JP2003068842A - 薄板処理容器 - Google Patents
薄板処理容器Info
- Publication number
- JP2003068842A JP2003068842A JP2001258108A JP2001258108A JP2003068842A JP 2003068842 A JP2003068842 A JP 2003068842A JP 2001258108 A JP2001258108 A JP 2001258108A JP 2001258108 A JP2001258108 A JP 2001258108A JP 2003068842 A JP2003068842 A JP 2003068842A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin plate
- plate processing
- processing container
- partition structure
- wafer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Details Of Rigid Or Semi-Rigid Containers (AREA)
- Packaging Frangible Articles (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ウェハー等の薄板の出し入れに際し、薄板の
接触を防止し、傷や汚れが発生せず、歩留が向上する薄
板処理容器を提供する。 【解決手段】 複数のＳｉウェハーを処理する際に使用
される薄板処理容器１であって、直方体の本体に凹部を
形成し、この凹部にＳｉウェハーを収納する収納溝２を
形成し、収納溝２の間の壁面に、仕切り構造物３を形成
する。
接触を防止し、傷や汚れが発生せず、歩留が向上する薄
板処理容器を提供する。 【解決手段】 複数のＳｉウェハーを処理する際に使用
される薄板処理容器１であって、直方体の本体に凹部を
形成し、この凹部にＳｉウェハーを収納する収納溝２を
形成し、収納溝２の間の壁面に、仕切り構造物３を形成
する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、Ｓｉ等の半導体基
板や光学単結晶基板、更には種々のガラス乾板等の複数
枚の薄板の洗浄、エッチング、搬送、保管等の処理をす
る際に使用される薄板処理容器の構造に関するものであ
る。
板や光学単結晶基板、更には種々のガラス乾板等の複数
枚の薄板の洗浄、エッチング、搬送、保管等の処理をす
る際に使用される薄板処理容器の構造に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】図２（ａ）に示すように、従来の薄板処
理容器１１は、ウェハー等の薄板が分離されて収納され
得る複数の収納溝１２が設けられていた。
理容器１１は、ウェハー等の薄板が分離されて収納され
得る複数の収納溝１２が設けられていた。
【０００３】しかしながら、これら従来構造の薄板処理
容器においては、ウェハー等の出し入れの際に、隣接す
る収納溝のウェハー等の表面に、出し入れしようとして
いるウェハー等の端部が接触してしまい、その結果、傷
をつけてしまうという不都合が頻繁にあった。
容器においては、ウェハー等の出し入れの際に、隣接す
る収納溝のウェハー等の表面に、出し入れしようとして
いるウェハー等の端部が接触してしまい、その結果、傷
をつけてしまうという不都合が頻繁にあった。
【０００４】具体的には、例えば図２（ｂ）に示すよう
に、薄板処理容器１１にＳｉウェハー３０が複数枚収納
されていた場合のウェハーを出し入れする様子について
説明すると、今、ウェハー３０ｇの裏面を真空ピンセッ
ト４の先端パッド部４ａで吸着させながら取り出そうと
した場合、ウェハーが密接して収納されているため、隣
接するウェハー３０ｆ及び３０ｈの狭い隙間を垂直に持
ち上げなければならない。
に、薄板処理容器１１にＳｉウェハー３０が複数枚収納
されていた場合のウェハーを出し入れする様子について
説明すると、今、ウェハー３０ｇの裏面を真空ピンセッ
ト４の先端パッド部４ａで吸着させながら取り出そうと
した場合、ウェハーが密接して収納されているため、隣
接するウェハー３０ｆ及び３０ｈの狭い隙間を垂直に持
ち上げなければならない。
【０００５】もし、傾いて持ち上げられた場合には、ウ
ェハー３０ｇの表面とウェハー３０ｆの上端とがＡの部
分で、又はウェハー３０ｈの表面とウェハー３０ｇの下
端とがＢの部分で接触し、大切な表面に傷や汚れを発生
させてしまう。
ェハー３０ｇの表面とウェハー３０ｆの上端とがＡの部
分で、又はウェハー３０ｈの表面とウェハー３０ｇの下
端とがＢの部分で接触し、大切な表面に傷や汚れを発生
させてしまう。
【０００６】一方、取り出したウェハーを元に戻す場合
も同様であり、傾いた状態で挿入するとウェハー３０ｎ
の表面が接触するＣの部分とウェハー３０ｏの表面が接
触するＤの部分に傷や汚れを発生させてしまう。
も同様であり、傾いた状態で挿入するとウェハー３０ｎ
の表面が接触するＣの部分とウェハー３０ｏの表面が接
触するＤの部分に傷や汚れを発生させてしまう。
【０００７】上記のように、ウェハーの表面に傷や汚れ
を発生させた場合、例えば、半導体素子の製造工程にお
いては結晶欠陥や異常拡散、更にはピンホール等の絶縁
膜の構造不良や配線パターンの断線等による歩留低下の
主原因となっていた。
を発生させた場合、例えば、半導体素子の製造工程にお
いては結晶欠陥や異常拡散、更にはピンホール等の絶縁
膜の構造不良や配線パターンの断線等による歩留低下の
主原因となっていた。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明が解決
しようとする課題は、上記従来の問題点を克服し、ウェ
ハー等の薄板の出し入れに際し、薄板の接触を防止し、
傷や汚れが発生せず、歩留が向上する薄板処理容器を提
供することにある。
しようとする課題は、上記従来の問題点を克服し、ウェ
ハー等の薄板の出し入れに際し、薄板の接触を防止し、
傷や汚れが発生せず、歩留が向上する薄板処理容器を提
供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、薄板処理容器
の複数の収納溝どうしの間に接触防止用の遮蔽物となる
仕切り構造物を配することによって課題を解決しようと
するものである。即ち、本発明は、薄板の複数枚処理で
使用される薄板処理容器において、分離して形成されて
いる各ウェハー等の収納溝の間に、仕切り構造物を配置
形成したことを特徴とする。更に、本発明は、仕切り構
造物の形状が板状、格子状、編み目状、棒状であること
を特徴とする。更に又本発明は、仕切り構造物が薄板処
理容器本体と一体、又は着脱可能であることを特徴とす
る。
の複数の収納溝どうしの間に接触防止用の遮蔽物となる
仕切り構造物を配することによって課題を解決しようと
するものである。即ち、本発明は、薄板の複数枚処理で
使用される薄板処理容器において、分離して形成されて
いる各ウェハー等の収納溝の間に、仕切り構造物を配置
形成したことを特徴とする。更に、本発明は、仕切り構
造物の形状が板状、格子状、編み目状、棒状であること
を特徴とする。更に又本発明は、仕切り構造物が薄板処
理容器本体と一体、又は着脱可能であることを特徴とす
る。
【００１０】即ち、本発明は、複数の薄板を処理する際
に使用される薄板処理容器であって、直方体の本体に凹
部が形成され、前記凹部に前記薄板を収納する収納溝が
形成され、前記収納溝の間の壁面に、仕切り構造物が形
成されたことを特徴とする薄板処理容器である。
に使用される薄板処理容器であって、直方体の本体に凹
部が形成され、前記凹部に前記薄板を収納する収納溝が
形成され、前記収納溝の間の壁面に、仕切り構造物が形
成されたことを特徴とする薄板処理容器である。
【００１１】又、本発明は、前記仕切り構造物が板状、
格子状、編み目状、又は棒状のいずれかであることを特
徴とする上記の薄板処理容器である。
格子状、編み目状、又は棒状のいずれかであることを特
徴とする上記の薄板処理容器である。
【００１２】又、本発明は、前記仕切り構造物と前記本
体とが一体に形成されたことを特徴とする上記の薄板処
理容器である。
体とが一体に形成されたことを特徴とする上記の薄板処
理容器である。
【００１３】又、本発明は、前記仕切り構造物に嵌合手
段が設けられるとともに、前記本体に前記仕切り構造物
と嵌合する嵌合手段が設けられ、前記仕切り構造物と前
記本体は着脱可能であることを特徴とする上記の薄板処
理容器である。
段が設けられるとともに、前記本体に前記仕切り構造物
と嵌合する嵌合手段が設けられ、前記仕切り構造物と前
記本体は着脱可能であることを特徴とする上記の薄板処
理容器である。
【００１４】又、本発明は、前記薄板が、半導体ウェハ
ーであることを特徴とする上記の薄板処理容器である。
ーであることを特徴とする上記の薄板処理容器である。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら、本発
明の実施の形態を詳述する。この実施の形態では、フッ
素樹脂やポリプロピレン、更にはＡｌ等の材質から成る
半導体ウェハーに用いられる薄板処理容器に本発明を適
用した場合について説明する。
明の実施の形態を詳述する。この実施の形態では、フッ
素樹脂やポリプロピレン、更にはＡｌ等の材質から成る
半導体ウェハーに用いられる薄板処理容器に本発明を適
用した場合について説明する。
【００１６】図１は、本発明の実施の形態における薄板
処理容器の概略を説明する図であり、図１（ａ）は、斜
視図、図１（ｂ）は、平面図、図１（ｃ）は、側面図で
ある。
処理容器の概略を説明する図であり、図１（ａ）は、斜
視図、図１（ｂ）は、平面図、図１（ｃ）は、側面図で
ある。
【００１７】図１（ａ）において、１は本発明の薄板処
理容器であり、直方体の本体の凹部に複数のウェハーの
収納溝２が形成されている、又、収納溝２の間の部分の
壁面に接触防止用の仕切り構造物３が形成されている。
なお、図１（ａ）にはわかりやすいように、仕切り構造
物３は３カ所だけしか示していないが、実際には図１
（ｂ）に示すように、全ての収納溝２間に仕切り構造物
３が形成される。
理容器であり、直方体の本体の凹部に複数のウェハーの
収納溝２が形成されている、又、収納溝２の間の部分の
壁面に接触防止用の仕切り構造物３が形成されている。
なお、図１（ａ）にはわかりやすいように、仕切り構造
物３は３カ所だけしか示していないが、実際には図１
（ｂ）に示すように、全ての収納溝２間に仕切り構造物
３が形成される。
【００１８】図１（ｃ）に示すように、仕切り構造物３
は縦３本の格子形状であるが、仕切り構造物の形状はこ
れに限らず１本の格子や横格子、又は網目、更には平板
等任意の形状が可能であるが、隣接するウェハーどうし
が接触しなければ良いのであり、薄板処理容器の作製に
当たっては極力単純な形状である方が好ましい。
は縦３本の格子形状であるが、仕切り構造物の形状はこ
れに限らず１本の格子や横格子、又は網目、更には平板
等任意の形状が可能であるが、隣接するウェハーどうし
が接触しなければ良いのであり、薄板処理容器の作製に
当たっては極力単純な形状である方が好ましい。
【００１９】又、上記は仕切り構造物３と本体とが一体
である形態であるが、収納溝の間の領域に、別に用意さ
れた単体の仕切り構造物３が挿入できるような溝を形成
する等の手段によって、仕切り構造物３を着脱可能な形
態とすることもできる。この場合、仕切り構造物３と本
体とで材質を違えることも可能である。
である形態であるが、収納溝の間の領域に、別に用意さ
れた単体の仕切り構造物３が挿入できるような溝を形成
する等の手段によって、仕切り構造物３を着脱可能な形
態とすることもできる。この場合、仕切り構造物３と本
体とで材質を違えることも可能である。
【００２０】上記したように、本発明の薄板処理容器を
用いることにより、従来問題となっていたウェハーどう
しの接触による不具合をなくすことが可能となる。特に
半導体素子の製造工程は洗浄等種々の化学処理や工程間
の搬送、それに工程待ちや仕掛かりウェハーの保管等、
薄板処理容器に収納される機会が非常に多いため、本発
明の効果は極めて大きい。又、微細なパターンが形成さ
れているフォトリソグラフィー（写真食刻）工程に用い
られるマスク乾板の洗浄や保管に際しても本発明の構造
の容器は極めて有効なものである。
用いることにより、従来問題となっていたウェハーどう
しの接触による不具合をなくすことが可能となる。特に
半導体素子の製造工程は洗浄等種々の化学処理や工程間
の搬送、それに工程待ちや仕掛かりウェハーの保管等、
薄板処理容器に収納される機会が非常に多いため、本発
明の効果は極めて大きい。又、微細なパターンが形成さ
れているフォトリソグラフィー（写真食刻）工程に用い
られるマスク乾板の洗浄や保管に際しても本発明の構造
の容器は極めて有効なものである。
【００２１】更に、本発明は、あらゆる薄板の処理容器
に適用でき、平面形状が円形に限るものではなく、薄板
状のものであれば任意の形状でかまわない。又、本発明
は、材質も半導体に限らず、金属薄板や光学結晶基板、
ガラス又は機能薄膜がコーティングされた無機及び有機
物基板等任意の材料基板の処理容器について適用可能で
ある。
に適用でき、平面形状が円形に限るものではなく、薄板
状のものであれば任意の形状でかまわない。又、本発明
は、材質も半導体に限らず、金属薄板や光学結晶基板、
ガラス又は機能薄膜がコーティングされた無機及び有機
物基板等任意の材料基板の処理容器について適用可能で
ある。
【００２２】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ウェハー等の薄板の出し入れに際し、薄板の接触を防止
し、傷や汚れが発生せず、歩留が向上する薄板処理容器
を提供することができた。
ウェハー等の薄板の出し入れに際し、薄板の接触を防止
し、傷や汚れが発生せず、歩留が向上する薄板処理容器
を提供することができた。
【図１】本発明の実施の形態における薄板処理容器の概
略を説明する図。図１（ａ）は、斜視図。図１（ｂ）
は、平面図。図１（ｃ）は、側面図。
略を説明する図。図１（ａ）は、斜視図。図１（ｂ）
は、平面図。図１（ｃ）は、側面図。
【図２】従来の薄板処理容器の構造とウェハー等の薄板
の処理時の不具合について概略を説明する図。図２
（ａ）は、薄板処理容器の構造を示す斜視図。図２
（ｂ）は、ウェハー等の薄板の処理時の不具合について
説明する断面図。
の処理時の不具合について概略を説明する図。図２
（ａ）は、薄板処理容器の構造を示す斜視図。図２
（ｂ）は、ウェハー等の薄板の処理時の不具合について
説明する断面図。
１ 本発明の薄板処理容器
２ 収納溝
３ 仕切り構造物
４ 真空ピンセット
４ａ （真空ピンセットの）先端パッド部
１１ 従来の薄板処理容器
１２ 収納溝
３０ Ｓｉウェハー
Ａ ウェハー３０ｆの上端とウェハー３０ｇの表面と
が接触した部分 Ｂ ウェハー３０ｇの下端とウェハー３０ｈの表面と
が接触した部分 Ｃ ウェハー３０ｍの上端とウェハー３０ｎの表面と
が接触した部分 Ｄ ウェハー３０ｎの下端とウェハー３０ｏの表面と
が接触した部分
が接触した部分 Ｂ ウェハー３０ｇの下端とウェハー３０ｈの表面と
が接触した部分 Ｃ ウェハー３０ｍの上端とウェハー３０ｎの表面と
が接触した部分 Ｄ ウェハー３０ｎの下端とウェハー３０ｏの表面と
が接触した部分
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
Ｆターム(参考） 3E062 AA03 AC02 EB08 EC04 EC09
3E096 AA06 BA16 BB03 DA01 DA23
DB08 DC01 FA10 GA09
5F031 CA02 CA05 DA01 DA03 EA06
HA72 MA23 MA24 PA20 PA26
Claims (5)
- 【請求項１】 複数の薄板を処理する際に使用される薄
板処理容器であって、直方体の本体に凹部が形成され、
前記凹部に前記薄板を収納する収納溝が形成され、前記
収納溝の間の壁面に、仕切り構造物が形成されたことを
特徴とする薄板処理容器。 - 【請求項２】 前記仕切り構造物が板状、格子状、編み
目状、又は棒状のいずれかであることを特徴とする請求
項１記載の薄板処理容器。 - 【請求項３】 前記仕切り構造物と前記本体とが一体に
形成されたことを特徴とする請求項１又は２記載の薄板
処理容器。 - 【請求項４】 前記仕切り構造物に嵌合手段が設けられ
るとともに、前記本体に前記仕切り構造物と嵌合する嵌
合手段が設けられ、前記仕切り構造物と前記本体は着脱
可能であることを特徴とする請求項１又は２記載の薄板
処理容器。 - 【請求項５】 前記薄板が、半導体ウェハーであること
を特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の薄板処理
容器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001258108A JP2003068842A (ja) | 2001-08-28 | 2001-08-28 | 薄板処理容器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001258108A JP2003068842A (ja) | 2001-08-28 | 2001-08-28 | 薄板処理容器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003068842A true JP2003068842A (ja) | 2003-03-07 |
Family
ID=19085683
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001258108A Pending JP2003068842A (ja) | 2001-08-28 | 2001-08-28 | 薄板処理容器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003068842A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105966783A (zh) * | 2016-06-30 | 2016-09-28 | 镇江环太硅科技有限公司 | 一种新型的硅片中转盒 |
| CN111470146A (zh) * | 2020-04-17 | 2020-07-31 | 温州易正科技有限公司 | 一种可拆卸带槽支撑板的pcb板安置架 |
-
2001
- 2001-08-28 JP JP2001258108A patent/JP2003068842A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105966783A (zh) * | 2016-06-30 | 2016-09-28 | 镇江环太硅科技有限公司 | 一种新型的硅片中转盒 |
| CN111470146A (zh) * | 2020-04-17 | 2020-07-31 | 温州易正科技有限公司 | 一种可拆卸带槽支撑板的pcb板安置架 |
| CN111470146B (zh) * | 2020-04-17 | 2021-11-12 | 烟台市烟泰达机械有限公司 | 一种可拆卸带槽支撑板的pcb板安置架 |
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