JP2003076291A - Method and device for cutting wiring pattern of substrate - Google Patents

Method and device for cutting wiring pattern of substrate

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JP2003076291A
JP2003076291A JP2001271871A JP2001271871A JP2003076291A JP 2003076291 A JP2003076291 A JP 2003076291A JP 2001271871 A JP2001271871 A JP 2001271871A JP 2001271871 A JP2001271871 A JP 2001271871A JP 2003076291 A JP2003076291 A JP 2003076291A
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electrode
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To make it possible to accurately cut a wiring pattern formed on a surface of a substrate by a laser beam while the substrate is being made to run at a high speed, and also to control to surely prevent the laser beam from being emitted on the part where the wiring pattern is not formed. SOLUTION: The positions of each electrode group 5G arranged on a lower substrate 2 of a liquid crystal panel 1 placed on a running table 22 of which the position is adjustable in the directions of X, Y, and θ, and the position of a blank part 7 where the electrodes 5 are not arranged, are recorded beforehand in a coordinate setting part 31 as coordinate positions with respect to the laser beam emitting position as the point of origin, and the laser beam is intermittently emitted to short-circuit wiring arranged at forming intervals of each electrode group G so that a mark 9 provided on the lower substrate 2 on the running table 22 is made to run from the state where it is located at the reference position, and when the electrode group 5G reaches the position of the origin point, the laser beam is emitted from a laser beam emitting means 25, and a switch 30 is made to operate at the position where the mark moves from the electrode group 5G to the blank part 7, to stop emitting the laser beam.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば液晶基板等
の基板に形成した不要な配線パターンをレーザビームを
照射することにより切断する、基板の配線パターン切断
方法及び装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wiring pattern cutting method and apparatus for cutting an unnecessary wiring pattern formed on a substrate such as a liquid crystal substrate by irradiating a laser beam.

【0002】[0002]

【従来の技術】例えば、TFT駆動方式の液晶パネル
は、上下2枚の透明な基板の間に液晶を封入したものか
ら構成され、一方の基板はTFT基板、他方の基板はカ
ラーフィルタ基板である。TFT基板の4辺のうちの少
なくとも2辺にはドライバ回路が接続される。ドライバ
回路は、LSI(集積回路素子)を含むものであり、ド
ライバ回路の実装方式としては、TAB(Tape Automat
ed Bonding)方式、COG(Chip on Glass )方式等が
広く用いられている。TAB実装方式では、LSIはテ
ープ状のフィルムキャリアに搭載されてTCP(Tape C
arrier Package)を構成し、このTCPが基板に実装さ
れる。また、COG方式では、ドライバ回路を構成する
LSIが基板上に直接実装されることになる。
2. Description of the Related Art For example, a TFT drive type liquid crystal panel is constructed by enclosing a liquid crystal between two upper and lower transparent substrates, one substrate being a TFT substrate and the other substrate being a color filter substrate. . A driver circuit is connected to at least two sides of the four sides of the TFT substrate. The driver circuit includes an LSI (Integrated Circuit Element), and the mounting method of the driver circuit is TAB (Tape Automat).
The ed bonding method, COG (Chip on Glass) method and the like are widely used. In the TAB mounting method, the LSI is mounted on a tape-shaped film carrier and TCP (Tape C
This TCP is mounted on a board. Further, in the COG method, the LSI forming the driver circuit is directly mounted on the substrate.

【0003】TFT基板には多数のトランジスタがマト
リックス状に配列されると共に、これら各トランジスタ
に接続するように配線パターンが形成される。このよう
に、基板における配線パターンの形成部の一部がそれに
重ね合わせられる基板から張り出しており、この張り出
し部に多数の電極が形成され、これら各電極は各々トラ
ンジスタと電気的に接続されている。ドライバ回路は各
電極に接続されるように実装される。例えば、TAB実
装方式ではTCPが用いられる。TCPはLSIをフィ
ルムキャリアに搭載したものからなり、このフィルムキ
ャリアには所定数のリードが延在されており、これら各
リードが電極と接続される。
A large number of transistors are arranged in a matrix on the TFT substrate, and a wiring pattern is formed so as to connect to each of these transistors. In this manner, a part of the wiring pattern forming portion on the substrate is projected from the substrate to be superposed on the wiring pattern, and a large number of electrodes are formed on the protruding portion, and each of these electrodes is electrically connected to the transistor. . The driver circuit is mounted so as to be connected to each electrode. For example, TCP is used in the TAB mounting method. The TCP is formed by mounting an LSI on a film carrier, and a predetermined number of leads are extended in the film carrier, and each of these leads is connected to an electrode.

【0004】TAB実装方式であれ、またCOG等他の
実装方式であれ、ドライバ回路が実装される前の段階で
は、液晶パネルを構成する基板に設けた電極は外部に露
出している。このために、静電気からの回路保護等の観
点から、基板に形成されている全ての電極を短絡させる
ようにしている。この電極の短絡部の構成としては、基
板の表面に短絡用配線のパターンを形成し、これら短絡
用配線を各電極に接続するようにしている。従って、基
板にドライバ回路を実装する前の段階で、この短絡用配
線と各電極との間を電気的に遮断しなければならない。
Whether the TAB mounting method or another mounting method such as COG is used, the electrodes provided on the substrate constituting the liquid crystal panel are exposed to the outside before the driver circuit is mounted. Therefore, from the viewpoint of protecting the circuit from static electricity, all electrodes formed on the substrate are short-circuited. As a constitution of the short-circuit portion of the electrode, a pattern of the short-circuit wiring is formed on the surface of the substrate, and the short-circuit wiring is connected to each electrode. Therefore, before the driver circuit is mounted on the substrate, the short-circuit wiring and each electrode must be electrically disconnected.

【0005】このために、レーザビーム照射手段を設け
て、レーザビームを基板の短絡配線に照射して、この短
絡配線の一部を基板表面から剥離するようにして短絡配
線の切断を行うのが一般的である。従って、基板におけ
る配線切断ラインと対向させてレーザビーム照射手段が
設けられるが、このレーザビーム照射手段から基板に対
してレーザビームを走査させなければならない。このレ
ーザビームを走査させるには、液晶パネルまたはレーザ
ビーム照射手段のいずれか一方を動かすようにする。レ
ーザビーム照射手段は、重量物であり、かつサイズも大
きいので、このレーザビーム照射手段側を駆動するのは
好ましくはない。なお、レーザビームのスキャンニング
方式として、所謂ガルバノ方式があり、このガルバノ方
式ではミラーのみを動かせば良いことから、駆動機構は
比較的簡単なものとなる。しかしながら、ガルバノ方式
は温度の影響によりレーザビームの走査位置が変化する
等の不都合がある。
For this reason, a laser beam irradiation means is provided to irradiate the short-circuit wiring of the substrate with the laser beam, and the short-circuit wiring is cut by separating a part of the short-circuit wiring from the surface of the substrate. It is common. Therefore, the laser beam irradiation means is provided so as to face the wiring cutting line on the substrate, but the laser beam irradiation means must scan the substrate with the laser beam. In order to scan with this laser beam, either the liquid crystal panel or the laser beam irradiation means is moved. Since the laser beam irradiation means is heavy and has a large size, it is not preferable to drive the laser beam irradiation means side. There is a so-called galvano method as a laser beam scanning method. In this galvano method, since only the mirror needs to be moved, the driving mechanism is relatively simple. However, the galvano method has a disadvantage that the scanning position of the laser beam changes due to the influence of temperature.

【0006】以上のことから、レーザビーム照射手段を
固定的に配置すると共に、液晶パネルを走行手段上に設
置して、液晶パネルにおけるレーザビームの照射位置を
レーザビーム照射手段からのレーザビームの照射光路と
一致させた状態で、走行手段を作動させることにより液
晶パネルを直進させ、この間にレーザビーム照射手段か
らレーザビームを照射するように構成するのが一般的で
ある。
From the above, the laser beam irradiation means is fixedly arranged, the liquid crystal panel is installed on the traveling means, and the irradiation position of the laser beam on the liquid crystal panel is irradiated by the laser beam irradiation means. Generally, the liquid crystal panel is moved straight by operating the traveling means in the state where it coincides with the optical path, and the laser beam is emitted from the laser beam emitting means during this period.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】ところで、前述したよ
うに、液晶パネルの基板に形成した多数の電極は、ドラ
イバ回路に接続される関係から、全て同じピッチ間隔で
形成されるのではなく、ドライバ回路の接続部毎に電極
群が形成され、相隣接する電極群間は、所定の間隔にわ
たって電極が形成されていない空白部となっている。そ
して、この空白部には他の配線パターン等が形成される
等、他の目的に利用されるようになっており、このため
に電極群間の空白部にはレーザビームを照射しないよう
に制御する必要がある。このように、レーザビームを基
板上に走査させるに当っては、レーザビームの照射は間
欠的なものとなる。従って、基板を走行させるに当っ
て、間欠照射のタイミングをどのように設定するかによ
っては、基板の走行速度に対する大きな制約となり、高
精度な加工を行おうとすると処理・加工速度が低下する
等の問題点がある。
By the way, as described above, the large number of electrodes formed on the substrate of the liquid crystal panel are not all formed at the same pitch interval because of the connection to the driver circuit, but the drivers are not formed at the same pitch interval. An electrode group is formed for each connection portion of the circuit, and a space between adjacent electrode groups is a blank portion in which no electrode is formed over a predetermined interval. It is designed to be used for other purposes such as forming another wiring pattern in this blank portion. For this reason, it is controlled so that the blank portion between the electrode groups is not irradiated with a laser beam. There is a need to. Thus, in scanning the substrate with the laser beam, the irradiation of the laser beam is intermittent. Therefore, depending on how to set the timing of intermittent irradiation when the substrate is traveling, it becomes a big restriction on the traveling speed of the substrate, and when trying to perform highly accurate processing, the processing / processing speed decreases. There is a problem.

【0008】本発明は以上の点に鑑みてなされたもので
あって、その目的とするところは、基板を高速で走行さ
せる間に、この基板の表面に形成されている配線パター
ンを正確に切断できるようにすることにある。
The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to accurately cut a wiring pattern formed on the surface of a substrate while the substrate is traveling at a high speed. To be able to do it.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】前述した目的を達成する
ために、所定数の電極を群として、複数の電極群が形成
されると共に、これら各電極群に接続した配線パターン
を設けた基板に、前記配線パターンの前記各電極群への
接続部にレーザビームを照射して、前記配線パターンを
部分的に切断する方法としては、前記基板を走行テーブ
ル上に載置して、この走行テーブルを一定の速度で直進
方向に連続走行させるようになし、前記走行テーブル上
に載置された基板の基準位置を検出し、前記電極群の形
成間隔にはレーザビームを照射し、相隣接する電極群間
間隔ではレーザビームを照射しないようにするために、
前記基準位置から、前記走行テーブルの走行中にレーザ
ビームの照射位置と非照射位置との座標を設定し、この
座標位置信号により各電極群形成間隔の配線パターンに
間欠的にレーザビームを照射するようにしたことを特徴
とするものである。
In order to achieve the above-mentioned object, a plurality of electrode groups are formed with a predetermined number of electrodes as a group, and a substrate provided with a wiring pattern connected to each of these electrode groups is provided. As a method of irradiating the connection portion of the wiring pattern to each of the electrode groups with a laser beam to partially cut the wiring pattern, the substrate is placed on a traveling table and the traveling table is It is configured to continuously run in a straight direction at a constant speed, the reference position of the substrate placed on the traveling table is detected, and a laser beam is irradiated at the formation interval of the electrode groups, and adjacent electrode groups are arranged. In order not to irradiate the laser beam in the interval,
From the reference position, the coordinates of the irradiation position and the non-irradiation position of the laser beam are set during traveling of the traveling table, and the wiring pattern of each electrode group formation interval is intermittently irradiated with the laser beam by this coordinate position signal. It is characterized by doing so.

【0010】また、所定数の電極を群として、複数の電
極群が形成されると共に、これら各電極群に接続した配
線パターンを設けた基板に、前記配線パターンの前記各
電極群への接続部にレーザビームを照射して、前記配線
パターンを部分的に切断する装置の構成としては、基板
が載置されて、一定の速度で直進方向に連続走行する走
行テーブルと、前記走行テーブル上に載置された基板の
基準位置を検出する基準位置検出手段と、前記走行テー
ブルの走行距離を計測する走行距離計測手段と、前記基
板の前記配線パターンに対してレーザビームを照射する
ためのレーザビーム照射手段と、前記基準位置からの前
記電極群の位置の座標を設定する座標設定手段と、前記
電極群の形成間隔に対してレーザビームを照射し、相隣
接する電極群間隔ではレーザビームを照射しないよう
に、前記レーザビーム照射手段を間欠照射するよに制御
する制御手段とを備え、この制御手段では、前記基準位
置検出手段からの検出信号と、前記走行距離測定手段か
らレーザビームの照射位置までの走行テーブルの走行距
離から、前記電極群の始端部の座標位置で前記レーザビ
ーム照射手段によるレーザビームの照射を開始し、電極
群の終端部の座標位置でレーザビームの照射を停止する
ように制御する構成としたことをその特徴とするもので
ある。
In addition, a plurality of electrode groups are formed with a predetermined number of electrodes as a group, and a connection portion of the wiring patterns to each of the electrode groups is formed on a substrate provided with a wiring pattern connected to each of the electrode groups. A device for irradiating a laser beam on the substrate to partially cut the wiring pattern includes a traveling table on which a substrate is placed and continuously travels in a straight direction at a constant speed, and a traveling table mounted on the traveling table. Reference position detecting means for detecting a reference position of the placed substrate, traveling distance measuring means for measuring a traveling distance of the traveling table, and laser beam irradiation for irradiating the wiring pattern of the substrate with a laser beam. Means, coordinate setting means for setting the coordinates of the position of the electrode group from the reference position, and a laser beam irradiation for the formation interval of the electrode group, and the interval between adjacent electrode groups Is provided with a control means for controlling the laser beam irradiation means so that the laser beam irradiation means is intermittently irradiated so as not to irradiate the laser beam. In this control means, the detection signal from the reference position detection means and the travel distance measurement means are used. From the traveling distance of the traveling table to the irradiation position of the laser beam, the irradiation of the laser beam by the laser beam irradiation means is started at the coordinate position of the start end of the electrode group, and the laser beam irradiation is started at the coordinate position of the end part of the electrode group. The feature is that the irradiation is controlled to be stopped.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、図面に基づいて本発明の実
施の一形態について説明する。以下に説明する実施の形
態においては、液晶パネルの基板の表面に形成した配線
パターン群の一部をレーザビームで剥離することによっ
て、アース線との間を切断するようにしたものとして説
明するが、本発明の基板の配線パターン切断方法及び装
置はこれに限定されるものではない。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the embodiments described below, it is assumed that a part of the wiring pattern group formed on the surface of the substrate of the liquid crystal panel is peeled off with a laser beam so as to disconnect from the ground line. The method and apparatus for cutting the wiring pattern of the substrate of the present invention are not limited to this.

【0012】まず、図1には、ドライバ回路を実装する
前の段階での液晶パネルの構成を示す。図中において、
液晶パネル1は、下基板2と上基板3とを備え、これら
両基板2,3間には液晶が封入されている。ここで、T
FT駆動方式の液晶パネルとして構成する場合には、下
基板2はTFT基板であり、また上基板3はカラーフィ
ルタ基板である。下基板2のサイズは上基板3より大き
くなっており、従って下基板2は少なくとも2辺(図示
したものにあっては3辺)が上基板3から所定の長さ分
だけ張り出している。
First, FIG. 1 shows the structure of a liquid crystal panel before mounting the driver circuit. In the figure,
The liquid crystal panel 1 includes a lower substrate 2 and an upper substrate 3, and liquid crystal is sealed between the two substrates 2 and 3. Where T
When configured as an FT drive type liquid crystal panel, the lower substrate 2 is a TFT substrate and the upper substrate 3 is a color filter substrate. The size of the lower substrate 2 is larger than that of the upper substrate 3. Therefore, at least two sides (three sides in the illustrated example) of the lower substrate 2 project from the upper substrate 3 by a predetermined length.

【0013】下基板2の張り出し部はドライバ回路接続
部2aであり、各ドライバ回路接続部2aには所定の配
線パターンが形成されている。下基板2と上基板3とが
重なり合った部位には、例えばTFT(薄膜トランジス
タ)等の素子がマトリックス状に設けられており、これ
ら各素子には配線が接続されている。これら各配線は、
下基板2において、各ドライバ回路接続部2aに形成し
た多数の電極と接続されている。これらの電極には、ド
ライバ回路の端子なりリードなりが電気的に接続される
ようになっている。
The protruding portion of the lower substrate 2 is a driver circuit connecting portion 2a, and a predetermined wiring pattern is formed on each driver circuit connecting portion 2a. Elements, such as TFTs (thin film transistors), are provided in a matrix in a region where the lower substrate 2 and the upper substrate 3 overlap each other, and wirings are connected to these respective elements. Each of these wiring is
On the lower substrate 2, it is connected to a large number of electrodes formed on each driver circuit connecting portion 2a. Terminals and leads of the driver circuit are electrically connected to these electrodes.

【0014】図2に下基板2における1箇所のドライバ
回路接続部2aの拡大図を示す。なお、電極の数や間隔
等に違いがあることもあるが、他のドライバ回路接続部
もドライバ回路接続部2aと構成上で実質的な差異はな
い。而して、図示は省略するが、下基板2と上基板3と
の重畳部にTFT等の回路素子がマトリックス状に多数
形成されており、これら各素子からの配線4は上基板3
の重畳部から張り出している下基板2のドライバ回路接
続部2aに延在されている。また、ドライバ回路接続部
2aには電極5が配列されており、各配線4はこれら各
電極5に接続されている。各電極5には、さらに下基板
2の端部側において短絡用配線6により短絡させてい
る。これら配線4、電極5及び短絡用配線6は、いずれ
も下基板2の表面に成膜手段で形成した金属薄膜をエッ
チングすることにより形成され、また印刷手段によって
も形成することができる。
FIG. 2 shows an enlarged view of one driver circuit connecting portion 2a on the lower substrate 2. Although there may be differences in the number of electrodes, intervals, etc., the other driver circuit connecting portions are not substantially different in structure from the driver circuit connecting portion 2a. Although not shown in the drawing, a large number of circuit elements such as TFTs are formed in a matrix in the overlapping portion of the lower substrate 2 and the upper substrate 3, and the wiring 4 from each of these elements is provided on the upper substrate 3.
Is extended to the driver circuit connecting portion 2a of the lower substrate 2 protruding from the overlapping portion. Further, electrodes 5 are arranged in the driver circuit connecting portion 2 a, and each wiring 4 is connected to each of these electrodes 5. Each electrode 5 is further short-circuited by the short-circuit wiring 6 on the end side of the lower substrate 2. Each of the wiring 4, the electrode 5, and the short-circuiting wiring 6 is formed by etching a metal thin film formed on the surface of the lower substrate 2 by a film forming means, and can also be formed by a printing means.

【0015】ドライバ回路接続部2aには、図2に符号
10で示したドライバ回路がTAB実装されることにな
る。ドライバ回路10は、キャリアフィルム11にLS
I12を搭載されており、このLSI12の端子(図示
せず)は、キャリアフィルム11に設けた所定数のリー
ド13,14に接続されている。キャリアフィルム11
の一辺側のリード13は下基板2のドライバ回路接続部
2aに設けた電極5に接続される。このドライバ回路1
0は、下基板2の一辺において、複数接続されるように
なっている。このために、電極5は1個分のドライバ回
路10に接続される数毎に電極群部5Gを構成してお
り、従ってドライバ回路接続部2aには複数の電極群部
5Gが形成されている。ここで、電極群部5Gは所定数
の電極5と、これらの電極5に接続されている配線4及
び短絡用配線6を含むものである。そして、相隣接する
電極群部5G間には空白部7が形成されており、この空
白部7は他の配線乃至回路パターン等が形成される領域
となっている。
The driver circuit shown by reference numeral 10 in FIG. 2 is TAB mounted in the driver circuit connecting portion 2a. The driver circuit 10 has an LS on the carrier film 11.
The I12 is mounted, and terminals (not shown) of the LSI 12 are connected to a predetermined number of leads 13 and 14 provided on the carrier film 11. Carrier film 11
The lead 13 on one side is connected to the electrode 5 provided on the driver circuit connecting portion 2 a of the lower substrate 2. This driver circuit 1
A plurality of 0s are connected on one side of the lower substrate 2. For this reason, the electrode 5 constitutes the electrode group portion 5G for every number connected to the driver circuit 10 for one electrode, and therefore the plurality of electrode group portions 5G are formed in the driver circuit connecting portion 2a. . Here, the electrode group portion 5G includes a predetermined number of electrodes 5, and wirings 4 and short-circuiting wirings 6 connected to these electrodes 5. A blank portion 7 is formed between the electrode group portions 5G adjacent to each other, and the blank portion 7 is a region where other wirings, circuit patterns and the like are formed.

【0016】下基板2に形成され、電極群部5Gを構成
する短絡用配線6はこの電極群部5Gを構成する全電極
5間を短絡させるものであり、さらに下基板2のエッジ
部分等に全ての短絡用配線6は相互に導通させている。
従って、短絡用配線6の導通部のいずれかの部位を接地
させるようにすれば、回路全体が接地されることにな
り、静電気に対するTFT等の回路素子の保護が図られ
る。そこで、下基板2にドライバ回路10を実装する前
の段階で、電極5と短絡用配線6との間の接続を遮断す
る処理が行われる。この処理は、電極群部5Gにおい
て、短絡用配線6における電極5への接続部の近傍位置
にレーザビームを照射して、例えば図2に切断領域8で
示したように、金属膜の細い線で形成した短絡用配線6
の一部を剥離させることによって、短絡用配線6の電極
5への接続を遮断する。
The short-circuit wiring 6 formed on the lower substrate 2 and constituting the electrode group portion 5G is for short-circuiting all the electrodes 5 constituting the electrode group portion 5G, and further at the edge portion of the lower substrate 2 and the like. All the short circuit wirings 6 are electrically connected to each other.
Therefore, if any part of the conductive portion of the short-circuit wiring 6 is grounded, the entire circuit is grounded, and circuit elements such as TFTs can be protected against static electricity. Therefore, before mounting the driver circuit 10 on the lower substrate 2, a process of disconnecting the connection between the electrode 5 and the short-circuit wiring 6 is performed. In this process, in the electrode group portion 5G, a laser beam is irradiated to a position in the short-circuiting wiring 6 in the vicinity of the connection portion to the electrode 5 and, for example, as shown in a cutting area 8 in FIG. Short circuit wiring 6 formed in
The connection of the short-circuit wiring 6 to the electrode 5 is cut off by peeling off a part of the.

【0017】以上の処理を行うために、図3に示した配
線パターン切断装置20が用いられる。まず、液晶パネ
ル1は、直進ガイド21に沿って図中に矢印方向に往復
移動可能な走行テーブル22上に真空吸着等の手段によ
り固定的に載置されている。この走行テーブル22によ
って、液晶パネル1は、位置決めステージS1と加工ス
テージS2との間に往復移動されるようになっている。
そして、走行テーブル22はX,Y,θ方向への位置微
調整機構23を有するものであり、この位置微調整機構
23により液晶パネル1の位置が調整される。
In order to perform the above processing, the wiring pattern cutting device 20 shown in FIG. 3 is used. First, the liquid crystal panel 1 is fixedly mounted by a means such as vacuum suction on a traveling table 22 that can reciprocate in the direction of the arrow along the straight guide 21 in the figure. The traveling table 22 causes the liquid crystal panel 1 to reciprocate between the positioning stage S1 and the processing stage S2.
The traveling table 22 has a position fine adjustment mechanism 23 in the X, Y, and θ directions, and the position fine adjustment mechanism 23 adjusts the position of the liquid crystal panel 1.

【0018】位置決めステージS1にはテレビカメラ2
4aを用いた画像認識手段24が設置されており、テレ
ビカメラ24aにより下基板2のコーナ部に設けたマー
ク9を検出して、このマーク9の画像認識手段24に設
定された基準位置と比較するようにしている。その結
果、走行テーブル22上に載置されている液晶パネル1
の基準となる位置からのずれを検出して、位置微調整機
構23を作動させることによって、走行テーブル22を
適宜X,Y,θ方向に位置調整を行うことによって、液
晶パネル1の下基板2が適正な位置になるように位置調
整されるようになっている。即ち、マーク9は、液晶パ
ネル1の位置検出用のマークである。
A TV camera 2 is mounted on the positioning stage S1.
The image recognition means 24 using 4a is installed, the mark 9 provided on the corner portion of the lower substrate 2 is detected by the television camera 24a, and the mark 9 is compared with the reference position set in the image recognition means 24. I am trying to do it. As a result, the liquid crystal panel 1 mounted on the traveling table 22.
Of the lower substrate 2 of the liquid crystal panel 1 by detecting the deviation from the position serving as the reference and operating the position fine adjustment mechanism 23 to appropriately adjust the position of the traveling table 22 in the X, Y, and θ directions. The position is adjusted so that the position is appropriate. That is, the mark 9 is a mark for detecting the position of the liquid crystal panel 1.

【0019】加工ステージS2においては、走行テーブ
ル22の走行経路の上部位置にレーザビーム照射手段2
5が設けられている。このレーザビーム照射手段25
は、レーザ発振器26と、このレーザ発振器26からの
レーザビームを平行光束化するエキスパンダレンズ27
と、レーザビームの光路を90°曲げるための反射ミラ
ー28と、集光レンズ29とから構成される。従って、
レーザビーム照射手段25から下基板2の表面に対して
所定のスポット径となるようにレーザビームが照射さ
れ、下基板2に形成されている金属薄膜が剥離して除去
されることになる。これによって、短絡用配線6が部分
的に切断されて、電極5との導通が遮断されることにな
る。
In the processing stage S2, the laser beam irradiation means 2 is placed at a position above the traveling path of the traveling table 22.
5 are provided. This laser beam irradiation means 25
Is a laser oscillator 26 and an expander lens 27 for collimating a laser beam from the laser oscillator 26.
A reflecting mirror 28 for bending the optical path of the laser beam by 90 °, and a condenser lens 29. Therefore,
The laser beam irradiating means 25 irradiates the surface of the lower substrate 2 with a laser beam so as to have a predetermined spot diameter, and the metal thin film formed on the lower substrate 2 is peeled and removed. As a result, the short-circuit wiring 6 is partially cut off, and the conduction with the electrode 5 is cut off.

【0020】レーザビームは、電極5と短絡用配線6と
の接続部分に照射されるが、空白領域7に対してはレー
ザビームが照射されないように制御する。つまり、走行
テーブル22により液晶パネル1が走行する間に、レー
ザビーム照射手段25から間欠的にレーザビームが照射
される。このために、レーザ発振器26にはスイッチ3
0が設けられている。このスイッチ30は、例えばQス
イッチ等で構成することができ、このスイッチ30をO
N,OFF制御することによって、下基板2のうち、電
極5と短絡用配線6との接続部分にのみレーザビームを
照射させ、空白領域7に対してはレーザビームの照射を
停止するように制御される。
The laser beam is applied to the connecting portion between the electrode 5 and the short-circuiting wiring 6, but the blank area 7 is controlled not to be irradiated with the laser beam. That is, while the liquid crystal panel 1 travels on the travel table 22, the laser beam irradiation means 25 intermittently irradiates the laser beam. For this purpose, the laser oscillator 26 has a switch 3
0 is provided. The switch 30 can be configured by, for example, a Q switch, and the switch 30 is an O switch.
By controlling the N and OFF, the lower substrate 2 is irradiated with the laser beam only on the connecting portion between the electrode 5 and the short-circuiting wiring 6, and the blank region 7 is controlled to be stopped. To be done.

【0021】レーザ発振器26の作動制御は座標情報に
基づいて行われる。このために、座標設定部31を有す
る。座標設定部31は、図4に示したように、走行テー
ブル22の走行方向、例えばX軸方向において、液晶パ
ネル1が基準位置に配置されている時に、レーザビーム
照射位置Sを原点位置として、この原点位置から下基板
2における電極群部5Gの位置までの距離が座標データ
として記録されている。即ち、下基板2のドライバ回路
接続部2aにおいて、各電極群部5Gの始点の座標位置
情報がP1H,P2H,P3H,・・・PnHとして、
また終点の座標位置情報がP1L,P2L,P3L,・
・・PnLとして記録されている。なお、下基板2の各
ドライバ回路接続部2aにおける電極群部5Gの間隔は
一定であるから、記録される座標位置としては電極群部
5Gの始点座標位置のみとすることもできる。
The operation control of the laser oscillator 26 is performed based on the coordinate information. For this purpose, the coordinate setting unit 31 is provided. As shown in FIG. 4, the coordinate setting unit 31 sets the laser beam irradiation position S as the origin position when the liquid crystal panel 1 is arranged at the reference position in the traveling direction of the traveling table 22, for example, the X-axis direction. The distance from the origin position to the position of the electrode group portion 5G on the lower substrate 2 is recorded as coordinate data. That is, in the driver circuit connection portion 2a of the lower substrate 2, the coordinate position information of the starting point of each electrode group portion 5G is P1H, P2H, P3H, ... PnH,
Also, the coordinate position information of the end point is P1L, P2L, P3L, ...
..Recorded as PnL. Since the interval between the electrode group parts 5G in each driver circuit connection part 2a of the lower substrate 2 is constant, the coordinate position to be recorded may be only the starting point coordinate position of the electrode group part 5G.

【0022】下基板2の基準位置は、この下基板2に設
けられているマーク9に基づいて設定される。即ち、テ
レビカメラ24aにより下基板2のマーク9を撮影し
て、画像認識手段24に取り込まれ、このマーク9が所
定の基準位置となるように走行テーブル22を設けた位
置微調整機構23を作動させて、その位置調整が行われ
る。このようにして調整された位置が基準位置となる。
従って、画像認識手段24は下基板2の基準位置検出手
段としても機能する。
The reference position of the lower substrate 2 is set based on the mark 9 provided on the lower substrate 2. That is, the television camera 24a captures an image of the mark 9 on the lower substrate 2, the image is recognized by the image recognition means 24, and the position fine adjustment mechanism 23 provided with the traveling table 22 is operated so that the mark 9 becomes a predetermined reference position. Then, the position adjustment is performed. The position adjusted in this way becomes the reference position.
Therefore, the image recognition means 24 also functions as a reference position detection means for the lower substrate 2.

【0023】下基板2における各電極群5Gが原点位置
に移行する毎にレーザ発振器26からのレーザビームの
照射及び照射停止を行うために、下基板2の走行距離を
計測する手段が設けられる。この走行距離計測手段は、
走行テーブル22に設けたエンコーダ32とカウンタ3
3とから構成される。エンコーダ32は、走行テーブル
22が所定距離走行する毎に刻々パルス信号を出力する
ものであり、このエンコーダ32からのパルス信号はカ
ウンタ33により計測される。そして、カウンタ33は
下基板2が基準位置に配置されるとリセットされ、この
状態からエンコーダ32からのパルス信号をカウンタ3
3に取り込んで、リセット状態からパルス数を計測する
ことによって、下基板2の移動距離を測定する。
A means for measuring the traveling distance of the lower substrate 2 is provided in order to irradiate the laser beam from the laser oscillator 26 and stop the irradiation each time each electrode group 5G on the lower substrate 2 moves to the origin position. This mileage measuring means,
Encoder 32 and counter 3 provided on the traveling table 22
3 and 3. The encoder 32 outputs a pulse signal every time the traveling table 22 travels a predetermined distance, and the pulse signal from the encoder 32 is measured by the counter 33. Then, the counter 33 is reset when the lower substrate 2 is placed at the reference position, and in this state, the pulse signal from the encoder 32 is transferred to the counter 3
3, the moving distance of the lower substrate 2 is measured by measuring the number of pulses from the reset state.

【0024】カウンタ33の計測値、つまり下基板2の
移動距離は比較器34により座標設定部31に記録され
ている座標情報と比較される。座標設定部31には各電
極群部5Gの始点座標位置P1H,P2H,P3H,・
・・PnHと、終点座標位置P1L,P2L,P3L,
・・・PnLとが設定されている。そして、座標設定部
31における座標情報出力部31aから座標位置情報P
1H,P1L,P2H,P2L,P3H,P3L,・・
・PnH,PnLを順次読み出して、カウンタ33の計
測値と逐次比較して、両者が一致する毎にレーザ発振器
26のスイッチ30をON,OFFさせることによっ
て、レーザビームを下基板2に照射したり、照射を停止
するように制御することによって、短絡用配線6の電極
群部5Gを構成する電極5への接続部分を剥離するよう
にして切断し、空白部7の位置ではレーザビームの照射
を停止する。
The measured value of the counter 33, that is, the moving distance of the lower substrate 2 is compared with the coordinate information recorded in the coordinate setting section 31 by the comparator 34. The coordinate setting unit 31 includes start point coordinate positions P1H, P2H, P3H, ...
..PnH and end point coordinate positions P1L, P2L, P3L,
... PnL is set. Then, the coordinate position information P from the coordinate information output unit 31a in the coordinate setting unit 31.
1H, P1L, P2H, P2L, P3H, P3L, ...
-PnH and PnL are sequentially read out and sequentially compared with the measured value of the counter 33, and the laser beam is irradiated to the lower substrate 2 by turning on and off the switch 30 of the laser oscillator 26 each time they match. By controlling so as to stop the irradiation, the connecting portion of the short-circuiting wiring 6 to the electrode 5 forming the electrode group portion 5G is cut off so as to be peeled off, and the laser beam irradiation is performed at the position of the blank portion 7. Stop.

【0025】ここで、座標設定部31における各座標位
置の設定、カウンタ33の作動、走行テーブル22の走
行等を含めて、装置全体の作動は制御回路35からの信
号に基づいて行われる。この制御回路35はCPU等で
構成される。
Here, the operation of the entire apparatus including the setting of each coordinate position in the coordinate setting section 31, the operation of the counter 33, the traveling of the traveling table 22 and the like is performed based on the signal from the control circuit 35. The control circuit 35 is composed of a CPU and the like.

【0026】以上のように構成することによって、走行
テーブル22を直進方向に高速で走行させる間に、液晶
パネル1における下基板2の各ドライバ回路接続部2a
に形成されている各電極群部5Gにおいて、電極5に接
続した短絡用配線6を確実に切断し、しかも電極群部5
G,5G間の空白部7には何等のダメージを与えないよ
うにすることができる。そこで、以下に、この短絡用配
線6を切断する方法を説明する。
With the above structure, each driver circuit connecting portion 2a of the lower substrate 2 of the liquid crystal panel 1 is provided while the traveling table 22 is traveling straight at a high speed.
In each of the electrode group portions 5G formed in the above, the short-circuit wiring 6 connected to the electrodes 5 is surely cut, and
It is possible not to give any damage to the blank portion 7 between G and 5G. Therefore, a method of cutting the short circuit wiring 6 will be described below.

【0027】まず、座標設定部31において、各電極群
部5Gの始点の座標位置情報と終点の座標位置情報を取
得する。このために、レーザビームの照射位置の上方、
つまり反射ミラー28の配設位置の上部位置に第2のテ
レビカメラ36を設置しておき、この第2のテレビカメ
ラ36により電極群部5Gを撮影できるようにする。そ
して、反射ミラー28を光路から外して、レーザビーム
の照射位置を第2のテレビカメラ38の視野に入れる状
態にする。一方、走行テーブル22を位置決めステージ
S1に配置して、液晶パネル1をこの走行テーブル22
上に載置し、画像認識手段24を構成するテレビカメラ
24aにより下基板2のマーク9を撮影する。そして、
画像認識手段24によりマーク9が基準位置からずれて
いると、位置微調整機構23を作動させて位置調整を行
う。この位置調整が完了すると、走行テーブル22によ
り液晶パネル1を走行させ、この走行テーブル22の走
行距離をエンコーダ32からの信号により計測する。
First, the coordinate setting section 31 acquires the coordinate position information of the start point and the coordinate position information of the end point of each electrode group portion 5G. For this purpose, above the irradiation position of the laser beam,
That is, the second television camera 36 is installed at a position above the position where the reflection mirror 28 is arranged, and the second television camera 36 can photograph the electrode group portion 5G. Then, the reflection mirror 28 is removed from the optical path to bring the irradiation position of the laser beam into the visual field of the second television camera 38. On the other hand, the traveling table 22 is arranged on the positioning stage S1, and the liquid crystal panel 1 is mounted on the traveling table 22.
The mark 9 on the lower substrate 2 is photographed by the television camera 24a which is placed on the top and constitutes the image recognition means 24. And
When the mark 9 is deviated from the reference position by the image recognition means 24, the position fine adjustment mechanism 23 is operated to adjust the position. When this position adjustment is completed, the liquid crystal panel 1 is caused to travel by the travel table 22, and the travel distance of the travel table 22 is measured by the signal from the encoder 32.

【0028】走行テーブル22が所定距離だけ走行する
と、下基板2における最初の電極群部5Gが第2のテレ
ビカメラ36の視野における所定の位置に入ることにな
る。そこで、この時までの走行テーブル22の走行距離
をレーザビームの照射位置を原点とするX軸上の座標位
置P1Hとして座標設定部31に記録する。また、下基
板2の最初の電極群部5Gが通過する位置が第2のテレ
ビカメラ36の視野に入るので、この位置までの距離を
座標位置P1Lとして座標設定部31に記録する。以
下、順次電極群部5Gの始点及び終点の位置が検出され
る毎に座標設定部31に記録する。このようにして各電
極群部5Gの座標位置を取得するが、これによりテレビ
カメラ24aの位置で下基板2のマーク9が基準となる
位置に配置されておれば、下基板2における短絡用配線
6の切断位置は必ずレーザビームの照射位置を通ること
になる。以上のようにして座標設定部31に各電極群部
5Gの座標位置の設定・記録がなされると、反射ミラー
28を正規の位置に戻す。
When the traveling table 22 travels for a predetermined distance, the first electrode group portion 5G on the lower substrate 2 comes into a predetermined position in the visual field of the second television camera 36. Therefore, the traveling distance of the traveling table 22 up to this time is recorded in the coordinate setting unit 31 as the coordinate position P1H on the X axis with the irradiation position of the laser beam as the origin. Further, since the position where the first electrode group portion 5G of the lower substrate 2 passes is within the visual field of the second television camera 36, the distance to this position is recorded in the coordinate setting unit 31 as the coordinate position P1L. Hereinafter, each time the position of the start point and the end point of the electrode group portion 5G is detected, it is recorded in the coordinate setting unit 31. In this way, the coordinate position of each electrode group portion 5G is acquired. As a result, if the mark 9 on the lower substrate 2 is located at the reference position at the position of the television camera 24a, the short-circuit wiring on the lower substrate 2 is obtained. The cutting position 6 always passes through the irradiation position of the laser beam. When the coordinate setting unit 31 sets and records the coordinate position of each electrode group 5G as described above, the reflecting mirror 28 is returned to the normal position.

【0029】そこで、走行テーブル22を位置決めステ
ージS1に配置して、この走行テーブル22に液晶パネ
ル1を載置する。この液晶パネル1の載置は、ロボット
等のハンドリング手段により行うことができ、下基板2
を走行テーブル22に当接させるようになし、この走行
テーブル22により下基板2を真空吸着させる等により
固定する。
Therefore, the traveling table 22 is arranged on the positioning stage S1, and the liquid crystal panel 1 is mounted on the traveling table 22. The liquid crystal panel 1 can be placed by a handling means such as a robot, and the lower substrate 2
Are brought into contact with the traveling table 22, and the lower substrate 2 is fixed by vacuum adsorption or the like by the traveling table 22.

【0030】この状態で、テレビカメラ24aを備えた
画像認識手段24によって、マーク9に基づいて下基板
2の位置を検出し、マーク9が基準位置からずれている
と、位置微調整機構23を作動させて、走行テーブル2
2の位置調整を行う。この位置調整が完了すると、走行
テーブル22を位置決めステージS1から加工ステージ
S2に向けて移動させる。この移動距離はエンコーダ3
2及びカウンタ33からなる走行距離計測手段により計
測される。この時に、座標設定部31における座標情報
出力部31aから最初の始点座標位置P1Hが読み出さ
れて、比較器34において、カウンタ33による検出信
号と比較される。そして、走行テーブル22が、原点位
置からその下基板2の最初の始点座標位置P1Hまでの
距離だけ移動すると、スイッチ30がONの状態にな
り、レーザ発振器26からレーザビームの照射を開始す
る。これによって、電極群部5Gにおける短絡用配線6
の電極5への接続部がレーザビームのエネルギにより切
断される。
In this state, the image recognition means 24 equipped with the television camera 24a detects the position of the lower substrate 2 based on the mark 9, and when the mark 9 deviates from the reference position, the fine position adjustment mechanism 23 is activated. Operate and run table 2
Adjust position 2. When this position adjustment is completed, the traveling table 22 is moved from the positioning stage S1 toward the processing stage S2. This moving distance is encoder 3
2 and a counter 33 for measuring the travel distance. At this time, the first starting point coordinate position P1H is read from the coordinate information output unit 31a in the coordinate setting unit 31 and compared with the detection signal from the counter 33 in the comparator 34. Then, when the traveling table 22 moves by the distance from the origin position to the first starting point coordinate position P1H of the lower substrate 2, the switch 30 is turned on, and the laser oscillator 26 starts irradiation of the laser beam. As a result, the short-circuit wiring 6 in the electrode group portion 5G
The connection of the electrode to the electrode 5 is cut by the energy of the laser beam.

【0031】比較器34からスイッチ30にレーザ発振
器26のレーザビーム照射開始信号が出力されると、座
標情報出力部31aから次の座標位置情報、つまり最初
の終点座標位置P1Lが比較器34に出力されて、カウ
ンタ33からの出力と比較される。そして、カウンタ3
3による下基板2の移動が座標位置P1Lとなるまで
は、つまり電極群部5Gがレーザビームの照射位置に配
置されている間はレーザ発振器26からレーザビームの
照射が継続する。そして、比較器34において基板2が
終点座標位置P1Lまで進行したことを検出した時に
は、スイッチ30に信号が入力されて、スイッチ30を
OFFの状態にする。これによって、当該の電極群部5
Gにおける全ての電極5が短絡用配線6から切断され
る。
When the laser beam irradiation start signal of the laser oscillator 26 is output from the comparator 34 to the switch 30, the coordinate information output section 31a outputs the next coordinate position information, that is, the first end point coordinate position P1L to the comparator 34. And is compared with the output from the counter 33. And counter 3
Irradiation of the laser beam from the laser oscillator 26 continues until the movement of the lower substrate 2 by 3 reaches the coordinate position P1L, that is, while the electrode group portion 5G is arranged at the irradiation position of the laser beam. Then, when the comparator 34 detects that the substrate 2 has advanced to the end point coordinate position P1L, a signal is input to the switch 30 and the switch 30 is turned off. As a result, the relevant electrode group portion 5
All the electrodes 5 in G are disconnected from the short-circuit wiring 6.

【0032】スイッチ30のOFFによって、下基板2
へのレーザビームの照射が停止されるが、この間は下基
板2における空白部7がレーザビーム照射位置を通って
いるのである。従って、空白部7にはレーザビームが照
射されることはない。その結果、空白部7に他のパター
ン等が設けられている場合に、このパターン等がレーザ
ビームによるダメージを受けることはない。
When the switch 30 is turned off, the lower substrate 2
The irradiation of the laser beam to the laser beam is stopped, but during this period, the blank portion 7 in the lower substrate 2 passes through the laser beam irradiation position. Therefore, the blank portion 7 is not irradiated with the laser beam. As a result, when the blank portion 7 is provided with another pattern or the like, the pattern or the like is not damaged by the laser beam.

【0033】そして、比較器34で下基板2が終点座標
位置P1Lにまで進行したことが検出され、スイッチ3
0がOFFの状態になると、次の座標情報、つまり2番
目の始点座標位置P2Hが座標情報出力部31aから読
み出されて、これがカウンタ33の出力値と比較され
る。そして、下基板2の2番目の始点座標位置P2Hが
レーザビームの照射位置に到達すると、スイッチ30が
再びONの状態になり、レーザビームの照射が開始され
る。以下、座標設定部31に記録されている座標位置情
報が座標情報出力部31aから読み出されて、比較器3
4においてカウンタ33の出力値と順次比較されて、ス
イッチ30のON,OFF制御が行われる。
Then, the comparator 34 detects that the lower substrate 2 has reached the end point coordinate position P1L, and the switch 3
When 0 is turned off, the next coordinate information, that is, the second starting point coordinate position P2H is read from the coordinate information output unit 31a and compared with the output value of the counter 33. Then, when the second starting point coordinate position P2H of the lower substrate 2 reaches the laser beam irradiation position, the switch 30 is turned on again, and the laser beam irradiation is started. Hereinafter, the coordinate position information recorded in the coordinate setting unit 31 is read from the coordinate information output unit 31a, and the comparator 3
In 4, the output value of the counter 33 is sequentially compared and ON / OFF control of the switch 30 is performed.

【0034】その結果、下基板2のドライバ回路接続部
2aに設けた全ての電極群部5Gにおいて、短絡用配線
6の電極5への接続部分が切断されることになり、しか
も電極群部5Gが形成されていない空白部7ではレーザ
ビームの照射が停止されるように、レーザ発振器26に
よるレーザビームの照射が間欠的に行われる。
As a result, in all of the electrode group parts 5G provided in the driver circuit connecting part 2a of the lower substrate 2, the connecting parts of the short-circuit wiring 6 to the electrodes 5 are cut off, and moreover, the electrode group part 5G. Irradiation of the laser beam by the laser oscillator 26 is intermittently performed so that the irradiation of the laser beam is stopped in the blank portion 7 where no mark is formed.

【0035】[0035]

【発明の効果】本発明は以上のように構成したので、基
板を高速で走行させる間に、この基板の表面に形成され
ている配線パターンをレーザビームにより正確に切断で
き、かつ配線パターンが形成されていない部分には確実
にレーザビームが照射されないように制御できる等の効
果を奏する。
Since the present invention is constructed as described above, the wiring pattern formed on the surface of the substrate can be accurately cut by the laser beam while the substrate is traveling at a high speed, and the wiring pattern is formed. There is an effect that it is possible to control so as not to irradiate the laser beam to the unexposed portion.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】処理・加工される基板の一例としての液晶パネ
ルの平面図である。
FIG. 1 is a plan view of a liquid crystal panel as an example of a substrate to be processed / processed.

【図2】液晶パネルに実装されるドライバ回路の一例と
共に示す図1の要部拡大図である。
FIG. 2 is an enlarged view of a main part of FIG. 1 together with an example of a driver circuit mounted on a liquid crystal panel.

【図3】本発明における実施の一形態を示す基板の配線
パターン切断装置の構成説明図である。
FIG. 3 is a configuration explanatory diagram of a wiring pattern cutting device for a substrate, showing an embodiment of the present invention.

【図4】下基板における各電極群部の座標位置について
の説明図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram of coordinate positions of each electrode group portion on the lower substrate.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 液晶パネル 2 下基板 3 上基板 5G 電極群部 5 電極 6 短絡用配線 7 空白部 8 切断領域 9 マーク 20 配線パターン切断装置 21 直進ガイド 22 走行テーブル 23 位置微調整機構 24 画像認識手段 24a テレビカメラ 25 レーザビーム照射手段 26 レーザ発振器 30 スイッチ 31 座標設定部 31a 座標情報出力部 32 エンコーダ 33 カウンタ 34 比較器 35 制御回路 1 LCD panel 2 Lower substrate 3 Upper substrate 5G electrode group 5 electrodes 6 short circuit wiring 7 Blank area 8 Cutting area 9 mark 20 Wiring pattern cutting device 21 Straight ahead guide 22 Travel table 23 Position fine adjustment mechanism 24 image recognition means 24a TV camera 25 Laser beam irradiation means 26 Laser oscillator 30 Switch 31 Coordinate setting section 31a Coordinate information output unit 32 encoder 33 counter 34 comparator 35 control circuit

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 所定数の電極を群として、複数の電極群
が形成されると共に、これら各電極群に接続した配線パ
ターンを設けた基板に、前記配線パターンの前記各電極
群への接続部にレーザビームを照射して、前記配線パタ
ーンと電極との間を部分的に切断する方法であって、 前記基板を走行テーブル上に載置して、この走行テーブ
ルを一定の速度で直進方向に連続走行させるようにな
し、 前記走行テーブル上に載置された基板の基準位置を検出
し、 前記電極群の形成間隔にはレーザビームを照射し、相隣
接する電極群間間隔ではレーザビームを照射しないよう
にするために、前記基準位置から、前記走行テーブルの
走行中にレーザビームの照射位置と非照射位置との座標
を設定し、この座標位置信号により各電極群形成間隔の
配線パターンに間欠的にレーザビームを照射することを
特徴とする基板の配線パターン切断方法。
1. A substrate, on which a plurality of electrode groups are formed with a predetermined number of electrodes as a group, and a wiring pattern connected to each of these electrode groups is provided on a substrate, the connection portion of the wiring pattern to each of the electrode groups. Is a method of partially cutting the space between the wiring pattern and the electrodes by irradiating the substrate with a laser beam on the traveling table, and the traveling table is moved straight at a constant speed. It is made to run continuously, the reference position of the substrate placed on the running table is detected, a laser beam is irradiated at the formation interval of the electrode groups, and a laser beam is irradiated at the interval between adjacent electrode groups. In order not to do so, the coordinates of the irradiation position and the non-irradiation position of the laser beam are set from the reference position during traveling of the traveling table, and the wiring pattern of each electrode group forming interval is set by this coordinate position signal. A method for cutting a wiring pattern on a substrate, which comprises intermittently irradiating a laser beam.
【請求項2】 所定数の電極を群として、複数の電極群
が形成されると共に、これら各電極群に接続した配線パ
ターンを設けた基板に、前記配線パターンの前記各電極
群への接続部にレーザビームを照射して、前記配線パタ
ーンを部分的に切断する装置であって、 基板が載置されて、一定の速度で直進方向に連続走行す
る走行テーブルと、 前記走行テーブル上に載置された基板の基準位置を検出
する基準位置検出手段と、 前記走行テーブルの走行距離を計測する走行距離計測手
段と、 前記基板の前記配線パターンに対してレーザビームを照
射するためのレーザビーム照射手段と、 前記基準位置からの前記電極群の位置の座標を設定する
座標設定手段と、 前記電極群の形成間隔に対してレーザビームを照射し、
相隣接する電極群間隔ではレーザビームを照射しないよ
うに、前記レーザビーム照射手段を間欠照射するよに制
御する制御手段とを備え、 この制御手段では、前記基準位置検出手段からの検出信
号と、前記走行距離測定手段からレーザビームの照射位
置までの走行テーブルの走行距離から、前記電極群の始
端部の座標位置で前記レーザビーム照射手段によるレー
ザビームの照射を開始し、電極群の終端部の座標位置で
レーザビームの照射を停止するように制御する構成とし
たことを特徴とする基板の配線パターン切断装置。
2. A plurality of electrode groups are formed with a predetermined number of electrodes as a group, and a connection portion of the wiring pattern to each of the electrode groups is formed on a substrate provided with a wiring pattern connected to each of the electrode groups. An apparatus for irradiating a laser beam on a part of the wiring pattern to partially cut the wiring pattern, wherein a substrate is placed, and the traveling table continuously travels in a straight direction at a constant speed; Position detecting means for detecting the reference position of the printed board, running distance measuring means for measuring the running distance of the running table, and laser beam irradiating means for irradiating the wiring pattern of the board with a laser beam. A coordinate setting means for setting the coordinates of the position of the electrode group from the reference position, and irradiating a laser beam to the formation interval of the electrode group,
In order not to irradiate the laser beam at the interval between adjacent electrode groups, a control means for controlling the laser beam irradiation means to intermittently irradiate is provided, and in this control means, a detection signal from the reference position detection means, From the traveling distance of the traveling table from the traveling distance measuring means to the irradiation position of the laser beam, irradiation of the laser beam by the laser beam irradiation means is started at the coordinate position of the starting end portion of the electrode group, and the end portion of the electrode group is A wiring pattern cutting device for a substrate, characterized in that the laser beam irradiation is controlled to stop at a coordinate position.
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