JP2003084134A - 偏光分離素子の作製方法 - Google Patents

偏光分離素子の作製方法

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JP2003084134A
JP2003084134A JP2001277785A JP2001277785A JP2003084134A JP 2003084134 A JP2003084134 A JP 2003084134A JP 2001277785 A JP2001277785 A JP 2001277785A JP 2001277785 A JP2001277785 A JP 2001277785A JP 2003084134 A JP2003084134 A JP 2003084134A
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thickness
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transparent substrate
diffraction grating
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JP2001277785A
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Shuichi Hikiji
秀一 曳地
Shoichi Akiyama
省一 秋山
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Ricoh Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 対向透明基板と透明基板とを接着する等方性
接着剤によるオーバーコート層の厚みを所望の厚さに均
一化でき、生産性よく平坦性のよい偏光分離素子を作製
できる作製方法を提供する。 【解決手段】 対向透明基板18と透明基板8とを接着
する等方性接着剤17によるオーバーコート層の厚みを
規定する厚み規定部材15を回折格子12が形成された
素子外に予め設けておくことで、低粘度の等方性接着剤
17を用いた場合でも、オーバーコート層の厚さを容易
に所望の厚さに均一にすることができるようにした。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、生産性が良く、信
頼性の高い偏光分離素子の作製方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、簡単な工程で安価に作製できる偏
光分離素子として、例えば、特開昭63−314502
号公報、特開平10−302291号公報、特2000
−75130公報等によれば、透明基板上に同一平面に
回折格子を有する複屈折膜を設け、その上に等方性のオ
ーバーコート層が被覆或いは装荷された構造のものが提
案されている。これらの中には良好な光学的特性を得る
ために両面の平坦性の向上を目的とした構成となってい
るものがある。これはガラスやプラスチック等の透明基
板上に同一平面に回折格子を形成した複屈折膜が接着剤
により接着され、その複屈折膜が等方性接着剤によるオ
ーバーコート層で覆われ、このオーバーコート層が接着
層も兼ねて対向透明基板と接着されているために、素子
として強度があり、かつ、生産性の高い構成となってい
る。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】即ち、この種の偏光分
離素子にあっては、直交する2つの偏光成分を分離する
ために、透明基板上に入射光の異なる振動面に対し屈折
率が異なる異方性膜が周期的な凹凸形状の回折格子とし
て形成される。そして、回折格子の凹み部分に等方性接
着剤を充填してオーバーコート層を形成する工程と、こ
のオーバーコート層上に対向透明基板を接着する工程と
を同一工程で行い、その後、各々回折格子を含む素子形
状に切り出して個々の偏光分離素子として完成させるよ
うにしている。
【0004】ここに、上記工程中で、例えば、凹凸形状
の回折格子中の幅3μm、深さ5μmの凹み部分に等方
性接着剤を充填してオーバーコート層を形成するために
は、等方性接着剤としては充填の容易性から粘度が低い
ことが望ましい。
【0005】しかし、低粘度の等方性接着剤を使用した
場合、流動性が高いため、凹み部分への埋め込みは容易
であるが、同時に、横(平面)方向への流れも容易とな
り、オーバーコート層の厚さを一定厚以上に均一な状態
で対向透明基板と接着させることが極めて困難となる。
構成上、オーバーコート層は対向透明基板との接着層と
しての機能も必要であるが、接着層の厚さが不均一であ
ると、部分的な接着力の低下や平面性等が低下する問題
が発生する。特に、複屈折膜に高分子膜を使用した場
合、接着層の厚さと接着力は密接に関わっており、接着
層の厚さが不足すると、接着力の低下に大きく影響する
ことが経験的に知られている。さらに、難接着性の高分
子フィルム等の接着においては接着層の厚みが重要であ
る。また、接着層の厚さがばらつくことで、素子全体の
厚さにばらつきが生じ、光学特性低下の原因となる。
【0006】また、透明基板と対向透明基板との接着界
面が非粘着性の場合、等方性接着剤がこの界面に浸透
し、オーバーコート層の厚みを制御できなくなる問題が
ある。
【0007】そこで、本発明は、対向透明基板と透明基
板とを接着するための等方性接着剤によるオーバーコー
ト層の厚みを所望の厚さに均一化することができ、生産
性よく平坦性のよい偏光分離素子を作製することができ
る偏光分離素子の作製方法を提供することを目的とす
る。
【0008】また、本発明は、等方性接着剤が非粘着性
の界面に浸透するのを防止し、オーバーコート層の厚み
の均一性を確保することができる偏光分離素子の作製方
法を提供することを目的とする。
【0009】また、本発明は、これらの目的を実現する
上で、接着強度の確保を図れる偏光分離素子の作製方法
を提供する。
【0010】また、本発明は、これらの目的を実現する
上で、高分子材料などの難接着性材料の接着強度の確保
を図れる低コストな偏光分離素子の作製方法を提供す
る。
【0011】さらには、本発明は、これらの目的を実現
する上で、オーバーコート層の高精度な膜厚制御が可能
な偏光分離素子の作製方法を提供する。
【0012】さらには、本発明は、これらの目的を実現
する上で、偏光分離素子の小型化、低コスト化を図れる
偏光分離素子の作製方法を提供する。
【0013】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
直交する2つの偏光成分を分離するために透明基板上に
入射光の異なる振動面に対し屈折率が異なる異方性膜を
周期的な凹凸形状の回折格子として形成し、前記回折格
子の凹み部分に等方性接着剤を充填してオーバーコート
層を形成する工程と、このオーバーコート層上に対向透
明基板を接着する工程とを同一工程で行うようにした回
折格子を素子構成要素に含む偏光分離素子の作製方法に
おいて、前記対向透明基板と前記透明基板とを接着する
前記等方性接着剤による前記オーバーコート層の厚みを
規定する厚み規定部材を前記回折格子が形成された素子
外に予め設けておくようにした。
【0014】従って、対向透明基板と透明基板とを接着
する等方性接着剤によるオーバーコート層の厚みを規定
する厚み規定部材を回折格子が形成された素子外に予め
設けておくことで、低粘度の等方性接着剤を用いた場合
でも、オーバーコート層の厚さを容易に所望の厚さに均
一にすることができ、偏光分離素子としての機能の均一
性も向上させることが可能で、かつ、厚さを均一にする
ことで接着強度も均一にすることができ、生産性にも優
れ、信頼性の高い偏光分離素子を作製することができ
る。
【0015】請求項2記載の発明は、請求項1記載の偏
光分離素子の作製方法において、前記厚み規定部材とし
て粘着性接着剤を用いた。
【0016】従って、厚み規定部材として粘着性接着剤
を用いることで、オーバーコート層を形成する等方性接
着剤が接着界面に浸透するのを防止することができ、オ
ーバーコート層の厚みの均一性を制御性よく確保するこ
とができる。
【0017】請求項3記載の発明は、請求項2記載の偏
光分離素子の作製方法において、前記等方性接着剤が粘
着性接着剤領域に拡散する前に、前記粘着性接着剤で前
記対向透明基板と前記透明基板とを接着するようにし
た。
【0018】従って、等方性接着剤が粘着性接着剤領域
に拡散する前に、粘着性接着剤で対向透明基板と透明基
板とを接着することで、オーバーコート層を形成する等
方性接着剤が接着界面に浸透するのを確実に防止するこ
とができ、オーバーコート層の厚みの均一性をより制御
性よく確保することができる。
【0019】請求項4記載の発明は、請求項2又は3記
載の偏光分離素子の作製方法において、前記粘着性接着
剤の厚さが30μm以上100μm以下である。
【0020】従って、高分子材料などの難接着性材料の
接着強度が向上する。即ち、30μmより薄いと両面粘
着シート等の粘着性接着剤の製造が高価になるばかりで
なく、ハンドリング(取り扱い)性が低下するため、粘
着性接着剤の厚み制御が困難になり、結果としてオーバ
ーコート層の厚みにばらつきが発生してしまい、また、
オーバーコート層の厚さが薄くなると接着強度の低下の
恐れがある一方、100μmより厚くなると、充填する
等方性接着剤の量が増え、生産性が低下してしまうが、
粘着性接着剤の厚さを30μm以上100μm以下とす
ることにより、このような不具合を回避できる。
【0021】請求項5記載の発明は、請求項2,3又は
4記載の偏光分離素子の作製方法において、前記粘着性
接着剤が接着形状に切抜きされたシート状又はテープ状
の両面粘着性の接着剤である。
【0022】従って、高分子材料などの難接着性材料の
接着強度を確保できるとともに、工業用の両面粘着シー
ト等を用い得るため、低コストで済む。
【0023】請求項6記載の発明は、請求項5記載の偏
光分離素子の作製方法において、接着形状に切抜きされ
たシート状又はテープ状の両面粘着性の接着剤の初期厚
みが加圧硬化後の前記オーバーコート層の厚みより厚
い。
【0024】従って、シート状又はテープ状の両面粘着
性の接着剤によりオーバーコート層の厚みを確実に所定
の厚さに規定することができ、オーバーコート層の高精
度な膜厚制御が可能となる。
【0025】請求項7記載の発明は、請求項2ないし6
の何れか一記載の偏光分離素子の作製方法において、前
記回折格子が形成された素子外に予め設けられる前記粘
着性接着剤の一部が開放している。
【0026】従って、等方性接着剤に余剰接着剤があっ
ても粘着性接着剤の開放された部分から外側に流出させ
ることで、オーバーコート層の厚みを確実に所定の厚さ
に規定することができ、オーバーコート層の高精度な膜
厚制御が可能となる。
【0027】請求項8記載の発明は、請求項2ないし6
の何れか一記載の偏光分離素子の作製方法において、前
記粘着性接着剤を前記回折格子が形成された素子単位で
各々の素子を囲むように素子外に設けるようにした。
【0028】従って、回折格子が形成された複数の素子
全体を囲むように素子外に粘着性接着剤を設けてもよい
が、個々の素子が独立的な場合には素子単位で各々の素
子を囲むように素子外に粘着性接着剤を設けることで、
効果的に個々の素子に対するオーバーコート層の膜厚制
御が可能となる。
【0029】請求項9記載の発明は、請求項1ないし8
の何れか一記載の偏光分離素子の作製方法において、前
記等方性接着剤が光硬化型のアクリル系、エポキシ系の
材料からなる。
【0030】従って、等方性接着剤として光硬化型のア
クリル系、エポキシ系の材料を用いることにより、作製
される偏光分離素子の低コスト化を図ることができる。
【0031】請求項10記載の発明は、請求項9記載の
偏光分離素子の作製方法において、前記等方性接着剤を
充填接着する容積より多く供給する。
【0032】従って、等方性接着剤を充填接着する容積
より多く供給して粘着性接着剤等の厚み規定部材により
その膜厚を規定することにより、等方性接着剤が不足し
て所定の厚さよりも薄くなるようなことなく均一な膜厚
に規定することができる。
【0033】請求項11記載の発明は、請求項9又は1
0記載の偏光分離素子の作製方法において、前記等方性
接着剤を前記粘着性接着剤により形成された粘着性領域
内に供給する。
【0034】従って、等方性接着剤に無駄なく均一な膜
厚に規定することができる。
【0035】請求項12記載の発明は、請求項1ないし
11の何れか一記載の偏光分離素子の作製方法におい
て、前記回折格子が高分子複屈折膜により形成されてい
る。
【0036】従って、回折格子が高分子複屈折膜により
形成されていることにより、作製される偏光分離素子の
低コスト化を図ることができる。
【0037】請求項13記載の発明は、請求項12記載
の偏光分離素子の作製方法において、前記高分子複屈折
膜が延伸により分子鎖を配向させた高分子膜である。
【0038】従って、回折格子を形成する高分子複屈折
膜が延伸により分子鎖を配向させた高分子膜により形成
されていることにより、作製される偏光分離素子の低コ
スト化を図ることができる。
【0039】請求項14記載の発明は、請求項1ないし
11の何れか一記載の偏光分離素子の作製方法におい
て、前記回折格子が分子鎖が配向した高分子膜により形
成されている。
【0040】従って、回折格子が分子鎖が配向した高分
子膜により形成されていることにより、作製される偏光
分離素子の低コスト化を図ることができる。
【0041】
【発明の実施の形態】本発明の第一の実施の形態を図1
ないし図9に基づいて説明する。
【0042】[概要]本実施の形態の対象とする偏光分
離素子1の構成は、例えば、図1に示すように、透明基
板2の同一平面上に回折格子3が形成されている高分子
複屈折膜4が接着層5を介し接着され、その上に等方性
接着剤を回折格子3の凹み間に充填したオーバーコート
層6が接着層としての機能も兼ね、対向透明基板7と接
着される構成の偏光分離素子である。
【0043】このような回折格子3を素子構成要素とし
て含む偏光分離素子1を作製する上で、回折格子3の凹
み部分に等方性接着剤を充填してオーバーコート層6を
形成する工程と、このオーバーコート層6上に対向透明
基板7を接着する工程とを同一工程で行い、その後、各
々回折格子を含む素子形状に切り出して個々の偏光分離
素子として完成させるようにするが、本実施の形態で
は、オーバーコート層の厚さを均一にするために回折格
子が形成されている高分子複屈折膜の素子形成領域外に
オーバーコート層に用いる等方性接着剤とは異なり、粘
着性を有する接着剤を支持基体両面に塗布し総厚みを制
御した、所謂、両面粘着シートを厚み規定部材として設
けることで、オーバーコート層の厚みを制御するように
したものである。この粘着性接着剤の形状は回折格子を
形成した素子領域の外を囲むように形成するものである
が、その一部が開放しており、余剰接着剤がここから接
着領域外に流出するようにしている。
【0044】[具体的な構成例]本実施の形態の偏光分
離素子の作製方法の一例を図2ないし図6を参照して説
明する。まず、図2に示すように、φ4インチ、厚み
1.0mmのBK−7(透明基板)8を両面光学研磨し
た後に、片面に入射波長660nmが最小となるよう反
射防止膜9を形成した。このBK−7(透明基板)8の
裏面にφ5インチ、厚さ200μmの高分子複屈折膜1
0をアクリル樹脂系の光硬化型の接着剤11で接着し、
φ4インチBK−7(透明基板)8に沿って高分子複屈
折膜10を切断し透明基板8とした。この接着の具体的
な方法は図8及び図9を参照して後述する。
【0045】この透明基板8に接着した高分子複屈折膜
10をイソプロピルアルコール等の有機溶媒と純水で洗
浄する。その後、日本ゼオン化社製ZEP-520レジストを
スピンコートにより0.5μm厚のレジスト膜を形成
し、ベーク後、ニコン社製ステッパ装置を用い、ライン
&スペース5μmのパターンをφ90mmの範囲に形成
し、酸素ガスを主成分とするエッチングガス雰囲気中
で、住友金属社製ECR(Electron Cyclotron Resonan
ce:電子サイクロトロン共鳴)エッチング装置で幅3μ
m、深さ5μmのラインと3μm幅のスペースを300
周期繰り返した回折格子12を形成した(図3参照)。
この回折格子12は一度の作製工程で複数個の偏光分離
素子13を作製するために、複数個の偏光分離素子用と
して複数個整然と形成される(図4参照)。各装置のハ
ンドリング等の理由で実質有効素子形成範囲はφ80m
m内にある。
【0046】他のフォトリソグラフィー処理は一般に知
られているプロセスを採用しており、詳細は省略する。
【0047】この高分子複屈折膜10の回折格子12が
形成されている面で、図4に示すように、回折格子12
(偏光分離素子13)に影響しないφ80mm以上の領
域に厚さ50μmの工業用両面粘着シートを内径φ85
mm、外形φ95mmのリング状に円形カッタで切り抜
き接着し、120°等分の3箇所に幅1mmの開口部1
4を設け、粘着性接着剤による厚み規定部材15とし
た。
【0048】次に、図5に示すように、この透明基板8
を平面加工したφ200mm、厚み50mmのステンレ
ス台16上に載置し、回折格子12を形成した高分子複
屈折膜10の中央部にアクリル樹脂系の光硬化型の等方
性接着剤17を所定充填量の20%増の0.27mlを
マイクロシリンジで計量滴下し、この透明基板8の上に
両面光学研磨したBK−7で外径φ4インチ、厚み1.
0mmの対向透明基板18を載置し、この上に加圧装置
19として光学研磨した石英ガラスを載せ対向透明基板
18に100gf/cmの圧力を印加し、等方性接着
剤17を被接着全面に広げた。
【0049】ここで、両面粘着シートによる厚み規定部
材15の厚みは狙いの厚みより厚いため、加圧により最
初に両面粘着シート(厚み規定部材15)と対向透明基
板18とが接着される。余剰接着剤は両面粘着シート
(厚み規定部材15)の開口部14から外にはみ出す。
圧力に応じて両面粘着シート(厚み規定部材15)の厚
みが決定される。この状態で、図示しない紫外線照射装
置で150mm上面から放射照度20mW/cmの紫
外光を透明基板18,8に20分間照射しオーバーコー
ト層としての等方性接着剤17を硬化させ接着した。図
6は硬化接着後の断面構造を示す。
【0050】なお、透明基板8の非接着面には入射波長
660nmが最小となるよう反射防止膜9を形成してい
る。
【0051】次に、ダイシング装置で回折格子12を形
成した素子13の形状である4mm×4mmに切り出し
た。このように切り出された個々の素子13が、図1に
示したような偏光分離素子1となる。透明基板8が透明
基板2、回折格子12が回折格子3、高分子複屈折膜1
0が高分子複屈折膜4、接着剤11が接着層5、オーバ
ーコート層17がオーバーコート層6、対向透明基板1
8が対向透明基板7に各々対応する。
【0052】なお、本実施の形態では、厚さ50μmの
両面粘着シート用い、〜40μm厚みのオーバーコート
層17を得たが、50μm厚みに限定されるものではな
く、両面粘着剤の厚さはその厚さが30μm以上100
μm以下であることが好ましく、さらに好ましくは30
μm以上50μm以下が好ましい。即ち、30μmより
も薄いと両面粘着シートの製造が高価になるばかりでな
く、ハンドリング(取り扱い)性が低下するため、粘着
剤の厚み制御が困難になり、結果としてオーバーコート
層17の厚みにばらつきが発生する。また、オーバーコ
ート層17の厚さが薄くなると接着強度の低下の恐れが
ある。一方、100μmよりも厚い場合には、充填する
オーバーコート剤の量が増え、生産性が低下する。
【0053】なお、両面粘着シートの厚みを変えて製作
したオーバーコート層の厚さを測定したところほぼ両面
粘着シートの厚みに応じたオーバーコート層の厚さを得
た。図7に示したように全体的に粘着性接着剤厚みに対
し、オーバーコート層が薄い結果である。
【0054】また、等方性接着剤17の厚みを規定する
厚み規定部材15には本実施の形態で示した両面粘着シ
ートを用いる以外に印刷等の手法で行なうことも可能で
ある。また、偏光分離素子13の等方性接着剤17は粘
性や屈折率等の特性制御の容易さや接着力及び透明性の
点からアクリル系の接着剤を用いたが、エポキシ系でも
同様なことが可能である。これらの接着剤は紫外線で硬
化する(光硬化型)ので、加圧中硬化が可能であり、プ
ロセスを簡略である。
【0055】高分子複屈折膜10はポリエチレンテレフ
タレート等の高分子膜を布で擦ってラビング処理して配
向膜を形成し、この配向膜上にポリジアセチレンモノマ
ーを真空蒸着して配向させた後、紫外光を照射してポリ
マー化して異方性膜とする方法(参考文献:J.Appl.phy
s.,72,No,3,P938-947)があるが、本実施の形態では、
分子鎖が配向した高分子膜で、特性の均一性を考慮した
延伸された有機高分子膜を用いた。
【0056】ところで、図2で前述のBK−7(透明基
板)8の裏面にφ5インチ、厚さ200μmの高分子複
屈折膜10をアクリル樹脂系の光硬化型の接着剤11で
接着し、φ4インチBK−7(透明基板)8に沿って高
分子複屈折膜10を切断し透明基板8とする作製工程、
特に接着工程について、さらに詳細に説明する。
【0057】図8の断面構造図に示すように、φ4イン
チ、厚み1.0mmの両面光学研磨したBK−7(透明
基板)8の片面に入射波長660nmが最小となるよう
反射防止膜9(図2参照)を形成し、透明基板とした。
透明基板8の反射防止膜9のない面にφ5インチ、厚さ
200μmの高分子複屈折膜10としてポリエステル系
のλ/4板(以下、λ/4フィルムという)をアクリル
樹脂系の光硬化型の接着剤11を用いて透明基板8に接
着したものである。
【0058】このBK−7(透明基板)8に厚さ30μ
mの粘着性接着剤21である両面粘着シートを内径φ8
5mm、外形φ95mmのリング状に切り抜き接着し、
120°等分の3箇所に幅1mmの開口部を設けて接着
厚み規定部材とした(図4の場合の接着厚み規定部材1
5と同様)。なお、両面粘着シート(粘着性接着剤2
1)はλ/4フィルム(高分子複屈折膜10)の素子に
影響しないφ80mm領域に貼り付けられている。
【0059】次に、φ5インチに切断したポリエステル
系のλ/4フィルムを光学平面加工したφ200mm、
厚み50mmの真空吸着口22を有する石英ガラス23
上に中心軸を合わせて載置し、図示しない真空排気装置
によりλ/4フィルムの接着範囲の外側を真空吸着によ
り固定した。次に、この中央部にアクリル樹脂系の光硬
化型の等方性接着剤17を所定充填量の20%増の0.
2mlをマイクロシリンジで計量し滴下した。このλ/
4フィルムの上に上述の透明基板8を載置し、加圧装置
24により100gf/cmの圧力を印加し、等方性
接着剤17を被接着面全面に広げた。
【0060】ここで、両面粘着シート21の厚みは狙い
の厚みより厚くしており、加圧により始めに両面粘着シ
ート21と透明基板8とが接着される。余剰接着剤は両
面粘着シート21の開口部から外にはみ出す。両面粘着
シート21の厚みで加圧が規制され、この状態で、15
0mm上面から照射照度10mW/cmの紫外光を透
明基板8に10分間照射することにより等方性接着剤1
7を硬化させて接着した。
【0061】この後、図9に示すようにφ4インチの透
明基板8に沿ってλ/4フィルム10を切断した。この
結果、図2に示したような透明基板8が得られる。
【0062】本発明の第二の実施の形態を図10ないし
図12に基づいて説明する。前述の実施の形態で示した
部分は同一符号を用いて示し、説明も省略する。
【0063】基本的には、前述の実施の形態と同様であ
るが、本実施の形態では、複数個の回折格子12が形成
された高分子複屈折膜10の個々の素子13の形成範囲
外に厚み規定部材31としての接着剤を設けたものであ
る。具体的には、紫外線硬化型接着剤をスクリーン印刷
法で一部の角を開放した格子状の1mm幅、厚み30μ
mのパターンに形成する。
【0064】次に、厚み規定部材31としての接着剤に
対して紫外光を完全硬化条件の80%程度の光量を照射
し、表面を粘着性を有する半固化状態とした。本実施の
形態では素子形状が四角で各角を開放としているが、四
角に限定するものではなく、丸、三角、六角形等の素子
形状であってもよく、その一部に図11に示すように余
剰接着剤が外部に流れる通路(開口部)32を有してい
る物であれば良い。また、今回、紫外線硬化型接着剤の
硬化条件を工夫して用いたが、この接着範囲は素子13
の形成範囲外であり、素子13の光学的特性の制約を受
けないので、一般に用いられている粘着性接着剤を用い
ても良い。
【0065】このパターンの中央部に等方性接着剤17
をマイクロシリンジで所定充填量の20%増の6×10
−5ml滴下した後、透明基板8を図8で説明した場合
と同様に光学平面加工したφ200mm、厚み50mm
の石英ガラス上に中心軸を合わせて載置し、真空吸着口
により真空吸着により固定しておき、各々に設けたアラ
イメントマークに合わせ、対向透明基板18を貼り合わ
せ、加圧接着する。このとき余剰接着剤は開口部32を
通り、厚みを規定する接着パターンのスペース部に流れ
る。その後、紫外光照射による硬化と素子に切り出す工
程は第一の実施の形態の場合と同じである。図12は硬
化接着後の素子断面構造を示している。
【0066】
【発明の効果】請求項1記載の発明によれば、直交する
2つの偏光成分を分離するために透明基板上に入射光の
異なる振動面に対し屈折率が異なる異方性膜を周期的な
凹凸形状の回折格子として形成し、前記回折格子の凹み
部分に等方性接着剤を充填してオーバーコート層を形成
する工程と、このオーバーコート層上に対向透明基板を
接着する工程とを同一工程で行うようにした回折格子を
素子構成要素に含む偏光分離素子の作製方法において、
対向透明基板と透明基板とを接着する等方性接着剤によ
るオーバーコート層の厚みを規定する厚み規定部材を回
折格子が形成された素子外に予め設けておくことで、低
粘度の等方性接着剤を用いた場合でも、オーバーコート
層の厚さを容易に所望の厚さに均一にすることができ、
偏光分離素子としての機能の均一性も向上させることが
可能で、かつ、厚さを均一にすることで接着強度も均一
にすることができ、生産性にも優れ、信頼性の高い偏光
分離素子を作製することができる。
【0067】請求項2記載の発明によれば、請求項1記
載の偏光分離素子の作製方法において、厚み規定部材と
して粘着性接着剤を用いることで、オーバーコート層を
形成する等方性接着剤が接着界面に浸透するのを防止す
ることができ、オーバーコート層の厚みの均一性を制御
性よく確保することができる。
【0068】請求項3記載の発明によれば、請求項2記
載の偏光分離素子の作製方法において、等方性接着剤が
粘着性接着剤領域に拡散する前に、粘着性接着剤で対向
透明基板と透明基板とを接着することで、オーバーコー
ト層を形成する等方性接着剤が接着界面に浸透するのを
確実に防止することができ、オーバーコート層の厚みの
均一性をより制御性よく確保することができる。
【0069】請求項4記載の発明によれば、請求項2又
は3記載の偏光分離素子の作製方法において、粘着性接
着剤の厚さを30μm以上100μm以下としたので、
高分子材料などの難接着性材料の接着強度を向上させる
ことができる。即ち、30μmより薄いと両面粘着シー
ト等の粘着性接着剤の製造が高価になるばかりでなく、
ハンドリング(取り扱い)性が低下するため、粘着性接
着剤の厚み制御が困難になり、結果としてオーバーコー
ト層の厚みにばらつきが発生してしまい、また、オーバ
ーコート層の厚さが薄くなると接着強度の低下の恐れが
ある一方、100μmより厚くなると、充填する等方性
接着剤の量が増え、生産性が低下してしまうが、粘着性
接着剤の厚さを30μm以上100μm以下とすること
により、このような不具合を回避することができる。
【0070】請求項5記載の発明によれば、請求項2,
3又は4記載の偏光分離素子の作製方法において、粘着
性接着剤を接着形状に切抜きされたシート状又はテープ
状の両面粘着性の接着剤とすることにより、高分子材料
などの難接着性材料の接着強度を確保できるとともに、
工業用の両面粘着シート等を用い得るため、低コストで
済ませることができる。
【0071】請求項6記載の発明によれば、請求項5記
載の偏光分離素子の作製方法において、接着形状に切抜
きされたシート状又はテープ状の両面粘着性の接着剤の
初期厚みが加圧硬化後の前記オーバーコート層の厚みよ
り厚いので、シート状又はテープ状の両面粘着性の接着
剤によりオーバーコート層の厚みを確実に所定の厚さに
規定することができ、オーバーコート層の高精度な膜厚
制御が可能となる。
【0072】請求項7記載の発明によれば、請求項2な
いし6の何れか一記載の偏光分離素子の作製方法におい
て、前記回折格子が形成された素子外に予め設けられる
前記粘着性接着剤の一部が開放しているので、等方性接
着剤に余剰接着剤があっても粘着性接着剤の開放された
部分から外側に流出させることで、オーバーコート層の
厚みを確実に所定の厚さに規定することができ、オーバ
ーコート層の高精度な膜厚制御が可能となる。
【0073】請求項8記載の発明によれば、請求項2な
いし6の何れか一記載の偏光分離素子の作製方法におい
て、回折格子が形成された複数の素子全体を囲むように
素子外に粘着性接着剤を設けてもよいが、個々の素子が
独立的な場合には素子単位で各々の素子を囲むように素
子外に粘着性接着剤を設けることで、効果的に個々の素
子に対するオーバーコート層の膜厚制御が可能となる。
【0074】請求項9記載の発明によれば、請求項1な
いし8の何れか一記載の偏光分離素子の作製方法におい
て、等方性接着剤として光硬化型のアクリル系、エポキ
シ系の材料を用いることにより、作製される偏光分離素
子の低コスト化を図ることができる。
【0075】請求項10記載の発明によれば、請求項9
記載の偏光分離素子の作製方法において、等方性接着剤
を充填接着する容積より多く供給して粘着性接着剤等の
厚み規定部材によりその膜厚を規定することにより、等
方性接着剤が不足して所定の厚さよりも薄くなるような
ことなく均一な膜厚に規定することができる。
【0076】請求項11記載の発明によれば、請求項9
又は10記載の偏光分離素子の作製方法において、前記
等方性接着剤を前記粘着性接着剤により形成された粘着
性領域内に供給することで、等方性接着剤に無駄なく均
一な膜厚に規定することができる。
【0077】請求項12記載の発明によれば、請求項1
ないし11の何れか一記載の偏光分離素子の作製方法に
おいて、回折格子が高分子複屈折膜により形成されてい
ることにより、作製される偏光分離素子の低コスト化を
図ることができる。
【0078】請求項13記載の発明によれば、請求項1
2記載の偏光分離素子の作製方法において、回折格子を
形成する高分子複屈折膜が延伸により分子鎖を配向させ
た高分子膜により形成されていることにより、作製され
る偏光分離素子の低コスト化を図ることができる。
【0079】請求項14記載の発明によれば、請求項1
ないし11の何れか一記載の偏光分離素子の作製方法に
おいて、回折格子が分子鎖が配向した高分子膜により形
成されていることにより、作製される偏光分離素子の低
コスト化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第一の実施の形態の偏光分離素子を示
し、(a)は概略断面図、(b)はその概略平面図であ
る。
【図2】作製工程中の一つの工程を示す概略断面図であ
る。
【図3】作製工程中の回折格子の作製工程を示す概略断
面図である。
【図4】作製工程中の厚み規定部材の作製工程を示す概
略平面図である。
【図5】作製工程中の粘着性接着剤による接着工程を示
す概略断面図である。
【図6】作製工程中の粘着性接着剤による接着後を示す
概略断面図である。
【図7】粘着性接着剤−オーバーコート層厚の特性を示
す特性図である。
【図8】透明基板に対する高分子複屈折膜の接着工程を
示す概略断面図である。
【図9】その接着後を示す概略断面図である。
【図10】本発明の第二の実施の形態の作製方法を示
し、(a)は概略平面図、(b)はその一部を拡大して
示す概略断面図である。
【図11】余剰接着剤の流れを示す概略平面図である。
【図12】接着後を示す概略断面図である。
【符号の説明】
8 透明基板 10 高分子複屈折膜 12 回折格子 13 素子 14 開口部 15 厚み規定部材、粘着性接着剤 17 等方性接着剤 18 対向透明基板 31 厚み規定部材、粘着性接着剤
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H049 AA03 AA13 AA31 AA33 AA37 AA45 AA48 AA65 BA05 BA42 BA45 BB52 BC03 BC08 BC14

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 直交する2つの偏光成分を分離するため
    に透明基板上に入射光の異なる振動面に対し屈折率が異
    なる異方性膜を周期的な凹凸形状の回折格子として形成
    し、前記回折格子の凹み部分に等方性接着剤を充填して
    オーバーコート層を形成する工程と、このオーバーコー
    ト層上に対向透明基板を接着する工程とを同一工程で行
    うようにした回折格子を素子構成要素に含む偏光分離素
    子の作製方法において、 前記対向透明基板と前記透明基板とを接着する前記等方
    性接着剤による前記オーバーコート層の厚みを規定する
    厚み規定部材を前記回折格子が形成された素子外に予め
    設けておくようにしたことを特徴とする偏光分離素子の
    作製方法。
  2. 【請求項2】 前記厚み規定部材として粘着性接着剤を
    用いたことを特徴とする請求項1記載の偏光分離素子の
    作製方法。
  3. 【請求項3】 前記等方性接着剤が粘着性接着剤領域に
    拡散する前に、前記粘着性接着剤で前記対向透明基板と
    前記透明基板とを接着するようにしたことを特徴とする
    請求項2記載の偏光分離素子の作製方法。
  4. 【請求項4】 前記粘着性接着剤の厚さが30μm以上
    100μm以下であることを特徴とする請求項2又は3
    記載の偏光分離素子の作製方法。
  5. 【請求項5】 前記粘着性接着剤が接着形状に切抜きさ
    れたシート状又はテープ状の両面粘着性の接着剤である
    ことを特徴とする請求項2,3又は4記載の偏光分離素
    子の作製方法。
  6. 【請求項6】 接着形状に切抜きされたシート状又はテ
    ープ状の両面粘着性の接着剤の初期厚みが加圧硬化後の
    前記オーバーコート層の厚みより厚いことを特徴とする
    請求項5記載の偏光分離素子の作製方法。
  7. 【請求項7】 前記回折格子が形成された素子外に予め
    設けられる前記粘着性接着剤の一部が開放していること
    を特徴とする請求項2ないし6の何れか一記載の偏光分
    離素子の作製方法。
  8. 【請求項8】 前記粘着性接着剤を前記回折格子が形成
    された素子単位で各々の素子を囲むように素子外に設け
    るようにしたことを特徴とする請求項2ないし6の何れ
    か一記載の偏光分離素子の作製方法。
  9. 【請求項9】 前記等方性接着剤が光硬化型のアクリル
    系、エポキシ系の材料からなることを特徴とする請求項
    1ないし8の何れか一記載の偏光分離素子の作製方法。
  10. 【請求項10】 前記等方性接着剤を充填接着する容積
    より多く供給することを特徴とする請求項9記載の偏光
    分離素子の作製方法。
  11. 【請求項11】 前記等方性接着剤を前記粘着性接着剤
    により形成された粘着性領域内に供給することを特徴と
    する請求項9又は10記載の偏光分離素子の作製方法。
  12. 【請求項12】 前記回折格子が高分子複屈折膜により
    形成されていることを特徴とする請求項1ないし11の
    何れか一記載の偏光分離素子の作製方法。
  13. 【請求項13】 前記高分子複屈折膜が延伸により分子
    鎖を配向させた高分子膜であることを特徴とする請求項
    12記載の偏光分離素子の作製方法。
  14. 【請求項14】 前記回折格子が分子鎖が配向した高分
    子膜により形成されていることを特徴とする請求項1な
    いし11の何れか一記載の偏光分離素子の作製方法。
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