JP2003068452A - 光分解性染料を用いたel素子 - Google Patents

光分解性染料を用いたel素子

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JP2003068452A JP2001254698A JP2001254698A JP2003068452A JP 2003068452 A JP2003068452 A JP 2003068452A JP 2001254698 A JP2001254698 A JP 2001254698A JP 2001254698 A JP2001254698 A JP 2001254698A JP 2003068452 A JP2003068452 A JP 2003068452A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 簡易に製造できるEL素子、特に遮光層の形
成や発光層のパターニングが簡易にできるEL素子の提
供。 【解決手段】 第1電極と、前記第1電極上に形成され
たEL層と、前記EL層上に形成された第2電極から少
なくともなり、前記第1電極と前記第2電極の少なくと
も一方が透明または半透明であるEL素子であって、前
記EL素子に、光分解性染料含有層を少なくとも1層設
ける。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、EL(エレクトロ
ルミネッセンス)素子、特に光分解性染料含有層を設け
た有機EL素子に関する。
【0002】
【従来の技術】EL素子は自発光の面状表示素子として
の使用が注目されている。その中でも、有機物質を発光
材料として用いた有機薄膜ELディスプレイは、印加電
圧が10V弱であっても高輝度な発光が実現するなど発
光効率が高く、単純な素子構造で発光が可能で、特定の
パターンを発光表示させる広告その他低価格の簡易表示
用ディスプレイや動画を表示するフルカラーディスプレ
イへの応用が期待されている。
【0003】このようなEL素子でフルカラーディスプ
レイパネルを作成するためには、青、緑、赤に発光する
有機発光層や遮光層を精度良くパターニングすることが
求められる。このパターニングにおいては、印刷やイン
クジェットマスク蒸着その他の方法を用い、ELパネル
作成基板上に位置あわせのためのアライメントマークを
設けることが一般的である。しかしながら、このアライ
メントマークは従来はCr蒸着やITOのエッチングな
どで作成していたので製造コストの上昇要因となってい
た。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、簡易
に製造できるEL素子、特に遮光層の形成や発光層のパ
ターニングが簡易に精度良く形成できるEL素子とその
製造方法を提供することである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者は、光照射によ
り退色する光分解性染料を用いることにより、遮光層の
形成、アライメントマークの形成や、好ましくはぬれ性
の違いにより発光層のパターニングを簡易に実現できる
EL素子を提供できることを見出し、本発明を完成させ
た。
【0006】したがって、本発明のEL素子は、第1電
極と、前記第1電極上に形成されたEL層と、前記EL
層上に形成された第2電極から少なくともなり、前記第
1電極と前記第2電極の少なくとも一方が透明または半
透明であるEL素子であって、前記EL素子に、光分解
性染料含有層を少なくとも1層設けることを特徴とする
ものである。
【0007】
【発明の実施の形態】EL素子 本発明のEL素子は、第1電極と、前記第1電極上に形
成されたEL層と、前記EL層上に形成された第2電極
と、いずれかの位置に設けられた1層以上の光分解性染
料含有層から少なくともなる。EL層(好ましくは有機
EL層)は、発光層単層でもよいが、さらにバッファー
層、正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層、電子注入層
等を適宜組み合せて、多層構造にすることが好ましい。
【0008】また、本発明のEL素子は、好ましくは、
第1電極または第2電極が透明または半透明電極であ
り、この電極がパターニングされたものであり、前記電
極上に基体が設けられ、さらに前記EL層が少なくとも
2層からなることができる。また好ましくは、本発明の
EL素子は、前記EL素子に少なくとも1層の光触媒含
有層を有することができる。また、ブラックマトリクス
など、画素間に遮光層を設けることもできる。
【0009】光分解性染料含有層 (光分解性染料含有層)本発明のEL素子に用いられ
る、光分解性染料含有層は、光照射により染料化合物が
分解し、光照射量の増大に伴い退色して無色となる染料
および/または無色となった染料(変化後に固定化処理
をしたものを含む)を含む層であれば限定されない。
【0010】(光分解性染料含有層の形状、配置)本発
明のEL素子において、光分解性染料含有層はEL素子
のどの部位に設けることもできる。また、1層に限らず
複数層設けることもできる。典型的には、基体、光分解
性染料含有層、第1電極、EL層、第2電極の順番に構
成したEL素子や、第1電極、EL層、第2電極、光分
解性染料含有層、基体の順番に構成したEL素子が挙げ
られる。このような層構成の場合、光分解性染料含有層
の電気的特性がEL層に影響を与えないため光分解性染
料の選択の自由度が高まる点において好ましい。一方、
電極間に光分解性染料含有層を設ける場合には、光分解
性染料含有層層が、電荷を輸送する層(例えばバッファ
ー層、電荷輸送層、電荷注入層など)として作用し、発
光特性を低下させないことが求められるので材料設計上
制約が生じるが、そのような材料であれば用いることが
できる。
【0011】また、本発明のEL素子において、光分解
性染料をEL素子を構成するいずれかの層に添加し、そ
の層の機能と光分解性染料含有層の機能を兼ねることも
できる。光分解性染料を添加するEL素子を構成する層
は特に限定されないが、例えば本発明のEL素子の好適
態様において設けられる光触媒含有層に添加することが
できる。この場合、さらに光触媒と光分解性染料をとも
に反応させることができる光でパターン露光をすると、
光触媒反応による濡れ性向上部分と染料分解部分が一致
して、例えば濡れ性向上部分に形成する発光層と光分解
による透明部分が一致したEL素子が簡便に製造できる
点で好ましい。
【0012】(光分解性染料含有層の作用)本発明にお
いては、光分解性染料含有層に遮光層としての機能をも
たせること、すなわち、ブラックマトリクスまたは特定
波長の光のみを遮光するものとすることができる。この
ような遮光層は、例えば、光分解性染料含有層の遮光部
分以外(EL素子発光領域に対応する部分)を光照射し
て分解させ、必要により固定処理を行うことにより簡便
に形成することができ、隣接する発光層からの異なる色
の光との混色、にじみを防止することができる。
【0013】本発明においては、光照射後の光分解性染
料含有層にアライメントマークとしての機能をもたせる
こと、すなわち、EL層などを例えばインクジェット、
電界ジェット、マスク蒸着などの方法で形成するときに
必要となることがある位置あわせの印とすることができ
る。このようなアライメントマークは目視またはCCD
などでのモニターにより簡単に見分けができる。また、
必要に応じ後工程で再度光照射して消去することもでき
る。
【0014】(光分解性染料)本発明に用いることので
きる光分解性染料は、光照射により染料化合物が分解
し、光照射量の増大に伴い退色して無色となる染料およ
び/または無色となった染料であれば限定されない。
【0015】また、光分解性染料を用いて遮光層を形成
する場合は、黒色の他、発光層の発光色に応じ、例えば
赤色発光層の周囲にはシアン、緑色発光層の周囲はマゼ
ンダ、青色発光層の周囲にはイエローとすることができ
る。
【0016】このような光分解性染料は、例えば、ジ置
換およびモノ置換パラフェニレンジアミン類、アミノハ
イドロキノンエーテル誘導体、アミノジフェニル、アミ
ノジフェニルアミン類、ヘテロ環アミン類、具体的に
は、(4−ジアゾ−N,Nジメチルアニリン)、(4−
ジアゾ−N,Nジエチルアニリン)、(4−ジアゾ−N
−エチル−N−β−ヒドロキシエチルアニリン)、(4
−ジアゾ−2,5−ジエトキシベンゾイルアニリン誘導
体)が挙げられる。
【0017】また光分解性染料は、好ましくは熱処理1
00〜150℃のオーブン、ホットプレート乾燥などに
よって、染料が分解されないものを用いることが好まし
い。このような染料としては紫外線で分解するローダミ
ン6G(純正化学株式会社)などが挙げられる。
【0018】(光分解性染料含有層の形成方法)光分解
性染料含有層の形成方法は特に限定されないが、例えば
光分解性染料を含んだ塗布液を、スプレーコート、ディ
ップコート、ロールコート、ビードコート、グラビア印
刷法、スピンコートなどの方法により塗布して形成する
ことができる。
【0019】光分解性染料等を含む塗布液を用いる場合
に、塗布液に使用することができる溶剤としては、特に
限定されない。
【0020】光分解性染料は熱によっても分解する場合
が多いので、光分解性染料含有層形成過程に熱乾燥を用
いる場合は、染料に応じ染料が分解しない程度の熱で乾
燥する。
【0021】(染料を分解させる照射光線)本発明にお
いて染料を分解させる照射光線は、光分解性染料を分解
できれば特に限定されない。このようなものとしては紫
外線(UV)、可視光線、赤外線の他、これらの光線よ
りもさらに短波長または長波長の電磁波、放射線である
ことができる。
【0022】光触媒含有層を有する場合は、好ましくは
光触媒含有層の反応波長帯と、光分解性染料含有層の反
応波長帯が少なくとも一部重なるものであり、その重な
る部分の波長の光を用いて、1度の光照射で光触媒含有
層と光分解性染料含有層の双方を反応させることが好ま
しい。
【0023】光触媒含有層 (光触媒含有層)本発明の好適態様において光触媒含有
層は、広く光照射によって濡れ性が今後変化し得る層お
よび既に変化した層を意味する。また、光触媒とは、こ
のような変化を引き起こすものであれば、どのような物
質であってもよい。光触媒含有層はパターン状に露光す
ることにより、濡れ性の変化によるパターンを形成する
ことができる。典型的には光照射しない部位は撥水性で
あるが、光照射した部位は高親水性となる。本発明の好
適態様においては、光触媒含有層の表面の濡れ性の違い
によるパターンを利用して光触媒含有層上に設けられる
層(EL層、第1電極、第2電極など)のパターンを簡
便に、品質良く形成することができる。例えば、インク
ジェット法などで、濡れ性の高い部位のみにこれらの層
の形成液を塗布する方法により、品質の良いパターンが
簡便に形成できる。
【0024】また、光触媒含有層は、どのような位置に
設けられてもよく、例えば、基体と第1電極との間、第
1電極とEL層との間、EL層が複数層からなる場合の
それらのEL層間またはEL層と第2電極との間、基体
が第2電極側に設けられる場合には第2電極と基体との
間が挙げられる。このうち光触媒含有層が第1電極とE
L層との間に設けられ、EL層をパターニングすること
が好ましい。さらに好ましくは、光触媒含有層を第1電
極と発光層との間に設け、光触媒含有層を正孔輸送層と
して用いることである。また、光触媒含有層は1層のみ
ではなく複数層形成してもよく、その場合は、光触媒含
有層上に形成される複数層のパターニングが容易かつ高
品質に実現できる。
【0025】光触媒含有層の膜厚は、薄すぎると濡れ性
の違いが明確には発現しなくなりパターニングが困難に
なること、厚すぎると正孔または電子の輸送を阻害しE
L素子の発光に悪影響を及ぼすため、好ましくは50〜
2000Å、より好ましくは300〜1000Åとす
る。
【0026】(濡れ性変化の原理)本発明の好適態様に
おいては、光の照射によって近傍の物質(バインダーな
ど)に化学変化を起こすことが可能な光触媒を用いて、
光照射を受けた部分に濡れ性の違いによるパターンを形
成する。光触媒による作用機構は、必ずしも明確なもの
ではないが、光の照射によって光触媒に生成したキャリ
アが、バインダーなどの化学構造を直接変化させ、ある
いは酸素、水の存在下で生じた活性酸素種によってバイ
ンダーなどの化学構造を変化させることにより、表面の
濡れ性が変化すると考えられる。
【0027】(光触媒材料)本発明の好適態様に用いら
れる光触媒材料としては、例えば光半導体として知られ
ている酸化チタン(TiO)、酸化亜鉛(ZnO)、
酸化すず(SnO)・チタン酸ストロンチウム(Sr
TiO)・酸化タングステン(WO)、酸化ビスマ
ス(Bi)、酸化鉄(Fe)のような金属
酸化物を挙げることができるが、特に酸化チタンが好ま
しい。酸化チタンは、バンドギャップエネルギーが高
く、化学的に安定であり、毒性もなく、入手も容易であ
る点で有利である。
【0028】光触媒としての酸化チタンにおいては、ア
ナターゼ型とルチル型のいずれも使用することができる
が、アナターゼ型酸化チタンが好ましい。具体的には例
えば、塩酸解膠型のアナターゼ型チタニアゾル(石原産
業(株)、ST−K03、平均結晶子径7nm)、硝酸
解膠型のアナターゼ型チタニアゾル(日産化学、TA−
15、平均結晶子径12nm)を挙げることができる。
【0029】光触媒含有層中の光触媒の量は、10〜9
5重量%であることが好ましく、50〜80重量%であ
ることがより好ましい。
【0030】(バインダー成分)本発明の好適態様に用
いられる光触媒含有層に用いることのできるバインダー
は、好ましくは主骨格が前記光触媒の光励起により分解
されないような高い結合エネルギーを有するものであ
り、例えば、(1)ゾルゲル反応等によりクロロまたは
アルコキシシラン等を加水分解、重縮合して大きな強度
を発揮するオルガノポリシロキサン、あるいは(2)撥
水性や撥油性に優れた反応性シリコーンを架橋したオル
ガノポリシロキサン等を挙げることができる。
【0031】前記(1)の場合、一般式YSiX
4−n(n=1〜3)で表される珪素化合物の1種また
は2種以上の加水分解縮合物、共加水分解化合物が主体
であることができる。前記一般式では、Yは例えばアル
キル基、フルオロアルキル基、ビニル基、アミノ基また
はエポキシ基であることができ、Xは例えばハロゲン、
メトキシル基、エトキシル基、またはアセチル基である
ことができる。
【0032】具体的には、メチルトリクロルシラン、メ
チルトリブロムシラン、メチルトリメトキシシラン、メ
チルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシ
ラン、メチルトリt−ブトキシシラン;エチルトリクロ
ルシラン、エチルトリブロムシラン、エチルトリメトキ
シシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリイソ
プロポキシシラン、エチルトリt−ブトキシシラン;n
−プロピルトリクロルシラン、n−プロピルトリブロム
シラン、n−プロピルトリメトキシシラン、n−プロピ
ルトリエトキシシラン、n−プロピルトリイソプロポキ
シシラン、n−プロピルトリt−ブトキシシラン;n−
ヘキシルトリクロルシラン、n−ヘキシルトリブロムシ
ラン、n−ヘキシルトリメトキシシラン、n−ヘキシル
トリエトキシシラン、n−ヘキシルトリイソプロポキシ
シラン、n−ヘキシルトリt−ブトキシシラン;n−デ
シルトリクロルシラン、n−デシルトリブロムシラン、
n−デシルトリメトキシシラン、n−デシルトリエトキ
シシラン、n−デシルトリイソプロポキシシラン、n−
デシルトリt−ブトキシシラン;n−オクタデシルトリ
クロルシラン、n−オクタデシルトリブロムシラン、n
−オクタデシルトリメトキシシラン、n−オクタデシル
トリエトキシシラン、n−オクタデシルトリイソプロポ
キシシラン、n−オクタデシルトリt−ブトキシシラ
ン;フェニルトリクロルシラン、フェニルトリブロムシ
ラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエト
キシシラン、フェニルトリイソプロポキシシラン、フェ
ニルトリt−ブトキシシラン;テトラクロルシラン、テ
トラブロムシラン、テトラメトキシシラン、テトラエト
キシシラン、テトラブトキシシラン、ジメトキシジエト
キシシラン;ジメチルジクロルシラン、ジメチルジブロ
ムシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエト
キシシラン;ジフェニルジクロルシラン、ジフェニルジ
ブロムシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニ
ルジエトキシシラン;フェニルメチルジクロルシラン、
フェニルメチルジブロムシラン、フェニルメチルジメト
キシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン;トリク
ロルヒドロシラン、トリブロムヒドロシラン、トリメト
キシヒドロシラン、トリエトキシヒドロシラン、トリイ
ソプロポキシヒドロシラン、トリt−ブトキシヒドロシ
ラン;ビニルトリクロルシラン、ビニルトリブロムシラ
ン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシ
ラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリt
−ブトキシシラン;トリフルオロプロピルトリクロルシ
ラン、トリフルオロプロピルトリブロムシラン、トリフ
ルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロ
ピルトリエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリイ
ソプロポキシシラン、トリフルオロプロピルトリt−ブ
トキシシラン;γ−グリシドキシプロピルメチルジメト
キシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリイソプロポキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリt−ブトキシシラン;γ−
メタアクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ
−メタアクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、
γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−メタアクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−
メタアクリロキシプロピルトリイソプロポキシシラン、
γ−メタアクリロキシプロピルトリt−ブトキシシラ
ン;γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−
アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエ
トキシシラン、γ−アミノプロピルトリイソプロポキシ
シラン、γ−アミノプロピルトリt−ブトキシシラン;
γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−
メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メル
カプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプ
ロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルト
リイソプロポキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリ
t−ブトキシシラン;β−(3,4−エポキシシクロヘ
キシル)エチルトリメトキシシラン、β−(3,4−エ
ポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン;お
よび、それらの部分加水分解物;およびそれらの混合物
を挙げることができる。
【0033】また、バインダーとして、特に好ましくは
フルオロアルキル基を含有するポリシロキサンを用いる
ことができ、具体的には、下記のフルオロアルキルシラ
ンのの1種または2種以上の加水分解縮合物、共加水分
解縮合物が挙げられ、また、一般にフッ素系シランカッ
プリング剤として知られているものを使用してもよい。
【0034】 CF(CFCHCHSi(OCH CF(CFCHCHSi(OCH CF(CFCHCHSi(OCH CF(CFCHCHSi(OCH (CFCF(CFCHCHSi(OC
(CFCF(CFCHCHSi(OC
(CFCF(CFCHCHSi(OC
CF(C)CSi(OCH CF(CF(C)CSi(OCH
CF(CF(C)CSi(OCH
CF(CF(C)CSi(OCH
CF(CFCHCHSiCH(OC
CF(CFCHCHSiCH(OC
CF(CFCHCHSiCH(OC
CF(CFCHCHSiCH(OC
(CFCF(CFCHCHSiCH
(OCH (CFCF(CFCHCHSiCH
(OCH (CFCF(CFCHCHSiCH
(OCH CF(C)CSiCH(OCH CF(CF(C)CSiCH
(OCH CF(CF(C)CSiCH
(OCH CF(CF(C)CSiCH
(OCH CF(CFCHCHSi(OCH
CF(CFCHCHSi(OCH
CF(CFCHCHSi(OCH
CF(CFCHCHSi(OCH
CF(CFSON(C)CCH
Si(OCH 上記のようなフルオロアルキル基を含有するポリシロキ
サンをバインダーとして用いることにより、光触媒含有
層の非光照射部の撥水性および撥油性が大きく向上す
る。
【0035】前記(2)の反応性シリコーンとしては、
下記一般式で表される骨格を持つ化合物を挙げることが
できる。
【0036】−(Si(R)(R)O)− ただし、nは2以上の整数、R、Rはそれぞれ炭素
数1〜10の置換もしくは非置換のアルキル、アルケニ
ル、アリールあるいはシアノアルキル基であることがで
きる。好ましくは全体の40モル%以下がビニル、フェ
ニル、ハロゲン化フェニルであることができる。また、
および/またはRがメチル基であるものが表面エ
ネルギーが最も小さくなるので好ましく、好ましくはメ
チル基が60モル%以上であり、鎖末端または側鎖に
は、分子鎖中に少なくとも1個以上の水酸基などの反応
性基を有する。
【0037】また、前記のオルガノポリシロキサンとと
もにジメチルポリシロキサンのような架橋反応を起こさ
ない安定なオルガノシリコン化合物をバインダーに混合
してもよい。
【0038】(光触媒含有層に用いるその他の成分)本
発明の好適態様に用いられる光触媒含有層には、未露光
部の濡れ性を低下させるため界面活性剤を含有させるこ
とができる。この界面活性剤は光触媒により分解除去さ
れるものであれば限定されないが、具体的には、好まし
くは例えば日本サーファクタント工業製:NIKKOL
BL、BC、BO、BBの各シリーズ等の炭化水素系
の界面活性剤、デュポン社製:ZONYL FSN、F
SO、旭硝子製:サーフロンS−141、145、大日
本インキ製:メガファックF−141、144、ネオス
製:フタージェントF−200、F251、ダイキン工
業製:ユニダインDS−401、402、スリーエム
製:フロラードFC−170、176等のフッ素系ある
いはシリコーン系の非イオン界面活性剤を挙げることが
できる。また、カチオン系、アニオン系、両性界面活性
剤を用いることもできる。
【0039】また、本発明に好適に用いられる光触媒含
有層には、他の成分、例えば、ポリビニルアルコール、
不飽和ポリエステル、アクリル樹脂、ポリエチレン、ジ
アリルフタレート、エチレンプロピレンジエンモノマ
ー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン、メ
ラミン樹脂、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリ
アミド、ポリイミド、スチレンブタジエンゴム、クロロ
プレンゴム、ポリプロピレン、ポリブチレン、ポリスチ
レン、ポリ酢酸ビニル、ナイロン、ポリエステル、ポリ
ブタジエン、ポリベンズイミダゾール、ポリアクリロニ
トリル、エピクロルヒドリン、ポリサルファイド、ポリ
イソプレン等のオリゴマー、ポリマーを含むことができ
る。
【0040】さらに、本発明に好適態様に用いられる光
触媒含有層には、光触媒の光活性を増感させる成分であ
る増感色素を含んでいてもよい。このような増感色素の
添加により、低い露光量で濡れ性を変化させるあるいは
異なる波長の露光で濡れ性を変化させることができる。
また、光触媒含有層には、EL材料を添加することもで
き、例えば、電荷注入材料または電荷輸送材料を混合す
ることによりEL素子の発光特性を向上させることがで
きる。
【0041】(光触媒含有層の形成方法)光触媒含有層
の形成方法は特に限定されないが、例えば光触媒を含ん
だ塗布液を、スプレーコート、ディップコート、ロール
コート、ビードコート、スピンコートなどの方法により
基材に塗布して形成することができる。
【0042】光触媒等を含む塗布液を用いる場合に、塗
布液に使用することができる溶剤としては、特に限定さ
れないが、例えばエタノール、イソプロパノール等のア
ルコール系の有機溶剤を挙げることができる。
【0043】(光触媒を作用させる照射光線)光触媒を
作用させるための照射光線は、光触媒を励起することが
できれば限定されない。このようなものとしては紫外
線、可視光線、赤外線の他、これらの光線よりもさらに
短波長または長波長の電磁波、放射線であることができ
る。
【0044】例えば光触媒として、アナターゼ型チタニ
アを用いる場合は、励起波長が380nm以下にあるの
で、光触媒の励起は紫外線により行うことができる。こ
のような紫外線を発するものとしては水銀ランプ、メタ
ルハライドランプ、キセノンランプ、エキシマレーザ
ー、その他の紫外線光源を使用することができる。
【0045】発光層 本発明のEL素子に設けられるEL層には少なくとも1
層の発光層が含まれている。この発光層は、蛍光を発す
る材料を含みEL発光するものであれば特に限定されな
い。発光機能と正孔輸送機能や電子輸送機能を兼ねてい
ることができる。使用する発光材料としては、例えば以
下のものが挙げられる。
【0046】<色素系>シクロペンタジエン誘導体、テ
トラフェニルブタジエン誘導体、トリフェニルアミン誘
導体、オキサジアゾール誘導体、ピラゾロキノリン誘導
体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン
誘導体、シロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジ
ン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴ
チオフェン誘導体、トリフマニルアミン誘導体、オキサ
ジアゾールダイマー、ピラゾリンダイマー。
【0047】<金属錯体系>アルミキノリノール錯体、
ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾー
ル亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜
鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、ユーロピウム錯体、
等、中心金属に、Al、Zn、Be等または、Tb、E
u、Dy等の希土類金属を有し、配位子にオキサジアゾ
ール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベ
ンゾイミダゾール、キノリン構造等を有する金属錯体。
【0048】<高分子系>ポリパラフェニレンビニレン
誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘
導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体等、ポ
リフルオレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、
上記色素系、金属錯体系発光材料を高分子化したもの。
【0049】<ドーピング材料>発光層中に発光効率の
向上、発光波長を変化させる等の目的でドーピングを行
うことができる。このドーピング材料としては例えば、
ペリレン誘導体、クマリン誘導体、ルブレン誘導体、キ
ナクリドン誘導体、スクアリウム誘導体、ポルフィリン
誘導体、スチリル系色素、テトラセン誘導体、ピラゾリ
ン誘導体、デカシクレン、フェノキサゾンが挙げられ
る。
【0050】その他のEL層 (バッファー層)本発明のEL層としては発光層の他に
バッファー層を挙げることができ、このバッファー層
は、発光層に電荷の注入が容易に行われるように、陽極
と発光層との間または陰極と発光層との間に設けられ
る、有機物、特に有機導電体などを含む層である。例え
ば、発光層への正孔注入効率を高めて、電極などの凹凸
を平坦化する機能を有する導電性高分子であることがで
きる。
【0051】(電荷輸送層)本発明のEL層としては電
荷輸送層も挙げることができ、この電荷輸送層には正孔
輸送層、および/または電子輸送層が含まれる。これら
は、例えば特願平9−155284号明細書に記載のも
のように、EL素子に一般に用いられるものであれば特
に限定されない。
【0052】(電荷注入層)本発明のEL層としては電
荷注入層も挙げることができ、この電荷注入層には正孔
注入層および/または電子注入層が含まれる。これら
は、例えば特願平9−155284号明細書に記載のも
ののように、EL素子に一般に用いられるものであれば
特に限定されない。
【0053】なお、以上の層を構成する、発光材料、正
孔輸送材料、または電子輸送材料は、それぞれ単独で使
用してもよいし、混合して使用してもよい。混合は、同
じ性質を持つ材料でも異なる性質を有する材料同士でも
よい。さらに、これらの材料を含む層は1層でも複数層
でもよい。
【0054】電極 本発明においては、電極は通常EL素子に用いられるも
のであれば限定されず、基体に先に設ける電極を第1電
極、EL層形成後に設ける電極を第2電極と呼ぶ。これ
らの電極の一方または双方がパターニングされているこ
とが好ましい。また、これらの電極は、陽極と陰極から
なり、陽極と陰極のどちらか一方が、透明または、半透
明であり、陽極としては、正孔が注入し易いように仕事
関数の大きい導電性材料が好ましく、逆に陰極として
は、電子が注入し易いように仕事関数の小さい導電性材
料が好ましい。また、複数の材料を混合させてもよい。
いずれの電極も、抵抗はできるだけ小さいものが好まし
く、一般には、金属材料が用いられるが、有機物あるい
は無機化合物を用いてもよい。
【0055】具体的な好ましい陽極材料としては、例え
ば、ITO、酸化インジウム、金が挙げられる。好まし
い陰極材料としては、例えばマグネシウム合金(MgA
g他)、アルミニウム合金(AlLi、AlCa、Al
Mg他)、金属カルシウムおよび仕事関数の小さい金属
が挙げられる。
【0056】基体 本発明において基体とは、その上に電極やEL層が設け
られるものであり、所望により透明材料からなることが
できるが、不透明材料であってもよい。本発明のEL素
子においては、基体は第1電極そのものであってもよい
が、通常は強度を保持する基体の表面に第1電極が、直
接または中間層を介して設けられる。
【0057】製造方法 本発明のEL素子の製造方法は、光分解性染料含有層や
光触媒含有層に対し、光照射によりパターニングする以
外は一般的なEL素子の製造方法を用いて製造すること
ができる。
【0058】この光照射の工程は、例えば、EL素子の
発光領域に対応する部分の光分解性染料含有層に光を照
射して、染料を分解して退色させる工程であることがで
き、また、EL素子の発光領域に対応する部分の光分解
性染料含有層および光触媒含有層に光を照射して、光分
解性染料含有層の色と光触媒含有層の濡れ性を変化させ
る工程であることができる。あるいは、光分解性染料含
有層をパターン露光して分解させてアライメントマーク
を形成する工程であることもできる。光触媒含有層を用
いてパターニングする方法としては、例えば、特願20
00−70493号明細書に記載の方法も用いることが
できる。
【0059】図1を用いて、本発明のEL素子の製造工
程の一例を説明する。図1(a)のような基体11上に
パターニングされた陽極(ITO)12が形成された基
板を洗浄する。光触媒含有層形成液に光分解性染料を混
合して光触媒・光分解性染料含有層形成液を調製し、前
記基板上にスピン塗布し、焼成乾燥して、図1(b)に
示すような正孔輸送層としても機能する光触媒・光分解
性染料含有層13を形成する。
【0060】その後、図1(c)のようにパターニング
された陽極に対応する発光層形成領域と、図中では基体
の末端にあるアライメントマーク形成領域に、マスク1
4を通して紫外線15を照射すると、紫外線照射部位1
3’である発光層形成領域とアライメントマーク形成領
域は、光触媒の作用により濡れ性が高まりかつ染料の光
分解により無色透明となり、それと同時にマスクされて
紫外線照射をしなかった部位13は、濡れ性が低くかつ
染料の色を呈する画像を鮮明にする遮光層となる。さら
に、図1(d)のように形成されたアライメントマーク
で正確な位置あわせをして、インクジェットを用いて濡
れ性が高まった発光層形成領域に発光層形成液を滴下し
て発光層16を形成する。次いで図1(e)のように発
光層16の上に第2電極17を形成し、封止剤18によ
り封止することによりEL素子が製造できる。
【0061】このように、光触媒、光分解性染料含有層
に光照射すると、光照射した部分は親水性かつ透明にな
り、光照射していない部分は撥水性でかつ呈色するとい
う2重の効果を生じ、発光層のパターニング、アライメ
ントマークの形成および混色を防ぐ遮光層の形成を同時
に行うことができる。
【0062】また、アライメントマークで位置あわせを
正確に行った後、インクジェットの代わりにマスク蒸着
により、発光層や第2電極を形成することもできる。
【0063】
【実施例】イソプロピルアルコール3gとアナターゼ型
チタニアゾル2gにフルオロアルコキシランを0.42
g混合し、100℃で10分間撹拌し、その後この溶液
に更にイソプロピルアルコールを16.26g混合し、
更に光分解性染料として、UVで分解する、ローダミン
6G(純正化学株式会社)を0.217g混合し、10
0℃で10分間撹拌し溶液Aを作製した。
【0064】パターニングされたITOガラス基板上に
洗浄処理と表面処理を施し、その上に溶液Aをスピンコ
ーターで塗布し150℃のホットプレート上で10分間
乾燥を行った。この溶液Aの塗布によって形成された膜
厚は80nmであった。
【0065】次にこの膜(光分解性染料・光触媒含有
層)面上に発光させたい領域およびアライメントマーク
に対応した部分を開口させたマスクを用いてその上から
水銀灯(主波長365nm,22mw/cm)により
20分間照射した。水銀灯を照射によりEL素子の発光
領域(有機EL発光層を塗布する部分)は親水性とな
り、その他の部分は撥水性をもち、さらに発光させたい
部分は透明、若しくは色が薄くなる半透明化し、非照射
部は色が残った。
【0066】形成した光分解性染料・光触媒含有層上に
有機EL発光層(緑色)形成溶液(ポリビニルカルバゾ
ールが7重量部、クマリン6が0.1重量部、オキサジ
アゾール化合物が3重量部、トルエンが5050重量部
からなる溶液)をディップコートにより塗布し、その後
90℃で1時間乾燥し有機EL発光層80nmの厚みの
膜を得た。
【0067】この後、発光領域部に電子注入層としてC
aを200Å、電極としてAgを2000Åマスク蒸着
し、EL素子を得た。
【0068】発光特性を調べたところ、2.5Vで発光
が開始し9Vほどで最高輝度2万Cdを得た。また、こ
のEL素子は緑色に発光し、一方で非発光部が赤色であ
るので、発光層からの出射光のうち非発光部へ発散する
光はこの赤色によって吸収された。このため、パターン
のコントラストが光分解性染料を用いないEL素子より
も向上した。
【0069】また、アライメントマークを用いて正確な
位置あわせを行い、ディップコート法の代わりにインク
ジェット法により上記の発光層形成液を塗布し、上記と
同様に有機EL素子を作成することもできた。
【0070】
【発明の効果】本発明によって、簡易に製造できるEL
素子、特に遮光層の形成や発光層のパターニングが簡易
に精度良く製造できるEL素子とその製造方法を提供で
きる。また、ガラス上にアレイメントマークを形成しな
くとも製造できるのでコストダウンが実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のEL素子の製造工程の一例を説明する
断面図である。
【符号の説明】
11 基体 12 陽極(ITO) 13 光触媒・光分解性染料含有層(紫外線未照射部
位) 13’ 光触媒・光分解性染料含有層の紫外線照射部位 14 マスク 15 紫外線 16 発光層 17 第2電極 18 封止剤

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】第1電極と、前記第1電極上に形成された
    EL層と、前記EL層上に形成された第2電極から少な
    くともなり、前記第1電極と前記第2電極の少なくとも
    一方が透明または半透明であるEL素子であって、 前記EL素子に、光分解性染料含有層を少なくとも1層
    設けることを特徴とする、EL素子。
  2. 【請求項2】基体と、前記基体上に形成された光分解性
    染料含有層と、前記光分解性染料含有層上に形成された
    第1電極と、前記第1電極上に形成されたEL層と、前
    記EL層上に形成された第2電極から少なくともなる、
    請求項1に記載のEL素子。
  3. 【請求項3】第1電極と、前記第1電極上に形成された
    EL層と、前記EL層上に形成された第2電極と、前記
    第2電極上に形成された光分解性染料含有層と、前記光
    分解性染料含有層上に形成された基体から少なくともな
    る、請求項1に記載のEL素子。
  4. 【請求項4】前記EL素子が少なくとも1層の光触媒含
    有層を有する、請求項1に記載のEL素子。
  5. 【請求項5】前記光触媒含有層に光分解性染料を含ませ
    ることにより、光触媒・光分解性染料含有層とする、請
    求項4に記載のEL素子。
  6. 【請求項6】基体と、前記基体上に形成された第1電極
    と、前記第1電極上に形成された光触媒・光分解性染料
    含有層と、前記光触媒・光分解性染料含有層上に形成さ
    れたEL層と、前記EL層上に形成された第2電極とか
    ら少なくともなる、請求項1に記載のEL素子。
  7. 【請求項7】前記光触媒含有層の反応波長帯と、前記光
    分解性染料含有層の反応波長帯が少なくとも一部重なる
    ものである、請求項4〜6のいずれか1項に記載のEL
    素子。
  8. 【請求項8】前記光分解性染料含有層の、EL素子発光
    領域に対応する部分の染料が光分解されている、請求項
    1に記載のEL素子。
  9. 【請求項9】前記光分解性染料含有層をパターン露光し
    て分解させて形成したアライメントマークを有する、請
    求項1に記載のEL素子。
  10. 【請求項10】請求項1に記載のEL素子を製造する方
    法であって、前記光分解性染料含有層の、EL素子発光
    領域に対応する部分の染料を光分解する工程を含む、E
    L素子の製造方法。
  11. 【請求項11】請求項1に記載のEL素子を製造する方
    法であって、前記光分解性染料含有層をパターン露光し
    て分解させてアライメントマークを形成する工程を含
    む、EL素子の製造方法。
  12. 【請求項12】請求項5または6に記載のEL素子を製
    造する方法であって、前記光分解性染料および光触媒を
    含有する層をパターン露光して、光照射により濡れ性が
    向上しかつ無色透明な部分と、光照射をしないことによ
    り濡れ性が低くかつ有色不透明な部分とを形成し、EL
    層形成用のパターニング、アライメントマークの形成お
    よび混色を防ぐ遮光層の形成を同時に行う工程を含む、
    EL素子の製造方法。
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