JP3140349B2 - Positioning device for rectangular substrates - Google Patents

Positioning device for rectangular substrates

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JP3140349B2
JP3140349B2 JP07272024A JP27202495A JP3140349B2 JP 3140349 B2 JP3140349 B2 JP 3140349B2 JP 07272024 A JP07272024 A JP 07272024A JP 27202495 A JP27202495 A JP 27202495A JP 3140349 B2 JP3140349 B2 JP 3140349B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、矩形基板の位置
決め装置に関し、詳しくは、非接触状態で大型液晶パネ
ルの位置決めができるような位置決め装置に関する。
The present invention relates to a positioning device for a rectangular substrate, and more particularly to a positioning device capable of positioning a large liquid crystal panel in a non-contact state.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶パネルは技術の進歩により、大型の
ものが開発されて各方面に多用されている。液晶パネル
(以下単にLCDパネルという)は、表面に微小な画素
がマトリックス状に形成されたもので、露光装置により
ガラス基板上に薄膜トランジスタや、抵抗、コンデン
サ、画素電極などのパターンが形成され、各パターンが
形成された段階で検査装置により検査される。露光装置
や検査装置には、LCDパネルやガラス基板を載置する
チャックテーブルが設けられていて、これによりLCD
パネル1を吸着して保持する。このチャックテーブルの
下側にはX,Y,Z移動機構が設けられ、チャックテー
ブルの上方には露光装置では露光光学系が、検査装置で
は検査光学系ががそれぞれ設けられている。そして、こ
れら光学系の中心位置にLCDパネル1の中心が一致す
るようにLCDパネルが位置決めされる。また、これら
とは別に制御系としてチャックテーブルを移動制御する
制御系がある。
2. Description of the Related Art With the advance of technology, large liquid crystal panels have been developed and widely used in various fields. A liquid crystal panel (hereinafter simply referred to as an LCD panel) is a device in which minute pixels are formed in a matrix on the surface. A pattern such as a thin film transistor, a resistor, a capacitor, and a pixel electrode is formed on a glass substrate by an exposure apparatus. At the stage when the pattern is formed, inspection is performed by the inspection device. An exposure apparatus and an inspection apparatus are provided with a chuck table on which an LCD panel and a glass substrate are placed.
The panel 1 is sucked and held. An X, Y, and Z moving mechanism is provided below the chuck table. An exposure optical system is provided in the exposure apparatus above the chuck table, and an inspection optical system is provided in the inspection apparatus. The LCD panel is positioned such that the center of the LCD panel 1 matches the center position of these optical systems. In addition to these, there is a control system for controlling the movement of the chuck table as a control system.

【0003】大型LCDパネルは、縦横の寸法は、例え
ば300mm,400mmの方形をなし、その厚さdは
約1mm程度である。LCDパネルは、基本的にはガラ
ス基板をベースとし、TFTLCDパネルでは、その表
面に対してフォトリソグラフ法により、前記した薄膜ト
ランジスタや、抵抗、コンデンサ、画素電極などよりな
るパターンが形成される。なお、ここでは、パターン形
成以前のガラス基板も含めて、説明の都合上、LCDパ
ネルをもって代表し、説明する。
A large LCD panel has a vertical and horizontal dimension of, for example, 300 mm or 400 mm, and a thickness d of about 1 mm. The LCD panel is basically based on a glass substrate. In the case of a TFT LCD panel, a pattern including the above-described thin film transistor, a resistor, a capacitor, a pixel electrode, and the like is formed on the surface of the panel by a photolithographic method. Here, for convenience of explanation, including the glass substrate before pattern formation, an LCD panel will be described as a representative.

【0004】図5は、従来の露光ステージあるいは検査
ステージのチャックテーブルを中心とした平面図であっ
て、LCDパネル1がチャックテーブル2に載置され、
周囲にはLCDパネル1に対する位置決め機構5が設け
られている。LCDパネル1の2長辺を1A,1B、2
短辺を1C,1Dとし、長辺をX方向、短辺をY方向と
して載置されたとする。長辺1Aに対して、それぞれス
トッパSta,Stbを有する位置決めエアシリンダ5a ,
5b が、また、長辺1Bに対して押圧エアシリンダ5c
,5d がそれぞれ配設される。エアシリンダ5a ,5c
、および5b と5d とは、それぞれY方向の作用線C1
,C2 上にあり、これらの押圧力または反力に対する
LCDパネル1の作用点は、pa ,pc 、およびpb
d である。一方、短辺1C,1Dに対して、ストッパ
Steを有する位置決めエアシリンダ5e と押圧エアシリ
ンダ5f とが、X方向の作用線C3 上にそれぞれ配設さ
れ、力の作用点はpe ,pf である。
FIG. 5 is a plan view centering on a chuck table of a conventional exposure stage or inspection stage. An LCD panel 1 is mounted on a chuck table 2.
A positioning mechanism 5 for the LCD panel 1 is provided around the periphery. The two long sides of the LCD panel 1 are 1A, 1B, 2
Suppose that the short side is 1C and 1D, the long side is placed in the X direction, and the short side is placed in the Y direction. To the long side 1A, positioning air cylinder 5a, each having a stopper St a, the St b,
5b is a pressing air cylinder 5c against the long side 1B.
, 5d are provided respectively. Air cylinder 5a, 5c
, And 5b and 5d respectively have an action line C 1 in the Y direction.
, Is on C 2, the point of application of the LCD panel 1 against these pressing force or reaction force, p a, p c, and p b,
p d . On the other hand, the short side 1C, relative to 1D, a positioning air cylinder 5e and pressing air cylinder 5f having a stopper St e are each disposed on a line of action C 3 in the X direction, the point of application of force p e, it is a p f.

【0005】LCDパネルの位置決めにおいては、ま
ず、各エアシリンダ5a 〜5f を反対方向に動作してそ
れぞれの押圧棒(位置決めピン)51を待避し、ついで
LCDパネル1を図示しないハンドリング機構により搬
送して、載置台2のおよその位置に載置する。ここで、
各位置決めエアシリンダ5a ,5b および5e を動作す
ると各位置決めピン51が移動し、それぞれの先端がス
トッパSta,Stb,Steにより一定の位置決め位置に停
止する。ついで各押圧エアシリンダ5c ,5d および5
f の動作により、それぞれの位置決めピン51が長辺1
Bと短辺1Dの作用点pc ,pd ,pf を押圧し、LC
Dパネル1は移動して図示の状態に位置決めされるもの
である。なお、特に露光時における光学系の中心に対す
るLCDパネルの中心の位置決めは、プリアライメント
と呼ばれ、より正確な位置決めは、この中心位置決めが
完了した後にLCDパネル上1に形成された位置合わせ
マークを参照して行われる。
In positioning the LCD panel, first, the air cylinders 5a to 5f are operated in opposite directions to retract the pressing rods (positioning pins) 51, and then the LCD panel 1 is transported by a handling mechanism (not shown). Then, it is mounted on the mounting table 2 at an approximate position. here,
Each positioning air cylinder 5a, when operated 5b and 5e moves the positioning pins 51, each of the tip stopper St a, St b, stopped by St e in a fixed position for positioning. Then, each pressing air cylinder 5c, 5d and 5
By the operation of f, each positioning pin 51 is moved to the long side 1
The point p c of B and short 1D, p d, a p f pressed, LC
The D panel 1 moves and is positioned in the state shown in the figure. In particular, the positioning of the center of the LCD panel with respect to the center of the optical system at the time of exposure is called pre-alignment, and more accurate positioning is performed by aligning the alignment mark formed on the LCD panel 1 after the center positioning is completed. Done with reference.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】さて、上記のチャック
テーブル2の表面は、検査あるいは露光の光学系4に対
する合焦上必要なために、極めて平坦かつ平滑とされて
いる。これに対して、大型LCDパネル1は前記したよ
うに面積が大きい割に厚さdが薄いため、チャックテー
ブル2に載置されたときこれに密着し、両者間にはかな
り大きい摩擦抵抗が生ずる。いま、LCDパネル1がX
Y方向に対して角度ずれして載置されたとすると、この
摩擦抵抗のためにLCDパネル1は移動せず、従って角
度ズレが補正されない。この点を図6により説明する。
図6において、LCDパネル1が右側に傾斜して載置さ
れたとする。まず、各位置決めエアシリンダ5a ,5b
,5e を動作すると、それぞれの位置決めピン51の
先端が位置決め位置に停止する。ついで各押圧エアシリ
ンダ5c ,5d ,5f の動作により、LCDパネル1は
作用点pc ,pd ,pf が押圧されて移動し、作用点p
a ,pe が位置決めピン51に接触して停止する。しか
し、摩擦抵抗が大きいためにLCDパネル1は回転せ
ず、従って作用点pb が離間した図示の状態となる。す
なわち角度ズレδθは補正されない。上記はLCDパネ
ル1が右側に傾斜した場合であるが、左側に傾斜した場
合も上記と同様に角度ズレは補正されない。
The surface of the chuck table 2 is extremely flat and smooth because it is necessary for focusing on the optical system 4 for inspection or exposure. On the other hand, since the large LCD panel 1 has a small thickness d in spite of its large area as described above, the large LCD panel 1 comes into close contact with the chuck table 2 when it is placed on the chuck table 2, and a considerably large frictional resistance is generated between the two. . Now, the LCD panel 1 is X
Assuming that the LCD panel 1 is placed with an angle shift with respect to the Y direction, the LCD panel 1 does not move due to the frictional resistance, and thus the angle shift is not corrected. This will be described with reference to FIG.
In FIG. 6, it is assumed that the LCD panel 1 is mounted to be inclined rightward. First, each positioning air cylinder 5a, 5b
, 5e, the tip of each positioning pin 51 stops at the positioning position. Then the pressing air cylinder 5c, 5d, the operation of 5f, LCD panel 1 is the point p c, p d, p f is moved by being pressed, the point p
a, p e is stopped in contact with the positioning pin 51. However, LCD panel 1 because the frictional resistance is large is not rotated, thus the state shown in which the point p b is separated. That is, the angle deviation δθ is not corrected. The above is the case where the LCD panel 1 is tilted to the right. However, when the LCD panel 1 is tilted to the left, the angle shift is not corrected in the same manner as described above.

【0007】さらに、位置決めピン51をLCDパネル
1の端面に接触させる関係で、エッジ付近のレジストが
はがれ、あるいは、端部にチッピング(欠け)が発生す
る。レジストのはがれは、発塵の原因になり、チッピン
グは不良発生の要因になる。この発明の目的は、このよ
うな従来技術の問題点を解決するものであって、非接触
でLCDパネル等の矩形基板の位置決めができる矩形基
板の位置決め装置を提供することにある。
Further, the resist near the edge is peeled off, or chipping occurs at the end due to the contact of the positioning pin 51 with the end face of the LCD panel 1. Peeling of the resist causes dusting, and chipping causes failure. SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve such a problem of the prior art, and to provide a positioning apparatus for a rectangular substrate such as an LCD panel which can position a rectangular substrate in a non-contact manner.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るためのこの発明の矩形基板の位置決め装置の特徴は、
XYθステージが初期状態にあるときにXYθステージ
のX,Yのいずれか一方の基準位置に配置されXYθス
テージが保持されるベースに保持され基板の矩形の一辺
の縁を光学的に検出する第1のエッジセンサと、XYθ
ステージが初期状態にあるときにXYθステージのX,
Yのいずれか他方の基準位置でかつ一方の方向において
所定の距離L離れて配置されXYθステージが保持され
るベースに保持され基板の前記の一辺に直交する他の一
辺の縁を光学的に検出する第2,第3のエッジセンサ
と、基板をXYθステージが初期状態で設定される所定
の初期位置から相対的に第1,第2,第3のエッジセン
サに向かって移動させて第1,第2,第3のエッジセン
サからの検出信号を受けてそれぞれの縁が検出されるま
でのそれぞれの移動量を得て、これら移動量から前記の
初期位置に対してXYθステージの角度と、X方向,Y
方向のそれぞれの位置とを補正する位置補正手段とを備
えるものである。そして、第2,第3のエッジセンサ
は、初期位置においてX,Yのいずれか他方の方向に沿
った線に対称となる位置に所定の距離Lだけ離れて配置
され、位置補正手段は、基板を所定の基準位置から相対
的に第2,第3のエッジセンサに向かって移動させてそ
れぞれの移動量A1,A2を得て、θ=arctan{(A1−A
2)/L}により回転角を得(ただし、Lは前記所定の距
離)、これにより−θ分の角度補正をし、かつ実質的に
(A1+A2)/2の距離分初期位置方向に戻して第1の
センサの方向に向かって基板を相対的に移動させて移動
量を得てこの方向の位置補正を行うものである。
The features of the rectangular substrate positioning apparatus of the present invention for achieving the above object are as follows.
The first stage, which is arranged at one of the X and Y reference positions of the XYθ stage and held by the base holding the XYθ stage when the XYθ stage is in the initial state, optically detects the edge of one side of the rectangular shape of the substrate. Edge sensor and XYθ
When the stage is in the initial state, X,
The XYθ stage is arranged at a reference position of one of the other Y and at a predetermined distance L in one direction, and is held.
Second and third edge sensors that are held by a base and optically detect the edge of the other side orthogonal to the one side of the substrate, and the substrate is moved from a predetermined initial position where the XYθ stage is set in an initial state. The respective movements until the respective edges are detected by receiving the detection signals from the first, second, and third edge sensors while relatively moving toward the first, second, and third edge sensors. And the angle of the XYθ stage with respect to the initial position, the X direction, and the Y direction.
Position correcting means for correcting the respective positions in the directions. And second and third edge sensors
At the initial position along the other of X and Y directions.
Placed at a position symmetrical to the vertical line and separated by a predetermined distance L
And the position correcting means moves the substrate relative to a predetermined reference position.
To the second and third edge sensors.
The respective movement amounts A1 and A2 are obtained, and θ = arctan {(A1−A
2) / L} to obtain the rotation angle (where L is the predetermined distance
Separation), thereby correcting the angle by −θ, and substantially
Returning to the initial position direction by the distance of (A1 + A2) / 2, the first
Move by moving the board relatively toward the sensor
The position is corrected in this direction by obtaining the amount.

【0009】[0009]

【発明の実施形態】矩形基板は、実施例では、LCDパ
ネルであるが、これは、LCDパネルに限定されるもの
ではない。検査装置あるいは露光装置のXYθステージ
に配置される基板であれば、セラミックスの基板や合成
樹脂の基板などようなものであってもよい。なお、実施
例ではXYθステージに加えてZステージを加えたXY
Zθステージになっている。XYθステージの外側周囲
に配置されるエッジセンサは、基板の辺の縁を光学的に
検出できるセンサであれば、非接触状態で検出可能であ
るので、透過形や反射形を問うものではない。また、実
施例では、エッジセンサが固定されていて、XYθステ
ージ側がXY方向にそれぞれ移動する例を示している
が、XYθステージ側を固定にしてX方向,Y方向のエ
ッジセンサがそれぞれの方向に移動するような構成を採
ってもよい。本願発明にあっては、前記のように、光学
的なエッジセンサを基板の一辺に対応するこの辺が位置
決めされるべき基準位置に配置し、2つのエッジセンサ
を基板の他の一辺に対応するこの他の辺が位置決めされ
るべき基準位置に配置するようにしているので、XYθ
ステージを介した基板の相対的な移動により各エッジセ
ンサがある基準位置までの3点の移動量を得ることがで
き、これにより回転角とX方向,Y方向の補正量を得る
ことができる。特に、第2,第3のエッジセンサをX,
Yのいずれか他方の方向に沿った線に対称となる位置に
所定の距離Lだけ離れて配置し、位置補正手段が基板を
所定の基準位置から相対的に第2,第3のエッジセンサ
に向かって移動させてそれぞれの移動量A1,A2を得
て、θ=arctan{(A1−A2)/L}により回転角を得、こ
れにより−θ分の角度補正をし、かつ実質的に(A1+
A2)/2の距離分初期位置方向に戻して第1のセンサ
の方向に向かって基板を相対的に移動させて移動量を得
てこの方向の位置補正を行うことにより、基板の中心位
置決めがθ補正、初期位置(原点)への戻り補正、そし
てX,Yのいずれか一方方向の原点ずれ補正という3分
割された補正となるので、それぞれに簡単な補正演算を
するだけで済み、しかも精度の中心高い位置決めができ
る。これにより、中心位置決めのための X、Y、θの補
正量を同時に算出するような面倒な計算処理が不要にな
る。また、この補正量を非接触で得るので、エッジ付近
のレジストがはがれが発生し難く、発塵が生じ難い。さ
らに、位置決めによるチッピング不良の発生もほとんど
ない。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The rectangular substrate is an LCD panel in the embodiment, but is not limited to an LCD panel. A substrate such as a ceramic substrate or a synthetic resin substrate may be used as long as the substrate is arranged on the XYθ stage of the inspection apparatus or the exposure apparatus. In the embodiment, XY in which a Z stage is added in addition to the XYθ stage
It is a Zθ stage. The edge sensor disposed around the outside of the XYθ stage can be detected in a non-contact state as long as it is a sensor capable of optically detecting the edge of the side of the substrate. In the embodiment, the edge sensor is fixed and the XYθ stage side moves in the XY directions. However, the XYθ stage side is fixed and the edge sensors in the X direction and the Y direction move in the respective directions. A configuration such as moving may be adopted. In the present invention, as described above, the optical edge sensor is disposed at the reference position where this side corresponding to one side of the substrate is to be positioned, and the two edge sensors are disposed at the reference position corresponding to the other side of the substrate. Since the other side is arranged at the reference position to be positioned, XYθ
By the relative movement of the substrate via the stage, it is possible to obtain the amount of movement of three points to each reference position of each edge sensor, thereby obtaining the rotation angle and the amount of correction in the X and Y directions. In particular, the second and third edge sensors are X,
At a position that is symmetric to a line along one of the other Y directions
It is arranged at a predetermined distance L, and the position correcting means
Second and third edge sensors relatively from a predetermined reference position
To obtain the respective movement amounts A1 and A2
Then, the rotation angle is obtained by θ = arctan {(A1−A2) / L}, and
As a result, the angle is corrected by -θ, and substantially (A1 +
A2) Returning to the initial position direction by a distance of / 2, the first sensor
Relative movement of the substrate in the direction of
By performing position correction in the lever direction, the center position of the substrate
The setting is θ correction, return correction to the initial position (origin), and
3 minutes, that is, correction of origin shift in one of X and Y directions
Since the correction is divided, simple correction calculation
And high accuracy center positioning
You. This makes it possible to supplement X, Y, and θ for center positioning.
There is no need for cumbersome calculation processing to calculate the positive amount at the same time.
You. Further, since this correction amount is obtained in a non-contact manner, the resist near the edge is hardly peeled off, and dust is hardly generated. Furthermore, there is almost no occurrence of chipping failure due to positioning.

【0010】[0010]

【実施例】図1は、この発明の基板の位置決め装置を適
用した一実施例の大型LCDパネルの露光ステージのチ
ャックテーブルを中心とした平面図であり、図2は、そ
の側面図、図3は、LCDパネル用の位置決め処理のフ
ローチャート、図4は、小さいLCDパネル位置決め用
のチャックテーブルの平面図である。図1において、1
0は、露光ステージであって、LCDパネル1は、その
チャックテーブル20に載置されている。図5の従来の
チャックテーブル2は、LCDパネル1のその縁より外
側に縁が配置されるように一回り大きなチャックテーブ
ルであるが、これに対して、このチャックテーブル20
は、LCDパネル1より一回り小さく、LCDパネル1
の縁が外側にはみ出している点でチャックテーブル2と
はその大きさが相違している。また、チャックテーブル
20には、LCDパネル1を吸着するために中央部に吸
着孔21、そして縦横に2分割した各エリアの中央位置
に吸着孔21a,21b,21c,21dがそれぞれ設けら
れていて、このチャックテーブル20の裏面下側には、
図2に示すように、XY移動機構3aの上にθZ回転移
動機構3bが積み上げられたXYZθ移動ステージ3が
設けられている。なお、このXYZθ移動ステージ3に
ついては、本願出願人による出願である特開平7−83
793号(特願平5−252318号)に示されていて
すでに公知であるので、その詳細は割愛する。
FIG. 1 is a plan view mainly showing a chuck table of an exposure stage of a large LCD panel to which a substrate positioning apparatus according to the present invention is applied, FIG. 2 is a side view thereof, and FIG. Is a flowchart of a positioning process for an LCD panel, and FIG. 4 is a plan view of a chuck table for positioning a small LCD panel. In FIG. 1, 1
Reference numeral 0 denotes an exposure stage, and the LCD panel 1 is mounted on the chuck table 20. The conventional chuck table 2 of FIG. 5 is a slightly larger chuck table such that an edge is arranged outside the edge of the LCD panel 1, whereas the chuck table 20 of FIG.
Is slightly smaller than the LCD panel 1,
Is different from the chuck table 2 in that the edge protrudes outward. Further, the chuck table 20 is provided with a suction hole 21 at a center portion for sucking the LCD panel 1 and suction holes 21a, 21b, 21c, 21d at a center position of each area divided into two vertically and horizontally. On the lower side of the back surface of the chuck table 20,
As shown in FIG. 2, an XYZθ moving stage 3 in which a θZ rotation moving mechanism 3b is stacked on an XY moving mechanism 3a is provided. The XYZθ moving stage 3 is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-83 filed by the present applicant.
No. 793 (Japanese Patent Application No. 5-252318), which is already publicly known, the details thereof are omitted.

【0011】吸着孔21は、図1に示すように、チャッ
クテーブル20の中心に位置していて、図示するように
XYZ方向を設定すると、吸着孔21を通るY方向の中
心線Yoにその中心が一致するように、Y方向のエッジ
検出光学センサ(以下エッジセンサ)6がLCDパネル
1の縁がら少し離れる位置で、その検出位置がY方向の
基準位置(Y方向でLCDパネル1のY方向の縁が本来
位置決めされるべき位置)に一致するように設けられて
いる。また、吸着孔21を通るX方向の中心線Xoに対
称にX方向のエッジセンサ7,8がLCDパネル1の縁
がら少し離れる位置でX方向の基準位置(X方向でLC
Dパネル1のX方向の縁が本来位置決めされるべき位
置)に一致するように設けられている。これらエッジセ
ンサ7,8の検出位置の距離をここではLとする。エッ
ジセンサ6,7,8は、チャックテーブル20を固定し
ているベース9にそれぞれ取付けられている。そして、
LCDパネル1のX方向,Y方向のそれぞれの一辺が前
記エッジセンサの検出位置に一致したときに、LCDパ
ネル1に中心がその上部に配置された露光光学系4(図
2参照)の中心に一致するようになり、これによりLC
Dパネル1の位置決めが完了する。特に、露光装置では
これによりLCDパネル1のプリアライメントが完了す
る。
[0011] suction holes 21, as shown in Figure 1, are located in the center of the chuck table 20, when an XYZ direction as shown, the center line Yo in the Y direction through the suction hole 21 The Y-direction edge detection optical sensor (hereinafter, edge sensor) 6 is located at a position slightly away from the edge of the LCD panel 1 so that the centers coincide with each other, and the detection position is the reference position in the Y direction (Y direction of the LCD panel 1 in the Y direction). (The position of the edge in the direction is to be originally positioned). Further, the edge sensors 7 and 8 in the X direction are symmetrical with respect to the center line Xo in the X direction passing through the suction hole 21 and the reference position in the X direction at a position slightly away from the edge of the LCD panel 1 (LC in the X direction).
It is provided so that the edge of the D panel 1 in the X direction coincides with the position at which the D panel 1 should be positioned. Here, the distance between the detection positions of the edge sensors 7 and 8 is L. The edge sensors 6, 7, 8 are attached to the base 9 to which the chuck table 20 is fixed. And
When one side in the X direction and one side in the Y direction of the LCD panel 1 coincides with the detection position of the edge sensor, the center of the LCD panel 1 is moved to the center of the exposure optical system 4 (see FIG. 2) disposed above the LCD panel 1. Match, which results in LC
The positioning of the D panel 1 is completed. In particular, in the exposure apparatus, the pre-alignment of the LCD panel 1 is thereby completed.

【0012】エッジセンサ6,7,8の構成は、LCD
パネル1の面に対してレーザ光を垂直に照射してその照
射光が遮断されたことで、その位置を検出するものであ
って、図2にエッジセンサ8を代表として示すように、
これらエッジセンサは、チャックテーブル20の表面よ
り高い位置に配置され水平方向にビームを照射する半導
体素子によるレーザ光源11と、レーザ光源11のビー
ムを水平方向で受けてこれを垂直方向へと反射する上部
ミラー12、チャックテーブル20の裏面より低い位置
に配置され、上部ミラー12からのビームを受けてこれ
を水平方向に反射する下部ミラー13、そして、下部ミ
ラー13からのビームを受光する受光素子14、そし
て、これらを支持するコの字形のフレーム15とからな
る。
The configuration of the edge sensors 6, 7, 8 is based on an LCD.
The position of the panel 1 is detected by vertically irradiating the surface of the panel 1 with laser light and blocking the irradiated light. As shown in FIG.
These edge sensors are arranged at a position higher than the surface of the chuck table 20 and emit a laser beam in the horizontal direction. The laser light source 11 receives a beam from the laser light source 11 in the horizontal direction and reflects the beam in the vertical direction. An upper mirror 12, a lower mirror 13 arranged at a position lower than the back surface of the chuck table 20, receiving the beam from the upper mirror 12, and reflecting the beam in the horizontal direction, and a light receiving element 14 for receiving the beam from the lower mirror 13 And a U-shaped frame 15 for supporting them.

【0013】受光素子14の検出信号は、それぞれのセ
ンサに対応して設けられた検出回路16,16,16を
介してデータ処理・制御回路17に送出される。検出回
路16は、図2に示すように、受光素子14の検出信号
を増幅するアンプ(AMP)16aとコンパレータ(C
OM)16bとからなり、コンパレータ16bは、アン
プ16aの出力が基準値以下になったときにエッジ検出
信号を発生する。データ処理・制御回路17は、MPU
17aとメモリ17b等からなり、コンパレータ16b
からエッジ検出信号を受けるとともに、検査のために、
チャックテーブル20の上部に配置された検出露光光学
系4のCCDセンサ等(図示せず)からの信号を受け
る。また、XYZθ移動ステージ3を所定量移動するた
めの制御信号をテーブル駆動制御回路18へと送出す
る。メモリ17bには、XYZθ移動ステージ3を制御
する移動制御プログラム17cと位置補正処理プログラ
ム17dとが設けられている。
The detection signal of the light receiving element 14 is sent to a data processing / control circuit 17 via detection circuits 16, 16, 16 provided corresponding to the respective sensors. As shown in FIG. 2, the detection circuit 16 includes an amplifier (AMP) 16a for amplifying a detection signal of the light receiving element 14 and a comparator (C).
OM) 16b, and the comparator 16b generates an edge detection signal when the output of the amplifier 16a falls below the reference value. The data processing / control circuit 17 includes an MPU
17a, a memory 17b, etc.
Receive the edge detection signal from
It receives a signal from a CCD sensor or the like (not shown) of the detection exposure optical system 4 disposed above the chuck table 20. In addition, a control signal for moving the XYZθ moving stage 3 by a predetermined amount is sent to the table drive control circuit 18. The memory 17b is provided with a movement control program 17c for controlling the XYZθ movement stage 3 and a position correction processing program 17d.

【0014】次に、図3に従って、LCDパネル1の位
置決め処理について説明する。まず、チャックテーブル
20を初期位置(原点位置)に設定する(ステップ10
0)。次にLCDパネル1がチャックテーブル20に載
置され、これを吸着保持する(ステップ101)。そし
て、移動制御プログラム17cが実行されてチャックテ
ーブル20をX方向にエッジセンサ7,8に向かって定
速で移動させる(ステップ102)。次に、データ処理
・制御回路17のMPU17aは、エッジセンサ7,8
からの信号待ちループに入る(ステップ103)。エッ
ジセンサ7,8のいずれかからエッジ検出信号が得られ
ると、そのエッジ検出信号に応じてそのときのチャック
テーブル20の移動量をメモリ17bのエッジ検出信号
が得られたセンサに対応する記憶位置に記憶する。例え
ば、エッジセンサ7からエッジ検出信号が得られたとす
れば、エッジセンサ7の記憶位置FX1にその原点から
の移動量、すなわち、その原点からのX座標値としてX
1を記憶する(ステップ104)。
Next, the positioning process of the LCD panel 1 will be described with reference to FIG. First, the chuck table 20 is set at an initial position (origin position) (step 10).
0). Next, the LCD panel 1 is placed on the chuck table 20, and is held by suction (Step 101). Then, the movement control program 17c is executed to move the chuck table 20 in the X direction toward the edge sensors 7 and 8 at a constant speed (step 102). Next, the MPU 17a of the data processing / control circuit 17
(Step 103). When an edge detection signal is obtained from one of the edge sensors 7 and 8, the amount of movement of the chuck table 20 at that time is stored in a memory location corresponding to the sensor from which the edge detection signal was obtained in the memory 17b in accordance with the edge detection signal. To memorize. For example, if an edge detection signal is obtained from the edge sensor 7, the amount of movement from the origin to the storage position FX1 of the edge sensor 7, ie, the X coordinate value from the origin, is X
1 is stored (step 104).

【0015】次に、再び、エッジセンサ7,8からの信
号待ちループに入る(ステップ105)。前記と同様
に、エッジセンサ7,8のいずれかからエッジ検出信号
が得られる。この例では、今度は、エッジセンサ8のエ
ッジ検出信号が得られ、これに応じてそのときのチャッ
クテーブル20の移動量をメモリ17bのエッジ検出信
号が得られたセンサに対応する記憶位置に記憶する(ス
テップ106)。このときには、エッジセンサ8からエ
ッジ検出信号であるので、エッジセンサ8の記憶位置F
X2にその原点からの移動量、すなわち、そのX座標値
としてX2を記憶する。そして、初期位置にチャックテ
ーブル20を戻して(ステップ107)、次の式により
回転量θの補正を行う。 θ=arctan{(X1−X2)/L} によりθを求めて、チャックテーブル20を−θ分回転
させる(ステップ108)。ただし、Lは、エッジセン
サ7とエッジセンサ8との距離である。さらに、次の式
によりX軸補正を行う。 X=(X1+X2)/2 により補正量X3を求めて、チャックテーブル20をX
軸方向に−X3分移動させる(ステップ109)。
Next, a loop for waiting for signals from the edge sensors 7 and 8 is entered again (step 105). As described above, an edge detection signal is obtained from one of the edge sensors 7 and 8. In this example, the edge detection signal of the edge sensor 8 is obtained this time, and the movement amount of the chuck table 20 at that time is stored in the memory 17b at the storage position corresponding to the sensor from which the edge detection signal was obtained. (Step 106). At this time, since the signal is an edge detection signal from the edge sensor 8, the storage position F of the edge sensor 8 is stored.
X2 is stored in X2 as the movement amount from the origin, that is, as the X coordinate value. Then, the chuck table 20 is returned to the initial position (Step 107), and the rotation amount θ is corrected by the following equation. θ is determined by θ = arctan {(X1−X2) / L}, and the chuck table 20 is rotated by −θ (step 108). Here, L is the distance between the edge sensor 7 and the edge sensor 8. Further, X-axis correction is performed by the following equation. X = (X1 + X2) / 2 The correction amount X3 is obtained by using
It is moved by -X3 in the axial direction (step 109).

【0016】このX軸補正後にチャックテーブル20の
位置においてチャックテーブル20をY方向にエッジセ
ンサ6に向かって定速で移動させる(ステップ11
0)。そして、データ処理・制御回路17のMPU17
aは、エッジセンサ6からの信号待ちループに入る(ス
テップ111)。エッジセンサ6からエッジ検出信号が
得られたとすれば、エッジセンサ6の記憶位置FY1に
その原点からの移動量、すなわち、そのY座標値として
Y1を記憶する(ステップ112)。そして、Y軸補正
としてチャックテーブル20をY軸方向に−Y1分移動
させる(ステップ113)。以上により求めた位置が本
来の原点位置となり、LCDパネル1の中心が露光光学
系4の中心に一致してLCDパネル1が位置決め(プリ
アライメント)されたことになる。
After the X-axis correction, the chuck table 20 is moved at a constant speed in the Y direction toward the edge sensor 6 at the position of the chuck table 20 (step 11).
0). The MPU 17 of the data processing / control circuit 17
a enters a signal waiting loop from the edge sensor 6 (step 111). If an edge detection signal is obtained from the edge sensor 6, the movement amount from the origin, that is, Y1 is stored in the storage position FY1 of the edge sensor 6 (step 112). Then, the chuck table 20 is moved by -Y1 in the Y-axis direction as Y-axis correction (step 113). The position obtained as described above becomes the original origin position, and the center of the LCD panel 1 coincides with the center of the exposure optical system 4, and the LCD panel 1 is positioned (pre-aligned).

【0017】図4は、チャックテーブル20の大きさよ
りも小さいLCDパネル1も位置決めすることができる
チャックテーブルの例であって、チャックテーブル20
aは、小さいLCDパネル1のサイズに合わせて、エッ
ジセンサ6,7,8のビームを通過させるためのX方向
の長孔22a,22bとY方向の長孔22c,22dが
それぞれX,Y方向の各辺に沿って設けられていて、X
方向の長孔22a,22bの長さは、正負の方向を考え
ると、Y軸の補正量の最大値の2倍以上のものであり、
Y方向の長孔22c,22dの長さは、同様にX軸の補
正量の最大値の2倍以上のものである。また、図2に示
すように、エッジセンサ6,7,8は、コの字形になっ
ているので、前記の長孔22a〜22dの位置までエッ
ジ検出のためのビームが入り込むことができる。あるい
は、それができるように、上部ミラー12および下部ミ
ラー13が支持されるように、コの字の先端側のアーム
部分の長さが長くなっている。
FIG. 4 shows an example of a chuck table on which the LCD panel 1 smaller than the size of the chuck table 20 can be positioned.
In the figure, “a” denotes elongated holes 22a and 22b in the X direction for passing the beams of the edge sensors 6, 7, and 8 and elongated holes 22c and 22d in the Y direction in the X and Y directions, respectively, according to the size of the small LCD panel 1. X is provided along each side of
The length of the long holes 22a and 22b in the direction is twice or more the maximum value of the Y-axis correction amount in consideration of the positive and negative directions.
Similarly, the length of the long holes 22c and 22d in the Y direction is twice or more the maximum value of the X-axis correction amount. Further, as shown in FIG. 2, since the edge sensors 6, 7, and 8 have a U shape, a beam for edge detection can enter the positions of the long holes 22a to 22d. Alternatively, the length of the arm portion on the distal end side of the U-shape is increased so that the upper mirror 12 and the lower mirror 13 are supported so as to be able to do so.

【0018】以上説明してきたが、実施例では、エッジ
センサ6,7,8を固定としているが、これらをそれぞ
れの軸に沿って移動するように移動機構に結合してチャ
ックテーブル20aを原点に固定状態でエッジセンサ
6,7,8側を移動させることができる。これによりそ
れぞれの座標値X1,X2,Y1を得てもよい。なお、こ
のようにセンサ側を移動させる場合には、同時にこれら
の値を得ることもでき、これにより−θ補正、初期位置
方向に戻す補正と、いずれか一方の方向の位置補正とを
行うことで補正処理の時間が短縮される。また、ここで
のセンサは、光ビームを透過させて、そのビームの遮断
によりエッジを検出するものであるが、反射形の光学セ
ンサによりエッジの乱反射光を検出するようなセンサを
用いることもできる。さらに、実施例におけるX、Y
は、相対的なものであって、X方向とY方向とは入れ替
えられてもよい。
As described above, in the embodiment, the edge sensors 6, 7, and 8 are fixed, but these are coupled to a moving mechanism so as to move along respective axes, and the chuck table 20a is set at the origin. The edge sensors 6, 7, 8 can be moved in a fixed state. Thus, the respective coordinate values X1, X2, Y1 may be obtained. When the sensor side is moved in this way, these values can be obtained at the same time, whereby the -θ correction, the initial position
Direction, and position correction in either direction.
By doing so, the time for the correction process is reduced. Further, the sensor here transmits the light beam and detects the edge by blocking the beam, but a sensor that detects irregularly reflected light of the edge by a reflection type optical sensor may be used. . Further, X, Y in the embodiment
Are relative, and the X direction and the Y direction may be interchanged.

【0019】[0019]

【発明の効果】以上の説明のとおり、この発明による矩
形基板の位置決め装置にあっては、光学的なエッジセン
サを基板の一辺に対応するこの辺が位置決めされるべき
基準位置に配置し、2つのエッジセンサを基板の他の一
辺に対応するこの他の辺が位置決めされるべき基準位置
に配置するようにしているので、XYθステージを介し
た基板の相対的な移動により各エッジセンサがある基準
位置までの3点の移動量を得ることができ、これにより
回転角とX方向,Y方向の補正量を得ることができる。
また、この補正量を非接触で得るので、エッジ付近のレ
ジストがはがれが発生し難く、発塵が生じ難い。さら
に、位置決めによるチッピング不良の発生もほとんどな
い。
As described above, in the rectangular substrate positioning apparatus according to the present invention, the optical edge sensor is arranged at the reference position corresponding to one side of the substrate to be positioned, and the two edge positions are determined. Since the edge sensor is arranged at the reference position where the other side corresponding to the other side of the substrate is to be positioned, the relative movement of the substrate via the XYθ stage causes the reference position of each edge sensor to be determined. Up to three points can be obtained, whereby the rotation angle and the correction amounts in the X and Y directions can be obtained.
Further, since this correction amount is obtained in a non-contact manner, the resist near the edge is hardly peeled off, and dust is hardly generated. Furthermore, there is almost no occurrence of chipping failure due to positioning.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1は、この発明の基板の位置決め装置を適用
した一実施例の大型LCDパネルの露光ステージのチャ
ックテーブルを中心とした平面図である。
FIG. 1 is a plan view centering on a chuck table of an exposure stage of a large LCD panel according to an embodiment to which a substrate positioning apparatus of the present invention is applied.

【図2】図2は、図1の大型LCDパネル用検査ステー
ジのチャックテーブルの側面図である。
FIG. 2 is a side view of a chuck table of the inspection stage for the large LCD panel in FIG. 1;

【図3】図3は、LCDパネル用の位置決め処理のフロ
ーチャートである。
FIG. 3 is a flowchart of a positioning process for an LCD panel.

【図4】図4は、小さいLCDパネル位置決め用のチャ
ックテーブルの平面図である。
FIG. 4 is a plan view of a chuck table for positioning a small LCD panel.

【図5】大型LCDパネル用検査ステージの従来のチャ
ックテーブルの平面図である。
FIG. 5 is a plan view of a conventional chuck table of an inspection stage for a large LCD panel.

【図6】従来のチャックテーブルの角度ずれについての
説明図である。
FIG. 6 is an explanatory view of an angle shift of a conventional chuck table.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…大型LCDパネル、2,20…チャッククテーブ
ル、 3…XYZθ移動ステージ、4…光学系、 6,7,8…エッジセンサ、9…ベース、 11…レーザ光源、12…上部ミラー、13…下部ミラ
ー、 14…受光素子、16…検出回路、 17…データ処理・制御回路、 17a…MPU、17b…メモリ、 17c…移動制御プログラム、17d…位置補正処理プ
ログラム、 18…テーブル駆動制御回路。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Large-sized LCD panel, 2,20 ... Chuck table, 3 ... XYZθ movement stage, 4 ... Optical system, 6,7,8 ... Edge sensor, 9 ... Base, 11 ... Laser light source, 12 ... Top mirror, 13 ... Lower mirror, 14: light receiving element, 16: detection circuit, 17: data processing / control circuit, 17a: MPU, 17b: memory, 17c: movement control program, 17d: position correction processing program, 18: table drive control circuit

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平8−76102(JP,A) 特開 平9−61775(JP,A) 実開 平7−27147(JP,U) 実開 平7−22546(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02F 1/13 101 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-8-76102 (JP, A) JP-A-9-61775 (JP, A) JP-A 7-27147 (JP, U) JP-A 7-27147 22546 (JP, U) (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) G02F 1/13 101

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】XYの二次元の移動と回転が可能なXYθ
ステージ上に載置された矩形基板をこのステージ上部に
設けられた光学系に対して所定の位置に位置決めする矩
形基板の位置決め装置において、前記XYθステージが
初期状態にあるときに前記XYθステージのX,Yのい
ずれか一方の基準位置に配置されて前記XYθステージ
が保持されるベースに保持され前記基板の矩形の一辺の
縁を光学的に検出する第1のエッジセンサと、前記XY
θステージが初期状態にあるときに前記XYθステージ
のX,Yのいずれか他方の基準位置でかつ前記一方の方
向において所定の距離L離れて配置されて前記XYθス
テージが保持されるベースに保持され前記基板の前記一
辺に直交する他の一辺の縁を光学的に検出する第2,第
3のエッジセンサと、前記基板を前記XYθステージが
初期状態で設定される所定の初期位置から相対的に前記
第1,第2,第3のエッジセンサに向かって移動させて
前記第1,第2,第3のエッジセンサからの検出信号を
受けてそれぞれの前記縁が検出されるまでのそれぞれの
移動量を得て、これら移動量から前記初期位置に対して
前記XYθステージの角度と、X方向,Y方向のそれぞ
れの位置とを補正する位置補正手段とを備え、前記第2,第3のエッジセンサは、前記初期位置におい
て前記X,Yのいずれか他方の方向に沿った線に対称と
なる位置に前記所定の距離Lだけ離れて配置され、前記
位置補正手段は、前記基板を所定の基準位置から相対的
に前記第2,第3のエッジセンサに向かって移動させて
それぞれの移動量A1,A2を得て、θ=arctan{(A1−
A2)/L}により回転角を得(ただし、Lは前記所定の
距離)、これにより−θ分の角度補正をし、かつ実質的
に(A1+A2)/2の距離分前記初期位置方向に戻して
前記第1のセンサの方向に向かって前記基板を相対的に
移動させて前記移動量を得てこの方向の位置補正を行う
矩形基板の位置決め装置。
1. XYθ capable of two-dimensional movement and rotation of XY
In a rectangular substrate positioning device for positioning a rectangular substrate placed on a stage at a predetermined position with respect to an optical system provided on the stage , the XYθ stage is
Said XYθ stage X, is arranged on one of the reference position of the Y in front Symbol XYθ stage when in the initial state
First edge sensor is held by the base for detecting the edge of one side of the rectangle of the substrate optically but held, the XY
X of the XYθ stage when θ stage is in the initial state, held in the base and the other of the reference position a and the disposed a predetermined distance L in one direction before Symbol XYθ stage Y is held second, a third edge sensor, the substrate said XYθ stage for by detecting the edge of the other side orthogonal to the one side of the substrate optically is
It is relatively moved from a predetermined initial position set in an initial state toward the first, second, and third edge sensors to receive detection signals from the first, second, and third edge sensors. The position of correcting the angle of the XYθ stage with respect to the initial position and the respective positions in the X and Y directions with respect to the initial position based on the respective movement amounts until the respective edges are detected. Correction means, wherein the second and third edge sensors are located at the initial position.
Symmetrical to a line along the other of the X and Y directions
At a predetermined distance L from each other,
The position correcting means moves the substrate relative to a predetermined reference position.
To the second and third edge sensors.
The respective movement amounts A1 and A2 are obtained, and θ = arctan {(A1−
A2) / L} (where L is the predetermined value
Distance), thereby correcting the angle by −θ and substantially
Return to the initial position direction by the distance of (A1 + A2) / 2
Relative to the substrate towards the first sensor
An apparatus for positioning a rectangular substrate that moves to obtain the amount of movement and corrects the position in this direction .
【請求項2】前記基板は、液晶パネルあるいはそのガラ
ス基板であり、前記第1,第2,第3のエッジセンサ
は、前記基板表面に垂直な方向にビームを発生してこの
ビームが遮断されることで前記縁を検出するものであ
り、第1のエッジセンサは、前記 初期位置において実質
的に前記X,Yのいずれか一方の方向に沿った線に実質
的に一致するように配置され、前記初期位置は、前記X
Yθステージの前記XY軸の交点である原点が初期状態
で位置決めされる位置である請求項1記載の矩形基板の
位置決め装置。
2. The method according to claim 1, wherein the substrate is a liquid crystal panel or a glass substrate thereof, and the first, second, and third edge sensors generate a beam in a direction perpendicular to the surface of the substrate and block the beam. is used to detect the edges in Rukoto, first edge sensor is substantially in the initial position
Substantially along a line along one of the X and Y directions.
And the initial position is the X
The origin, which is the intersection of the XY axes of the Yθ stage, is the initial state
The positioning device for a rectangular substrate according to claim 1 , wherein the position is determined by:
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