JP2003149405A - 光重合法による反射防止物品の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光反射低減、及び表示視認性向上ができる微
細凹凸による反射防止が成された反射防止物品を生産性
良く製造する。 【解決手段】 基材１表面に反射防止用の微細凹凸２を
有する反射防止物品を光重合法で製造する際に、（Ａ）
微細凹凸形状を造形した原型を作製し、（Ｂ）賦形型３
１として原型表面の微細凹凸形状を１又は２回以上の型
取・反転による複製を経て複製型を作製し、（Ｃ）賦形
型と光硬化性樹脂の未硬化物１Ａとを接触させた状態
で、樹脂を光重合により硬化後、賦形型と樹脂の硬化物
とを離型する、各工程を順次行う。微細凹凸２の形状
は、微細凹凸の最凸部に於ける周期をＰ _MAXを、可視光
の波長帯域の真空中に於ける最小波長λ_MIN以下、水平
断面内での基材材料部分の断面積占有率が、微細凹凸の
最凸部から最凹部に行くに従って連続的に漸次減少して
行く様な形状とする。

Description

【発明の詳細な説明】 【０００１】 【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、携帯電話
機の液晶表示部等の各種用途に用い得る、光の表面反射
を防止した反射防止物品の製造方法に関する。特に、光
重合法、すなわち所謂２Ｐ法（Ｐｈｏｔｏ−ｐｏｌｙｍ
ｅｒｉｚａｔｉｏｎ法）によって、製造する方法に関す
る。 【０００２】 【従来の技術】光反射防止が施された物品或いは光反射
防止が望まれる物品は、様々な用途で見受けられる。例
えば、各種機器の情報表示部の窓材である。一例を挙げ
れば、携帯電話機等では、液晶表示ディスプレイ（ＬＣ
Ｄ）等を利用した情報表示部を、水、塵、外力等から保
護するために、ＬＣＤ等による表示パネルをそのまま機
器外部に露出させずに、外側に透明プラスチック板等に
よる窓材を設けて、表示パネルを保護する事が多い（特
開平７−６６８５９号公報等参照）。 【０００３】 【発明が解決しようとする課題】しかしながら、表示パ
ネルの前方に窓材等を配置すると、窓材の表裏両面で外
光が反射し、表示の視認性が低下するという問題があっ
た。また、表示パネルの低消費電力化が重要な要素であ
る携帯電話機等の携帯機器では、外光反射の問題点とし
て表示の視認性低下の他に更に、窓材での光反射によっ
て、表示パネルからの光の一部が表示パネル側に戻され
る為に、表示パネルの光の利用効率が低下し、その分、
無駄な電力が消費されているという問題もあった。上記
窓材は反射防止物品の一例であったが、この他にも、光
反射防止が望まれる或いは必要な物品としては、例え
ば、各種光学部品、或いは、透明タッチパネル、或い
は、広告ディスプレスの前面保護板等と各種ある。 【０００４】そして、従来の反射防止処理の手法として
は、例えば、蒸着、スパッタリング、或いは塗工等の手
法によって、低屈折率層単層膜或いは低屈折率層と高屈
折率層との多層膜からなる反射防止層を設ける（特開２
００１−１２７８５２号公報等参照）等の技術が一般的
である。しかし、蒸着、スパッタリング等による反射防
止層は、１回又は多数回のバッチ処理により、屈折率と
厚みを制御した薄膜を形成する必要があるので、製品の
安定性、良品率等に問題がある上、バッチ式生産となる
ので、生産性が低く、この為、コストも高くなるという
問題があった。更に、前記した窓材を例にとれば、一旦
射出成形で成形品を作製してから、この成形品に蒸着等
で反射防止層を形成する為に、製造が２工程となる点で
も生産性が低かった。この為、反射防止処理は、生産コ
ストが高いという問題もあった。或いはまた、別の反射
防止処理として、表面を梨地処理化し、その拡散（乱）
反射によって鏡面反射光を低減する技術も挙げられる
が、この方法では光を拡散させる点で、光の利用効率を
上げることはできない上に透過して見る画像の解像度も
低下するという問題があった。それは、特に例えば、前
記情報表示部の窓材に於ける、表示パネルの表示光の利
用効率である。 【０００５】そこで、本出願人は、これら従来の反射防
止処理技術に於ける問題点を解決すべく、特開昭５０−
７００４０号公報に開示された、繰返周期が光の波長以
下の極めて微細な微細凹凸を表面に設けることによって
表面反射率を減少させる技術を、応用することを試み
た。同号公報に開示された技術をここで説明すれば、表
面反射を減らすべきレンズ等の光学部品に対して、その
表面にフォトレジスト等を塗布し、露光し、現像する等
して、レジストパターンを作製し、該パターンによりガ
ラス基材を腐蝕することで、光学部品の表面に一品毎に
直接、微細凹凸を造形する方法である。しかしながら、
一品毎の製造では、作業能率が悪く、工業製品に必要な
生産性（量産性）は得られないという問題があった。 【０００６】すなわち、本発明の課題は、光の無駄な反
射を減らし、表示の視認性を向上させると共に表示光の
光の利用効率も上げられる様な微細凹凸を表面に設けた
反射防止物品を、生産性良く製造する方法を提供するこ
とである。 【０００７】 【課題を解決するための手段】そこで、上記課題を解決
すべく、本発明による反射防止物品の製造方法は、基材
の表面に反射防止用の微細凹凸を形成して成る反射防止
物品を光重合法により製造する方法であって、上記微細
凹凸は、可視光の波長帯域の真空中に於ける最小波長を
λ_MIN、該微細凹凸の最凸部に於ける周期をＰ_MAXとした
ときに、 Ｐ_MAX≦λ_MIN なる関係を有し、且つ該微細凹凸をその凹凸方向と直交
する面で切断したと仮定したときの断面内に於ける基材
の材料部分の断面積占有率が、該微細凹凸の最凸部から
最凹部に行くに従って連続的に漸次増加して行く様な凹
凸であり、上記反射防止物品を光重合法によって製造す
る際に、工程として順次、（Ａ）先ず、微細凹凸形状を
造形した原型を作製し、（Ｂ）次いで、賦形型として、
上記原型の表面の微細凹凸形状を１又は２回以上の型取
・反転による複製を経て複製型を作製し、（Ｃ）次い
で、上記賦形型の微細凹凸形状表側と、光硬化性樹脂の
未硬化物とを接触させた状態で、該光硬化性樹脂を光重
合により硬化させた後、賦形型と光硬化性樹脂の硬化物
とを離型して、反射防止物品を作製する、各工程を行う
様にした。 【０００８】この様な製造方法とすることで、光重合法
で光硬化性樹脂の硬化物表面に微細凹凸を賦形すること
で反射防止物品を製造する時に、その賦形型として、微
細凹凸形状を最初に造形した原型を直接用いず、それか
ら微細凹凸形状を型取・反転して複製した複製型を用い
るので、生産性が良い。それは、複製型であれば、同じ
ものを多数用意して同時平行的にも製造できる上、たと
え複製型が傷付いたとしても原型から造り直す必要がな
いからである。しかも、原型の作製に長時間を要して
も、一旦原型を作製しておけば、複製型はそれから容易
に作製できるからである（すなわち、原型をフォトリソ
グラフィー法等によって作製する工程が一番難度が高
く、且つ時間、労力、製造原価も大である為）。 【０００９】なお、該微細凹凸によって光反射が防止さ
れるのは、簡単に言えば、物質表面に、反射防止すべき
光の波長以下のサイズの微細凹凸を設けると、該表面と
空気間の屈折率変化を、実質的に穏やかで連続的なもの
にできるので、急激で不連続な屈折率変化の場合に生じ
る現象である光反射を防げるからである。しかも、この
様な微細凹凸を設けた本反射防止物品が備える反射防止
機能は、梨地処理等の様な乱反射による鏡面反射光を低
減する光拡散性の反射防止では無く、物品表面と空気と
の界面の急激な屈折率変化を緩和する事によって実現し
ている為に、非光拡散性であり、光反射率が低減した
分、光透過率が向上する。従って、ディスプレイ等の情
報表示部の窓材等に使用時に、表示の視認性を向上させ
ると共に、表示光の光の利用効率も上げられる物品とな
る。 【００１０】 【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を説明
する。 【００１１】〔概要〕図１は、本発明による反射防止物
品の製造方法を、その一形態で概念的に説明する説明図
（断面図）である。先ず、図面上方右側の図１（Ａ）
は、微細凹凸賦形用の賦形型３１を示し、該賦形型３１
は、その賦形面に反射防止物品に付与すべき微細凹凸２
とは逆凹凸形状の微細凹凸２Ａを有する。本発明では、
この賦形型３１として、図面上方左側の図１（Ｂ）の如
く、露光法等により微細凹凸形状を造形（微細凹凸形状
を最初に形作ること。）した原型３０は使わずに、図１
（Ｃ）の如く、該原型３０から微細凹凸形状を型取・反
転により複製した複製型を賦形型３１として用いる。そ
して、図１（Ｄ）の如く、賦形型３１の賦形面に、光硬
化性樹脂の未硬化層１Ａを、塗布等の適宜な方法で施し
た後、図１（Ｅ）の如く、紫外線や電子線等の活性エネ
ルギー光線４０を照射して光硬化性樹脂の光重合を進め
る。その結果、光硬化性樹脂未硬化層１Ａは光硬化性樹
脂の硬化物となり、同図の場合では該硬化物が基材１自
体となる。そして、図１（Ｆ）の如く、賦形型３１と基
材１とを離型（剥離）すれば、該基材１の表面に微細凹
凸２が形成された構成の反射防止物品１０が得られる。 【００１２】なお、本発明特有の上記微細凹凸２は、光
波長以上の大きさの凹凸によるマット面（艶消し）を利
用して光を散乱（拡散反射）させる方式の従来公知の反
射防止処理乃至は防眩処理とは異なり、可視光線の波長
以下の大きさの本発明特有の形状の凹凸である。この様
な微細な凹凸によって、光反射防止効果が得られるので
ある。 【００１３】また、概念図である図１では、単純な場合
として、得られる反射防止物品１０は、その基材１の全
てを光硬化性樹脂の硬化物で構成したものとしたが、光
硬化性樹脂は専ら表面の微細凹凸部分のみを構成する反
射防止物品でも良い。つまり、図７の説明図の如く、熱
可塑性樹脂等による基材本体１ａ上に、光硬化性樹脂未
硬化層１Ａを塗工等で形成し、該層を賦形型３１で微細
凹凸２を形成した微細凹凸層１ｂとすれば、基材１が該
微細凹凸層１ｂと基材本体１ａとからなる構成の反射防
止物品１０を製造できる。 【００１４】また、図１は概念的であるので、反射防止
物品１０の形状は平板状であるが、該形状は平板状に限
定されるものではない。また、微細凹凸２は反射防止物
品の２以上の複数の面に形成することもできる。 【００１５】なお、反射防止物品と賦形型とでは、その
微細凹凸は逆凹凸関係となるが、本発明の説明では、そ
れらの微細凹凸を特に明示的に区別する場合は、反射防
止物品上のものは微細凹凸２、賦形型上ののものは微細
凹凸２Ａとして、符号の違いで使い分ける。但し、型取
・反転による複製操作の数によって、賦形型と原型との
微細凹凸は、逆凹凸関係となる場合とそうで無い場合と
がある。複製操作が１回又は奇数回の場合は、賦形型と
原型とは逆凹凸関係だが、２回又は偶数回の場合はそれ
らは同じ凹凸関係となる。 【００１６】〔微細凹凸〕微細凹凸２が、反射防止効果
を有するのは、次の様な理由による。すなわち、該微細
凹凸２によって、反射防止物品を構成する基材１と、外
界（空気）との間の急激で不連続な屈折率変化を、連続
的で漸次変化する屈折率変化に変えることが可能となる
からである。それは、光の反射は、物質界面の不連続な
急激な屈折率変化によって生じる現象であるから、物品
表面に於ける屈折率変化を、空間的に連続的に変化する
様にすることによって、該物品面に於ける光反射が減る
のである。なお、基材１は、通常は透明で光は透過する
物となるが、不透明の物であっても、その表面反射を低
下する反射防止効果は得られる。 【００１７】以下、基材表面に形成された微細凹凸２に
よって、反射防止効果が得られる理由について、基材１
が透明である場合で詳述する。 【００１８】図２〜図４は、基材１の表面に設けられた
微細凹凸２によって得られる屈折率分布を、概念的に説
明する概念図である。先ず、図２は、反射防止物品とし
て、微細凹凸２が表面に付与された基材１について、該
基材１が、Ｚ≦０の部分の空間を占め、該基材の表面、
すなわちＺ＝０に於けるＸＹ平面上に、Ｚ軸方向を凹凸
方向とする多数の微細凹凸２が配置された状態を示す。 【００１９】そして、本発明では、微細凹凸２を、図２
の如く、その最凸部２ｔに於ける周期をＰ_MAXとしたと
きに、このＰ_MAXが、可視光の波長帯域の真空中に於け
る最小波長をλ_MIN以下としてある為、微細凹凸形成面
への到達光に対しては、媒質（基材、及び空気）の屈折
率に空間的な分布があっても、それは注目する波長以下
の大きさの分布である為に、その分布がそのまま直接に
光に作用せず、それが平均化されたものとして作用す
る。従って、平均化された後の屈折率（有効屈折率）が
光が進行するに従って連続的に変化する様な分布にして
おけば、光の反射を防げるのである。 【００２０】なお、本発明に於いて、最凸部２ｔにに於
ける周期Ｐ_MAXとは、隣接する微細凹凸２の最凸部２ｔ
間の距離のうち最大の距離であって、個々の微細凹凸が
規則的に配置され周期性を有する（隣接する微細凹凸同
士間の距離が同一）構成でも良いが、周期性が無い（隣
接する微細凹凸同士間の距離が不揃い）構成でも良い。 【００２１】そして、図２では、直交座標系として、基
材１の表面の包絡面に立てた法線方向にＺ軸を、また、
それと直交する平面内にＸ軸、Ｙ軸をとる。そして、
今、光が基材外部から基材内に入光して、該基材内部を
進み、該基材の表面近傍をＺ軸の負方向に向かって進行
しつつあり、丁度、Ｚ軸座標がｚのところに存在すると
する。 【００２２】すると、ここのＺ＝ｚに居る光にとって
は、媒体の屈折率は基材１表面が特定の微細凹凸２をな
す為、厳密には、Ｚ＝ｚに於いてＺ軸と直交するＸＹ平
面（横断面：水平断面）内に於いて、分布ｆ（ｘ，ｙ，
ｚ）を持つ様に見える。すなわち、ＸＹ平面内に於い
て、基材１の断面部分は屈折率ｎ_b（１．５程度）、其
の他の部分、具体的には空気ａの部分は屈折率ｎ_a（＝
１．０程度）となる（図３参照）。ところが実際には、
光にとっては、その波長（反射防止の対象とする光の波
長が分布を有する場合は、その波長帯域の最小波長λ
_MINを考えれば良い。）よりも小さな空間的スケールの
屈折率分布は、平均化されたものとして作用する結果、
平均化された結果の有効屈折率は、前記ＸＹ平面内に於
いて、屈折率分布ｆ（ｘ，ｙ，ｚ）をＸＹ平面内に於い
て積分したもの、 【００２３】 【数１】 【００２４】となる。その結果、有効屈折率（ｎ_ef）の
分布はｚのみの関数ｎ_ef（ｚ）となる（図４参照）。 【００２５】よって、もしも、微細凹凸２に於ける基材
の凸部の断面積が、凹部に向かって連続的に増大する様
な形状であれば（ＸＹ平面内に於ける）基材部分と空気
部分との面積比がＺ軸方向に向かって連続的に変化する
為、有効屈折率ｎ_ef（ｚ）はｚに付いての連続関数にな
る。 【００２６】一方、一般に屈折率ｎ₀の媒質から、屈折
率ｎ₁の媒質に光が入射する場合を考える。今、簡単の
為に、入射角θ＝０°（垂直入射）を考える。但し、入
射角は入射面の法線に対する角度とする。この場合、媒
質界面での反射率Ｒは、偏光、及び入射角には依存せ
ず、下記の〔式２〕となる。 【００２７】 【数２】 【００２８】従って、（有効）屈折率のＺ方向への変化
が連続関数であるということは、Ｚ方向（光の進行方
向）に微小距離Δｚ隔てた２点、Ｚ＝ｚに於ける屈折率
ｎ_ef（ｚ）をｎ₀、Ｚ＝ｚ＋Δｚに於ける屈折率ｎ
_ef（ｚ＋Δｚ）をｎ₁、としたときに、 【００２９】Δｚ→０ ならば、 ｎ₁→ｎ₀ 【００３０】となり（連続関数の定義より）、よって、
〔式２〕より、 【００３１】Ｒ→０ 【００３２】となる。 【００３３】なお、ここで、より厳密に言うと、物体中
での光の波長は、真空中の波長をλ、物体の屈折率をｎ
としたときに、λ／ｎとなり、λよりは一般に或る程度
小となる。但し、物体が空気の場合の屈折率はｎ≒１の
為、λ／ｎ≒λと考えて良い。但し、基材に使われる材
料は、通常１．５前後の屈折率である為、屈折率ｎ_bの
基材中の波長（λ／ｎ_b）は、０．７λ程度となる。こ
の点を考慮すると、微細凹凸２の部分に於いて、空気の
側の部分（微細凹凸２の凹部）について見れば、 【００３４】Ｐ_MAX≦λ_MIN 【００３５】の条件を満たすとき、屈折率平均化による
反射率低減効果が期待出来る。但し、 【００３６】λ_MIN／ｎ_b≦Ｐ_MAX≦λ_MIN 【００３７】である場合は、基材の部分（微細凹凸２の
凸部）の寄与について見れば、屈折率平均化による反射
率低減効果は、少なくとも完全には期待出来ないことに
なる。しかし、それでも、空気部分に於ける寄与の為、
全体としては反射防止効果を有する。そして、 【００３８】Ｐ_MAX≦λ_MIN／ｎ_b 【００３９】の条件までも満たす場合は、空気部分、基
材部分とも、周期Ｐ_MAXが、最短波長よりも小さいと言
う条件が完全に満たされる為、屈折率平均化による反射
防止効果は、より完全となる。具体的には、λ_MINを可
視光波長帯域の下限３８０ｎｍ、ｎ_bを仮に１．５とす
れば、λ_MIN／ｎ_bは２５０ｎｍ、つまりＰ_MAXは２５０
ｎｍ以下とすれば良い。 【００４０】次に、微細凹凸２の形状は、微細凹凸をそ
の凹凸方向と直交する面（ＸＹ平面）で切断したと仮定
したときの断面（水平断面）内に於ける基材の材料部分
の断面積占有率が、該微細凹凸の最凸部（頂上）から最
凹部（谷底）に行くに従って連続的に漸次増加して行く
形状とする。この為には、微細凹凸の山は少なくともそ
の一部の側面が斜めの斜面を有するものとすれば良い
が、下記する図５（Ｃ）の様に斜面と共に垂直側面があ
る形状の微細凹凸でも良い。特に、好ましくは、最凸部
に於いて完全に０に収束し、且つ最凹部に於いて完全に
１に収束する形状とする。具体的には例えば、図５
（Ｂ）、図５（Ｃ）の如き形状が挙げられる。但し、図
５（Ｄ）、或いは図５（Ｅ）の如く、最凸部に於いて
は、ほぼ０に漸近した形状、或いは、最凹部に於いてほ
ぼ１に漸近する様な形状であれば、或る程度の効果は得
られる。微細凹凸の形状は、この様な条件を満たせば、
どんな形状でも良い。 【００４１】例えば、個々の微細凹凸２の垂直断面形状
は、図５（Ａ）の如き正弦波等の曲線のみによる波状の
形状〔図２も参照〕、図５（Ｂ）及び図５（Ｃ）の如き
三角形等の直線のみによる形状、或いは、図５（Ｄ）の
如き三角形の最凸部が平坦面を成す形状である台形の形
状、図５（Ｅ）の如き隣接する三角形間の最凹部が平坦
面を成す形状等である。但し、図５（Ｄ）や図５（Ｅ）
の如く、最凸部或いは最凹部に平坦面を有する形状で
は、最凸部或いは最凹部の平坦面の部分で、その平坦面
の占める面積割合が大きい程、有効屈折率の変化がより
大きく不連続となる。その点で性能的には劣るものとな
る。しかし、この場合でも、微細凹凸の最凸部から最凹
部に行くに従って有効屈折率を連続的に変化させること
は出来る。従って、反射防止性能の点では、最凸部或い
は最凹部の平坦面の面積割合は少ない程好ましい。 【００４２】また、有効屈折率ｎ_ef（ｚ）を空気中から
基材中に向かうＺ方向の関数として、ｎ_aからｎ_bに連続
的に変化する様にする為には、微細凹凸の最凸部に於い
て、基材の断面積占有率が０に収束する図５（Ｂ）或い
は図５（Ｃ）の如き形状（すなわち、尖った形状）で且
つ最凹部に於いて該断面積占有率が連続的に１に収束す
る形状が最も好ましい。 【００４３】次に、個々の微細凹凸の水平断面形状は、
円形（例えば図２）、楕円形、三角形、四角形、長方
形、六角形、其の他多角形等任意である。なお、水平断
面形状は、微細凹凸の最凸部から最凹部の全てにわたっ
て同じである必要は無い。従って、微細凹凸の立体形状
は、例えば、水平断面形状が円形で垂直断面形状が正三
角形の場合の微細凹凸の立体形状は円錐に、水平断面形
状が円形で垂直断面形状が三角形の場合の微細凹凸の立
体形状は斜円錐に、水平断面形状が三角形で垂直断面形
状が正三角形の場合の微細凹凸の立体形状は三角錐に、
水平断面形状が四角形で垂直断面形状が三角形の場合の
微細凹凸の立体形状は四角錐になる。 【００４４】また、微細凹凸の、水平面内に於ける配置
は、図２で例示した如く二次元的配置の他に、図６
（Ａ）の斜視図で例示の直線溝状の微細凹凸２の如く、
一次元的配置でも良く、どちらも効果は得られる。但
し、一次元的配置の場合は、光の波の振幅方向との関係
で、反射防止効果が得られる方向と得られない方向とが
出る、異方性が発生する。従って、図２の斜視図や図６
（Ｂ）及び（Ｃ）の平面図で例示の様な二次元的配置の
方が、方向性が全く無い点で好ましい。 【００４５】なお、個々の微細凹凸の立体形状は全て同
一でも良いが、全て同一で無くても良い。また、個々の
微細凹凸２を二次元配置する場合に、周期は、個々の微
細凹凸に於いて全て同一でも良いが、全て同一で無くて
も良い。 【００４６】また、微細凹凸の高さＨは、希望する反射
率の低減効果と基材表面に入射する可視光帯域の最大波
長に応じて決定する。例えば、特開昭５０−７００４０
号公報（特にその第３図）記載の反射率、微細凹凸の高
さ、及び光波長との関係を基に設計する場合、例えば、
可視光帯域での反射率を、２％（未処理の硝子の場合の
半分）以下に低減させることを目標とするならば、その
最小高さＨ_MINが０．２λ_MAX以上、すなわち、 【００４７】Ｈ_MIN≧０．２λ_MAX 【００４８】また、可視光帯域での反射率を０．５％以
下にまで低減させることを目標とするならば、 【００４９】Ｈ_MIN≧０．４λ_MAX 【００５０】とするのが好ましい。なお、ここで、λ
_MAXは、可視光波長帯域の真空中に於ける最大波長であ
る。微細凹凸の高さＨは、ゼロから高くなるに従って反
射率が低下して行くが、上記不等号条件を満足させる高
さまで達すると、有為な効果が得られる様になる。具体
的には、例えば、発光スペクトルの最大波長が、λ_MAX
＝６４０ｎｍの蛍光灯を用いたとすれば、Ｈ_MIN≧０．
２λ_MAX＝１２８ｎｍとかなる。すなわち、Ｈ_MINは１２
８ｎｍ以上とすれば良い。また、スペクトルの最大波長
がλ_MAX＝７８０ｎｍの太陽光線を考えるならば、Ｈ_MIN
≧０．２λ_MAX＝１５６ｎｍ、すなわち、Ｈ_MINは１５６
ｎｍ以上とすれば良い。また、最小高さＨ_{M IN}と周期Ｐ
_MAXとの関係では、最小高さＨ_MIN／周期Ｐ_MAXの比を、
１／２〜４／１程度とする。 【００５１】ここで、微細凹凸の具体的形状及び大きさ
を例示すれば、形状は垂直断面が正弦波状で水平断面が
円形の円錐状の形状のものを多数、二次元的に規則的配
置した集合体であり、周期期Ｐ_MAXが５０〜２５０ｎ
ｍ、最小高さＨ_MINを前記周期Ｐ _MAXの１．５倍としたも
の等がある。 【００５２】〔賦形型の作製〕本発明では光重合法で使
用する賦形型として、微細凹凸形状を最初に造形した原
型は用いずに、該原型から１回、或いは２回以上の型取
・反転による複製工程を経て作製した複製型を用いる。
つまり、最初に一旦、原型（これを原版、或いはマザー
版とも呼ぶ）を作製した後、この原型から複製型を作製
する複製操作を１回又は２回以上の多数回行い、その結
果、得られた複製型（これを本版、或いはマスター版と
も呼ぶ）を光重合法で使用する賦形型として採用するの
である。この様な方法とすることで、工業的生産性、コ
スト等に優れた方法となる。 【００５３】賦形型の元となる原型としては、必要な微
細凹凸が形成されているのものであれば、その作製方法
には基本的には特に限定は無く、生産性、コスト等を考
慮して適宜なものを使用すれば良い。原型の作製は、微
細凹凸２を賦形する為の凹凸形状を最初に造形する工程
であり、半導体分野等に於ける微細加工技術、すなわ
ち、光（含む電子ビーム）をパターン形成に利用する所
謂露光法を利用できる。但し、半導体の場合は、凹凸形
状はその側面が通常垂直面で良く、本発明の如く斜面に
する必要は特に無いため、本発明では、斜面が形成でき
る様にして微細加工する。 【００５４】露光法に該当する微細加工技術としては、
例えば、電子線描画法を利用できる。この方法では、先
ず、ガラス基板の上にレジスト層を形成した後、電子線
描画法により該レジスト層を露光し現像してパターニン
グしてレジストパターン層とする。この後、腐蝕マスク
に該レジストパターン層を利用してガラス基板をドライ
エッチング法等により腐蝕することで、ガラス基板に微
細凹凸形状が形成される。この際、エッチング時にサイ
ドエッチングさせて、斜面を形成する。また、ガラス基
板腐蝕時の腐蝕マスクとしてはレジストパターン層自体
を直接用いても良いが、斜面を有する深い凹凸形状を形
成するには、好ましくは、ガラス基板上にクロム等によ
る金属層を設けた後、レジスト膜を形成してレジストパ
ターン層を得、前記金属層をこのレジストパターン層を
利用して金属パターン層としてたものを、腐蝕マスクと
して用いるのが良い。 【００５５】また、レジスト膜へのパターン形成に際し
ては、電子線描画法の他の露光法として、レーザ描画法
も利用できる。レーザ描画法では、ホログラム、回折格
子等の作製等に利用されているレーザ干渉法が利用でき
る。回折格子の場合は、一次元的配置であるが、角度を
変えて多重露光すれば、二次元配置も可能となる。但
し、レーザ干渉法では、得られる微細凹凸は、通常規則
的配置となるが、電子線描画法では、予め所定の描画パ
ターン情報を記憶装置にデジタルデータとして記憶して
おき、該描画パターン情報により、走査する電子線のＯ
Ｎ、ＯＦＦ、乃至は強弱を変調する。その為、規則配置
の他にも、不規則配置も可能である。また、レーザー描
画法及び電子線描画法には各々長所、短所が有る為、設
計諸元、目的、生産性等を考慮の上、適宜な手法及び条
件を選択する。 【００５６】次に、上記原型から賦形型として使用する
複製型を作製する方法としては、公知の方法、例えば、
原型にニッケル等の金属めっきを行って、めっき層を剥
がせば金属製の複製型を作製できる（電鋳法）。或い
は、この複製型にもう一度めっきして、再度複製した型
を賦形型とするなど、２以上の多数回の複製操作を経て
賦形型を作製しても良い。なお、光重合法で使用する賦
形型の形態としては、板状、シート状、ブロック状等が
あり得、反射防止物品の形状、用途等に応じて適宜選択
すれば良い。なお、賦形型は、上記ニッケルの如き金属
製でも良いが、シリコーン樹脂等の樹脂製のものを使用
しても良い。例えば、樹脂からなるシート状で連続帯状
も可能な賦形型である。 【００５７】〔光重合法〕ところで、光重合法は一般に
は２Ｐ法（Ｐｈｏｔｏ−ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ
法）とも呼ばれ、賦形型と光硬化性樹脂とを用いて、該
光硬化性樹脂の硬化物の表面に賦形型が有する凹凸形状
を賦形する方法である。なお、光重合法（２Ｐ法）で
は、光重合の為の光として、紫外線の他、電子線等の活
性エネルギー光線が使用される。本発明による製造方法
では、光重合法で使用する賦形型に、上述本発明特有の
賦形型を用いる以外は、光重合法としては特に制限は無
く、光重合法の形態、使用する光硬化性樹脂等は、反射
防止物品の用途等に応じて適宜な形態、材料を採用すれ
ば良い。また、光硬化性樹脂を、賦形型或いは基材本体
上へ施すには、公知の塗工法や印刷法を適宜採用すれば
良い。 【００５８】例えば、光硬化性樹脂の未硬化組成物は、
必要に応じ適宜、揮発溶剤を添加した組成物でも良い。
また、光硬化性樹脂に未硬化状態で固体のものを用いれ
ば、賦形型を剥離した後、光照射して光重合を進めても
良い。また、光重合を賦形型の剥離前に一部進めて、剥
離後に完結させても良い。また、光照射は、賦形型が金
属製等の光不透過性の物であるような場合には賦形型側
からではなく光硬化性樹脂未硬化層の側からとなるが、
賦形型が金属製では無く樹脂製等の光透過性の場合には
光照射は賦形型側から行っても良い。ちなみに、図１に
例示した形態では、光照射を賦形型が光硬化性樹脂未硬
化層と接触状態で、光硬化性樹脂未硬化層側から行い、
光重合を進める形態であった。 【００５９】〔光硬化性樹脂〕なお、光硬化性樹脂（光
重合性樹脂）としては、例えば、紫外線や電子線等の活
性エネルギー光線で重合する公知の樹脂を適宜使用する
ことができる。なお、光硬化性樹脂は、活性エネルギー
線硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂等とも呼ばれる。
そこで、以下、光硬化性樹脂を電離放射線硬化性樹脂と
も呼ぶことにする。また、光重合させ得る活性エネルギ
ー光線を電離放射線とも呼ぶことにする。 【００６０】電離放射線硬化性樹脂は、具体的には、分
子中にラジカル重合性不飽和結合、又はカチオン重合性
官能基を有する、プレポリマー（所謂オリゴマーも包含
する）及び／又はモノマーを適宜混合した、電離放射線
により硬化（光重合）可能な組成物が好ましくは用いら
れる。これらプレポリマー又はモノマーは単体又は複数
種を混合して用いる。 【００６１】上記プレポリマー又はモノマーは、具体的
には、分子中に（メタ）アクリロイル基、（メタ）アク
リロイルオキシ基等のラジカル重合性不飽和基、エポキ
シ基等のカチオン重合性官能基等を有する化合物からな
る。また、ポリエンとポリチオールとの組み合わせによ
るポリエン／チオール系のプレポリマーも好ましくは用
いられる。なお、例えば（メタ）アクリロイル基とは、
アクリロイル基又はメタクリロイル基の意味である。ま
た、以下の（メタ）アクリレートも同様に、アクリレー
ト又はメタクリレートの意味である。ラジカル重合性不
飽和基を有するプレポリマーの例としては、ポリエステ
ル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレー
ト、エポキシ（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）
アクリレート、トリアジン（メタ）アクリレート、シリ
コーン（メタ）アクリレート等が使用できる。分子量と
しては、通常２５０〜１００，０００程度のものが用い
られる。 【００６２】ラジカル重合性不飽和基を有するモノマー
の例としては、単官能モノマーとして、メチル（メタ）
アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレー
ト、フェノキシエチル（メタ）アクリレート等がある。
また、多官能モノマーとして、ジエチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、トリメチールプロパントリ（メタ）
アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサ
イドトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトー
ルテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトー
ルペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトー
ルヘキサ（メタ）アクリレート等もある。カチオン重合
性官能基を有するプレポリマーの例としては、ビスフェ
ノール型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ化合物等
のエポキシ系樹脂、脂肪酸系ビニルエーテル、芳香族系
ビニルエーテル等のビニルエーテル系樹脂のプレポリマ
ーがある。チオールとしては、トリメチロールプロパン
トリチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラチ
オグリコレート等のポリチオールがある。また、ポリエ
ンとしては、ジオールとジイソシアネートによるポリウ
レタンの両端にアリルアルコールを付加したもの等があ
る。 【００６３】なお、紫外線又は可視光線にて光重合させ
る場合には、上記電離放射線硬化性樹脂に、さらに光重
合開始剤を添加する。ラジカル重合性不飽和基を有する
樹脂系の場合は、光重合開始剤として、アセトフェノン
類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイ
ン、ベンゾインメチルエーテル類を単独又は混合して用
いることができる。また、カチオン重合性官能基を有す
る樹脂系の場合は、光重合開始剤として、芳香族ジアゾ
ニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム
塩、メタロセン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル
等を単独又は混合物として用いることができる。なお、
これらの光重合開始剤の添加量としては、電離放射線硬
化性樹脂１００質量部に対して、０．１〜１０質量部程
度である。 【００６４】なお、電離放射線、すなわち光重合用の活
性エネルギー光線としては、電離放射線硬化性樹脂（組
成物）中の分子を光重合反応させ得るエネルギーを有す
る電磁波又は荷電粒子が用いられる。通常用いられるも
のは、紫外線又は電子線であるが、この他、可視光線、
Ｘ線、イオン線等を用いる事も可能である。紫外線源と
しては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カー
ボンアーク灯、ブラックライト、メタルハライドランプ
等の光源が使用される。紫外線の波長としては通常１９
０〜３８０ｎｍの波長域が主として用いられる。電子線
源としては、コッククロフトワルトン型、バンデグラフ
ト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、或いは、直線
型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器
を用い、１００〜１０００ｋｅＶ、好ましくは、１００
〜３００ｋｅＶのエネルギーをもつ電子を照射するもの
が使用される。 【００６５】また、上記電離放射線硬化性樹脂には、更
に必要に応じて、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポ
リ酢酸ビニル、アクリル樹脂、セルロース樹脂等の熱可
塑性樹脂を添加することもできる。 【００６６】〔基材本体〕基材本体１ａは、既に有形の
材料から構成される基材の一部である。図７（Ｃ）で例
示される反射防止物品１０の如く、その基材１が基材本
体１ａと微細凹凸層１ｂとからなる構成は、既に存在す
る物品に対して、反射防止加工としてその表面に微細凹
凸層１ｂを形成して、反射防止物品とする場合に好適で
ある。この様な構成とすれば、基材本体１ａの部分は、
光硬化性樹脂の硬化物で構成しても良いが、光硬化性樹
脂以外の材料、例えば熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ガ
ラス（含むセラミックス）等で構成することも可能であ
る。これら光硬化性樹脂以外の材料は、反射防止物品の
用途に応じた材料を使用すれば良い。 【００６７】例えば、基材本体として使用する樹脂とし
ては、通常は、透明性及び機械的強度を有するものが使
用される。該樹脂としては熱可塑性樹脂が代表的であ
り、例えば、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メ
タ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸メチル−
（メタ）アクリル酸ブチル共重合体等のアクリル樹脂
〔但し、（メタ）アクリルとはアクリル、或いはメタク
リルを意味する。〕、ポリカーボネート樹脂、ポリプロ
ピレン、ポリメチルペンテン、環状オレフィン系高分子
（代表的にはノルボルネン系樹脂等があるが、例えば、
日本ゼオン株式会社製の製品名「ゼオノア」、ＪＳＲ株
式会社製の「アートン」等がある）等のポリオレフィン
系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナ
フタレート等の熱可塑性ポリエステル樹脂、ポリアミド
樹脂、ポリスチレン、アクリロニトリル−スチレン共重
合体、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、セル
ロース系樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリエーテルエーテル
ケトン、ポリウレタン等が挙げられる。 【００６８】〔連続帯状の反射防止物品の製造例〕とこ
ろで、光重合法で基材本体上に微細凹凸層を形成する形
態の場合には、該基材本体として樹脂シート等の連続帯
状のシートを使用して、連続帯状でシート形態の反射防
止物品を製造することもできる。この場合、使用する賦
形型（賦形型作製の場合は複製型）としては、円筒状の
ものを使用すると良い。円筒状の賦形型は、原型或いは
該原型から１又は２回以上の複製により得た複製型に対
して、ニッケル等の金属めっきを行って金属製でシート
状の複製型を作製し、この複製型を、中空円筒状の鉄等
による金属シリンダー表面に貼り込んで、形状を円筒状
とした複製型を使用できる。なお、この様な反射防止物
品の製造方法と同様にして、反射防止物品の代わりに連
続帯状でシート形態の賦形型を製造することもできる。
つまり、本発明で使用する賦形型には、その作製自体に
も光重合法を利用しても良い。 【００６９】この様な連続帯状のシート形態の基材本体
（以下、これを素材シートとも呼ぶ）、及び円筒状の賦
形型を用いて、連続帯状でシート形態の反射防止物品を
製造する方法として、「成形版胴法」を更に詳述する。 【００７０】成形版胴法では、液状の電離放射線硬化性
樹脂（の未硬化物）を、円筒状の賦形型として成形版胴
（ロール凹版、賦形版とも呼称される）の少なくとも凹
部に充填させると共に該樹脂に素材シートを接触させ、
該樹脂が素材シートと成形版胴との間に保持されている
状態で電離放射線を照射して該樹脂を光重合により硬化
させて微細凹凸層とする事で、素材シートに微細凹凸層
を積層する。この結果、微細凹凸層が素材シートに積層
した構成の基材からなる反射防止物品が製造される。な
お、この様な成形版胴法による凹凸形成方法は、特開昭
５７−８７３１８号公報、特公昭５７−２２７５５号公
報、特公昭６３−５００６６号公報、特開平７−３２４
７６号公報等に開示されるものであって、成形版胴の凹
凸形状を忠実に電離放射性硬化性樹脂の硬化物（微細凹
凸層）として素材シート上に積層する方法である。この
方法は基本的には、以下の工程からなる。 【００７１】（１）賦形型として、表面に目的とする微
細凹凸２の凹凸形状と同形状且つ逆凹凸の凹凸形状（微
細凹凸２Ａと同形状）を形成した円筒形状の成形版胴を
用意し、これを軸芯の回りに回転させる。 （２）連続帯状の素材シートを、該成形版胴の周速度と
同速度で供給する。 （３）該素材シートと該成形版胴とを、その間に電離放
射線硬化性樹脂の未硬化液状組成物を介して重ね合わせ
て密着させ、該液状組成物が該成形版胴の少なくとも凹
部を完全に充填する様にする。 （４）その状態のままで電離放射線照射装置から電離放
射線を照射して、該液状組成物を架橋、硬化させる。 （５）而る後に、素材シートを、それに接着し且つ成形
版胴上の凹凸形状が賦形された電離放射線硬化性樹脂の
硬化物からなる微細凹凸層と共に、成形版胴から剥離除
去する。この結果、微細凹凸層が素材シートに接着した
構成で反射防止物品が得られる。 【００７２】上記（３）の工程に於いて、電離放射線硬
化性樹脂の未硬化液状組成物を成形版胴、或いは素材シ
ートに塗工するには公知の各種方法、例えば、ロールコ
ート、カーテンフローコート、Ｔダイコート等の方法を
用る。特に成形版胴への塗工の場合はインキパン中の液
状組成物に、回転する成形版胴を浸漬させる（所謂ドブ
浸け）も可能である。 【００７３】なお、素材シート２１の材料としては、前
述基材本体で列記した材料等を使用する事ができるが、
特に成形版胴表面の少なくとも一部に素材シートを巻き
付けられる様な可撓性を有するものが使われ、電離放射
線の照射が素材シート側から可能である樹脂シートが代
表的である。例えば、ポリエチレンテレフタレートシー
ト等である。なお、素材シートの厚さは通常２０〜２０
０μｍ程度である。 【００７４】〔反射防止物品の用途〕本発明の反射防止
物品は、形状は、三次元形状、板、シート等任意であ
り、用途も特に限定れるものでは無い。但し、その反射
防止表面の微細凹凸は、極めて微細であるが故に、汚れ
や傷に対して注意するに越したことは無いので、微細凹
凸は好ましくは外面には露出させず、内面に設けられる
用途、或いは、装置内部に設けられる用途等が好適であ
る。なお、本発明が適用し得る用途は、これから例示さ
れる用途に限定されるものではない。 【００７５】例えば、携帯電話等の各種機器に於ける情
報表示部の窓材である。これら表示部では、ＬＣＤ等の
表示パネルの前面に、板や成形品等となった樹脂製の窓
材が配置される。窓材としての反射防止物品は、外側は
露出する為に傷や汚れへの耐性の点で本発明特有の微細
凹凸は設けず、内側の裏面の側に該微細凹凸を設けたも
のとするのが好ましい。なお、情報表示部は、ＬＣＤ等
の表示パネル以外に、時計に代表される機械式アナログ
メータ等の様な機械的手段で表示するものでもよく、こ
れらの窓材でも良い。なお、窓材は、平板状もあるが、
組み付けやデザイン上の観点から周囲に突起等有するも
のもあり、この様な複雑形状のものは、光硬化性樹脂で
微細凹凸賦形と同時に基材の全てを造形しても良いが、
射出成形で樹脂成形物として得た三次元形状の基材本体
に対して、その所望の面に微細凹凸層を光重合法で形成
して反射防止物品とするのがコスト的には好ましい。 【００７６】なお、上記の様な窓付き情報表示部を有す
る機器としては、携帯電話、時計の外にも、パーソナル
コンピュータ、電子手帳等のＰＤＡ乃至は携帯情報端
末、電卓、或いは、ＣＤプレーヤー、ＤＶＤプレーヤ、
ＭＤプレーヤ、半導体メモリ方式音楽プレーヤ等の各種
携帯型音楽プレーヤ、或いは、ビデオテープレコーダ、
ＩＣレコーダ、ビデオカメラ、デシタルカメラ、ラベル
プリンタ等の電子機器、或いは、電気炊飯器、電子ポッ
ト、洗濯機等の電気製品等がある。 【００７７】また、板状やシート状の反射防止物品に於
いては、透明タッチパネル等に使用する透明板等の透明
基材が挙げられる。透明タッチパネルは、表示部に入力
機能を付加するものであるが、該製品組立上、ＬＣＤ、
ＣＲＴ等の表示パネルと別部品として組み付けるので、
表示パネルと透明タッチパネル間に空隙が残り、光反射
が生じる。そこで、透明タッチパネルの裏面側を成す透
明基材を、その裏面を本発明特有の微細凹凸を設けた反
射防止物品とすれば、光反射が防げる。 【００７８】なお、透明タッチパネルは、例えば、電子
手帳等のＰＤＡ乃至は携帯情報端末（機器）、或いは、
カーナビゲーションシステム、ＰＯＳ（販売時点情報管
理）端末、携帯型オーダー入力端末、ＡＴＭ（現金自動
預金支払兼用機）、ファクシミリ、固定電話端末、携帯
電話機、デシタルカメラ、ビデオカメラ、パソコン、パ
ソコン用ディスプレイ、テレビジョン受像機、テレビ用
モニターディスプレイ、券売機、計測機器、電卓、電子
楽器等の電子機器、複写機、ＥＣＲ（金銭登録機）等の
事務器、或いは、洗濯機、電子レンジ等の電気製品に使
用される。また、本発明の反射防止物品は、各種光学部
品としての用途も挙げられる。例えば、写真機のレン
ズ、写真機のファインダの窓材、眼鏡のレンズ、オーバ
ーヘッドプロジェクタのフレネルレンズ、レーザ装置の
出力取出窓、光センサの光入力窓、望遠鏡のレンズ等が
挙げられる。 【００７９】 【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳述する。 【００８０】〔実施例１〕厚さ３ｍｍのガラス基板上に
スピンコート法により感光性樹脂（ＳｉｐｌｅｙＣ
ｏ．， Ｉｎｃ．製、商品名「Ｍｉｃｒｏｐｏｓｉｔ
Ｓ１８０５」）の厚さ６００ｎｍのレジスト層を形成
し、レーザ干渉露光装置により、アルゴンイオンレーザ
ーを５０°の入射角度で２方向から露光する操作を、ガ
ラス基板の９０度回転させて２回行った。次いで、現像
液で現像してレジストパターン層を形成した。 【００８１】次に、ドライエッチング法によりガラス基
板の腐蝕を行って、所望の微細凹凸形状が形成されたガ
ラス基板からなる原型（マザー版）を作製した。この原
型から、電気めっき法によって、厚さ８０μｍのニッケ
ルめっきプレートからなるシート状の複製版（マスター
版）を賦形型として作製した。 【００８２】そして、平板状の反射防止物品を製造する
為に、基材本体として厚さ１．５ｍｍの透明アクリル樹
脂板の片面に、光重合法によって微細凹凸２を形成し
た。具体的には、該基材本体の片面に下記組成の紫外線
硬化型の光硬化性樹脂をポッティングした（塗工量換算
２ｇ／ｍ²）後、その樹脂塊の上から前記賦形型を押し
付けて樹脂を板面に行き渡らせて圧着させたままの状態
で、基材本体側から高圧水銀灯で紫外線を照射して樹脂
を光重合により硬化させた後、賦形型を剥がし、樹脂製
で平板状で片面に所望の微細凹凸が形成された反射防止
物品を得た。 【００８３】 〔紫外線硬化型の光硬化性樹脂〕 テトラブロムビスフェノールＡ型エポキシアクリレート ‥‥‥ ３２質量部 ２−フェニル−２−（４−アクリロイルオキシエトキシフェニル）プロパン ‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥ １８質量部 ２，４，６−トリブロモフェニルエトキシアクリレート ‥‥‥ ５０質量部 １−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン ‥‥‥‥‥‥‥ ３質量部 【００８４】得られた反射防止物品の微細凹凸２は、原
子間力顕微鏡での観察により、高さＨ_MINが２００ｎ
ｍ、周期Ｐ_MAXが３００ｎｍの、図２の如き形状が多数
縦横に正方格子状に規則的に配列された微細凹凸であっ
た。 【００８５】〔性能評価〕作製した反射防止物品につい
て、可視光帯域での光の透過率と反射率を測定した。そ
の結果、実施例１の反射防止物品は、透過率は９５％、
反射率は０．３％であった。なお、微細凹凸を設けず反
射防止加工が未加工の単なる透明アクリル樹脂板では、
透過率９１％、反射率４％であり、反射防止効果が認め
られた。また、実施例１の反射防止物品では、反射防止
された光は拡散せず、その分、透過率が向上している事
も認められた。 【００８６】 【発明の効果】本発明の反射防止物品の製造方法によれ
ば、光重合法で表面に微細凹凸を賦形する際の賦形型と
して、微細凹凸形状を最初に造形した原型を直接用い
ず、それから複製した複製型を用いるので、生産性が良
い。それは、複製型であれば、同じものを多数用意して
同時平行的にも製造できる上、たとえ複製型が傷付いた
としても原型から造り直す必要がないからである。しか
も、原型の作製に長時間を要しても、一旦原型を作製し
ておけば、複製型はそれから容易に作製できるからであ
る。 【００８７】また、本発明の製造方法で反射防止物品に
付与される反射防止機能は、梨地処理等の様な鏡面乱反
射によって光反射を低減するものでは無く、物品表面と
空気との界面の急激な屈折率変化を緩和する事によって
実現している為に、光反射率が低減した分、光透過率が
向上する。従って、ディスプレイ等の情報表示部の窓材
等に使用時に、表示の視認性を向上させると共に、表示
光の光の利用効率も上げられる反射防止物品が得られ
る。

【図面の簡単な説明】 【図１】本発明の反射防止物品の製造方法をその一形態
で概念的に説明する説明図。 【図２】微細凹凸で得られる有効屈折率の分布を概念的
に説明する為の図（その１）。 【図３】微細凹凸で得られる有効屈折率の分布を概念的
に説明する為の図（その２）。 【図４】微細凹凸で得られる有効屈折率の分布を概念的
に説明する為の図（その３）。 【図５】微細凹凸の（垂直）断面形状の幾つかを例示す
る断面図。 【図６】微細凹凸の水平面内での配置の幾つかを例示す
る断面図。 【図７】本発明の反射防止物品の製造方法の別の一形態
を概念的に説明する説明図。 【符号の説明】 １ 基材 １Ａ 光硬化性樹脂未硬化層 １ａ 基材本体 １ｂ 微細凹凸層（光硬化性樹脂硬化物） ２ 微細凹凸 ２Ａ （賦形型上の）微細凹凸 ２ｔ （微細凹凸２の）最凸部 １０ 反射防止物品 ３０ 原型 ３１ 賦形型（複製型） ４０ 活性エネルギー光線 ｎ 屈折率 ｎ_a 屈折率（空気） ｎ_b 屈折率（基材） ｎ₀ 屈折率 ｎ₁ 屈折率 ｎ_ef（Ｚ） 有効屈折率 Ｈ_MIN （微細凹凸の）最小高さ Ｐ_MAX 周期 Ｒ 反射率 λ_MIN 最小波長 λ_MAX 最大波長

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） // Ｂ２９Ｋ 101:10 Ｂ２９Ｌ 11:00 Ｂ２９Ｌ 11:00 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ Ｆターム(参考） 2H091 FA31X FA37X FC17 FC18 FC23 LA12 2K009 AA12 CC24 DD05 DD15 4F202 AA44 CA01 CB01 CD03 CD04 CD05 4F204 AA44 AF01 AH42 EA03 EA04 EB01 EK18 EK24 4F209 AA44 AG05 PA02 PB01 PC05

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 【請求項１】 基材の表面に反射防止用の微細凹凸を形
   成して成る反射防止物品を光重合法により製造する方法
   であって、 上記微細凹凸は、可視光の波長帯域の真空中に於ける最
   小波長をλ_MIN、該微細凹凸の最凸部に於ける周期をＰ
   _MAXとしたときに、 Ｐ_MAX≦λ_MIN なる関係を有し、 且つ該微細凹凸をその凹凸方向と直交する面で切断した
   と仮定したときの断面内に於ける基材の材料部分の断面
   積占有率が、該微細凹凸の最凸部から最凹部に行くに従
   って連続的に漸次増加して行く様な凹凸であり、 上記反射防止物品を光重合法によって製造する際に、工
   程として順次、（Ａ）先ず、微細凹凸形状を造形した原
   型を作製し、（Ｂ）次いで、賦形型として、上記原型の
   表面の微細凹凸形状を１又は２回以上の型取・反転によ
   る複製を経て複製型を作製し、（Ｃ）次いで、上記賦形
   型の微細凹凸形状表側と、光硬化性樹脂の未硬化物とを
   接触させた状態で、該光硬化性樹脂を光重合により硬化
   させた後、賦形型と光硬化性樹脂の硬化物とを離型し
   て、反射防止物品を作製する、各工程を行う、光重合法
   による反射防止物品の製造方法。