JP2003090900A

JP2003090900A - シートの製造方法及び放射線像変換パネル

Info

Publication number: JP2003090900A
Application number: JP2001283521A
Authority: JP
Inventors: Hidekazu Yamazaki; 英数山崎; Tadahiro Kikazawa; 忠宏気賀沢; Seiji Tazaki; 誠二田崎
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 2001-09-18
Filing date: 2001-09-18
Publication date: 2003-03-28

Abstract

(57)【要約】【課題】放射線像記録再生方法に好ましく用いられる
輝尽性蛍光体シートを簡易な工程で製造する。【解決手段】輝尽性蛍光体セルが複数設けられ、各セ
ル間には隔壁が設けられている輝尽性蛍光体シートを製
造する。隔壁は輝尽性蛍光体が発する励起光を遮蔽する
ため設けられている。隔壁形成用ドープを蛍光体セル形
成用ドープより低粘度に調製する。隔壁ドープ１３、蛍
光体ドープ１０、隔壁ドープ１３の３層を同時に流延ダ
イ１８の共押出スリット４７から押し出す。共押出スリ
ット４７には、蛍光体をセル化するために仕切り板４９
が設けられている。低粘度の隔壁ドープ１３が、蛍光体
ドープ１０を覆うように流延ダイ１８から押し出される
ため、蛍光体がセル化されたフイルムが得られる。この
フイルムを多数積層して積層体を形成し、スライスする
ことで輝尽性蛍光体シートが得られる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、シートの製造方法
及び放射線像変換パネルに関し、さらに詳しくは輝尽性
蛍光体の輝尽発光を利用する放射線像記録再生方法に用
いられる輝尽性蛍光体シートの製造方法およびその方法
により製造された輝尽性蛍光体シートを用いて構成され
た放射線像変換パネルに関する。

【０００２】

【従来の技術】放射線写真フイルムと増感スクリーンと
を組み合わせて用いる放射線写真法に代る方法として、
輝尽性蛍光体を用いる放射線像記録再生方法（放射線像
変換方法ともいう）が知られている。この方法は、輝尽
性蛍光体を含有する輝尽性蛍光体シートを利用するもの
で、被写体を透過した、あるいは被検体から発せられた
放射線をシートの輝尽性蛍光体に吸収させ、その後、そ
の輝尽性蛍光体に可視光線あるいは赤外線などの電磁波
（励起光）を照射して輝尽性蛍光体を励起することによ
り、その輝尽性蛍光体中に蓄積されている放射線エネル
ギーを蛍光（輝尽発光光）として放出させ、この蛍光を
光電的に読み取って電気信号に変え、この電気信号から
被写体あるいは被検体の放射線画像を可視像として再生
する方法である。読み取りを終えた輝尽性蛍光体シート
は、輝尽性蛍光体中に残存する放射線エネルギーを消去
した後、同様な放射線像記録再生方法に繰り返し使用さ
れる。

【０００３】上記の放射線像記録再生方法は、輝尽性蛍
光体シートの下側表面に支持体が設けられ、上側表面に
保護膜が設けられた放射線像変換パネルにより行われ
る。また、輝尽性蛍光体シートは通常、輝尽性蛍光体粒
子とこれを分散状態で含有支持する結合剤とからなる輝
尽性蛍光体が含まれている。ただし、輝尽性蛍光体シー
トとしては、蒸着法や焼結法などによって形成される結
合剤を含まないで輝尽性蛍光体の凝集体からなるもの
や、この輝尽性蛍光体の凝集体の間隙に高分子物質を浸
透させたものも知られている。これらの輝尽性蛍光体シ
ートはいずれも、上記の放射線像記録再生方法に使用す
ることができる。

【０００４】上記の輝尽性蛍光体シートは高感度であっ
て、かつ高画質の放射線画像を再生できることが望まし
い。すなわち、放射線像記録再生方法の代表的な用途と
して、Ｘ線を用いる医療診断用の放射線画像の形成があ
るが、この用途においては特に、少ないＸ線照射量で高
い画質（特に高い解像力に結びつく高い鮮鋭度）を持つ
放射線画像を得ることが望まれるからである。

【０００５】放射線像記録再生方法において形成される
放射線画像の鮮鋭度は、主として輝尽性蛍光体シート中
での励起光の拡散に依存している。すなわち、輝尽性蛍
光体シートに記録された放射線エネルギーの潜像は、シ
ートの表面にビーム状の励起光を移動させながら時系列
的に照射し、その励起光の照射によって発せられる輝尽
発光光を順次集光することによって読み出されるが、照
射された励起光がシートの内部で拡散する（特に平面方
向に拡散する）と、その励起光は照射領域を越えて、そ
の周囲の放射線エネルギーを持つ蛍光体粒子をも励起す
る結果となり、そのような照射領域の外の蛍光体の持つ
放射線エネルギーもが照射領域内の蛍光体の持つ放射線
エネルギーと一緒に輝尽発光光として取り出されてしま
うためである。

【０００６】この励起光の拡散を避けるために輝尽性蛍
光体シートをその平面方向で細分区画する励起光反射性
の隔壁を設け、輝尽性蛍光体をセル化することは既に知
られている。特開昭５９−２０２１００号公報には、基
板に輝尽性蛍光体シートを設けた放射線像変換パネル
に、隔壁部材によって多数個に区切った小房からなるハ
ニカム構造を設け、その各小房に輝尽性蛍光体を充填す
ることが記載されている。特開昭６２−３６５９９号公
報には、支持体の片面に、開口部の口径と深さとの比率
が１：３．５以上である凹部が規則的に多数個設けら
れ、かつその凹部に輝尽性蛍光体が充填された構造を有
する放射線像変換パネルが記載されている。

【０００７】また、特開２０００−２６６８９９号公報
には、上記励起光反射性隔壁が格子状に設けられた輝尽
性蛍光体シートの製造方法として、輝尽性蛍光体からな
るフイルム（以下、蛍光体フイルムと称する）と隔壁形
成用フイルムとを交互に多数枚積層して積層体ブロック
を形成した後、その積層体ブロックを積層面に直交する
方向（積層方向）でスライスしてストライプ状の蛍光体
フイルムを得た後に、このストライプ蛍光体フイルムと
隔壁形成用フイルムとを再度、交互に多数枚積層して積
層体ブロックを形成し、そして積層面に直交する方向で
再度スライスする方法（積層スライス法）が記載されて
いる。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
いずれの輝尽性蛍光体シートの製造方法も、輝尽性蛍光
体のセル化構造の加工および製造工程が煩雑になってい
る。その上、前者の微細な孔または凹部に輝尽性蛍光体
を充填する場合には、孔または凹部ごとに蛍光体の充填
量が異なってしまって一定になりにくいという問題があ
る。また、後者の積層体ブロックをスライスする場合に
は、薄膜フイルムの積層とスライスを二回繰り返さなけ
ればならず、複雑で高度な技術を要する不安定な工程が
含まれている。

【０００９】本発明は、放射線像記録再生方法に好まし
く用いられる輝尽性蛍光体シートを簡易な工程で製造で
きる輝尽性蛍光体シートの製造方法及びその輝尽性蛍光
体シートを用いて構成された放射線像変換パネル並びに
シートの製造方法を提供することを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明の輝尽性蛍光体シ
ートの製造方法は、輝尽性蛍光体とこの輝尽性蛍光体を
包む遮光性隔壁とによりなる輝尽性蛍光体セルを有する
輝尽性蛍光体シートの製造方法において、スリットを幅
方向で分割する仕切り板を備えたスリットダイを用い
て、前記輝尽性蛍光体の液と前記遮光性隔壁の液とを層
状にして前記スリットから支持体へ押し出し、製膜する
から輝尽性蛍光体シートを簡易な工程で製造できる。な
お、製膜は、共流延法や逐次共流延法により行うことが
好ましい。また、前記仕切り板のスリットダイへの取り
付け位置は特に限定されず、例えば、スリットの途中で
あっても良いし、先端部であっても良い。

【００１１】前記輝尽性蛍光体の液の剪断粘度よりも、
前記遮光性隔壁の液の剪断粘度を低くすることが好まし
い。また、前記輝尽性蛍光体の液の剪断粘度η１と前記
遮光性隔壁の液の剪断粘度η２との比（η１／η２）
が、２≦（η１／η２）≦１０００であることがより好
ましい。

【００１２】前記輝尽性蛍光体の液からなる層を、前記
遮光性隔壁の液からなる層で挟むようにした複数層構造
として前記スリットから押し出し、製膜することが好ま
しい。この場合において前記複数層構造は、１〜５層で
あることがより好ましい。また、前記輝尽性蛍光体の液
からなる層と前記遮光性隔壁の液からなる層とを交互に
配置した複数層構造として前記スリットから押し出し、
製膜することが好ましい。

【００１３】前記製膜により得られたフィルムを複数積
層して積層物を構成し、この積層物を積層方向にスライ
スすることが好ましい。また、前記輝尽性蛍光体の液か
らなる層と前記遮光性隔壁の液からなる層とからなる２
層構造として前記スリットから押し出して製膜し、前記
製膜されたフイルムの輝尽性蛍光体側の面からその厚み
方向に均一に除去して、輝尽性蛍光体側の面から遮光性
隔壁を露出させ、これら遮光性隔壁が露出されたフィル
ムを複数積層して積層物を構成し、この積層物を積層方
向にスライスすることが好ましい。さらに、前記スライ
ス厚みを５０〜１０００μｍにすることがより好まし
い。

【００１４】前記液をスリットから押し出す際に、フィ
ードブロックを有するダイを用いたり、複数のマニホー
ルドを有するダイを用いたりすることが好ましい。

【００１５】乾燥後の前記蛍光体層の厚みを５〜３００
μｍにすることが好ましい。また、乾燥後の前記遮光性
隔壁の厚みを１〜１００μｍにすることが好ましい。

【００１６】本発明には、前述したいずれか１つに記載
の輝尽性蛍光体シートの製造方法により製造された輝尽
性蛍光体シートを用いて構成された放射線像変換パネル
も含まれる。

【００１７】また、本発明には前述したいずれか１つに
記載の輝尽性蛍光体シートの製造方法を用いて、前記輝
尽性蛍光体の液を第１の液に代え、前記遮光性隔壁の液
を第２の液に代えたシートの製造方法も含まれる。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下に本発明に係る輝尽性蛍光体
シート（以下、蛍光体シートと称する）の製造方法につ
いて、図面を参照して説明する。なお、本発明は、蛍光
体シートの製造方法に限定されず、他のシートの製造方
法にも適用可能である。

【００１９】［輝尽性蛍光体］輝尽性蛍光体としては、
波長が４００〜９００ｎｍの範囲の励起光の照射によ
り、３００〜５００ｎｍの波長範囲に輝尽発光を示す輝
尽性蛍光体を用いることが好ましい。このような輝尽性
蛍光体の例は、特開平２−１９３１００号公報および特
開平４−３１０９００号公報に詳しく記載されている。
好ましい輝尽性蛍光体としては、ユーロピウムあるいは
セリウムによって付活されているアルカリ土類金属ハロ
ゲン化物蛍光体（例えば、ＢａＦＢｒ：ＥｕまたはＢａ
Ｆ（Ｂｒ、Ｉ）：Ｅｕなど）、そしてセリウム付活希土
類オキシハロゲン化物系蛍光体を挙げることができる。

【００２０】上記に記載した化合物の内で、下記の組成
式（１）で示される希土類付活アルカリ土類金属フッ化
物系輝尽性蛍光体が特に好ましく用いられる。Ｍ^IIＦＸ：ｚＬｎ．．．．（１）式（１）中において、Ｍ^IIはＢａ、Ｓｒ及びＣａからな
る群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属を表し
ている。また、ＬｎはＣｅ、Ｐｒ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｔｂ、
Ｄｙ、Ｈｏ、Ｎｄ、Ｅｒ、Ｔｍ及びＹｂからなる群より
選ばれる少なくとも一種の希土類元素を表している。さ
らに、ＸはＣｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選ばれる少
なくとも一種のハロゲン元素を表している。さらには、
ｚは、０＜ｚ≦０．２の範囲内の数値である。

【００２１】上記式（１）中のＭ^IIとしては、Ｂａが組
成比において半分以上を占めていることが好ましい。Ｌ
ｎには、特にＥｕまたはＣｅの少なくとも一方を用いる
ことが好ましい。また、式（１）中では、表記上Ｆ：Ｘ
＝１：１で示したが、これはＢａＦＸ型の結晶構造であ
ることを意味しており、組成物の化学量論的組成を示す
ものではない。一般に、ＢａＦＸ型結晶においてＸ^-イ
オンの空格子点であるＦ^-（Ｘ^-）中心が多く生成され
た状態が、６００〜７００ｎｍの光に対する輝尽効率を
高める上で好ましく、この場合ＦはＸよりもやや過剰で
あることが多い。

【００２２】なお、前述した組成式（１）では省略され
ているが、必要に応じて下記に記す添加物を組成式
（１）の化合物に加えても良い。ｂＡ、ｗＮ^I、ｘＮ^II、ｙＮ^III．．．．（２）なお、上記に記した化合物中の各記号は、下記に示す化
合物を意味している。Ａは、、Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂及
びＺｒＯ₂などの金属酸化物を表している。Ｍ^IIＦＸ粒
子同士の焼結を防止する上では、一次粒子の平均粒径が
０．１μｍ以下の超微粒子であり、かつＭ^IIＦＸと反応
性が低いものを用いることが好ましい。Ｎ ^Iは、Ｌｉ、
Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ及びＣｓからなる群より選ばれる少なく
とも一種のアルカリ金属を表している。また、Ｎ^IIは、
Ｍｇ、Ｂｅなどのうち少なくとも１つから選ばれるアル
カリ土類金属またはそれらの化合物を表している。さら
に、Ｎ^IIIは、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｓｃ、Ｙ、Ｌ
ａ、Ｇｄ及びＬｕからなる群より選ばれる少なくとも一
種の三価金属またはそれらの化合物を表している。これ
らの金属化合物としては、特開昭５９−７５２００号公
報に記載されているようなハロゲン化物を用いることが
好ましいが、それらに限定される訳ではない。

【００２３】また、式（２）中のｂ、ｗ、ｘ及びｙは、
それぞれＭ^IIＦＸのモル数を１としたときの仕込み添加
量であり、０≦ｂ≦０．５、０≦ｗ≦２、０≦ｘ≦０．
３、０≦ｙ≦０．３の各範囲内の数値を表している。こ
れらの数値は、焼成やその後の洗浄処理によって減量す
る添加物に関しては、最終的な組成物に含まれる元素比
を表している訳ではない。また、上記化合物には最終的
な組成物において添加されたままの化合物として残留す
るものもあれば、Ｍ^IIＦＸと反応したり、取り込まれた
りするものもある。

【００２４】その他、上記組成式（１）にはさらに必要
に応じて、特開昭５５−１２１４５号公報に記載のＺｎ
及びＣｄの化合物を添加することができる。また、特開
昭５５−１６００７８号公報に記載の金属化合物である
ＴｉＯ₂、ＢｅＯ、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、
ＺｎＯ、Ｙ₂Ｏ₃、Ｌａ₂Ｏ₃、Ｉｎ₂Ｏ₃、Ｇｅ
Ｏ ₂、ＳｎＯ₂、Ｎｂ₂Ｏ₅、Ｔａ₂Ｏ₅、ＴｈＯ₂な
どの金属酸化物を添加することもできる。さらに、特開
昭５６−１１６７７号公報に記載のＺｒ及びＳｃの化合
物、特開昭５７−２３６７３号公報に記載のＢ（ホウ
素）の化合物、特開昭５７−２３６７５号公報に記載の
Ａｓ及びＳｉの化合物、特開昭５９−２７９８０号公報
に記載のテトラフルオロホウ酸化合物などを添加するこ
ともできる。さらには、特開昭５９−４７２８９号公報
に記載のヘキサフルオロケイ酸、ヘキサフルオロチタン
酸及びヘキサフルオロジルコニウム酸の一価または二価
の塩からなるヘキサフルオロ化合物を添加することもで
きる。また、特開昭５９−５６４８０号公報に記載の
Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ及びＮｉなどの遷移金属の
化合物などを添加してもよい。さらに、本発明において
は前述した添加物を含む蛍光体に限らず、基本的に希土
類付活アルカリ土類金属フッ化ハロゲン化物系輝尽性蛍
光体とみなされる組成を有するものであれば、前述した
ものに限定されない。

【００２５】上記組成式（１）で表せる希土類付活アル
カリ土類金属フッ化ハロゲン化物系輝尽性蛍光体は、通
常は、アスペクト比が１．０〜５．０の範囲にある。本
発明の蛍光体シートに用いる輝尽性蛍光体粒子は、アス
ペクト比が１．０〜２．０のものを用いることが好まし
く、より好ましくは１．０〜１．５の範囲のものであ
る。また、粒子サイズのメジアン径（Ｄｍ）は、１〜１
０μｍのものを用いることが好ましく、より好ましくは
２〜７μｍのものを用いることである。そして、粒子サ
イズ分布の標準偏差をσとしたときのσ／Ｄｍが５０％
以下のものを用いることが好ましく、より好ましくは４
０％以下である。また、粒子の形状としては、直方体
型、正六面体型、正八面体型、１４面体型、これらの中
間多面体型および不定型粉砕粒子などのいずれをも用い
ることができるが、好ましくは１４面体型を用いること
である。さらに、本発明に用いる輝尽性蛍光体は、比重
が３〜７のものを用いることが好ましい。ただし、上記
アスペクト比、粒子サイズ、粒子サイズ分布および比重
を満たす輝尽性蛍光体粒子であれば、必ずしも１４面体
型でなくても本発明に用いることができる。

【００２６】［隔壁材料］隔壁材料には一般に、低光吸
収性の微粒子およびそれを分散状態で含有支持する高分
子物質から構成される。低光吸収性微粒子の例として
は、酸化アルミニウム（アルミナ）、酸化チタン、酸化
イットリウム、酸化ジルコニウム、酸化ガドリニウム、
酸化テルル、酸化ルテチウム、酸化鉛などの無機物の白
色微粒子を挙げることができる。また、前述した輝尽性
蛍光体の微粒子（球状または板状のいずれであっても良
い）を用いることもできる。これら化合物のうちで、特
に好ましいのはアルミナまたは酸化イットリウムのうち
少なくとも１つを用いることである。低光吸収性微粒子
の粒子径は一般に０．０３〜５．０μｍの範囲のものを
用いることが好ましく、より好ましくは０．０４〜０．
０５μｍである。

【００２７】［結合剤］高分子物質（結合剤樹脂）につ
いては、特段の制限はないが、好ましい高分子物質の例
としては、ポリウレタン、ポリアクリル、ポリエチレ
ン、ポリスチレンアクリル樹脂およびフッ素系樹脂を挙
げることができる。なお、以下の説明において結合剤を
バインダーと称する。

【００２８】［ドープの調製］上記粒子状の輝尽性蛍光
体を結合剤と共に適当な有機溶剤に分散溶解して、塗布
液（以下、蛍光体ドープと称する）を調製する。輝尽性
蛍光体粒子を分散支持するバインダーについてもポリウ
レタン系、ポリエステル系、アクリル系樹脂のように様
々な種類の樹脂材料が知られており、本発明に係る蛍光
体シートの形成においても、公知の結合剤樹脂のいずれ
をも用いることができる。本発明に用いられる蛍光体ド
ープは、輝尽性蛍光体とバインダーとの比が、４０：１
〜０．１２５：１（重量比）に調製することが好まし
い。また、このドープの２５℃での粘度は、１〜５Ｐａ
・ｓであることが好ましく、より好ましくは、３〜４Ｐ
ａ・ｓである。

【００２９】前述した蛍光体ドープを調製する方法の一
実施形態を説明する。輝尽性蛍光体には、ＢａＦＢｒ
_0.85Ｉ_0.15：Ｅｕ²⁺ を２００ｇ用い、メチルエチルケ
トン／トルエンが７／３の混合比の溶剤に分散溶解させ
た。この溶液に、結合剤（ポリウレタンエラストマー；
大日本インキ化学工業（株）、パンデックスＴ−５２
６５Ｈ［固形］）を７．１ｇ、架橋剤（ポリイソシアネ
ート；日本ポリウレタン工業（株）、コロネートＨＸ
［固形分１００％］）を０．９ｇ、黄変防止剤（エポキ
シ樹脂；油化シェルエポキシ（株）、エピコート＃１０
０１［固形］）を２ｇ、着色剤（群青；第一化成工業
（株）、ＳＭ−１）を０．００４ｇ添加した。この溶液
をプロペラミキサーで分散させて、２５℃で３Ｐａ・ｓ
の粘度の蛍光体ドープを調製した。

【００３０】また、前述した隔壁材料である白色酸化物
粒子を結合剤と共に有機溶剤に分散させ、塗布液（以
下、隔壁ドープと称する）を調製する。隔壁ドープ中で
の隔壁材料とバインダーとの比率は、１：４０〜１：５
（重量比）の範囲であることが好ましい。また、隔壁材
料を分散支持するバインダーには、ポリウレタン系、ポ
リエステル系、アクリル樹脂のように様々な種類の樹脂
材料が知られているが、アクリル樹脂を用いることが好
ましい。さらに、隔壁ドープは、２５℃での粘度が０．
０５〜２Ｐａ・ｓであることが好ましく、より好ましく
は０．３〜０．５Ｐａ・ｓである。本発明において、隔
壁ドープの粘度は、蛍光体ドープの粘度より低粘度であ
ることが重要である。すなわち、隔壁ドープの粘度を蛍
光体ドープの粘度より低粘度にすることで、流延した際
に低粘度の隔壁ドープが蛍光体ドープを覆うように界面
形状が変化し、蛍光体の周りは隔壁で覆われて蛍光体セ
ルを形成することができる。蛍光体ドープの剪断粘度η
１と隔壁ドープの剪断粘度η２との比（η１／η２）
が、２〜１０００の範囲であることが好ましく、より好
ましくは１０〜２００の範囲である。

【００３１】前述した隔壁ドープを調製する方法の一実
施形態を説明する。隔壁材料である白色酸化物粒子に
は、アルミナを１０００ｇ用い、メチルエチルケトン
（以下、ＭＥＫと称する）１５００ｇに分散させた。こ
の分散液に、バインダー（アクリル樹脂）を白色酸化物
粒子の１０倍量（重量比）を添加し、充分に撹拌し、２
５℃での粘度が０．３Ｐａ・ｓである均一の隔壁ドープ
を調製した。

【００３２】［溶液製膜方法］図１は、本発明に係る蛍
光体シートに用いられる蛍光体フイルムの製膜ラインを
示している。前述した蛍光体ドープ１０は、ミキシング
タンク１１内に仕込まれ、撹拌翼１２で撹拌され、均一
なドープになっている。また、隔壁ドープ１３も、ミキ
シングタンク１４内に仕込まれ、撹拌翼１５で撹拌さ
れ、均一なドープになっている。この際に、それぞれの
ドープ１０，１３に添加剤を混合することも可能であ
る。蛍光体ドープ１０は、ポンプ１６により一定の流量
でろ過装置１７に送られて不純物が除去された後に、流
延ダイ１８に送られる。また、隔壁ドープ１３は、２台
のポンプ１９，２０によりそれぞれ一定の流量でろ過装
置２１，２２にそれぞれ送られ不純物が除去された後
に、流延ダイ１８に送られる。

【００３３】流延ダイ１８により、隔壁ドープ１３（下
層）、蛍光体ドープ１０（中間層）、隔壁ドープ１３
（上層）の３層からなるドープが同時に流延ベルト２３
上に流延される。なお、この流延される様子の説明は、
後に図２を用いて詳細に述べる。流延ベルト２３は、ロ
ーラ２４，２５に掛け渡され、図示しない駆動装置によ
り駆動回転している。流延ベルト２３上で、徐々にドー
プ１０，１３の溶剤が揮発して蛍光体フイルム２６が形
成される。蛍光体フイルム２６の構成については、後に
詳細に説明する。蛍光体フイルム２６は、剥ぎ取りロー
ラ２７により流延ベルト２３から剥ぎ取られ、乾燥装置
２８に送られる。最後に蛍光体フイルム２６は、巻き取
り機２９により巻き取られる。なお、図１では、３層か
らなるドープを構成する下層及び上層の隔壁ドープ１３
は、同一のミキシングタンク１４から流延ダイ１８に送
液したが、本発明において下層の隔壁ドープ（以下、下
層隔壁ドープと称する）と上層の隔壁ドープ（以下、上
層隔壁ドープと称する）とは、別体のミキシングタンク
に仕込まれ、それぞれの物性値が異なったものであって
も、蛍光体ドープ１０よりも低粘度であれば用いること
ができる。

【００３４】図２は、マルチマニホールド方式の流延ダ
イの要部断面図を示している。図２に示した流延ダイ１
８には、上層隔壁ドープ１３ｂ、蛍光体ドープ１０、下
層隔壁ドープ１３ａが送液され、それぞれマニホールド
４１，４２，４３により流延ベルト２３の幅方向に広げ
られる。それぞれのドープ１３ｂ，１０，１３ａは、ス
リット４４，４５，４６を通り、共押出スリット４７で
合流する。共押出スリット４７で、合流したドープ１３
ｂ，１０，１３ａは流延膜４８として、流延ベルト２３
上に流延される。なお、図２に示した流延ダイ１８に
は、図示しない多数の仕切り板が取り付けられている。
この仕切り板について説明するために、 III−III 線の
断面図を図３に示す。

【００３５】図３に示すように流延ダイ１８内の共押出
スリット４７には、流延ダイ１８の幅方向に渡って、多
数の仕切り板４９が取り付けられている。仕切り板４９
の共押出スリット４７への取り付け位置は、図示した形
態に限定されず、例えば共押出スリット４７のドープ流
路の途中に取り付けられていても良いし、先端部に取り
付けられていても良い。この流延ダイ１８には、配管４
０から蛍光体ドープ１０が送液されている。共押出スリ
ット４７で蛍光体ドープ１０と隔壁ドープ１３ｂ，１３
ａ（図２参照）が合流し、その後に仕切り板４９によっ
て流延ダイ１８の幅方向に渡って多数に分割されて流延
ダイ１８より押し出され、流延膜４８が形成される。な
お、本発明において用いられる流延ダイの形態は、図示
したものに限定される訳でなく、例えばコートハンガー
形のＴダイなどを用いることもできる。共押出スリット
４７中でのドープ１３ｂ，１０，１３ａの界面形状の変
化について、IV−IV線の断面図、 V−V 線の断面図、VI
−VI線の断面図をそれぞれ図４，図５，図６に示し説明
する。

【００３６】図４には、下層隔壁ドープ１３ａと蛍光体
ドープ１０と上層隔壁ドープ１３ｂとが共押出スリット
４７中で合流し、３層に積層されている様子が示されて
いる。また、これら３層のドープ１３ａ，１０，１３ｂ
は、仕切り板４９により多数の区画に区切られ、流延ダ
イ１８から押し出されている（図３参照）。共押出スリ
ット４７の中間の断面を示した図５では、低粘度の下層
隔壁ドープ１３ａと上層隔壁ドープ１３ｂとが、高粘度
の蛍光体ドープ１０を覆うように界面形状が変化してい
る様子が示されている。さらに、共押出スリット４７の
先端付近の断面を示した図６では、下層隔壁ドープ１３
ａと上層隔壁ドープ１３ｂとが、完全に蛍光体ドープの
周囲を覆っている。すなわち、仕切り板４９で区切られ
た区画内では、蛍光体ドープ１０の周囲は隔壁ドープ１
３で覆われてセル化している。

【００３７】図７には、図６に示した共押出スリット４
７中のドープから、図１に示したフイルム製造ラインに
より製造された蛍光体フイルム２６の断面図を示す。蛍
光体フイルム２６は、ドープを構成していた溶剤が乾燥
装置２８（図１参照）により蒸発し、所望の厚みに形成
されている。また、図から明らかなように輝尽性蛍光体
（以下、蛍光体と称する）５０は、隔壁５１にその周囲
を覆われ、セル状に形成されている。なお、前述した蛍
光体フイルム２６の製造の際には、マルチマニホールド
方式の流延ダイ１８（図２参照）を用いて説明した。し
かしながら、本発明においては、図８に示すように流延
ダイ５５の前にフィードブロック５６を取り付け、この
フィードブロック５６内で複数のドープを合流させて、
マニホールド５７で拡幅して、スリット５８から隔壁ド
ープと蛍光体ドープを流延させるフィードブロック方式
によって蛍光体フイルムを製造しても良い。この場合の
スリット５８にも、図３に示したように流延ダイ５５の
長手方向に仕切り板（図示しない）が多数設けられ、蛍
光体をセル化する。

【００３８】本発明においては、３層のドープからなる
１組のドープ層を１〜５層にして同時に共流延しても良
い。また、多数の流延ダイを用いて逐次共流延を行い、
一度に多数の蛍光体を積層して蛍光体フイルムを製造し
ても良い。さらには、ドープの押し出しによる流延法に
よらず、仮支持体を用いて、その上にドープを塗布する
塗布方法により蛍光体フイルムを製造しても良い。この
場合の仮支持体には、シリコーン系離型剤が塗布されて
いるポリエチレンテレフタレートを用いることが好まし
い。また、塗布方法により蛍光体フイルムを製造すれ
ば、多層塗布が可能になり、共流延法よりさらに多数の
蛍光体が積層された蛍光体フイルムを一度に製造するこ
とが可能である。

【００３９】図９には、本発明に係る蛍光体シートの製
造方法の一例を示す。前述した製造方法により製造され
た蛍光体フイルム２６を多数積層し、加圧しながら加熱
することで積層体６０を形成する。この積層体６０をカ
ッター６１により所望の厚みにスライスすることで、蛍
光体シート６２が得られる。本発明において、蛍光体シ
ート６２の厚みは、５０〜１０００μｍであることが好
ましい。また、蛍光体５０の周囲を覆う隔壁５１の幅
は、１〜１００μｍであることが好ましい。１μｍ未満
であると、隣り合う蛍光体５０のセル化が充分でなくな
り、蛍光体シート６２を放射線像変換パネルに用いた際
に、蛍光体５０の位置決めが困難になる。また、隔壁の
幅が１００μｍを超えると、蛍光体シート６２に占める
蛍光体５０の面積比が小さくなり、充分な輝尽光の発光
が得られなくなる。

【００４０】前述した蛍光体フイルム２６の製造方法
は、下層隔壁ドープ１３ａ、蛍光体ドープ１０、上層隔
壁ドープ１３ｂの３層からなるドープを共押出する方法
について図面を用いて説明した。しかしながら、本発明
に係る蛍光体シートは、前述した製造方法に限定されな
い。図１０ないし図１７を用いて、他の製造方法につい
て説明する。

【００４１】図１０は、本発明に係る蛍光体シートに用
いられる蛍光体フイルムの他の実施形態の製膜ラインを
示している。なお、図１に示した製膜ラインと同じ実施
条件の記載は省略して説明する。前述した蛍光体ドープ
７０、隔壁ドープ７１がそれぞれのミキシングタンク１
１、１４内に仕込まれ、撹拌されて均一なドープになっ
ている。蛍光体ドープ７０と隔壁ドープ７１とは、ポン
プ１６、１９により一定の流量で流延ダイ７２に送られ
る。図１に示した製膜ラインと異なり隔壁ドープの流延
ダイへの供給は１ラインのみであることが本実施形態の
特徴である。流延ダイ７２により、蛍光体ドープ７０
（上層）、隔壁ドープ７１（下層）の２層からなるドー
プが同時に流延ベルト２３上に流延され、その後は図１
と同じ条件で蛍光体フイルム７３が形成される。

【００４２】図１１は、マルチマニホールド方式の流延
ダイの要部断面図を示している。図１１に示した流延ダ
イ７２には、蛍光体ドープ７０、隔壁ドープ７１が送液
され、それぞれマニホールド７４，７５により流延ベル
ト２３の幅方向に広げられる。それぞれのドープ７０，
７１は、スリット７６，７７を通り、共押出スリット７
８で合流する。共押出スリット７８で、合流したドープ
７０，７１は流延膜７９として、流延ベルト２３上に流
延される。なお、図１１に示した流延ダイ７２にも、ａ
−ａ線の断面に沿って、図３で示したような多数の仕切
り板（図１２参照）が取り付けられている。

【００４３】図１１に示すよう共押出スリット７８中で
合流した蛍光体ドープ７０と隔壁ドープ７１との界面形
状の変化については、図３に示した共押出スリット４７
と対応させて、それぞれIV−IV線の断面図、 V−V 線の
断面図、VI−VI線の断面図を、それぞれ図１２，図１
３，図１４に示し説明する。

【００４４】図１２には、蛍光体ドープ７０と隔壁ドー
プ７１とが共押出スリット７８中で合流し、２層に積層
されている様子が示されている。また、これら２層のド
ープ７０，７１は、仕切り板８０により多数の区画に区
切られ、流延ダイ７２から押し出されている（図１１参
照）。共押出スリット７８の中間の断面を示した図１３
では、低粘度の隔壁ドープ７１が、高粘度の蛍光体ドー
プ７０を包むように界面形状が変化している様子が示さ
れている。さらに、共押出スリット７８の先端付近の断
面を示した図１４では、隔壁ドープ７１が、仕切り板８
０に沿ってせり上がり蛍光体ドープ７０を包んでいる。

【００４５】なお、図１２ないし図１４では、上層が蛍
光体ドープ７０、下層が隔壁ドープ７１からなる２層の
ドープを流延ダイ７２から押し出したが、上層が隔壁ド
ープ、下層が蛍光体ドープであっても、隔壁ドープが蛍
光体ドープよりも低粘度であれば本発明を適用できる。

【００４６】図１５には、図１１に示した流延ダイ７２
によって押し出されたドープから、図１０に示したフイ
ルム製造ラインにより製造された蛍光体フイルム７３の
断面図を示す。蛍光体フイルム７３は、蛍光体８１の間
に隔壁８２が、仕切りとして設けられている。なお、蛍
光体フイルム７３の製造ついては、マルチマニホールド
方式の流延ダイ７２（図１１参照）を用いて説明した。
しかしながら、本実施形態においても、図８に示すよう
なフィードブロック方式によって蛍光体フイルムを製造
しても良い。

【００４７】図１５に示した蛍光体フイルム７３の表面
に隔壁８２が露出するようにすることが輝尽光光の拡散
を抑制するために好ましい。その製造工程について図１
６を用いて説明する。図１６（ａ）に示す蛍光体フイル
ム７３を切断線８３に沿って切断し、図１６（ｂ）に示
すように、その上部を除去すると蛍光体フイルム７３の
表面７３ａに隔壁８２が露出し、蛍光体８１が隔壁８２
に包まれる。なお、切断に代えて切削やその他の方法に
よって上部を取り除いても良い。

【００４８】図１７には、前述した製造方法により製造
された蛍光体フイルム７３から構成された蛍光体シート
を示す。前述した製造方法により得られた蛍光体フイル
ム７３を多数積層し、加圧しながら加熱することで積層
体を形成し、この積層体をカッターにより所望の厚みに
スライスすることで、蛍光体シート８４が得られる。ま
た、図１６で示した蛍光体フイルム７３をそのまま蛍光
体シートとして用いることもできる（図１８参照）。本
発明において、図１７に示す蛍光体シート８４のように
蛍光体８１を隔壁８２で囲んだ形態のものが最も好まし
い形態である。しかしながら、図１８に示した蛍光体フ
イルム（蛍光体シート）７３のように、蛍光体８１と隔
壁８２とがストライプ状であっても、本発明の効果が得
られる。

【００４９】なお、図１４では、隔壁ドープ７１が共押
出スリット７８の上辺７８ａに達していないため、図１
６に示すフイルムの切除工程を行うことが、輝尽光光の
拡散を抑制するために好ましい。しかしながら本発明に
おいては、共押出スリットの形態、例えば長さを変えた
り、蛍光体ドープと隔壁ドープとの粘度比を調整したり
することで、図１９（ａ）に示すように隔壁ドープ８７
が仕切り板８８に沿って完全に共押出スリット８５の上
辺８５ａに達することができる。これらドープから製造
された蛍光体フイルム８９は、図１９（ｂ）に示すよう
にその表面８９ａに隔壁９０が露出しているため、蛍光
体９１が隔壁９０で包まれた蛍光体フイルム８９が得ら
れるため、蛍光体フイルム８９の表面を切除する工程が
不要になる。

【００５０】なお、２層のドープを押し出す本実施形態
においても、２層のドープからなる１組のドープ層を同
時に共流延しても良い。さらに多数の流延ダイを用いた
逐次共流延法や仮支持体を上にドープを塗布する塗布方
法により蛍光体フイルムを製造しても良い。

【００５１】以上、本発明について輝尽性蛍光体シート
の製造方法を例にして説明した。しかしながら、本発明
は、蛍光体ドープ１０、隔壁ドープ１３に代えて、他の
剪断粘度が異なる２種類の溶液（分散液も含む）からシ
ートを製造する方法にも適用できる。そのシートは、例
えば図１７に示したように、第１の溶液から形成された
ブロックを第２の溶液から形成された壁で囲った形態
（蜂の巣型）のものであっても良い。または、図１８に
示したように第１の溶液から形成された層と、第２の溶
液から形成された層とがストライプ状に配置されたもの
であっても良い。

【００５２】前述した各製造方法により得られた蛍光体
シートを用いて構成された放射線像変換パネルの製造方
法について説明する。本発明に係る蛍光体シートは、特
に支持体や保護膜を備えずに、放射線像変換パネルとし
て用いることができる。しかしながら、蛍光体シートの
搬送や取り扱い上の便宜や特性変化の回避のために、支
持体と保護膜とを備えていることが好ましい。また、感
度を高めるために、蛍光体シートの片側（支持体を設け
る場合にはシートと支持体との間）に光反射層を備えて
いてもよい。さらに、支持体は透明であってもよく、そ
の場合には輝尽発光光の取り出しを蛍光体シートの両側
から行う両面集光方式による読取方式に適している。

【００５３】［支持体］支持体は通常、柔軟な樹脂材料
からなる厚みが５０μｍ〜１ｍｍのシートあるいはフイ
ルムである。支持体は透明であってもよく、あるいは支
持体に励起光もしくは輝尽発光光を反射させるための光
反射材料（例えば、アルミナ粒子、二酸化チタン粒子、
硫酸バリウム粒子、酸化ガドリニウム粒子など）を充填
してもよく、あるいは空隙を設けてもよい。さらには、
支持体上に光反射材料から形成された光反射層を設けて
もよい。支持体の形成に用いることのできる樹脂材料の
例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ンナフタレート、アラミド樹脂、ポリイミド樹脂などの
各種樹脂材料を挙げることができるが、これらに限定さ
れる訳ではない。また、必要に応じて、支持体は金属、
セラミック、ガラスなどから構成されていてもよい。

【００５４】［光反射層］光反射層としては、例えば、
アルミナ、二酸化チタンあるいは硫酸バリウムなどの白
色顔料を用いることができる。または、輝尽発光を示さ
ない蛍光体粒子を結合剤で分散支持させて層状としたも
のを用いることができる。

【００５５】前述した支持体上に光反射層を形成する方
法の一実施形態を説明する。光反射層を形成する材料に
は、酸化ガドリニウム（Ｇｄ₂Ｏ₃）の微細粒子（全粒
子中の９０重量％の粒子の粒子径が１〜５μｍの範囲に
あるもの）を３５ｇ用いた。この酸化ガドリニウムを溶
剤であるＭＥＫ２００ｇに分散させた。さらに、この溶
剤に添加剤として、結合剤（軟質アクリル樹脂；大日本
インキ工業（株）、クリスコートＰ−１０１８ＧＳ［２
０％トルエン溶液］）を１８０ｇ、可塑剤（フタル酸エ
ステル、大八化学（株）、＃１０）を４ｇ、導電剤（Ｚ
ｎＯウィスカー；松下アムテック（株）、パナテトラ
Ａ−１−１）を１２ｇ、着色剤（群青、第一化成工業
（株）、ＳＭ−１）を０．５ｇ加えて、プロペラミキサ
ーを用いて分散、溶解させて、光反射材料層形成用分散
液を２０℃で粘度０．５５Ｐａ・ｓになるように調製し
た。また、支持体には、２５０μｍ厚の硫酸バリウム練
り込みポリエチレンテレフタレートシート（ＩＣＩ、メ
リネックス＃３３５）で、片側にカーボンブラック、シ
リカ、結合剤からなる遮光層（約１８μｍ）が設けられ
ているものを用いた。この分散液をドクターブレードを
用いて、遮光層とは反対側に均一に塗布した後、塗布膜
を乾燥し、支持体上に層厚が２０μｍの光反射材料層を
形成した。なお、本発明に用いられる支持体及び光反射
材料層の実施形態は前述したものに限定される訳ではな
い。

【００５６】［保護膜］保護膜は、励起光の入射や輝尽
光光の出射に影響を与えないように、透明であることが
望ましく、また外部から与えられる物理的衝撃や化学的
影響から蛍光体シートを充分に保護できるように、化学
的に安定でかつ高い物理的強度を持つことが望ましい。
保護膜としては、セルロース誘導体、ポリメチルメタク
リレート、有機溶媒可溶性フッ素系樹脂などのような透
明な有機高分子物質を適当な溶媒に溶解して調製した溶
液を蛍光体層の上に塗布することで形成されるものが挙
げられる。また、ポリエチレンテレフタレートなどの有
機高分子フイルムをや透明なガラス板などの保護膜形成
用シートを別に形成して蛍光体層の表面に適当な接着剤
を用いて設けてもよい。あるいは無機化合物を蒸着など
によって蛍光体層上に製膜したものを用いてもよい。ま
た、保護膜中には酸化マグネシウム、酸化亜鉛、二酸化
チタン、アルミナ等の光散乱性微粒子、パーフルオロオ
レフィン樹脂粉末、シリコーン樹脂粉末等の滑り剤、お
よびポリイソシアネート等の架橋剤、フィラー、カップ
リング剤、触媒などの各種の添加剤が分散含有されてい
てもよい。また、保護膜の膜厚は一般に約０．１〜２０
μｍの範囲であることが好ましい。

【００５７】保護膜の表面にはさらに、保護膜の対汚染
性を高めるためにフッ素系樹脂塗布層を設けてもよい。
フッ素系樹脂塗布層は、フッ素樹脂を有機溶媒に溶解
（または分散）させて調製したフッ素樹脂溶液を保護膜
の表面に塗布し、乾燥することで形成することができ
る。フッ素樹脂は単独で使用してもよいが、通常はフッ
素樹脂と膜形成性の高い樹脂との混合物として使用す
る。また、ポリシロキサン骨格を持つオリゴマーあるい
はパーフルオロアルキル基を持つオリゴマーを併用する
こともできる。フッ素樹脂塗布層には、干渉むらを低減
させてさらに放射線画像の画質を向上させるために、微
粒子フィラーを充填することもできる。フッ素樹脂層の
層厚は通常は０．５〜２０μｍの範囲であることが好ま
しい。フッ素樹脂塗布層の形成に際しては、架橋剤、硬
膜剤、黄変防止剤などの添加成分を用いることができ
る。特に架橋剤の添加は、フッ素樹脂塗布層の耐久性の
向上に有利である。

【００５８】前述した保護膜の作製方法の一実施形態を
説明する。溶剤であるＭＥＫ１３３ｇにフッ素系樹脂
（フルオロオレフィン＝ビニルエーテル共重合体；旭硝
子（株）、ルミフロンＬＦ−５０４Ｘ［３０％キシレン
溶液］）を１８５ｇ仕込んだ。その溶剤に、添加剤であ
る架橋剤（ポリイソシアネート；住友バイエルウレタン
（株）、スミジュールＮ３５００［固形分１００％］）
を１０ｇ、滑り剤（アルコール変性シリコーン；信越化
学（株）、Ｘ−２２−２８０９［６６％キシレン含有ペ
ースト］）を１ｇ、有機フィラー（メラミン−ホルムア
ルデヒド；（株）日本触媒、エポスターＳ６）を１３
ｇ、カップリング剤（アセトアルコキシアルミニウムジ
イソプロピレート；味の素（株）、プレンアクトＡＬ−
Ｍ）を０．２ｇ添加し、触媒（ジブチルチンジラウレー
ト；共同薬品（株）、ＫＳ１２６０）を０．７ｍｇ添加
し、２５℃で粘度０．００３〜０．００４Ｐａ・ｓの塗
布液を調製した。この塗布液を、仮支持体上に塗布し、
１２０℃で２０分間熱処理して熱硬化させるとともに乾
燥させて、厚さ２μｍの塗布層を形成した。なお、仮支
持体は、９μｍ厚ＰＥＴフイルム（東レ（株）、ルミラ
ー９−Ｆ５３）と耐熱再剥離フイルム（ＰＡＮＡＣ
（株）、ＣＴ３８）とが貼り合わされて構成されてい
る。次に、塗布層を設けた９μｍ厚ＰＥＴフイルムか
ら、耐熱再剥離フイルムを剥離し、塗布層と反対側に、
不飽和ポリエステル樹脂溶液（東洋紡績（株）、バイロ
ン３０ＳＳ）を塗布した後に、乾燥して接着層（接着剤
塗布重量２ｇ／ｍ²）を設けた。このＰＥＴフイルム
を、ラミネートロールを用いて、蛍光体層上に接着層を
介して接着し、保護層を形成した。なお、本発明に用い
られる保護膜の作製方法は、前述したものに限定される
訳ではない。

【００５９】［補助機能層］さらに、蛍光体シートと支
持体との間には、光吸収層、接着層、導電層などの補助
機能層を設けてもよく、また支持体表面には多数の凹部
を形成してもよい。一方、支持体の蛍光体シートを設け
ない側の表面には、搬送性を向上させたり、耐傷性を向
上させたりするために、摩擦低減層や耐傷層（両層を併
せて、裏面保護膜と称する）を設けてもよい。

【００６０】前述した裏面保護膜の作製方法の一実施形
態を説明する。２０μｍ厚のＯＰＰフイルム（東レ
（株）、トレファンＹＭ−１１＃２０）に、不飽和ポリ
エステル樹脂溶液（東洋紡績（株）、バイロン３０Ｓ
Ｓ）を塗布、乾燥して接着層（接着剤塗布重量９ｇ／ｍ
²）を設けた。このＯＰＰフイルムを、ラミネートロー
ルを用いて、前記支持体の蛍光体層が設けられている側
とは反対側（遮光層側）に、接着層を介して接着すると
裏面保護膜が得られる。

【００６１】［側面膜］本発明において、放射線像変換
パネルを構成する保護膜、蛍光体シート、光反射層、支
持体、裏面保護膜を貼付した際に、側面から水分などが
混入することで各層の劣化や剥離を抑制するために、パ
ネルの両側面に側面膜を貼付することが好ましい。

【００６２】前述した側面膜の作製方法の一実施形態を
説明する。シリコーン系ポリマー（ポリジメチルシロキ
サン単位を有するポリウレタン；大日精化（株）、ダイ
アロマーＳＰ−３０２３［１５％ＭＥＫ／トルエン溶
液］）７０ｇをＭＥＫ１５ｇに溶解させた塗布液を調製
した。この塗布液にさらに架橋剤（ポリイソシアネー
ト；大日精化（株）、クロスネートＤ−７０［５０％溶
液］）３ｇと黄変防止剤（エポキシ樹脂；油化シェルエ
ポキシ（株）、エピコート＃１００１［固形］）０．６
ｇと滑り剤（アルコール変性シリコーン；信越化学
（株）、Ｘ−２２−２８０９［６６％キシレン含有ペー
スト］）０．２ｇとを添加し充分撹拌し、均一な塗布液
を作製した。この塗布液を保護膜などが付設された蛍光
体シートの両側面に塗布し、室温で充分に乾燥して、膜
厚約２５μｍの側面膜を形成した。

【００６３】図２０に本発明に係る蛍光体シートを用い
て構成された放射線像変換パネル９３を示す。この放射
線像変換パネル９３の製造方法は、始めに支持体９４の
上に光反射層９５を設け、さらに光反射層９５の上に本
発明に係る蛍光体シート６３を重ね合わせ、その後にカ
レンダー処理を行う。カレンダー処理の一例としては、
圧縮操作にカレンダーロールを用い、圧力５００ｋｇｗ
／ｃｍ²、上側ロール温度７５℃、下側ロール温度７５
℃、送り速度１．０ｍ／ｍｉｎで連続的に行う方法が挙
げられるが、この方法に限定される訳ではない。この加
熱圧縮により、蛍光体シート６２は支持体９４に光反射
層９５を介して完全に融着し、蛍光体層が得られる。こ
の蛍光体層の膜厚は、５〜３００μｍが好ましい。この
蛍光体層の表面に保護膜９６を貼り付け、裏面に裏面保
護膜９７を貼り付け、さらに両側面に側面膜９８を設け
ると、耐久性に優れた放射線像変換パネル９３を得るこ
とができる。なお、図２０の放射線像変換パネルでは、
図９に示した蛍光体シート６２を用いて構成されたもの
を示したが、本発明において放射線像変換パネルに用い
ることができる蛍光体シートは、前述したいずれかの製
造方法により得られた蛍光体シートであれば良い。

【００６４】

【発明の効果】以上のように、本発明の輝尽性蛍光体シ
ートの製造方法によれば、輝尽性蛍光体とこの輝尽性蛍
光体を包む遮光性隔壁とによりなる輝尽性蛍光体セルを
有する輝尽性蛍光体シートの製造方法において、スリッ
トを幅方向で分割する仕切り板を備えたスリットダイを
用いて、前記輝尽性蛍光体の液と前記遮光性隔壁の液と
を層状にして前記スリットから支持体へ押し出し、製膜
する簡易な工程で輝尽性蛍光体シートを得ることができ
る。また、前記輝尽性蛍光体の液の剪断粘度よりも、前
記遮光性隔壁の液の剪断粘度を低くすることで、容易に
前記輝尽性蛍光体セルを作製できる。

【００６５】さらには、本発明の輝尽性蛍光体シートの
製造方法により得られた輝尽性蛍光体シートから放射線
像変換パネルを構成すれば、輝尽光光の拡散が抑制され
たパネルが得られる。

【００６６】また、本発明のシートの製造方法によれ
ば、前述したいずれか１つに記載の輝尽性蛍光体シート
の製造方法を用いて、前記輝尽性蛍光体の液を第１の液
に代え、前記遮光性隔壁の液を第２の液に代えること
で、蜂の巣型やストライプ状のシートを容易に製造でき
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る輝尽性蛍光体シートを構成する輝
尽性蛍光体フイルムを製造するための製造ラインの概略
図である。

【図２】図１に示した製造ラインに用いられる流延ダイ
の要部断面図である。

【図３】図２の III−III 線における要部断面図であ
る。

【図４】図３のIV−IV線における要部断面図である。

【図５】図３の V−V 線における要部断面図である。

【図６】図３のVI−VI線における要部断面図である。

【図７】本発明に係る輝尽性蛍光体シートを構成する輝
尽性蛍光体フイルムの要部断面図である。

【図８】本発明に係る輝尽性蛍光体シートを構成する輝
尽性蛍光体フイルムを製造するための流延ダイの他に実
施形態の要部概略図である。

【図９】本発明に係る輝尽性蛍光体シートを製造方法を
説明するための概略図である。

【図１０】本発明に係る輝尽性蛍光体シートを構成する
輝尽性蛍光体フイルムを製造するための製造ラインの他
の実施形態の概略図である。

【図１１】図１０に示した製造ラインに用いられる流延
ダイの要部断面図である。

【図１２】本発明に係る輝尽性蛍光体シートを構成する
輝尽性蛍光体フイルムの製造方法の他の実施形態を説明
するための共押出スリット中のドープの第１の概略断面
図である。

【図１３】図１０に示した製造方法の第２の概略断面図
である。

【図１４】図１０に示した製造方法の第３の概略断面図
である。

【図１５】図１２ないし図１４に示した製造方法により
得られた輝尽性蛍光体フイルムの要部断面図である。

【図１６】図１４に示した輝尽性蛍光体フイルムの加工
処理を説明するための図である。

【図１７】図１６に示した輝尽性蛍光体フイルムを用い
て構成された輝尽性蛍光体シートの正面図である。

【図１８】図１６に示した輝尽性蛍光体フイルムを輝尽
性蛍光体シートとして用いた例を示した概略図である。

【図１９】図１１に示した流延ダイにより得られた蛍光
体フイルムの他の実施形態の要部断面図である。

【図２０】本発明に係る輝尽性蛍光体シートを用いて構
成された放射線像変換パネルの要部断面図である。

【符号の説明】

１０，７０，８６蛍光体ドープ１３，７１，８７隔壁ドープ１３ａ上層隔壁ドープ１３ｂ下層隔壁ドープ１８，５５，７２流延ダイ２３流延ベルト２６，７３，８９蛍光体フイルム４７，７８，８５共押出スリット４８，７９流延膜４９，８０，８８仕切り板５０，８１，９１蛍光体５１，８２，９０隔壁５６フィードブロック６０積層体６２，８４蛍光体シート９３放射線像変換パネル

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者田崎誠二神奈川県足柄上郡開成町宮台798番地富士写真フイルム株式会社内Ｆターム(参考） 2G083 AA03 BB01 CC03 DD11 EE02 EE10 2H013 AC01

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】輝尽性蛍光体とこの輝尽性蛍光体を包む
遮光性隔壁とによりなる輝尽性蛍光体セルを有する輝尽
性蛍光体シートの製造方法において、スリットを幅方向で分割する仕切り板を備えたスリット
ダイを用いて、前記輝尽性蛍光体の液と前記遮光性隔壁
の液とを層状にして前記スリットから支持体へ押し出
し、製膜することを特徴とする輝尽性蛍光体シートの製
造方法。
【請求項２】前記輝尽性蛍光体の液の剪断粘度より
も、前記遮光性隔壁の液の剪断粘度を低くしたことを特
徴とする請求項１に記載の輝尽性蛍光体シートの製造方
法。
【請求項３】前記輝尽性蛍光体の液の剪断粘度η１と
前記遮光性隔壁の液の剪断粘度η２との比（η１／η
２）が、２≦（η１／η２）≦１０００であることを特徴とする
請求項２に記載の輝尽性蛍光体シートの製造方法。
【請求項４】前記輝尽性蛍光体の液からなる層を、前
記遮光性隔壁の液からなる層で挟むようにした複数層構
造として前記スリットから押し出し、製膜することを特
徴とする請求項２または３に記載の輝尽性蛍光体シート
の製造方法。
【請求項５】前記輝尽性蛍光体の液からなる層と前記
遮光性隔壁の液からなる層とを交互に配置した複数層構
造として前記スリットから押し出し、製膜することを特
徴とする請求項２または３に記載の輝尽性蛍光体シート
の製造方法。
【請求項６】前記製膜により得られたフィルムを複数
積層して積層物を構成し、この積層物を積層方向にスラ
イスすることを特徴とする請求項１ないし５のいずれか
１つに記載の輝尽性蛍光体シートの製造方法。
【請求項７】前記輝尽性蛍光体の液からなる層と前記
遮光性隔壁の液からなる層とからなる２層構造として前
記スリットから押し出して製膜し、前記製膜されたフイルムの輝尽性蛍光体側の面からその
厚み方向に均一に除去して、輝尽性蛍光体側の面から遮
光性隔壁を露出させ、これら遮光性隔壁が露出されたフィルムを複数積層して
積層物を構成し、この積層物を積層方向にスライスすることを特徴とする
請求項２または３に記載の輝尽性蛍光体シートの製造方
法。
【請求項８】前記スライス厚みを５０〜１０００μｍ
にしたことを特徴とする請求項６または７に記載の輝尽
性蛍光体シートの製造方法。
【請求項９】前記液をスリットから押し出す際に、フ
ィードブロックを有するダイを用いることを特徴とする
請求項１ないし８のいずれか１つに記載の輝尽性蛍光体
シートの製造方法。
【請求項１０】前記液をスリットから押し出す際に、
複数のマニホールドを有するダイを用いることを特徴と
する請求項１ないし８のいずれか１つに記載の輝尽性蛍
光体シートの製造方法。
【請求項１１】乾燥後の前記蛍光体層の厚みを５〜３
００μｍにしたことを特徴とする請求項１ないし１０の
いずれか１つに記載の輝尽性蛍光体シート。
【請求項１２】乾燥後の前記遮光性隔壁の厚みを１〜
１００μｍにしたことを特徴とする請求項１ないし１１
のいずれか１つに記載の輝尽性蛍光体シートの製造方
法。
【請求項１３】請求項１ないし１２のいずれか１つに
記載の輝尽性蛍光体シートの製造方法により製造された
輝尽性蛍光体シートを用いて構成された放射線像変換パ
ネル。
【請求項１４】請求項１ないし１２のいずれか１つに
記載の輝尽性蛍光体シートの製造方法を用いて、前記輝尽性蛍光体の液を第１の液に代え、前記遮光性隔壁の液を第２の液に代えたことを特徴とす
るシートの製造方法。