JP2003068499A - 真空ケーブルおよび真空プラズマ処理装置 - Google Patents
真空ケーブルおよび真空プラズマ処理装置Info
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- JP2003068499A JP2003068499A JP2001260145A JP2001260145A JP2003068499A JP 2003068499 A JP2003068499 A JP 2003068499A JP 2001260145 A JP2001260145 A JP 2001260145A JP 2001260145 A JP2001260145 A JP 2001260145A JP 2003068499 A JP2003068499 A JP 2003068499A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 プラズマを安定して発生することができる真
空ケーブルおよび真空プラズマ処理装置を提供するこ
と。 【解決手段】 中心導体３１と、該中心導体３１を覆う
外部導体３２とを備えているとともに、外周面がフレキ
シブルチューブ６０で覆われている。さらに、前記外部
導体３２と防着板２２とを電気的に接触状態とする金属
板（導通手段）５０と、金属板５０を前記外部導体３２
に電気的に接触状態で固定する固定金具とを備え、金属
板５０は、前記防着板２２に対してボルト留めされる。
空ケーブルおよび真空プラズマ処理装置を提供するこ
と。 【解決手段】 中心導体３１と、該中心導体３１を覆う
外部導体３２とを備えているとともに、外周面がフレキ
シブルチューブ６０で覆われている。さらに、前記外部
導体３２と防着板２２とを電気的に接触状態とする金属
板（導通手段）５０と、金属板５０を前記外部導体３２
に電気的に接触状態で固定する固定金具とを備え、金属
板５０は、前記防着板２２に対してボルト留めされる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマCVD（Che
mical Vapor Deposition）装置、ドライエッチング装置
等の真空プラズマ処理装置の構成に関する。
mical Vapor Deposition）装置、ドライエッチング装置
等の真空プラズマ処理装置の構成に関する。
【０００２】
【従来の技術】図５において、符号１０は、従来のプラ
ズマＣＶＤ装置が備える製膜室である。この製膜室１０
は、チャンバ１２の略中央に、両側面にラダー電極１３
が設けられた製膜ユニット１４を有しており、この製膜
ユニット１４の両側面側に、ヒータカバー１５を介して
基板加熱ヒータ１６が設けられている。図６に示すよう
に、ラダー電極１３に対向して防着板（アース板）２２
が設けられている。そして、この製膜室１０では、チャ
ンバ１２内が減圧された状態にてＳｉＨ4からなる原料
ガスを含む処理原料ガスである製膜ガスが送りこまれ、
ラダー電極１３に高周波電流が供給されると、チャンバ
１２内にてプラズマが発生し、基板加熱ヒータ１６によ
って加熱されたガラス基板Ｋに製膜が施されるようにな
っている。
ズマＣＶＤ装置が備える製膜室である。この製膜室１０
は、チャンバ１２の略中央に、両側面にラダー電極１３
が設けられた製膜ユニット１４を有しており、この製膜
ユニット１４の両側面側に、ヒータカバー１５を介して
基板加熱ヒータ１６が設けられている。図６に示すよう
に、ラダー電極１３に対向して防着板（アース板）２２
が設けられている。そして、この製膜室１０では、チャ
ンバ１２内が減圧された状態にてＳｉＨ4からなる原料
ガスを含む処理原料ガスである製膜ガスが送りこまれ、
ラダー電極１３に高周波電流が供給されると、チャンバ
１２内にてプラズマが発生し、基板加熱ヒータ１６によ
って加熱されたガラス基板Ｋに製膜が施されるようにな
っている。
【０００３】さて、ラダー電極１３には図６の真空ＲＦ
ケーブル３０が接続される。図７にその詳細を示した。
図において、符号３１は金属製のメッシュでできた外部
導体３２に覆われた中心導体である。中心導体３１と外
部導体３２との間には、ガイシ３５が介在している。ケ
ーブル３０の先端部には、ラダー電極１３に取り付けら
れる接続部３６が設けられている。接続部３６は、中心
導体３１と導通状態にある先端金具３８を備えている。
先端金具３８の先端部には円柱状の円柱部３９と、円柱
部３９先端に設けられ該円柱部３９より径の大きい係止
部４０が形成されている。円柱部３９には、一対の稼働
金具４５，４６が挿入されており、さらに、稼働金具４
５，４６を互いに離間させる方向に付勢する稼働金具押
付ばね４７が設けられている。さらに、外部導体３２
は、外部導体３２と防着板２２との接触を強化する金属
板５０が固定部５１により固定されている。金属板５０
は防着板２２に対してスポット溶接により固定されて接
触が促進されている。
ケーブル３０が接続される。図７にその詳細を示した。
図において、符号３１は金属製のメッシュでできた外部
導体３２に覆われた中心導体である。中心導体３１と外
部導体３２との間には、ガイシ３５が介在している。ケ
ーブル３０の先端部には、ラダー電極１３に取り付けら
れる接続部３６が設けられている。接続部３６は、中心
導体３１と導通状態にある先端金具３８を備えている。
先端金具３８の先端部には円柱状の円柱部３９と、円柱
部３９先端に設けられ該円柱部３９より径の大きい係止
部４０が形成されている。円柱部３９には、一対の稼働
金具４５，４６が挿入されており、さらに、稼働金具４
５，４６を互いに離間させる方向に付勢する稼働金具押
付ばね４７が設けられている。さらに、外部導体３２
は、外部導体３２と防着板２２との接触を強化する金属
板５０が固定部５１により固定されている。金属板５０
は防着板２２に対してスポット溶接により固定されて接
触が促進されている。
【０００４】このように構成されている真空ＲＦケーブ
ル３０は、図８に示したラダー電極１３の横グリッド１
３ａに接続される。横グリッド１３ａには、横グリッド
１３ａの幅方向の切り欠き５２ａと、切り欠き５２ａの
先端部から横グリッド１３ａの長手方向に延びる切り欠
き５２ｂとが形成されている。各切り欠き５２ａの幅は
円柱部３９が挿入可能な幅であり、かつ、係止部４０お
よび稼働金具４５が通り抜けない程度の幅となってい
る。そして、係止部４０と稼働金具４５との間に横グリ
ッド１３ａを挟んだ状態で、円柱部３９を切り欠き５２
ｂに挿入する。この状態で、稼働金具４５が稼働金具押
付ばね４７によって横グリッド１３ａに押し付けられ、
先端金具３８が固定されるとともに中心導体３１とラダ
ー電極１３とが導通状態とされる。
ル３０は、図８に示したラダー電極１３の横グリッド１
３ａに接続される。横グリッド１３ａには、横グリッド
１３ａの幅方向の切り欠き５２ａと、切り欠き５２ａの
先端部から横グリッド１３ａの長手方向に延びる切り欠
き５２ｂとが形成されている。各切り欠き５２ａの幅は
円柱部３９が挿入可能な幅であり、かつ、係止部４０お
よび稼働金具４５が通り抜けない程度の幅となってい
る。そして、係止部４０と稼働金具４５との間に横グリ
ッド１３ａを挟んだ状態で、円柱部３９を切り欠き５２
ｂに挿入する。この状態で、稼働金具４５が稼働金具押
付ばね４７によって横グリッド１３ａに押し付けられ、
先端金具３８が固定されるとともに中心導体３１とラダ
ー電極１３とが導通状態とされる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】さて、このように構成
された真空ＲＦケーブル３０では、以下に示すような問
題点を有する。外部導体３２と真空容器内部の他の部材
との間で異常放電を起こしてしまう場合がある。このた
め、製膜品質等の悪化を招いてしまうという問題があ
る。また、反応生成物によって外部導体３２の表面が汚
染されたり、真空容器内で発生した各種ラジカル物質に
直接接触するため、腐蝕をおこしたりして寿命が短く、
プラズマを不安定にさせる要因になっていた。外部導体
３２と防着板２２との接触が不十分であると、プラズマ
の発生が不安定になる。そこでスポット溶接を行ってい
るが、作業性がよくないという問題があった。また、ラ
ダー電極１３に対して先端金具３８を簡単に取り付ける
ことができるものの、接触が不安定であるため、真空容
器内で発生した各種ラジカル物質が直接面に入り込み、
反応生成物が付着したり、腐蝕をおこしたりして電気特
性が不安定になり、プラズマ発生が不安定になるという
問題があった。
された真空ＲＦケーブル３０では、以下に示すような問
題点を有する。外部導体３２と真空容器内部の他の部材
との間で異常放電を起こしてしまう場合がある。このた
め、製膜品質等の悪化を招いてしまうという問題があ
る。また、反応生成物によって外部導体３２の表面が汚
染されたり、真空容器内で発生した各種ラジカル物質に
直接接触するため、腐蝕をおこしたりして寿命が短く、
プラズマを不安定にさせる要因になっていた。外部導体
３２と防着板２２との接触が不十分であると、プラズマ
の発生が不安定になる。そこでスポット溶接を行ってい
るが、作業性がよくないという問題があった。また、ラ
ダー電極１３に対して先端金具３８を簡単に取り付ける
ことができるものの、接触が不安定であるため、真空容
器内で発生した各種ラジカル物質が直接面に入り込み、
反応生成物が付着したり、腐蝕をおこしたりして電気特
性が不安定になり、プラズマ発生が不安定になるという
問題があった。
【０００６】上記事情に鑑み、本発明においては、プラ
ズマを安定して発生することができる真空ケーブルおよ
び真空プラズマ処理装置を提供することを目的とする。
ズマを安定して発生することができる真空ケーブルおよ
び真空プラズマ処理装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、真空下において用いられる真空処理装置の真空ケー
ブルにおいて、外周面がフレキシブルチューブで覆われ
ていることを特徴とする。
は、真空下において用いられる真空処理装置の真空ケー
ブルにおいて、外周面がフレキシブルチューブで覆われ
ていることを特徴とする。
【０００８】この発明においては、フレキシブルチュー
ブによって覆われる部分が汚染、腐蝕から守られる。
ブによって覆われる部分が汚染、腐蝕から守られる。
【０００９】請求項２に記載の発明は、真空容器内に、
電極と、該電極に対向するアース板とが設けられた真空
処理装置の内部にて用いられる真空ケーブルにおいて、
前記真空ケーブルは、中心導体と、該中心導体を覆う外
部導体とを備え、該外部導体と前記アース板とを電気的
に接触状態とする導通手段が設けられ、該導通手段は、
前記アース板に対してボルト留めされることを特徴とす
る。
電極と、該電極に対向するアース板とが設けられた真空
処理装置の内部にて用いられる真空ケーブルにおいて、
前記真空ケーブルは、中心導体と、該中心導体を覆う外
部導体とを備え、該外部導体と前記アース板とを電気的
に接触状態とする導通手段が設けられ、該導通手段は、
前記アース板に対してボルト留めされることを特徴とす
る。
【００１０】この発明によっては、ボルトによって導通
手段とアース板とが固定されるため、確実かつ容易にこ
れらを固定することができ、また、作業性の向上が図ら
れる。
手段とアース板とが固定されるため、確実かつ容易にこ
れらを固定することができ、また、作業性の向上が図ら
れる。
【００１１】請求項３に記載の発明は、真空容器内に、
電極と、該電極に対向するアース板とが設けられた真空
処理装置の内部にて用いられる真空ケーブルにおいて、
前記真空ケーブルは、中心導体と、該中心導体を覆う外
部導体とにより構成され、該外部導体と前記アース板と
を電気的に接触状態とする導通手段と、該導通手段を前
記外部導体に電気的に接触状態で固定する固定金具が設
けられていることを特徴とする。
電極と、該電極に対向するアース板とが設けられた真空
処理装置の内部にて用いられる真空ケーブルにおいて、
前記真空ケーブルは、中心導体と、該中心導体を覆う外
部導体とにより構成され、該外部導体と前記アース板と
を電気的に接触状態とする導通手段と、該導通手段を前
記外部導体に電気的に接触状態で固定する固定金具が設
けられていることを特徴とする。
【００１２】この発明によれば、固定金具を用いること
で、確実かつ容易に導通手段と外部導体とを電気的に接
続することができる。なお、導通手段と外部導体とは電
気的に接触していればよく、直接接していなくてもよ
い。
で、確実かつ容易に導通手段と外部導体とを電気的に接
続することができる。なお、導通手段と外部導体とは電
気的に接触していればよく、直接接していなくてもよ
い。
【００１３】請求項４に記載の発明は、真空容器内に電
極が設けられた真空処理装置の内部にて用いられる真空
ケーブルにおいて、ケーブル先端に先端金具が設けら
れ、該先端金具の先端部には円柱状の円柱部と、円柱部
先端に設けられ該円柱部に対してケーブル長手方向にね
じ込み可能であって前記円柱部の端面との間で前記電極
が挟まれる係止ねじとを備えていることを特徴とする。
極が設けられた真空処理装置の内部にて用いられる真空
ケーブルにおいて、ケーブル先端に先端金具が設けら
れ、該先端金具の先端部には円柱状の円柱部と、円柱部
先端に設けられ該円柱部に対してケーブル長手方向にね
じ込み可能であって前記円柱部の端面との間で前記電極
が挟まれる係止ねじとを備えていることを特徴とする。
【００１４】この発明においては、円柱部の端面と係止
ねじとの間に電極を挟み込み、係止ねじを円柱部により
ねじ込む。これにより確実に固定可能であり、円柱部の
端面と電極の接触面間に真空容器内で発生した各種ラジ
カル物質が直接入り込み、反応生成物が付着したり、腐
蝕をおこしたりして電気特性が不安定になり、プラズマ
発生が不安定になることを防止する。
ねじとの間に電極を挟み込み、係止ねじを円柱部により
ねじ込む。これにより確実に固定可能であり、円柱部の
端面と電極の接触面間に真空容器内で発生した各種ラジ
カル物質が直接入り込み、反応生成物が付着したり、腐
蝕をおこしたりして電気特性が不安定になり、プラズマ
発生が不安定になることを防止する。
【００１５】請求項５に記載の発明は、真空容器内に、
電極と、該電極に対向するアース板とが設けられた真空
処理装置の内部にて用いられる真空ケーブルにおいて、
中心導体と、該中心導体を覆う外部導体とを備えている
とともに、外周面がフレキシブルチューブで覆われてお
り、さらに、前記外部導体と前記アース板とを電気的に
接触状態とする導通手段と、該導通手段を前記外部導体
に電気的に接触状態で固定する固定金具とを備え、前記
導通手段は、前記アース板に対してボルト留めされ、ケ
ーブル先端には先端金具が設けられ、該先端金具の先端
部には円柱状の円柱部と、円柱部先端に設けられ該円柱
部に対してケーブル長手方向にねじ込み可能であって前
記円柱部の端面との間で前記電極が挟まれる係止ねじと
を備えていることを特徴とする。
電極と、該電極に対向するアース板とが設けられた真空
処理装置の内部にて用いられる真空ケーブルにおいて、
中心導体と、該中心導体を覆う外部導体とを備えている
とともに、外周面がフレキシブルチューブで覆われてお
り、さらに、前記外部導体と前記アース板とを電気的に
接触状態とする導通手段と、該導通手段を前記外部導体
に電気的に接触状態で固定する固定金具とを備え、前記
導通手段は、前記アース板に対してボルト留めされ、ケ
ーブル先端には先端金具が設けられ、該先端金具の先端
部には円柱状の円柱部と、円柱部先端に設けられ該円柱
部に対してケーブル長手方向にねじ込み可能であって前
記円柱部の端面との間で前記電極が挟まれる係止ねじと
を備えていることを特徴とする。
【００１６】この発明においては、フレキシブルチュー
ブによって覆われる部分が汚染、腐蝕から守られる。ま
た、ボルトによって導通手段とアース板とが固定される
ため、確実かつ容易にこれらを固定することができ、ま
た、作業性の向上が図られる。固定金具を用いること
で、確実かつ容易に導通手段を定することができる。な
お、導通手段と外部導体とは電気的に接触していればよ
く、直接接していなくてもよい。さらに、円柱部の端面
と係止ねじとの間に電極を挟み込み、係止ねじを円柱部
によりねじ込む。これにより確実に固定可能でり、且つ
円柱部の端面と電極の接触面間に真空容器内で発生した
各種ラジカル物質が直接入り込み、反応生成物が付着し
たり、腐蝕をおこしたりして電気特性が不安定になるこ
とを防止し、安定にプラズマを発生することができる。
ブによって覆われる部分が汚染、腐蝕から守られる。ま
た、ボルトによって導通手段とアース板とが固定される
ため、確実かつ容易にこれらを固定することができ、ま
た、作業性の向上が図られる。固定金具を用いること
で、確実かつ容易に導通手段を定することができる。な
お、導通手段と外部導体とは電気的に接触していればよ
く、直接接していなくてもよい。さらに、円柱部の端面
と係止ねじとの間に電極を挟み込み、係止ねじを円柱部
によりねじ込む。これにより確実に固定可能でり、且つ
円柱部の端面と電極の接触面間に真空容器内で発生した
各種ラジカル物質が直接入り込み、反応生成物が付着し
たり、腐蝕をおこしたりして電気特性が不安定になるこ
とを防止し、安定にプラズマを発生することができる。
【００１７】請求項６に記載の発明は、真空容器内に、
電極と、該電極に対向するアース板とが設けられた真空
プラズマ処理装置であって、請求項１から５いずれかに
記載の真空ケーブルが、前記電極に接続されていること
を特徴とする。
電極と、該電極に対向するアース板とが設けられた真空
プラズマ処理装置であって、請求項１から５いずれかに
記載の真空ケーブルが、前記電極に接続されていること
を特徴とする。
【００１８】この発明によれば、真空プラズマ処理装置
において、安定してプラズマを発生させることができ
る。
において、安定してプラズマを発生させることができ
る。
【００１９】
【発明の実施の形態】次に、本発明の第１実施形態につ
いて、図面を参照して説明する。なお、上記従来例と同
一の構成については同一の符号を用い、その説明を省略
する。図１に示したものは、本発明の第１実施形態とし
て示した真空ＲＦケーブルである。図において符号６０
は外部導体３２を覆うフレキシブルチューブであり、柔
軟に曲げることができる。このフレキシブルチューブ６
０は導体であり、フレキシブルチューブ６０の外側から
金属板（導通手段）５０が固定部５１によって固定され
ている。これにより、外部導体３２は防着板（アース
板）２２に導通状態にある。
いて、図面を参照して説明する。なお、上記従来例と同
一の構成については同一の符号を用い、その説明を省略
する。図１に示したものは、本発明の第１実施形態とし
て示した真空ＲＦケーブルである。図において符号６０
は外部導体３２を覆うフレキシブルチューブであり、柔
軟に曲げることができる。このフレキシブルチューブ６
０は導体であり、フレキシブルチューブ６０の外側から
金属板（導通手段）５０が固定部５１によって固定され
ている。これにより、外部導体３２は防着板（アース
板）２２に導通状態にある。
【００２０】このように構成されている本例の真空ＲＦ
ケーブルにおいては、外部導体３２がフレキシブルチュ
ーブ６０によって保護されているため、外部導体３２の
腐蝕、汚染が防止され、長寿命化が実現することによ
り、安定してプラズマを発生させることができる。ま
た、金属製のメッシュである外部導体３２が保護される
ため、作業中における外部導体３２の破損を防止するこ
とができる。
ケーブルにおいては、外部導体３２がフレキシブルチュ
ーブ６０によって保護されているため、外部導体３２の
腐蝕、汚染が防止され、長寿命化が実現することによ
り、安定してプラズマを発生させることができる。ま
た、金属製のメッシュである外部導体３２が保護される
ため、作業中における外部導体３２の破損を防止するこ
とができる。
【００２１】なお、フレキシブルチューブ６０は導体で
なくてもよい。導体でない場合には、図２に示すよう
に、先端から固定部５１まではフレキシブルチューブ６
０を設けず、金属板５０と外部導体３２とを直接接触さ
せるようにすればよい。
なくてもよい。導体でない場合には、図２に示すよう
に、先端から固定部５１まではフレキシブルチューブ６
０を設けず、金属板５０と外部導体３２とを直接接触さ
せるようにすればよい。
【００２２】次に、本発明の第２実施形態について説明
する。なお、上記従来例と同一の構成については同一の
符号を用い、その説明を省略する。図３に示すように、
本例においては、金属板５０が防着板２２にボルト６５
によって固定されている。また、フレキシブルチューブ
６０と金属板５０とは、固定金具６７により締結されて
いる。この金具６７は一対の締結部材からなり、ボルト
６８によってこれら締結部材が互いに締結されること
で、金属板５０とフレキシブルチューブ６０とが締結さ
れるようになっている。
する。なお、上記従来例と同一の構成については同一の
符号を用い、その説明を省略する。図３に示すように、
本例においては、金属板５０が防着板２２にボルト６５
によって固定されている。また、フレキシブルチューブ
６０と金属板５０とは、固定金具６７により締結されて
いる。この金具６７は一対の締結部材からなり、ボルト
６８によってこれら締結部材が互いに締結されること
で、金属板５０とフレキシブルチューブ６０とが締結さ
れるようになっている。
【００２３】このように、本例の真空ＲＦケーブルにお
いては、ボルト６５および固定金具６７により、確実に
防着板２２と外部導体３２とを電気的に接触させること
ができるため、安定してプラズマを発生させることがで
きる。さらに、固定の際の作業性を向上させることがで
きる。
いては、ボルト６５および固定金具６７により、確実に
防着板２２と外部導体３２とを電気的に接触させること
ができるため、安定してプラズマを発生させることがで
きる。さらに、固定の際の作業性を向上させることがで
きる。
【００２４】次に、本発明の第３実施形態について説明
する。なお、上記従来例と同一の構成については同一の
符号を用い、その説明を省略する。図４において、符号
７０は係止ねじである。係止ねじ７０は、円柱部３９の
先端にねじ込み可能となっている。また、係止ねじ７０
のねじ頭７０ａおよび円柱部３９は、ラダー電極１３の
横グリッド１３ａに設けられた切り込み５２ｂを通り抜
けない程度の径になっている。
する。なお、上記従来例と同一の構成については同一の
符号を用い、その説明を省略する。図４において、符号
７０は係止ねじである。係止ねじ７０は、円柱部３９の
先端にねじ込み可能となっている。また、係止ねじ７０
のねじ頭７０ａおよび円柱部３９は、ラダー電極１３の
横グリッド１３ａに設けられた切り込み５２ｂを通り抜
けない程度の径になっている。
【００２５】このように構成された本例の真空ＲＦケー
ブルにおいては、係止ねじ７０を円柱部３９に十分ねじ
込んでいない状態で、円柱部３９の端面および稼働金具
４５とねじ頭７０ａとの間に横グリッド１３ａを挟んだ
状態で、先端金具３８を切り欠き５２ｂに挿入する。そ
して、係止ねじ７０を円柱部３９に十分にねじ込む。こ
のようにすることで、稼働金具４５の稼働金具押付ばね
４７による押し付け力に加え、係止ねじ７０による締結
力が働くため、先端金具３８を確実にラダー電極１３に
固定することができ、且つ円柱部の端面と電極の接触面
間に真空容器内で発生した各種ラジカル物質が直接入り
込み、反応生成物が付着したり、腐蝕をおこしたりして
電気特性が不安定になることを防止し、したがって、プ
ラズマを安定して発生させることができる。
ブルにおいては、係止ねじ７０を円柱部３９に十分ねじ
込んでいない状態で、円柱部３９の端面および稼働金具
４５とねじ頭７０ａとの間に横グリッド１３ａを挟んだ
状態で、先端金具３８を切り欠き５２ｂに挿入する。そ
して、係止ねじ７０を円柱部３９に十分にねじ込む。こ
のようにすることで、稼働金具４５の稼働金具押付ばね
４７による押し付け力に加え、係止ねじ７０による締結
力が働くため、先端金具３８を確実にラダー電極１３に
固定することができ、且つ円柱部の端面と電極の接触面
間に真空容器内で発生した各種ラジカル物質が直接入り
込み、反応生成物が付着したり、腐蝕をおこしたりして
電気特性が不安定になることを防止し、したがって、プ
ラズマを安定して発生させることができる。
【００２６】なお、本例では稼働金具４５を稼働金具押
付ばね４７によって押し付けることとしたが、これを設
けずに係止ねじ７０による締結だけであってもよい。ま
た、上記各実施形態を互いに組み合わせてもよいのはも
ちろんである。
付ばね４７によって押し付けることとしたが、これを設
けずに係止ねじ７０による締結だけであってもよい。ま
た、上記各実施形態を互いに組み合わせてもよいのはも
ちろんである。
【００２７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明においては
以下の効果を得ることができる。請求項１に記載の発明
によれば、フレキシブルチューブによって覆われる部分
が汚染、腐蝕から守られるため、長寿命化が実現するこ
とにより、安定してプラズマを発生させることができ
る。請求項２に記載の発明によれば、ボルトによって導
通手段とアース板とが固定されるため、確実にこれら電
気的に接触させることができるため、安定してプラズマ
を発生させることができる。さらに、固定の際の作業性
を向上させることができる。請求項３に記載の発明によ
れば、固定金具を用いることで、確実かつ容易に導通手
段と外部導体とを電気的に接続することができる。請求
項４に記載の発明によれば、ケーブル先端の先端金具を
電極に確実に固定することができ、且つ接触部を汚染、
腐蝕から守ことができるため、安定してプラズマを発生
させることができる。請求項５に記載の発明によれば、
安定してプラズマを発生することができる真空ケーブル
を実現することができる。請求項６に記載の発明によれ
ば、安定してプラズマを発生することができる真空プラ
ズマ処理装置を実現することができる。
以下の効果を得ることができる。請求項１に記載の発明
によれば、フレキシブルチューブによって覆われる部分
が汚染、腐蝕から守られるため、長寿命化が実現するこ
とにより、安定してプラズマを発生させることができ
る。請求項２に記載の発明によれば、ボルトによって導
通手段とアース板とが固定されるため、確実にこれら電
気的に接触させることができるため、安定してプラズマ
を発生させることができる。さらに、固定の際の作業性
を向上させることができる。請求項３に記載の発明によ
れば、固定金具を用いることで、確実かつ容易に導通手
段と外部導体とを電気的に接続することができる。請求
項４に記載の発明によれば、ケーブル先端の先端金具を
電極に確実に固定することができ、且つ接触部を汚染、
腐蝕から守ことができるため、安定してプラズマを発生
させることができる。請求項５に記載の発明によれば、
安定してプラズマを発生することができる真空ケーブル
を実現することができる。請求項６に記載の発明によれ
ば、安定してプラズマを発生することができる真空プラ
ズマ処理装置を実現することができる。
【図１】 本発明の第１実施形態として示した真空ＲＦ
ケーブルである。
ケーブルである。
【図２】 同真空ＲＦケーブルの変形例である。
【図３】 本発明の第２実施形態として示した真空ＲＦ
ケーブルである。
ケーブルである。
【図４】 本発明の第３実施形態として示した真空ＲＦ
ケーブルである。
ケーブルである。
【図５】 プラズマＣＶＤ装置の概略構成を示した斜視
図である。
図である。
【図６】 同プラズマＣＶＤ装置におけるラダー電極と
防着板を示した図である。
防着板を示した図である。
【図７】 従来の真空ＲＦケーブルを示した図である。
【図８】 従来の真空ＲＦケーブルをラダー電極１３に
接続する状態を示した図である。
接続する状態を示した図である。
【符号の説明】
１３ ラダー電極
２２ 防着板（アース板）
３１ 中心導体
３２ 外部導体
３８ 先端金具
３９ 円柱部
５０ 金属板（導通手段）
６０ フレキシブルチューブ
７０ 係止ねじ
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 笹川 英四郎
長崎県長崎市飽の浦町１番１号 三菱重工
業株式会社長崎造船所内
(72)発明者 大坪 栄一郎
長崎県長崎市飽の浦町１番１号 三菱重工
業株式会社長崎造船所内
Ｆターム(参考） 4G075 AA24 AA30 BC04 BC06 BD14
CA02 CA13 CA65 DA01 EB01
EB41 EC21 EC30
5F045 AA08 AC01 BB14 EH04
5G313 AB02 AB10 AD08 AE01 AE08
Claims (6)
- 【請求項１】 真空下において用いられる真空処理装置
の真空ケーブルにおいて、 外周面がフレキシブルチューブで覆われていることを特
徴とする真空ケーブル。 - 【請求項２】 真空容器内に、電極と、該電極に対向す
るアース板とが設けられた真空処理装置の内部にて用い
られる真空ケーブルにおいて、 前記真空ケーブルは、中心導体と、該中心導体を覆う外
部導体とを備え、該外部導体と前記アース板とを電気的
に接触状態とする導通手段が設けられ、 該導通手段は、前記アース板に対してボルト留めされる
ことを特徴とする真空ケーブル。 - 【請求項３】 真空容器内に、電極と、該電極に対向す
るアース板とが設けられた真空処理装置の内部にて用い
られる真空ケーブルにおいて、 前記真空ケーブルは、中心導体と、該中心導体を覆う外
部導体とにより構成され、該外部導体と前記アース板と
を電気的に接触状態とする導通手段と、該導通手段を前
記外部導体に電気的に接触状態で固定する固定金具が設
けられていることを特徴とする真空ケーブル。 - 【請求項４】 真空容器内に電極が設けられた真空処理
装置の内部にて用いられる真空ケーブルにおいて、 ケーブル先端に先端金具が設けられ、該先端金具の先端
部には円柱状の円柱部と、円柱部先端に設けられ該円柱
部に対してケーブル長手方向にねじ込み可能であって前
記円柱部の端面との間で前記電極が挟まれる係止ねじと
を備えていることを特徴とする真空ケーブル。 - 【請求項５】 真空容器内に、電極と、該電極に対向す
るアース板とが設けられた真空処理装置の内部にて用い
られる真空ケーブルにおいて、 中心導体と、該中心導体を覆う外部導体とを備えている
とともに、外周面がフレキシブルチューブで覆われてお
り、 さらに、前記外部導体と前記アース板とを電気的に接触
状態とする導通手段と、該導通手段を前記外部導体に電
気的に接触状態で固定する固定金具とを備え、前記導通
手段は、前記アース板に対してボルト留めされ、 ケーブル先端には先端金具が設けられ、該先端金具の先
端部には円柱状の円柱部と、円柱部先端に設けられ該円
柱部に対してケーブル長手方向にねじ込み可能であって
前記円柱部の端面との間で前記電極が挟まれる係止ねじ
とを備えていることを特徴とする真空ケーブル。 - 【請求項６】 真空容器内に、電極と、該電極に対向す
るアース板とが設けられた真空プラズマ処理装置であっ
て、請求項１から５いずれかに記載の真空ケーブルが、
前記電極に接続されていることを特徴とする真空プラズ
マ処理装置。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP2001260145A JP3702206B2 (ja) | 2001-08-29 | 2001-08-29 | 真空ケーブルおよび真空プラズマ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001260145A JP3702206B2 (ja) | 2001-08-29 | 2001-08-29 | 真空ケーブルおよび真空プラズマ処理装置 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003068499A true JP2003068499A (ja) | 2003-03-07 |
| JP3702206B2 JP3702206B2 (ja) | 2005-10-05 |
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| JP2001260145A Expired - Fee Related JP3702206B2 (ja) | 2001-08-29 | 2001-08-29 | 真空ケーブルおよび真空プラズマ処理装置 |
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| JP (1) | JP3702206B2 (ja) |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JPH06163186A (ja) * | 1992-09-25 | 1994-06-10 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | プラズマ測定用プローブ |
| JPH06349594A (ja) * | 1993-06-07 | 1994-12-22 | Mitsubishi Electric Corp | プラズマ発生装置 |
| JPH07122502A (ja) * | 1993-10-21 | 1995-05-12 | Nec Corp | プラズマ加工装置 |
| JP2000003878A (ja) * | 1998-04-15 | 2000-01-07 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 放電電極及びそれを用いた高周波プラズマ発生装置並びに給電方法 |
| JP2002093597A (ja) * | 2000-09-14 | 2002-03-29 | Miura Gakuen | プラズマ発生用アンテナ、プラズマ処理装置、プラズマ処理方法、及び被処理物の製造方法、並びに半導体装置の製造方法 |
-
2001
- 2001-08-29 JP JP2001260145A patent/JP3702206B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
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| JP3702206B2 (ja) | 2005-10-05 |
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