２Ａの凹
凸形状と同形状且つ逆凹凸の凹凸形状（微細凹凸２と同
形状）４０を形成した円筒形状の成形版胴５０を用意
し、これを軸芯６０の回りに回転させる。 （２）連続帯状の素材フィルム４を、該成形版胴５０の
周速度と同速度で供給する。 （３）該素材フィルム４と該成形版胴５０とを、その間
に電離放射線硬化性樹脂の未硬化液状組成物７０を介し
て重ね合わせて密着させ、該液状組成物が該成形版胴の
少なくとも凹部を完全に充填する様にする。 （４）その状態のままで電離放射線照射装置８０から電
離放射線８１を照射して、該液状組成物を架橋、硬化さ
せる。 （５）而る後に、素材フィルム４を、それに接着し且つ
成形版胴上の凹凸形状４０が賦形された電離放射線硬化
性樹脂の硬化物からなる微細凹凸２Ａと共に、成形版胴
から剥離除去する。この結果、微細凹凸２Ａが素材フィ
ルム４に接着した構成で離型性基材フィルム１が得られ
る。この離型性基材フィルム１自体が、反射防止賦形フ
ィルム１０である。

【００６２】以上の方法に於いて、成形版胴５０として
は、公知の凹版、グラビア版、エンボス版と基本的に
は、同様の材料、同様の構造、同様の製法によるものを
用いれば良い。成形版胴の材料としては、通常は鉄、銅
等の金属が用いられる。但し、成形版胴内部から紫外線
或いは可視光線を照射する場合には、硝子、石英等の透
明な材料を用いる。成形版胴の軸芯の回りの回転駆動
は、通常の輸転式グラビア印刷機、輪転式エンボス機等
と同様な機構、方法を用いれば良い。素材フィルムの成
形版胴への密着の為には、ゴム、金属等の圧着ローラ９
０で圧着する。又素材フィルムの成形版胴からの剥離に
もゴム、金属等の剥離ローラ１００で押さえて剥離す
る。素材フィルムは連続帯状のものを用いる。此の様な
素材フィルムは巻出ロール（供給ロール）から巻き出し
て、微細凹凸２Ａの形成後は巻取りロール（排紙ロー
ル）で巻き取る。

【００６３】素材フィルムと成形版胴とを、その間に電
離放射線硬化性樹脂の未硬化液状組成物を介して重ね合
わせて密着させる態様としては、次の（１）〜（３）が
ある。（１）先ず素材フィルム上に液状組成物を塗布
し、次いで該塗布面が成形版胴表面に向くようにして、
該素材フィルムを該成形版胴に重ね合わせる。（２）図
７の如く先ず成形版胴５０上に液状組成物７０をＴダイ
等の塗液供給装置２００を用いて塗布し、次いで該成形
版胴上の塗布面に素材フィルム４を重ね合わせる。
（３）先ず成形版胴上と素材フィルム上との各々に液状
組成物を塗布し、次いで該素材フィルムと該成形版胴と
を各々の塗布面が対向する様にして重ね合わせる。

【００６４】成形版胴と素材フィルム間にある未硬化液
状組成物への電離放射線の照射の態様としては、次の
（Ａ）と（Ｂ）がある。（Ａ）図７の如く電離放射線に
対して透明な素材フィルムを選び（例えば紫外線に対し
てポリエチレンテレフタレートフィルムを選択）、素材
フィルム側から照射する。（Ｂ）電離放射線に対して透
明な成形版胴を選び（例えば、紫外線に対して石英の成
形版胴を選択）、成形版胴の内部から照射する。

【００６５】素材フィルム４の材料は、電離放射線の照
射が上記（Ａ）の態様が可能である樹脂シートが代表的
である。すなわち、素材フィルムの材料としては、
（イ）ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブ
チレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエチレンナフタ
レート（ＰＥＮ）等の熱可塑性樹脂ポリエステル樹脂、
ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、
オレフィン系熱可塑性樹脂エラストマー等のポリオレフ
ィン樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリス
チレン、ＡＢＳ樹脂、アクリル樹脂、ポリエーテルスル
ホン（ＰＥＳ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥ
Ｋ）等の樹脂シート、(ロ)薄葉紙、上質紙、コート紙等
の紙、（ハ）アルミニウム、鉄、銅等の金属箔等があ
る。なお、上記（ロ）及び(ハ)は、透明な成形版胴内か
らの紫外線照射射、又は電子線等の高透過性放射線の場
合のみ可能である。また、素材フィルムの厚さは通常２
０〜２００μｍ程度のものを用いる。また、素材フィル
ムとしては、反射防止賦形フィルムによる賦形時は、射
出成形法等、通常は熱が加わることが多いので、この様
な場合を想定すると、耐熱性を有するものが好ましい。
耐熱性に優れたものとしては、上記に列記の材料のう
ち、例えば、樹脂材料としてはＰＥＴ、ＰＥＮ、ＰＥ
Ｓ、ＰＥＥＫ等があり、また、金属等も優れているが、
素材フィルム側から電離放射線照射が可能である等、樹
脂の方が使い易い点で好ましい。

【００６６】電離放射線硬化性樹脂としては、分子中に
（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ
基等の重合性不飽和結合、又は、エポキシ基等のカチオ
ン重合性官能基を有するプレポリマー、モノマー、又は
ポリマーを、１種のみ又は２種以上適宜混合した組成物
を用いる。或いは、ポリエンとポリチオールとの組み合
わせによるポリエン／チオール系のプレポリマーからな
る組成物も用いることができる。組成物は、未硬化時に
液状のものを用いる。

【００６７】前記分子中に重合性不飽和結合を有するプ
レポリマーの例としては、不飽和ジカルボン酸と多価ア
ルコールの縮合物等の不飽和ポリエステル類、ポリエス
テル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレ
ート、エポキシ（メタ）アクリレート、メラミン（メ
タ）アクリレート、シリコーン（メタ）アクリレート等
の（メタ）アクリレート類がある〔尚、本明細書では
（メタ）アクリレートとは、アクリレート又はメタクリ
レートの意味で用いる。以下同様〕。前記分子中に重合
性不飽和結合を有するモノマーの例としては、スチレ
ン、α−メチルスチレン等のスチレン系モノマー、（メ
タ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸−２−エチ
ルヘキシル、（メタ）アクリル酸メトキシエチル、（メ
タ）アクリル酸ブトキシエチル等の単官能（メタ）アク
リル酸エステル類、エチレングリコールジ（メタ）アク
リレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレー
ト、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ト
リエチレングリコールジ（メタ）アクリート、トリメチ
ロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリ
スリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリ
スリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の多官能（メ
タ）アクリル酸エステル類、（メタ）アクリル酸−２−
（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）エチル、（メタ）アクリル
酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチル、（メタ）
アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ）エチル
等の不飽和酸の置換アミノアルコールエステル類、（メ
タ）アクリルアミド等の不飽和カルボン酸アミド等があ
る。

【００６８】また、分子中にカチオン重合性官能基を有
するプレポリマーとしては、ビスフェノール型エポキシ
樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、脂肪族型エポキシ樹
脂等、脂肪環型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂、脂肪族
系ビニルエーテル、芳香族系ビニルエーテル、ウレタン
系ビニルエーテル、エステル系ビニルエーテル等のビニ
ルエーテル系樹脂、環状エーテル系樹脂、スピロ系化合
物等のプレポリマー等がある。

【００６９】また、ポリエン／チオール系のプレポリマ
ーとしては、分子中に２個以上のメルカプト基を有する
ポリチオール化合物、例えば、トリメチロールプロパン
トリチオグリコレート、トリメチロールプロパントリチ
オプロピレート、ペンタエリスリトールテトラチオグリ
コール等がある。一方、ポリエンとしては、ジオールと
ジイソシアネートによるポリウレタンの両端にアリルア
ルコールを付加したもの等がある。

【００７０】電離放射線硬化性樹脂としては、以上の化
合物を必要に応じ１種もしくは２種以上混合して用いる
が、樹脂組成物に通常の塗工適性を付与するために、前
記プレポリマー又はオリゴマーを５質量％以上、前記モ
ノマー及び／又はポリチオールを９５質量％以下とする
ことが好ましい。また、硬化物の可撓性、表面硬度、剥
離性等の物性を調節する為に前記電離放射線硬化性樹脂
に対して、以下の様な電離放射線非硬化性樹脂を１〜７
０質量％程度混合して用いることができる。電離放射線
非硬化性樹脂としてはウレタン系樹脂、セルロース系樹
脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ブチラール
樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル等の熱可塑性樹
脂を用いることができる。

【００７１】また、離型性を向上させる為は、電離放射
線非硬化性樹脂としてシリコーン樹脂、ポリオレフィン
樹脂等の樹脂の他に、ワックス等を用いても良い。これ
らは１種又は２種以上を用いて離型性を調整する。

【００７２】なお、紫外線で硬化させる場合には前記電
離放射線硬化性樹脂に光重合開始剤を添加する。分子中
にラジカル重合性不飽和結合を有する化合物に対して
は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベ
ンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テ
トラメチルメウラムモノサルファイド、チオキサントン
類等がある。分子中にカチオン重合性官能基を有する化
合物に対しては、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホ
ニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタロセン化合物、
ベンゾインスルホン酸エステル、ジアリルヨードシル塩
等がある。又、必要に応じて更に、光増感剤としてｎ−
ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホ
スフィン等を混合して用いることもできる。

【００７３】以上の電離放射線硬化性樹脂の未硬化液状
組成物を成形版胴、或いは素材フィルムに塗工するには
公知の各種方法、例えば、ロールコート、カーテンフロ
ーコート、Ｔダイコート（図７）等の方法を用る。特に
成形版胴への塗工の場合はインキパン中の液状組成物
に、回転する成形版胴を浸漬させる（所謂ドブ浸け）も
可能である。

【００７４】尚、ここで電離放射線としては、電磁波又
は荷電粒子線のうち分子を重合、架橋し得るエネルギー
を有するものを意味し、紫外線、可視光線、Ｘ線、電子
線、α線等があるが、通常紫外線、又は電子線が用いら
れる。紫外線源としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、
低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライトラン
プ、メタルハライドランプ等の光源が使用される。電子
線源としては、コッククロフトワルトン型、バンデグラ
フト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、或いは、直
線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速
器を用い、１００〜１０００ｋｅＶ、好ましくは、１０
０〜３００ｋｅＶのエネルギーをもつ電子を照射するも
のが使用される。

【００７５】以上の様な成形版胴法で作製された反射防
止賦形フィルム１０は、図８に例示の如く、その離型性
基材フィルム１は、素材フィルム４上に、表面に微細凹
凸２Ａを有する賦形層５を電離放射線硬化性樹脂の硬化
物として積層した構成の２層構成となる。なお、賦形層
５は微細凹凸２Ａの個々の凹凸が分離独立しその凹部に
て素材フィルム４が露出したものでも、個々の凹凸が連
続したもの（図８はこの様に描いてある）でもどちらで
も良い。この様に、離型性基材フィルム１は単層以外に
多層構成でも良い。なお、単層構成の離型性基材フィル
ムの例としては、熱可塑性樹脂フィルムに熱エンボス法
で微細凹凸２Ａを形成して得られるもの等がある〔図１
（Ａ）参照〕。

【００７６】なお、上述成形版胴法は、連続帯状の素材
フィルム４上に賦形層５を電離放射線硬化性樹脂の硬化
物として形成できる方法であるが、素材フィルム４上
に、表面に微細凹凸２Ａを有する賦形層５を設けた構成
の離型性基材フィルム１としては、この他の方法で作製
したものでも良い。例えば、電離放射線硬化性樹脂以外
の樹脂、つまり、フォトポリマー以外の樹脂を用いて作
製したものでも良い。例えば、ウレタン樹脂、メラミン
樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂、或いは、賦形時
の熱に耐えうる様な耐熱性を有する熱可塑性樹脂等を賦
形層として使用したものでも良い。この際、素材フィル
ムは、上記成形版胴法で列記したもの等が使用できる。
但し、賦形層５には、電離放射線硬化性樹脂を用いるの
が、耐熱性も容易に得られる上、硬化が瞬間的に短時間
で終了するので、成形版胴等と円筒状の成形型の採用に
より連続的に樹脂硬化できるので生産性に優れ、また、
形状再現性が良い点でも好ましい。

【００７７】なお、本発明の反射防止賦形フィルムは、
枚葉のシート状でも良いが、連続帯状とすれば、反射防
止賦形フィルム使用時に、反射防止賦形フィルムを容易
に連続供給できるので、生産性の点で好ましい。しか
も、連続帯状の反射防止賦形フィルムは、前述した成形
版胴法によれば、容易に作製できる。

【００７８】なお、反射防止賦形フィルムを用いた賦形
時に、該フィルムの賦形面Ｅの離型性向上が必要な場合
には、賦形層５、或いは樹脂性の離型性基材フィルム１
には、シリコーン樹脂、ワックス等の公知の離型剤を添
加しても良い。

【００７９】なお、本発明の反射防止賦形フィルムで
は、その離型性基材フィルム、或いは賦形層等は、透明
であっても良いが、不透明であっても良い。また、本発
明の反射防止賦形フィルムを用いて、物品に反射防止加
工する際に、該物品に対する賦形方法は、特に限定され
ない。但し、以下に述べる本発明の反射防止加工方法
が、生産性が良い等の点で好適である。

【００８０】〔反射防止加工方法〕本発明の反射防止加
工方法は、図９で概念的に説明する如く、上述した如き
反射防止賦形フィルム１０を賦形型として用いて、その
微細凹凸２Ａを有する賦形面に、流動状態の樹脂３０を
接触させた後〔図９（Ａ）〕、該樹脂を固化させ〔図９
（Ｂ）〕、而る後、反射防止賦形フィルム１０を固化し
た樹脂から剥離することで、固化した該樹脂面に、微細
凹凸２Ａとは逆凹凸形状の微細凹凸２を賦形して〔図９
（Ｃ）〕、該微細凹凸２による反射防止機能を付与する
方法である。この結果、図１（Ｂ）で例示の様な、基材
３の表面に、微細凹凸２が形成された反射防止物品２０
が生産性良く得られることになる。

【００８１】本発明の反射防止加工方法において、流動
状態の樹脂を、反射防止賦形フィルムの賦形面に接触さ
せる方法としては、代表的には、いわゆる射出成形法が
利用できるが、この他、キャスティング法（乾湿式成膜
法）等も利用できる。但し、射出成形法の方が、例えば
携帯電話の窓材等と反射防止物品を任意の形状で作製で
きる点で、キャスティング法よりも優れている。もっと
も、反射防止物品としてフィルム（或いはシート）状の
ものを得たい場合はに、キャスティング法の方が、射出
成形法よりも好適である。

【００８２】射出成形法は、樹脂を流動状態とする為
に、樹脂を加熱軟化等により流動状態として、射出成形
型中に射出し充填し固化させる樹脂成形法であるが、こ
の方法の場合、反射防止賦形フィルムを枚葉では無く特
に連続帯状として使用することで、射出成形型内に、射
出成形の１ショット毎に新しい反射防止賦形フィルムを
連続的に供給し、また排出する事が、容易に出来る様に
なる。この様な、連続帯状フィルムの射出成形型への供
給・排出方法については、樹脂成形品の加飾技術分野に
て、例えば、特開平６−３１５９５０号公報等に開示さ
れた技術を利用できる。

【００８３】一方、キャスティング法の場合は、エンド
レスのキャスティングベルトの表面に反射防止賦形フィ
ルムを配置して該賦形フィルムを好ましくはエンドレス
化して、表面が賦形面となったキャスティングベルト上
に、溶液化により流動状態となった樹脂を流延して成膜
して、フィルム（或いはシート）状の反射防止物品を作
製する。

【００８４】或いはまた、Ｔダイ等から加熱溶融して流
動状態とした樹脂を押出して成膜する溶融押出法にて、
冷却ローラに反射防止賦形フィルムを巻き付けておき、
成膜すれば、樹脂成膜と同時に賦形できる。或いはま
た、冷却ローラに反射防止賦形フィルムを巻き付けず
に、連続帯状の反射防止賦形フィルムを冷却ローラに導
きながら、反射防止賦形フィルム上で前記樹脂を冷却固
化させた後、反射防止賦形フィルムを剥離することで、
成膜と同時に賦形することもできる。

【００８５】なお、流動状態の樹脂が固化した後、直ち
に反射防止賦形フィルムを剥離せずに、該賦形フィルム
を保護フィルムとして残しておいても良い。残しておい
た反射防止賦形フィルムは、反射防止物品の使用直前等
の適宜なときに、剥離する。

【００８６】〔反射防止物品〕本発明を利用して得られ
る反射防止物品２０は、図１（Ｂ）の断面図で例示した
如く、少なくとも、基材３上に本発明特有の微細凹凸２
が賦形されたものであるが、基材３は、用途により適宜
各種材料が使用され得る。また、反射防止物品２０の形
状は、フィルム（或いはシート）、板、三次元形状等、
これも用途により各種形状のものとなり得る。また、基
材３は通常は透明であるが、不透明なものを除外するも
のでも無い。また、反射防止物品は、少なくとも基材表
面に微細凹凸２を有するものであり、多層構造の基材３
や、その他構成要素を有する構造等、用途に応じた物と
なる。

【００８７】なお、基材３の材料としては、熱可塑性樹
脂が代表的であり、例えば、ポリ（メタ）アクリル酸メ
チル、ポリ（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリ
ル酸メチル−（メタ）アクリル酸ブチル共重合体等のア
クリル樹脂〔但し、（メタ）アクリルとはアクリル、或
いはメタクリルを意味する。〕、ポリカーボネート樹
脂、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、環状オレフ
ィン系高分子（代表的にはノルボルネン系樹脂等がある
が、例えば、日本ゼオン株式会社製の製品名「ゼオノ
ア」、ＪＳＲ株式会社製の「アートン」等がある）等の
ポリオレフィン系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、
ポリエチレンナフタレート等の熱可塑性ポリエステル樹
脂、ポリアミド樹脂、ポリスチレン、アクリロニトリル
−スチレン共重合体、ポリエーテルスルフォン、ポリス
ルフォン、セルロース系樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリエ
ーテルエーテルケトン、ポリウレタン等が挙げられる。

【００８８】また、ゾルゲル法を利用して賦形すれば、
ガラス等の無機材料も可能である。なお、ゾルゲル法と
は、特開平６−６４９０７号公報等に開示の如く、金属
アルコキシド等と増粘剤としてポリエチレングリコール
等を含む組成物を、塗工し、ゾルが軟らかいうちに型押
しして凹凸を賦形して、その後に最終的な乾燥、熱処理
を行って、無機質の塗膜として微細凹凸を形成する方法
である。型押しに上述反射防止賦形フィルムを用いれば
良い。

【００８９】〔本発明の用途〕本発明によって得られる
反射防止物品は、形状は、フィルム（或いはシート）、
板、三次元形状等任意であり、用途も特に限定れるもの
では無い。但し、賦形される微細凹凸２は、極めて微細
であるが故に汚れや傷に対して保護する意味で、微細凹
凸は外面には露出させず、内面に設けられる用途、或い
は、装置内部に設けられる用途等が好適である。なお、
本発明が適用し得る用途は、これから例示される用途に
限定されるものではない。

【００９０】例えば、携帯電話等の各種機器に於ける表
示部の窓材である。これら表示部では、ＬＣＤ等の表示
パネルの前面に、板や成形品等となった樹脂製の窓材が
配置される。窓材としての反射防止物品は、外側は露出
する為に傷や汚れへの耐性の点で本発明特有の微細凹凸
は設けず、内側の裏面に側に該微細凹凸を設けたものと
すると良い。なお、表示部は、ＬＣＤ等の表示パネル以
外に、時計に代表される機械式アナログメータ等の様な
機械的手段で表示するものでもよく、これらの窓材でも
良い。なお、窓材は、平板状もあるが、組み付けやデザ
イン上の観点から周囲に突起等有するものもあり、この
様な複雑形状のものは、射出成形法等による本発明の反
射防止加工方法は、基材成形と同時に反射防止加工する
ことも出来る点で特に好適である。

【００９１】なお、上記の様な窓付き表示部を有する機
器としては、携帯電話、時計の外にも、パソコン、電子
手帳等のＰＤＡ乃至は携帯情報端末、電卓、或いは、Ｃ
Ｄプレーヤー、ＤＶＤプレーヤ、ＭＤプレーヤ、半導体
メモリ方式音楽プレーヤ等の各種携帯型音楽プレーヤ、
或いは、ビデオテープレコーダ、ＩＣレコーダ、ビデオ
カメラ、デシタルカメラ、ラベルプリンタ等の電子機
器、或いは、電気炊飯器、電子ポット、洗濯機等の電気
製品等がある。

【００９２】また、フィルム（或いはシート）や板状の
反射防止物品に於いては、透明タッチパネル等に使用す
る、透明電極フィルムや透明板等の透明基材が挙げられ
る。透明タッチパネルは、表示部に入力機能を付加する
ものであるが、該製品組立上、ＬＣＤ、ＣＲＴ等の表示
パネルと別部品として組み付けるので、表示パネルと透
明タッチパネル間に空隙が残り、光反射が生じる。そこ
で、透明タッチパネルの裏面側を成す透明基材を、その
裏面を本発明特有の微細凹凸を設けた反射防止物品とす
れば、光反射が防げる。

【００９３】なお、透明タッチパネルは、例えば、電子
手帳等のＰＤＡ乃至は携帯情報端末（機器）、或いは、
カーナビゲーションシステム、ＰＯＳ（販売時点情報管
理）端末、携帯型オーダー入力端末、ＡＴＭ（現金自動
預金支払兼用機）、ファクシミリ、固定電話端末、携帯
電話機、デシタルカメラ、ビデオカメラ、パソコン、パ
ソコン用ディスプレイ、テレビジョン受像機、テレビ用
モニターディスプレイ、券売機、計測機器、電卓、電子
楽器等の電子機器、複写機、ＥＣＲ（金銭登録機）等の
事務器、或いは、洗濯機、電子レンジ等の電気製品に使
用される。

【００９４】

【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳述する。

【００９５】〔実施例１〕ガラス基板上にスピンコート
法により感光性樹脂のレジスト層を形成し、レーザ干渉
露光装置により、アルゴンイオンレーザーを５０°の入
射角度で２方向から露光する操作を、ガラス基板の９０
度回転させて２回行った。次いで、現像液で現像してレ
ジストパターン層を形成した。

【００９６】次に、ドライエッチング法によりガラス基
板の腐蝕を行って、所望の微細凹凸形状が形成されたガ
ラス基板からなる原版（マザー版）を作製した。このマ
ザー版に、電気めっき法によって、ニッケルめっきプレ
ートを作製した。そして、マザー版から剥離したニッケ
ルめっきプレートを、鉄製の中空円筒状の版胴（シリン
ダー）の表面に巻き付けて貼り込んで、成形版胴とする
円筒状の本版（マスター版）を作製した。

【００９７】そして、図７の如き装置で、上記本版を成
形版胴５０として用い、素材フィルム４には連続帯状で
厚さ３８μｍの透明な２軸延伸ポリエチレンテレフタレ
ートフィルムを用い、賦形層５とする電離放射線硬化性
樹脂としては、ウレタンアクリレート系プレポリマー、
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、及びベン
ゾフェノン系光重合開始剤を含む組成物を用いて、目的
とする反射防止賦形フィルム１０を作製した。電離放射
線硬化性樹脂の組成物は、成形版胴と素材フィルム間に
存在するうちに紫外線照射で硬化させた後、素材フィル
ムと共に成形版胴から剥離した。その結果、図８の断面
の如く、微細凹凸２Ａを表面に有する賦形層５が素材フ
ィルム４に積層された構成の離型性基材フィルム１から
なる、連続帯状の反射防止賦形フィルム１０が得られ
た。

【００９８】〔実施例２〕上記で得た、反射防止賦形フ
ィルム１０によって、透明樹脂板からなる窓材の裏面
に、その成形と同時に反射防止加工を行った。連続帯状
の反射防止賦形フィルム１０は、その賦形面を、固定盤
側（射出ノズル側）を向けて、射出成形機の可動盤上方
に設置した送出ロールから１ショット分づつ巻き出し
て、型開き状態の射出成形型間を通して、前記可動盤下
方に設置した巻取ロールで巻き取る様にした。そして、
該反射防止賦形フィルムを雌雄両成形型間に挟んで型締
めして、射出成形型内に加熱溶融で流動状態となった透
明アクリル樹脂を射出した。なお、射出条件は、樹脂温
度２６０℃、型温度９５℃、射出圧力１５０ＭＰａ、射
出時間０．７５ｓ、保圧時間２ｓとした。そして、樹脂
が冷却して固化後、反射防止物品として成形品を取り出
した。成形品は、厚みが１．５ｍｍの透明板で、その裏
側とする片面に、所望の微細凹凸２が賦形された反射防
止物品２０となった〔図１（Ｂ）参照〕。

【００９９】上記反射防止物品の微細凹凸２は、原子間
力顕微鏡での観察により、高さＨ_{MI N}が２００ｎｍ、周
期Ｐ_MAXが３００ｎｍの、図２の如き形状が多数縦横に
正方格子状に規則的に配列された微細凹凸であった。

【０１００】そして、上記反射防止物品について、透過
率と反射率を測定した。その結果、透過率は９５％、反
射率は０．５％であった。なお、微細凹凸を設けなかっ
た反射防止加工が未加工の単なる透明板では、透過率９
１％、反射率４％であり、反射防止効果が認められた。
また、反射防止された光は拡散せず、その分、透過率が
向上している事も認められた。

【０１０１】

【発明の効果】（１）本発明の反射防止賦形フィルムに
よれば、物品表面に微細凹凸を賦形することで、反射防
止機能を付与した反射防止物品が得られる。しかも、そ
の反射防止機能は、表示の視認性を向上させると共に、
表示光の光の利用効率も上げられる。また、賦形フィル
ムというフィルム形態の賦形型であり、且つ金型よりも
著しく安価であるので、物品の一品毎に新しい賦形型
（フィルム）を使う、「使い捨て（切り）」の使用が実
用上可能となるので、賦形型（フィルム）の賦形面に傷
が付いたとしても、フィルム交換のみで修復でき、入れ
子等のブロック状の賦形型を取り替えたり、作り変えた
りする面倒な作業が必要なくなる。従って、射出成形で
射出成形型内に賦形型を配置して物品の成形と同時にそ
の表面に反射防止加工を行う場合でも、賦形型の傷付き
による面倒な型交換による生産性低下は発生せず、生産
性が向上する。また、賦形フィルムというフィルム形態
では、連続帯状で使用する事もできる為、使い回しも容
易であるので、物品一品毎に新たな賦形フィルム（面）
を、容易に供給できる。従って、反射防止加工を生産性
（量産性）良く低コストで実施できる。

【０１０２】（２）本発明の反射防止加工方法によれ
ば、樹脂からなる物品の表面に、反射防止機能が付与さ
れた反射防止物品が容易に得られる。しかも、その反射
防止機能は、表示の視認性を向上させると共に、表示光
の光の利用効率も上げられる。また、賦形型として反射
防止賦形フィルムというフィルム形態の型を使用するの
で、上記反射防止賦形フィルムによる作用効果で述べた
如く、反射防止加工を生産性（量産性）良く低コストで
実施できる。なお、流動状態の樹脂を賦形面に接触させ
るには、例えば、射出成形法、キャスティング方法等が
挙げられる。そして、流動状態の樹脂の固化による反射
防止物品の形状発現（成形）と、その反射防止加工とが
同時に１工程で完了する点でも、生産性が良く低コスト
となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の反射防止賦形フィルムの一形態を示す
断面図。

【図２】賦形された微細凹凸２で得られる有効屈折率の
分布を概念的に説明する為の図（その１）。

【図３】賦形された微細凹凸２で得られる有効屈折率の
分布を概念的に説明する為の図（その２）。

【図４】賦形された微細凹凸２で得られる有効屈折率の
分布を概念的に説明する為の図（その３）。

【図５】賦形された微細凹凸２の（垂直）断面形状の幾
つかを例示する断面図。

【図６】賦形された微細凹凸２の水平面内での配置の幾
つかを例示する断面図。

【図７】微細凹凸２Ａの成形版胴法による作製方法を概
念的に示す説明図。

【図８】本発明の反射防止賦形フィルムの別の一形態
（多層構成）を例示する断面図。

【図９】本発明の反射防止加工方法を概念的に示す説明
図。

【符号の説明】

１ 離型性基材フィルム ２Ａ （賦形前の賦形フィルム上の）微細凹凸 ２ （賦形後の基材上の）微細凹凸 ２ｔ （微細凹凸２の）最凸部 ３ 基材 ４ 素材フィルム ５ 賦形層 １０ 反射防止賦形フィルム ２０ 反射防止物品 ３０ 樹脂 ４０ 凹凸形状 ５０ 成形版胴 ６０ 軸芯 ７０ 液状組成物 ８０ 電離放射線照射装置 ８１ 電離放射線 ９０ 圧着ローラ １００ 剥離ローラ ２００ 塗液供給装置 Ｅ 賦形面 ｎ 屈折率 ｎ_a 屈折率（空気） ｎ_b 屈折率（基材） ｎ₀ 屈折率 ｎ₁ 屈折率 ｎ_ef（Ｚ） 有効屈折率 Ｈ_MIN （微細凹凸２の）最小高さ Ｐ_MAX 周期 Ｒ 反射率 λ_MIN 最小波長 λ_MAX 最大波長

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） // Ｂ２９Ｌ 7:00 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ Ｆターム(参考） 2H042 BA04 BA05 BA15 BA20 2H091 FA31X FA37X FC14 FC17 LA12 2K009 AA12 BB24 DD15 4F205 AG05 AH73 AP11 GA01 GC02 GD02 GE27 GN01 GN04 GN29 4F209 AG01 AG05 PA08 PB02 PC05 PN20

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 離型性基材フィルムの賦形面に、反射防
   止用の微細凹凸が形成されて成る反射防止賦形フィルム
   であって、 該微細凹凸は、可視光の波長帯域の真空中に於ける最小
   波長をλ_MIN、該微細凹凸の最凹部に於ける周期をＰ_MAX
   としたときに、 Ｐ_MAX≦λ_MIN なる関係を有し、 且つ該微細凹凸をその凹凸方向と直交する面で切断した
   と仮定したときの断面内に於ける離型性基材フィルムの
   材料部分の断面積占有率が、該微細凹凸の最凹部から最
   凸部に行くに従って連続的に漸次減少して行く様な凹凸
   である、反射防止賦形フィルム。
2. 【請求項２】 請求項１記載の反射防止賦形フィルムの
   賦形面に、流動状態の樹脂を接触させた後、該樹脂を固
   化させ、而る後、反射防止賦形フィルムを固化した樹脂
   から剥離することで、該樹脂面に、微細凹凸による反射
   防止機能を付与する、反射防止加工方法。