JP2003086658A - 基板搬送装置の監視装置 - Google Patents

基板搬送装置の監視装置

Info

Publication number
JP2003086658A
JP2003086658A JP2001275206A JP2001275206A JP2003086658A JP 2003086658 A JP2003086658 A JP 2003086658A JP 2001275206 A JP2001275206 A JP 2001275206A JP 2001275206 A JP2001275206 A JP 2001275206A JP 2003086658 A JP2003086658 A JP 2003086658A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
load lock
transfer
chamber
fork
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2001275206A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4526218B2 (ja
Inventor
Tatsuhiro Takahashi
達宏 高橋
Satoshi Uchino
聡 内野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Anelva Corp
Original Assignee
Anelva Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Anelva Corp filed Critical Anelva Corp
Priority to JP2001275206A priority Critical patent/JP4526218B2/ja
Publication of JP2003086658A publication Critical patent/JP2003086658A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4526218B2 publication Critical patent/JP4526218B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体製造装置で基板搬送室と基板置き棚を
備えたロードロック室との間で搬送ロボットにより基板
の受渡しを行うとき、ロードロック室における基板置き
棚の基板間の隙間に挿入されるフォークと基板の位置関
係に関してフォークの位置決めを正確に行う。 【解決手段】 半導体製造装置10で、基板置き棚19
が設けられたロードロック室19A,19Bと、搬送ロ
ボット11が設けられた基板搬送室12とが備えられ、
搬送ロボットはフォーク23を有し、ロードロック室に
ロードロック室内に存するフォークと基板17の位置関
係を監視するカメラ装置30を設ける。カメラ装置で基
板置き棚とフォークとの間の基板受渡しを監視し、監視
データの基づきフォークがその下側の基板に接触しない
ように制御する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、基板搬送装置の監
視装置に関し、特に、ロードロック室と基板搬送室の間
で基板を受け渡すときに安定して常に正常に基板受渡し
を行える基板搬送装置の監視装置に関する。
【0002】
【従来の技術】例えばLSI等の半導体デバイスは、基
板に対する多くの表面処理を経て製作される。基板に対
して表面処理を行う装置は一般的に半導体製造装置と総
称され、この中にはスパッタリングや化学蒸着(CV
D)等の薄膜作製を行う装置、あるいはエッチングや不
純物注入等の表面加工を行う装置が含まれている。
【0003】図9を用いて従来の半導体製造装置におけ
る基板搬送装置の一般的な構成を説明する。図9は平面
図であり、要部の内部構造を示している。図9では、本
発明の課題に関連する部分以外は簡略化して示してい
る。
【0004】搬送ロボット11を備えた基板搬送室12
が中央に設けられている。基板搬送室12の周囲には2
つのロードロック室13A,13Bと例えば4つのプロ
セス室14A,14B,14C,14Dが設けられてい
る。
【0005】上記構成において、基板搬送室12等の
「室」は「チャンバ」とも呼ばれ、また中央に位置する
基板搬送室12はセパレーションチャンバまたは中央チ
ャンバとも呼ばれる。上記半導体製造装置は、基板搬送
室12の周りに複数のプロセス室14A〜14Dが設け
られていることから、マルチチャンバ型の半導体製造装
置である。
【0006】ロードロック室13A,13Bの外側には
オートローダ15が設置されている。基板搬送室12と
各ロードロック室13A,13Bおよび各プロセス室1
3A〜13Dとの間にはスリットバルブ16が設けら
れ、さらに各ロードロック室13A,13Bとオートロ
ーダ15との間にもスリットバルブ16が設けられてい
る。
【0007】オートローダ15には、未処理の基板17
を複数枚収容した基板カセット18が設置される。枚数
としては例えば25枚または26枚である。オートロー
ダ15で基板カセット18が設置される場所は4ヶ所設
けられている。上記基板カセット18を設置した状態
で、半導体製造装置は起動される。最初に、ロードロッ
ク室13Aの前面にあるスリットバルブ16が開にな
り、基板カセット18内の未処理の基板17をオートロ
ーダ15の搬送ロボット15aで1枚または複数枚の単
位でロードロック室13Aに設けられた基板置き棚19
に搬送する。ロードロック室13Aの基板置き棚19
は、基板カセット18に収容される基板の枚数に対応さ
せて25段または26段になっている。基板置き棚19
では、複数の基板17は、水平姿勢に保持され、かつ上
下方向にて間に所定の隙間を空けて積層された状態で配
置される。
【0008】基板カセット18内のすべての未処理の基
板17について基板置き棚19への搬送が完了したと
き、ロードロック室13Aの前面のスリットバルブ16
は閉じられる。ロードロック室13Aの内部は密閉状態
になる。その後、ロードロック室13Aの内部は、図示
しない排気ポンプで排気され、所定の真空度(例えば1
-5Pa)になる。ロードロック室13Aの排気が完了
すると、ロードロック室13Aと基板搬送室12の間の
スリットバルブ16を開にする。
【0009】その後、基板搬送室12の搬送ロボット1
1に基づいて、ロードロック室13Aと基板搬送室12
の間で基板17の受渡しが行われる。1枚の基板が基板
搬送室12へ受け渡されると、さらに基板搬送室12
と、4つのプロセス室14A〜14Dのうちの所定のプ
ロセス室との間のスリットバルブ16を開にし、基板搬
送室12と当該プロセス室の間で未処理の基板17の受
渡しが行われる。基板17がプロセス室に受け渡される
と、スリットバルブ16が閉じ、プロセス室内で基板1
7の表面に所定の処理が行われる。プロセス室での処理
が完了すると、スリットバルブ16が開かれ、搬送ロボ
ット11によって処理済の基板17が基板搬送室12へ
取り出される。
【0010】処理済の基板17に対する表面処理の内容
に応じて、基板は他のプロセス室の各々に対して同様に
受け渡され、処理が行われる。すべての処理が完了する
と、基板搬送室12の搬送ロボット11によって支持さ
れた状態にある処理済の基板17は、当該搬送ロボット
11によって、基板搬送室12からロードロック室13
Aの基板置き棚19まで搬送される。
【0011】ロードロック室13Aの基板置き棚19に
設置されたすべての基板の処理が完了し、処理済の基板
17のすべてが基板置き棚19に戻ってきたら、ロード
ロック室3Aと基板搬送室12との間のスリットバルブ
16を閉にして、ロードロック室13Aに大気を導入し
て真空状態を解除する。ロードロック室13Aが大気の
圧力状態になったとき、ロードロック室13Aの前面の
スリットバルブ16を開とする。
【0012】その後、ロードロック室13A内の処理済
の基板のすべてを、オートローダ15の搬送ロボット1
5aによってその基板カセット18に回収する。このよ
うにして、基板搬送室12に備えられた搬送ロボット1
1等の搬送動作に基づく一連の基板搬送動作が完了す
る。
【0013】上記構成において、搬送ロボット11は、
真空中で未処理または処理済の基板17を搬送する場合
において、全体の回転動作や上下方向の移動動作だけで
なく、アーム22が伸び縮みの動作を行うため、特にア
ームが伸びた位置でのフォーク(基板を搭載するアーム
先端部)23の停止精度の不良は、基板の破損またはパ
ーティクルの発生などの製品の歩留まり低下の原因にな
っている。
【0014】そこで本出願人は、先に「プロセスチャン
バでの基板位置決め装置、および搬送機構のアーム位置
の監視装置」(特開2000−232147号)を提案
した。この発明は、搬送ロボットによって基板搬送室か
らプロセス室へ基板を搬入するときに、プロセス室での
基板の位置決めを正確に行えるようにするための装置で
ある。このため、搬送ロボットによるプロセス室への基
板の受渡しを監視するためのCCDカメラを各プロセス
室に対応させて配置する構成を採用している。これによ
ってプロセス室13A〜13Dにおける基板の位置決め
の問題は解消し、プロセス室側での基板位置決めに関す
る問題は改善された。
【0015】
【発明が解決しようとする課題】特開2000−232
147号で提案される構成によってプロセス室における
基板位置決めの問題は解決された。しかしながら、それ
をロードロック室13Aでの基板受渡しに関する基板位
置決めの問題にそのまま適用できないことが判明した。
その理由は次の通りである。
【0016】ロードロック室13Aでは、前述した通
り、基板置き棚19において25枚または26枚の基板
17が水平状態にしてかつ上下方向に所定間隔を空けて
積み重ねられている。かかるロードロック室13Aで
は、基板置き棚19上に置かれた基板と基板の間の隙間
に搬送ロボット11のフォーク23を挿入し、フォーク
23の上に1枚の基板を載せて取出し、当該基板の受渡
しを行う。ロードロック室13A内における基板と基板
の間の距離は規格上で決められており、6.5mmにな
っている。これに対してフォーク23の厚みは2mmで
あり、基板17と搬送ロボット11のフォーク23との
間では、フォーク23の上側と下側に2mmずつの間隔
で調整を行うことが必要となる。
【0017】しかし基板置き棚19の初期調整が悪い場
合には基板間の距離が2mm以下になる場合が生じ、そ
の状態で搬送ロボット11を長時間動作させた場合に
は、何かの原因で搬送ロボット11のフォーク23が伸
び位置で垂れると、基板が置かれたときにフォーク23
が下側の基板に接触するおそれが高くなる。
【0018】搬送ロボット11のフォーク23が垂れる
原因としては、高温プロセスに基づいて基板17を50
0℃の温度に加熱した後に当該基板をフォーク23で搬
送するとき、フォーク23自体も100〜200℃程度
に加熱されることを挙げることができる。この加熱の結
果、フォーク23で熱歪みが発生し垂れが生じる。
【0019】上記の理由により、ロードロック室13A
と基板搬送室12の間で基板17の受渡しを行うときに
は、熱に起因して搬送ロボット11のフォーク23で垂
れが生じ、基板置き棚19においてフォーク23が下側
の基板17に接触するという不具合が生じるおそれがあ
った。
【0020】本発明の目的は、上記の問題に鑑み、マル
チチャンバ型等の半導体製造装置において、基板搬送室
と基板置き棚を備えたロードロック室との間で搬送ロボ
ットにより基板の受渡しを行うとき、ロードロック室に
おける基板置き棚の基板間の隙間に挿入されるフォーク
と基板の位置関係に関してフォークの位置決めを正確に
行うようにした基板搬送装置の監視装置を提供すること
にある。
【0021】
【課題を解決するための手段および作用】本発明に係る
基板搬送装置の監視装置は、上記目的を達成するため
に、次の通り構成される。
【0022】第1の基板搬送装置の監視装置(請求項1
に対応)は、マルチチャンバ型等の半導体製造装置で、
基板置き棚が設けられたロードロック室と、搬送ロボッ
トが設けられた基板搬送室とが備えられ、搬送ロボット
はその先端部に基板支持部(フォーク)を有し、ロード
ロック室にロードロック室内に存する基板支持部と基板
の位置関係を監視するカメラ装置を設け、このカメラ装
置で基板置き棚と搬送ロボットの基板支持部との間の基
板の受渡しを監視し、カメラ装置で得られる監視データ
の基づいて基板支持部が下側基板に接触しないように制
御する制御手段を備えている。
【0023】上記の構成によれば、基板搬送室に設けら
れた搬送ロボットを動作させて基板支持部をロードロッ
ク室の基板置き棚に配置された複数の基板の間の隙間に
挿入するように配置するときに、基板支持部と、下側に
位置する基板との間の距離を撮像することにより求め、
これにより基板の受渡し状態に関する両者の位置関係を
監視し、基板支持部と下側基板との間で接触が生じない
ようにフォークの位置を正確に設定する。これにより、
基板の破損やパーティクルの発生を防止している。
【0024】第2の基板搬送装置の監視装置(請求項2
に対応)は、上記第1の構成において、好ましくは、搬
送ロボットは回転・伸縮自在なアームとこのアームに前
部に設けられた上記基板支持部とを有し、アームの回転
・伸縮動作で基板支持部とロードロック室の基板置き棚
との間で基板の受渡しを行うように構成され、さらに、
基板置き棚には、複数の基板が、水平状態で隙間を空け
て積み重ねて置かれ、搬送ロボットは、基板置き棚に対
して、基板取出しまたは基板置きを行うため予め定めら
れた箇所に基板支持部を移動させ、このときの基板支持
部をカメラ装置で測定・監視するように構成される。基
板置き棚において隙間をあげて上下方向に積み重ねられ
た基板の基板取出しまたは基板置きを行う場合に、基板
間の隙間に基板支持部を挿入するとき、基板支持部に垂
れが生じても下側基板に接触するのを防止する。
【0025】第3の基板搬送装置の監視装置(請求項3
に対応)は、上記の第2の構成において、好ましくは、
上記制御手段は、カメラ装置による撮像動作で得られた
画像データにおいて基板支持部と下側基板との間の距離
が規格範囲内であるときには基板取出しまたは基板置き
を行い、距離が規格範囲外にあるときには搬送ロボット
で基板支持部の高さ位置を調整した後に基板取出しまた
は基板置きを行うように制御するように構成されてい
る。
【0026】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の好適な実施形態
を添付図面に基づいて説明する。
【0027】実施形態で説明される構成、形状、大きさ
および配置関係については本発明が理解・実施できる程
度に概略的に示したものにすぎず、また数値および各構
成要素の組成(材質)については例示にすぎない。従っ
て本発明は、以下に説明される実施形態に限定されるも
のではなく、特許請求の範囲に示される技術的思想の範
囲を逸脱しない限り様々な形態に変更することができ
る。
【0028】図1は本発明に係る基板搬送装置を備えた
半導体製造装置の平面図を示す。この半導体製造装置1
0はマルチチャンバ型の装置である。この半導体製造装
置10の基本的構成は図9で説明した従来の半導体製造
装置と同じである。従って図1において図9で説明した
要素と同一の要素には同一の符号を付している。
【0029】マルチチャンバ型の半導体製造装置10の
基本的構成を概説する。搬送ロボット11を備えた基板
搬送室12が中央に設けられている。基板搬送室12の
平面形状は例えば七角形の形状をしている。基板搬送室
12の側面部の周囲には2つのロードロック室13A,
13Bと例えば4つのプロセス室14A〜14Dが設け
られている。ロードロック室13A,13Bには基板置
き棚19が設けられている。ロードロック室13A,1
3Bの外側にはオートローダ15が設置される。基板搬
送室12と各ロードロック室13A,13Bおよび各プ
ロセス室14A〜14Dとの間にはスリットバルブ16
が設けられ、さらに各ロードロック室13A,13Bと
オートローダ15との間にもスリットバルブ16が設け
られる。オートローダ15には、例えば25枚(または
26枚)の未処理の基板17を収容した基板カセット1
8が設置される。
【0030】上記の構成において、2つのロードロック
室13A,13Bのそれぞれの内部にはCCDカメラを
含むカメラ装置30が付設される。図1中右側のロード
ロック室13Aでは右側位置にカメラ装置30が備えら
れ、図1中左側のロードロック室13Bで左側位置にカ
メラ装置30が備えられる。各ロードロック室13A,
13Bにおけるカメラ装置30の配置位置は、オートロ
ーダ15の搬送ロボット15aに基づく基板搬送経路を
避けるように決定されている。
【0031】図2に従って、基板搬送室12に設けられ
た搬送ロボット11の構成を説明する。図2は、(A)
で搬送ロボット11が伸び動作を行った状態を示し、
(B)で搬送ロボットが縮み動作を行った状態を示して
いる。
【0032】搬送ロボット11はアーム22とフォーク
(基板支持部)23を備えている。アーム22は、4つ
の比較的に長い片22aを回転自在な結合部で結合し、
その形が変形するほぼ平行四辺形を形成するようにして
構成されている。アーム22の基端22bは、基板搬送
室12の下壁のほぼ中心部の下側に設けられたモータの
回転軸に結合されている。アーム22はモータによって
基端22bを中心に自在に回転するように構成されてい
る。またアーム22は、基板搬送室12の径方向25に
おいて伸縮する機構として構成されている。図2(A)
はアーム22が伸び停止位置にある状態を示し、図2
(B)はアーム22が縮み停止位置にある状態を示して
いる。アーム22の回転は、図2(B)に示されるよう
にアーム22が縮み停止状態にあるときに行われる。ア
ーム22の先端22cにはフォーク23が固定されてい
る。フォーク23は長形の形状を有し、その中央部でア
ーム22の先端22cに取り付けられている。フォーク
23はその長手方向が常に基板搬送室12の径方向を向
くように保持される。またフォーク23は、その中央部
を中心にして、図2で好ましくは線対称の位置関係にあ
る右側の第1フォーク23aと左側の第2フォーク23
bから構成される。第1フォーク23aは少なくとも1
枚の基板をほぼ水平状態で載置させ、支持する部分とし
て機能する。第1フォーク23aによって基板は1枚づ
つ各プロセス室に搬入される。また搬送ロボット11は
全体の位置を高さ方向に移動させることが可能である。
【0033】次に図3に基づいてロードロック室13A
の内部構成およびCCDカメラに関する構成を詳細に説
明する。図3では、ロードロック室13Aの内部構成、
基板置き棚19の縦断面で示した構成、CCDカメラ3
1を含むカメラ装置30の取付け構造、およびCCDカ
メラ31で得られる画像データを処理・表示するデータ
処理システム32が示されている。
【0034】ロードロック室13Aは床板33と天井板
34と側壁35で仕切られて形成されている。これらの
板部または壁部は金属板部材で作られている。図3で
は、便宜上天井部34のみ実線で示され、その他の部分
は仮想線で示されている。
【0035】ロードロック室13Aの内部の中央位置に
は基板置き棚19が設けられる。基板置き棚19は、上
下方向に複数の支持枠19aが積み重ねられて形成され
ている。これらの支持枠19aのそれぞれが、その内縁
によって1枚の基板17を支持し、基板を水平状態に保
持している。基板置き棚19として、全体で、例えば2
5枚の基板が置かれる。図3では、支持枠19aによっ
て両側を支持された最上段の基板17のみが1枚示され
ており、他の基板の配置状態の図示は説明の便宜上省略
されている。上下の位置で隣り合う2枚の基板の間には
所定の隙間が形成されている。また図3で23はフォー
クであり、フォーク先端側から見た形を示している。図
示されたフォーク23の位置は、基板17のを受渡しを
行う標準的な位置である。フォーク23の高さ位置は下
側に位置する基板との間の距離に応じて微調整され得
る。基板置き棚19は、その全体が、その下方の位置に
設けられた昇降装置36によって昇降するように、設け
られている。昇降装置36にはよく知られた装置が使用
されている。図3において実線で示された基板置き棚1
9は下限位置にあり、二点鎖線19’で示された状態は
基板置き棚が上限位置に移動した状態を示している。
【0036】カメラ装置30は、ガラス窓41を有しか
つミラー42を内蔵する測定面部43と、レンズ部44
と、上記CCDカメラ31と、LED光源45とから構
成されている。カメラ装置30の外観容器はガラス窓4
1を除いて金属部材で作られ、カメラ装置30の全体形
状は潜望鏡のごとき形状を有している。カメラ装置30
は、測定面部43を下側にしかつCCDカメラ31を上
側にし、かつガラス窓41を内側に向けて固定状態にて
配置している。カメラ装置30は、ロードロック室13
Aの基板置き棚19における基板の受渡し位置、すなわ
ちフォーク23が到来する位置を含む一定箇所を測定す
るように固定されている。
【0037】レンズ部44は、測定面部43でガラス窓
41を通して取り込まれた測定対象の像を焦点合わせし
てCCDカメラ31に与える手段である。測定面部43
のミラー42は、CCDカメラ31の撮影方向をガラス
窓41の方向に向けるように方向を90°変更するため
の手段である。測定面部43の下側にはLED光源45
が付設されている。LED光源45は測定対象を見やす
くするための照明手段である。
【0038】カメラ装置30によって測定・監視すべき
高さ位置は、ロードロック室13Aにおいて基板17を
搬送ロボット11のフォーク23で受け渡す高さ位置に
設定されている。カメラ装置30のCCDカメラ31に
よって、フォーク23による基板の受渡しの動作を真横
側方より監視するようになっている。CCDカメラ31
は、測定対象を画像化し、画像データを電気信号の形式
で出力する。
【0039】CCDカメラ31を含むカメラ装置30
は、上記のごとくロードロック室13A内の真空の環境
に設けられている。CCDカメラ31から出力される画
像信号は、カメラケーブル51を経由して外部に取り出
される。画像データを処理・表示するデータ処理システ
ム32は、ロードロック室13Aの外側の大気環境に設
けられている。カメラケーブル51は画像処理用コント
ローラ52に接続されている。コントローラ52にはモ
ニタケーブル53を介してTVモニタ54が接続されて
いる。コントローラ52は、CCDカメラ31で撮像さ
れた画像の処理を行い、TVモニタ54はその画面54
aに撮像された画像を映し出す。コントローラ52に
は、さらに、TVモニタ54の画面等の設定を行うコン
ソール55が付設される。またコントローラ52と全体
制御用の上位制御装置56とは信号ケーブル57で接続
されている。コントローラ52と上位制御装置56との
間では信号ケーブル57を介して制御信号の授受が行わ
れる。
【0040】次に、図4〜図8を参照して、搬送ロボッ
ト11による基板17の受渡し動作と、カメラ装置30
による測定・監視の動作と、データ処理システム32に
基づく画像処理について説明する。
【0041】図4は、CCDカメラ31による測定・監
視で得られた画像であって、TVモニタ54の画面54
aに表示された画像を示している。当該画像61の内容
は、ロードロック室13Aと基板搬送室12の間で基板
17の受渡しを行うために搬送ロボット11のフォーク
23がロードロック室13Aへ伸びた状態を示してい
る。また図5と図7はそれぞれ基板置き棚19からフォ
ーク23で基板17を取り出すときの状態推移と制御プ
ロセスを示し、図6と図8はそれぞれフォーク23で基
板置き棚19に基板17を置くときの状態推移と制御プ
ロセスを示している。なお上記制御プロセスはコントロ
ーラ52および上位制御装置56によって実行される。
【0042】図4、図5、図7を参照して、ロードロッ
ク室13Aの基板置き棚19に置かれた複数枚の基板1
7のうちのいずれか1枚の基板を取り出す動作を説明す
る。基板取出し時において、フォーク23の上に基板が
載っていない状態で以下のような測定・監視および制御
を行い、その後に所定の基板を取り出す。
【0043】ロードロック室13Aの基板置き棚19に
置かれた基板17を基板搬送室12へ取り出すとき、最
初に、取り出したい基板17を図3で示されたフォーク
23の位置よりも高い位置に設定する。この位置設定
は、前述のごとく基板置き棚19は昇降装置36によっ
て上下方向に移動させられるので、上位制御装置56が
昇降装置36の動作を制御することに基づいて行われ
る。ロードロック室13Aの基板置き棚19におけるど
の基板を取り出すかについては、上位制御装置56に用
意されたプログラムに基づき予め手順が定められている
ので、上位制御装置56は当該手順に従って所定の基板
を、搬送ロボット11のフォーク23の配置位置よりも
高い位置にセットするように基板置き棚19を移動させ
る(ステップS11)。基板置き棚19が移動した後の
状態が図5(A)に示される。
【0044】基板置き棚19が所定の高さ位置に設定さ
れるた後、搬送ロボット11のアーム21を伸び方向に
動作させ、アーム先端部のフォーク23を、取り出す基
板17の下側の隙間に挿入する(ステップS12)。こ
の状態は、図5(A)に示された状態から図5(B)の
状態への推移として示される。当該隙間は、取り出す所
定の基板17とその下側に置かれている基板17の間に
形成される隙間である。搬送ロボット11のアーム21
の伸び動作が完了したとき、CCDカメラ31は、その
真横の側方位置からフォーク23とこのフォーク23の
上側および下側に位置する基板17とを撮像する(ステ
ップS13)。CCDカメラ31による撮像で得られた
画像は、画像データとしてカメラケーブル51を経由し
てコントローラ52へ送られ、表示のための処理が行わ
れた後に、モニタケーブル53を経由して伝送され、T
Vモニタ54に撮影した画像が映し出される(ステップ
S14)。図4がTVモニタ54の画面54aに映し出
された画像61を示している。この画像61では、フォ
ーク23の像23’と、上側の基板の像17aと、下側
の基板の像17bが示されている。図4に示された画像
61において、太線で示された区画62は計測領域であ
る。この計測領域62に関しては、標準となる距離H0
が設定されている。また計測領域62の横幅は20ピク
セルに相当する。図4に示された画像61について画像
メモリ(図示せず)に記憶された画像データを用いて、
コントローラ52は、この計測領域62に対応する部分
について、フォーク23とこのフォーク23の下側に位
置する基板17との間における距離Hを測定する(ステ
ップS15)。その測定は、画面54aに表示された画
像61における各要素の位置関係に基づき画像データ上
でピクセル数を計測することにより行われる。
【0045】上記の計測で得られたフォーク23と下側
基板17の距離Hが上記距離H0よりも大きい場合には
規格範囲内であると判定され、距離Hが距離H0よりも
小さい場合には規格範囲外と判定される(ステップS1
6)。
【0046】規格範囲内であると判定された場合には、
フォーク23上に基板が載りフォーク23に垂れが生じ
たとしても下側基板17に接触するおそれがないので、
基板置き棚19を下降させ、上側基板17がフォーク2
3の上に載る位置まで移動させる(ステップS17)。
この状態を図5(C)に示す。基板17がフォーク23
の上に搭載されると、搬送ロボット11のアーム21は
収縮動作を行い、ロードロック室13Aから基板17を
基板搬送室12へ移動させる(ステップS18)。この
状態を図5(D)に示す。
【0047】上記において規格範囲外と判定された場合
には、フォーク23上に基板が載りフォーク23に垂れ
が生じると下側基板17に接触するおそれがあるので、
搬送ロボット11のフォーク23の高さ位置を調整する
制御を行うように、コントローラ52は上位制御装置5
6に指令を出す(ステップS21)と共に、警報を発す
る(ステップS22)。次にフォーク23の高さ位置を
調整する(ステップS23)。これによりフォーク23
上に基板が載ったときにフォーク23に垂れが生じたと
しても下側基板17に接触する事態の発生をなくすこと
ができる。その後、上記と同様に、基板置き棚19を下
降させ、上側基板17をフォーク23上に載せ(ステッ
プS17)、さらにその後、搬送ロボット11のアーム
22は収縮動作を行ってロードロック室13Aから基板
17を基板搬送室12へ移動させる(ステップS1
8)。
【0048】以上のごとく、ロードロック室13Aの基
板置き棚19から基板搬送室12への未処理の基板の受
渡しが実行される。
【0049】次に図4、図6、図8を参照して、搬送ロ
ボット11のフォーク23の上にある基板17をロード
ロック室13Aの基板置き棚19のいずれかの空いた棚
に置く動作を説明する。
【0050】ロードロック室13Aには前述の通り基板
置き棚19が配備されている。この基板置き棚19に
は、前述のごとく基板の取出し作業に基づいていくつか
の棚が空いた状態にある。ロードロック室13A内に設
けられた基板置き棚19における空いた所定の支持枠1
9aを収納位置に設定する(ステップS31)。その
後、フォーク23に基板17を搭載した状態で搬送ロボ
ット11のアーム22を伸び方向に動作させ、設定され
た上記の支持枠に対応する位置にセットする(ステップ
S32)。この状態が図6(A)から図6(B)への推
移状態である。図6(B)において計測領域61が設定
されている。当該計測領域61については、前述のごと
くカメラ装置30のCCDカメラ31を通して測定・監
視されている。搬送ロボット11のフォーク23の伸び
動作が完了した時点で、上記計測領域61に関して、C
CDカメラ31によってフォーク23と下側基板17の
間の隙間の距離H’が測定される(ステップS33)。
距離H’が前述の標準となる距離H0よりも大きか否か
(規格範囲内であるか否か)が判定され(ステップS3
4)、大きい場合には規格範囲内として、基板置き棚1
9を上昇させ、基板17を基板置き棚19の所定の棚に
搭載させる(ステップS35)。距離H’が距離H0よ
りも小さい場合には規格範囲外として、コントローラ5
2は、搬送ロボット11の高さ位置を調整するように上
位制御装置56へ指示を出す(ステップS41)と共
に、同時に警報を出す(ステップS42)。搬送ロボッ
ト11のフォーク23の高さ位置の調整が完了(ステッ
プS43)した後、上記のステップS35を実行し、基
板置き棚19を上昇させ、基板17を基板置き棚19の
所定の棚の上に載せる。次の動作としては、搬送ロボッ
ト11を縮み方向へ動作させ(ステップS36)、これ
により基板搬送室12からロードロック室13Aへの処
理済みの基板17の受渡しが完了する。
【0051】上記の実施形態ではロードロック室13A
と基板搬送室12との間での搬送ロボット11による基
板17の受渡しを説明したが、ロードロック室13Bの
場合も同様にして搬送ロボット11による基板の受渡し
が行われる。前述の実施形態では、マルチチャンバ型の
半導体製造装置について説明したが、これに限定される
ものではない。
【0052】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように本発明によ
れば、半導体製造装置において基板搬送室と基板置き棚
が設けられたロードロック室との間で、搬送ロボットに
よって基板置き棚上に基板の受渡しを行うとき、搬送ロ
ボットのフォークと、基板置き棚から取り出されるまた
は基板置き棚に置かれる基板、およびフォークの下側に
位置する基板との位置関係を監視し、フォークと下側基
板が接触しないように制御を行うようにしたため、フォ
ークと基板との接触を未然に防止し、基板の破損やパー
ティクルの発生を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る基板搬送装置の監視装置が設けら
れた半導体製造装置の内部構造を示した平面図である。
【図2】搬送ロボットの具体的構成を示し、伸びた状態
(A)と縮んだ状態(B)を示す平面図である。
【図3】基板置き棚の詳細な構造を示す側面内部構造
と、データ処理システムの構成を示す図である。
【図4】TVモニタの画面に示される画像の一例を示す
図である。
【図5】基板取出し時の動作を説明する状態推移図であ
る。
【図6】基板置き時の動作を説明する状態推移図であ
る。
【図7】基板取出しの動作制御を示すフローチャートで
ある。
【図8】基板置きの動作制御を示すフローチャートであ
る。
【図9】従来の半導体製造装置の基板搬送装置の問題を
説明するための内部構造を示した平面図である。
【符号の説明】
10 半導体製造装置 11 搬送ロボット 12 基板搬送室 13A,13B ロードロック室 14A〜14D プロセス室 15 オートローダ 17 基板 19 基板置き棚 22 アーム 23 フォーク 30 カメラ装置 31 CCDカメラ 61 画像 62 計測領域
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5F031 CA02 FA01 FA05 FA07 FA15 GA03 GA30 GA44 GA47 GA49 JA04 JA07 JA14 JA32 JA40 MA04 MA11 NA05 NA07 PA02 PA10

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板置き棚が設けられたロードロック室
    と搬送ロボットが設けられた基板搬送室とを備え、前記
    搬送ロボットは基板支持部を有し、 前記ロードロック室に前記ロードロック室内に存する前
    記基板支持部と前記基板の位置関係を監視するカメラ装
    置を設け、このカメラ装置で前記基板置き棚と前記搬送
    ロボットの前記基板支持部との間の基板の受渡しを監視
    し、監視データの基づいて前記基板支持部が下側基板に
    接触しないように制御する制御手段を備えたことが特徴
    とする基板搬送装置の監視装置。
  2. 【請求項2】 前記搬送ロボットは回転・伸縮自在なア
    ームとこのアームに前部に設けられた前記基板支持部と
    を有し、前記アームの回転・伸縮動作で前記基板支持部
    と前記ロードロック室の前記基板置き棚との間で基板の
    受渡しを行うように構成され、 前記基板置き棚には、複数の基板が、水平状態で隙間を
    あけて積み重ねて置かれ、 前記搬送ロボットは、前記基板置き棚に対して、基板取
    出しまたは基板置きを行うため予め定められた箇所に前
    記基板支持部を移動させ、このときの前記基板支持部を
    前記カメラ装置で測定・監視することを特徴とする請求
    項1記載の基板搬送装置の監視装置。
  3. 【請求項3】 前記制御手段は、前記カメラ装置による
    撮像動作で得られた画像データにおいて前記基板支持部
    と下側基板との間の距離が規格範囲内であるときには基
    板取出しまたは基板置きを行い、前記距離が規格範囲外
    にあるときには前記搬送ロボットで前記基板支持部の高
    さ位置を調整した後に基板取出しまたは基板置きを行う
    ように制御することを特徴とする請求項2記載の基板搬
    送装置の監視装置。
JP2001275206A 2001-09-11 2001-09-11 基板搬送装置の監視装置 Expired - Fee Related JP4526218B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001275206A JP4526218B2 (ja) 2001-09-11 2001-09-11 基板搬送装置の監視装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001275206A JP4526218B2 (ja) 2001-09-11 2001-09-11 基板搬送装置の監視装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003086658A true JP2003086658A (ja) 2003-03-20
JP4526218B2 JP4526218B2 (ja) 2010-08-18

Family

ID=19100113

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001275206A Expired - Fee Related JP4526218B2 (ja) 2001-09-11 2001-09-11 基板搬送装置の監視装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4526218B2 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008068859A1 (ja) * 2006-12-05 2008-06-12 Hirata Corporation 搬送装置
KR20160112241A (ko) * 2015-03-18 2016-09-28 세메스 주식회사 검사 방법 및 기판 처리 장치
WO2018062156A1 (ja) * 2016-09-28 2018-04-05 川崎重工業株式会社 ロボット、ロボットの制御装置、及び、ロボットの位置教示方法
JP2018051670A (ja) * 2016-09-28 2018-04-05 川崎重工業株式会社 ロボット、ロボットの制御装置、及び、ロボットの位置教示方法
JP2021512490A (ja) * 2018-01-30 2021-05-13 ブルックス オートメーション インコーポレイテッド 自動ウェハセンタリング方法および装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05343495A (ja) * 1992-06-05 1993-12-24 Tokyo Electron Tohoku Ltd 被処理物の移載装置
JPH10313037A (ja) * 1997-05-06 1998-11-24 Applied Materials Inc 基板搬送システムの監視装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05343495A (ja) * 1992-06-05 1993-12-24 Tokyo Electron Tohoku Ltd 被処理物の移載装置
JPH10313037A (ja) * 1997-05-06 1998-11-24 Applied Materials Inc 基板搬送システムの監視装置

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008068859A1 (ja) * 2006-12-05 2008-06-12 Hirata Corporation 搬送装置
KR20160112241A (ko) * 2015-03-18 2016-09-28 세메스 주식회사 검사 방법 및 기판 처리 장치
KR102000024B1 (ko) * 2015-03-18 2019-07-17 세메스 주식회사 검사 방법 및 기판 처리 장치
CN109791908A (zh) * 2016-09-28 2019-05-21 川崎重工业株式会社 机器人、机器人的控制装置及机器人的位置教示方法
WO2018062153A1 (ja) * 2016-09-28 2018-04-05 川崎重工業株式会社 ロボット、ロボットの制御装置、及び、ロボットの位置教示方法
JP2018051671A (ja) * 2016-09-28 2018-04-05 川崎重工業株式会社 ロボット、ロボットの制御装置、及び、ロボットの位置教示方法
JP2018051670A (ja) * 2016-09-28 2018-04-05 川崎重工業株式会社 ロボット、ロボットの制御装置、及び、ロボットの位置教示方法
WO2018062156A1 (ja) * 2016-09-28 2018-04-05 川崎重工業株式会社 ロボット、ロボットの制御装置、及び、ロボットの位置教示方法
TWI691391B (zh) * 2016-09-28 2020-04-21 日商川崎重工業股份有限公司 機器人、機器人之控制裝置、及機器人之位置教示方法
TWI691392B (zh) * 2016-09-28 2020-04-21 日商川崎重工業股份有限公司 機器人、機器人之控制裝置、及機器人之位置教示方法
CN109791908B (zh) * 2016-09-28 2023-07-04 川崎重工业株式会社 机器人、机器人的控制装置及机器人的位置教示方法
JP2021512490A (ja) * 2018-01-30 2021-05-13 ブルックス オートメーション インコーポレイテッド 自動ウェハセンタリング方法および装置
JP7295121B2 (ja) 2018-01-30 2023-06-20 ブルックス オートメーション ユーエス、エルエルシー 自動ウェハセンタリング方法および装置
US11764093B2 (en) 2018-01-30 2023-09-19 Brooks Automation Us, Llc Automatic wafer centering method and apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
JP4526218B2 (ja) 2010-08-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20200013657A1 (en) Apparatus and methods for edge ring replacement, inspection and alignment using image sensors
US7836845B2 (en) Substrate carrying and processing apparatus
US6215897B1 (en) Automated substrate processing system
JP6368453B2 (ja) 基板処理装置、及び基板処理装置のデータ解析方法並びにプログラム
US9437465B2 (en) Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device
TWI533391B (zh) 待處理物之運送方法與設備及用來儲存程式之電腦可讀取儲存媒體
JP2015029057A (ja) 基板処理装置及び半導体装置の製造方法並びに記録媒体
TW201138007A (en) Substrate processing apparatus and method
JPH0964150A (ja) 半導体製造装置及び該半導体製造装置に於けるウェーハカセット内のウェーハ位置ずれ修正方法及びウェーハカセット搬送方法
JP2020141121A (ja) アライメント装置、成膜装置、アライメント方法、成膜方法、電子デバイスの製造方法、記録媒体、及びプログラム
CN110945638B (zh) 半导体器件的制造方法、基板处理装置及记录介质
KR101040196B1 (ko) 기판 처리 시스템 및 군(群) 관리 시스템
JP4342923B2 (ja) 基板処理装置および基板処理方法
JP2003086658A (ja) 基板搬送装置の監視装置
EP2267766A1 (en) Control device and control method
WO2020121869A1 (ja) 基板処理装置の処理方法及び基板処理装置
JPWO2007037161A1 (ja) データ記録方法
JP2007333272A (ja) ラック、ラックシステム、熱処理装置、並びに、熱処理システム
JP2003218018A (ja) 処理装置
JP6857675B2 (ja) 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム
JP3507330B2 (ja) 基板処理装置
JPH10313037A (ja) 基板搬送システムの監視装置
JP3664854B2 (ja) 真空処理装置
JP2000286321A (ja) 真空処理装置及び基板起立装置
JPH10303283A (ja) 基板収容器内の基板検出装置及びその装置を備えた基板搬入搬出装置並びにその基板搬入搬出装置を備えた基板処理装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080630

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100212

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100216

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100416

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100601

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100601

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130611

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 4526218

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees