JP2003057633A - 液晶パネル、液晶装置及び電子機器 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 導通材と配線とが形成される構造の反射型表
示方式の液晶装置において有効表示領域の周りに支障な
く遮光領域を形成できる構造を提供する。 【解決手段】 それぞれが電極１４ａ，１４ｂを備えた
一対の基板２ａ，２ｂと、基板２ａ，２ｂを貼り合せた
シール材３と、一方の基板２ａ上に設けられた第１端子
と、他方の基板２ｂ上に設けられていてその基板２ｂ上
の電極１４ｂに接続する第２端子と、第１端子と前記第
２端子とを電気的に接続する導通材２１と、他方の基板
２ｂ上に設けられた反射膜と、一方の基板２ａ上に設け
られていて第１端子に接続している配線１９ｂと、配線
１９ｂと対応する部分の他方の基板２ｂ上の領域の少な
くとも一部に設けられた遮光膜２３とを有する液晶パネ
ルである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、外部からの光を反
射して液晶層に供給し、その光を該液晶層によって変調
して文字、数字、図形等といった像を表示する液晶装置
に関する。また、本発明は、その液晶装置を用いて構成
される電子機器に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、携帯電話機、携帯情報端末機等と
いった各種の電子機器の表示部として液晶装置が広く用
いられている。この液晶装置では、一般に、それぞれが
電極を備えた一対の基板を電極面が互いに対向するよう
に一定の間隙、いわゆるセルギャップを保って貼り合わ
され、さらにそのセルギャップ内に液晶が封入される。
この液晶装置としては、スイッチング素子によって液晶
を駆動するアクティブマトリクス方式の液晶装置や、ス
イッチング素子を用いないで液晶を駆動する単純マトリ
クス方式の液晶装置が知られている。また、アクティブ
マトリクス方式の液晶装置には、スイッチング素子とし
てＴＦＴ（Thin Film Transistor）等といった３端子型
のアクティブ素子を用いるものや、ＴＦＤ（Thin Film
Diode）等といった２端子型のアクティブ素子を用いた
ものがある。

【０００３】また、液晶装置として、外部からの光を反
射して液晶層に供給する構造の反射型表示を行うもの
と、液晶層の裏側に配置したバックライトから液晶層に
光を供給する構造の透過型表示を行うもの等が知られて
いる。

【０００４】従来の液晶装置として、特に反射型表示を
行う液晶装置として、例えば、図１０に示す構造のもの
が知られている。この液晶装置５１は、シール材５２に
よって貼り合わされた一対の基板５３ａ及び５３ｂを有
し、これらの基板の間に形成される空間内に、すなわち
セルギャップ内に、図１１に示すように、液晶が封入さ
れて液晶層Ｌが形成される。セルギャップは、第１基板
５３ａ又は第２基板５３ｂのいずれかの表面に分散され
たスペーサ６７によって一定の寸法に維持される。

【０００５】図１０において、第１基板５３ａの液晶Ｌ
側の表面には、複数の直線状のライン配線５６が互いに
平行に並べられてストライプ状に配列され、各ライン配
線５６にＴＦＤ素子５７を介して画素電極５４が形成さ
れている。ライン配線５６がストライプ状に形成されて
いることにより、画素電極５４はドットマトリクス状に
配列されている。画素電極５４が形成された第１基板５
３ａの表面には、図１１に示すように、配向膜５８ａが
形成される。

【０００６】なお、図１０では、画素電極５４及びＴＦ
Ｄ素子５７の構造をわかり易く示すために、それらを実
際よりも大きく模式的に示しており、さらに、隣り合う
それら同士の間隔も実際よりも大きく間を開けて模式的
に示している。

【０００７】第１基板５３ａは第２基板５３ｂの外側へ
張り出す基板張出し部５９ａを有し、その基板張出し部
５９ａの表面に液晶駆動用ＩＣ６１ａがＡＣＦ（Anisot
ropic Conductive Film）６５によって実装されてい
る。すなわち、ＣＯＧ（Chip OnGlass）方式の実装が成
されている。そして、各ライン配線５６がシール材５２
の外側へ延び出て、それらの先端が液晶駆動用ＩＣ６１
ａの端子すなわちバンプ（図示せず）に接続する。

【０００８】第２基板５３ｂの液晶Ｌ側の表面には、複
数の直線状の電極６２が互いに平行に並べられてストラ
イプ状に配列されている。これらの電極６２は、第１基
板５３ａ上のライン配線５６に対してほぼ直角に形成さ
れ、さらに各画素電極５４に対向する位置関係で形成さ
れている。

【０００９】第２基板５３ｂは第１基板５３ａの外側へ
張り出す基板張出し部５９ｂを有し、その基板張出し部
５９ｂの表面に液晶駆動用ＩＣ６１ｂがＡＣＦ６５によ
って実装されている。すなわち、ＣＯＧ（Chip On Glas
s）方式の実装が成されている。そして、各電極６２が
シール材５２の外側へ延び出て、それらの先端が液晶駆
動用ＩＣ６１ｂの端子すなわちバンプ（図示せず）に接
続する。

【００１０】図１１に示すように，第２基板５３ｂの液
晶Ｌ側の表面には反射膜６３が形成され、さらにその上
にカラーフィルタ膜６４が形成され、さらにその上にオ
ーバーコート層６６が形成されている。上記の電極６２
は、そのオーバーコート層６６の上に形成されており、
それらの電極６２の上には配向膜５８ｂが形成されてい
る。

【００１１】第１基板５３ａの外側表面には位相差板６
８ａが設けられ、さらにその上に偏光板６９ａが設けら
れる。また、第２基板５３ｂの外側表面には位相差板６
８ｂが設けられ、さらにその上に偏光板６９ｂが設けら
れる。

【００１２】図１０において、画素電極５４と対向電極
６２とが重なる点が１つのドットを構成し、この１つの
ドットに対応して図１１のカラーフィルタ膜６４の１つ
の色絵素、例えばＲ，Ｇ，Ｂのうちの１色絵素が配置さ
れる。そして、Ｒ，Ｇ，Ｂの３色ドットが１つのユニッ
トとなって１つの画素が形成される。

【００１３】図１０において、液晶駆動用ＩＣ６１ａ及
び６１ｂの一方は対応する画素電極５４又は対向電極６
２に走査信号を供給し、それらの液晶駆動用ＩＣ６１ａ
及び６１ｂの他方は対応する画素電極５４又は対向電極
６２にデータ信号を供給し、これにより、ドットマトリ
クス状に配列された複数の画素内の液晶の配向が制御さ
れる。

【００１４】図１１において、液晶装置５１の周りに太
陽光、室内光等といった外部光がある場合、第１基板５
３ａ側から入射した外部光が反射膜６３で反射して液晶
層Ｌへ供給される。こうして液晶層Ｌへ供給された光
は、画素毎に配向制御される液晶によって画素毎に変調
され、これにより、第１基板５３ａの外側に文字等とい
った像が表示される。

【００１５】図１０において、マトリクス状に配列され
た複数の画素電極５４によって区画される領域が駆動領
域、すなわち有効表示領域Ｖであり、文字、数字等とい
った像はこの有効表示領域Ｖ内に形成される。また、有
効表示領域Ｖの外側にはそれに連続してダミー画素領域
Ｗ１が形成され、さらにそのダミー画素領域Ｗ１の外側
にはそれに連続して金属膜領域Ｗ２が形成されている。

【００１６】ダミー画素領域Ｗ１には、形式的には画素
電極５４と同じ形状のパターンが形成される。しかしな
がら、ここに形成されるパターンはＩＴＯ（Indium Tin
Oxide）等といった透明電極材料ではなくて、電極に相
当する部分に非透明な金属膜が被されている。これによ
り、このダミー画素領域Ｗ１は遮光領域となっている。

【００１７】また、金属膜領域Ｗ２は、例えば、ＴＦＤ
素子５７を構成する金属、例えばＴａ（タンタル）によ
って形成されており、やはり、遮光領域となっている。
このように、有効表示領域Ｖとシール材５２との間に
は、遮光領域Ｗ１及びＷ２が形成されている。この遮光
領域Ｗ１及びＷ２は、有効表示領域Ｖの周囲を暗く、す
なわち光透過率を下げることにより、有効表示領域Ｖの
コントラストを高め、これにより、表示品質を高めるも
のである。

【００１８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図１０
に示した従来の液晶装置５１に関しては、液晶駆動用Ｉ
Ｃ６１ａを実装する基板張出し部５９ａ及び液晶駆動用
ＩＣ６１ｂを実装する基板張出し部５９ｂがそれぞれ異
なった方向へ張り出しているので、液晶装置５１の外形
形状が有効表示領域Ｖに関して左右非対称になり、それ
故、液晶装置５１の取り扱いが不便になるという問題が
あった。

【００１９】これを解消するため，本出願人は、図１２
に示すように、第１基板５３ａだけに基板張出し部５９
を設け、第１基板５３ａ側の液晶駆動用ＩＣ６１ａ及び
第２基板５３ｂ側の液晶駆動用ＩＣ６１ｂの両方をその
基板張り出し部５９に共通に実装した構造を提案した。
この液晶装置８１では、液晶駆動用ＩＣ６１ａ及び６１
ｂの両方が１つの基板張り出し部５９に集約的に実装さ
れるので、液晶装置８１の外形形状が有効表示領域Ｖに
関して左右対称になり、それ故、取り扱いが非常に楽に
なる。

【００２０】この液晶装置８１では、シール材５２の内
部に導通材７２が分散して混入される。そして、一端が
第２基板５３ｂ側の液晶駆動用ＩＣ６１ｂの端子、すな
わちバンプ（図示せず）に接続し、他端がシール材５２
の内部に進入して導通材７２に接触する配線７３を第１
基板５３ａの液晶側表面にライン配線５６と同時に形成
する。一方、第２基板５３ｂに形成する対向電極６２の
先端をシール材５２の内部にまで延長して導通材７２に
接触させる。以上により、第１基板５３ａ側の配線７３
と第２基板５３ｂ側の対向電極６２とが導通材７２を介
して互いに導電接続される。

【００２１】図１２に示した構造の液晶装置８１におい
ても、有効表示領域Ｖの周りには遮光領域を設けて表示
品質を向上することが望まれる。図１０に示した従来の
液晶装置５１に関しては有効表示領域Ｖの周りに遮光領
域を設けるために、ＴＦＤ素子５４を形成した第１基板
５３ａの表面であってその有効表示領域Ｖの周りにダミ
ー画素領域Ｗ１及び金属膜領域Ｗ２を形成した。このこ
とに鑑み、図１２の液晶装置８１に関しても第１基板５
３ａの有効表示領域Ｖの周りにダミー画素領域Ｗ１及び
金属膜領域Ｗ２を形成すれば、有効表示領域Ｖの周りに
遮光領域を設けることができて表示品質を向上すること
ができるように思われる。

【００２２】しかしながら、図１２の構造の液晶装置８
１では、ＴＦＤ素子５７や画素電極５４が形成される第
１基板５３ａの表面であって有効表示領域Ｖとシール材
５２との間に配線７３が形成されるので、この領域には
ダミー画素領域Ｗ１及び金属膜領域Ｗ２を形成すること
ができず、従って、この領域に遮光領域を設けることが
できないという新たな問題が発生した。

【００２３】本発明は、上記の問題点に鑑みて成された
ものであって、導通材と配線とが形成される構造の液晶
装置において有効表示領域の周りに支障なく遮光領域を
形成できる構造を提供することを目的とする。

【００２４】

【課題を解決するための手段】（１）上記の目的を達成
するため、本発明に係る液晶パネルは、それぞれが電極
を備えた一対の基板と、それらの基板を貼り合せたシー
ル材と、前記一対の基板のうち一方の基板上に設けられ
た第１端子と、前記一対の基板のうち他方の基板上に設
けられていて、前記他方の基板上の前記電極に接続して
いる第２端子と、前記第１端子と前記第２端子とを電気
的に接続するための導通材と、前記他方の基板上に設け
られた反射膜と、前記一方の基板上に設けられていて、
前記第１端子に接続している配線と、前記他方の基板上
の前記配線と対応する領域の少なくとも一部に設けられ
た遮光膜とを有することを特徴とする。

【００２５】この液晶パネルによれば、遮光膜が、配線
が形成された基板に形成されるのではなくて、その配線
に対向する基板側に形成される。従って、一方の基板の
表面に配線を形成しなければならない構造の液晶装置に
おいても何等の支障も無く有効表示領域の周りに遮光領
域を設けることができる。

【００２６】なお、図１２に示した構造の液晶装置８１
では配線７３が有効表示領域Ｖとシール材５２との間の
領域に設けられていた。この構造の液晶装置に対して本
発明が適用できるのはもちろんであるが、配線７３が有
効表示領域Ｖとシール材５２との間の領域以外の領域、
例えばシール材５２の外側に設けられるような構造の液
晶装置に対しても本発明を適用できる。

【００２７】（２）本発明に係る液晶パネルにおいて、
前記遮光膜は前記反射膜によって形成できる。この液晶
パネルによれば、反射膜の形成と同時に遮光膜を形成す
ることができるので、遮光膜を簡単、迅速且つ正確に形
成することができる。

【００２８】（３）また、本発明に係る液晶パネルにお
いて、前記遮光膜はカラーフィルタ膜によって形成でき
る。この液晶パネルによれば、カラーフィルタ膜の形成
と同時に遮光膜を形成することができるので、遮光膜を
簡単、迅速且つ正確に形成することができる。

【００２９】（４）また、本発明に係る液晶パネルにお
いて、前記遮光膜は前記反射膜と前記反射膜上に配置さ
れたカラーフィルタ膜とを有する構成とすることができ
る。この構成の液晶パネルによれば、遮光効率の高い遮
光領域を有効表示領域の周りに確実に形成することがで
きる。

【００３０】（５）また、本発明に係る液晶パネルにお
いて、前記カラーフィルタ膜は、第１着色層と前記第１
着色層上に配置された第２着色層とからなり、前記第１
着色層の色は赤、緑および青のいずれか又はシアン、マ
ゼンタおよびイエローのいずれかであり、前記第２着色
層の色は前記第１着色層と異なり、前記第１着色層およ
び前記第２着色層の色は部分的に異なるように構成でき
る。

【００３１】このような着色層の構造は、例えば図５に
示すような、赤、緑、青の３色から選択した２色の積層
色の平面的な配列によって構成することができる。ここ
に示す構成の液晶パネルによれば、単に、単一色のべた
塗り状態で遮光膜を形成する場合に比べて、一様な色合
いの遮光膜を得ることができる。

【００３２】（６）また、本発明に係る液晶パネルにお
いて、前記第１着色層および前記第２着色層の色は、有
効表示領域内のドットピッチと同じピッチで異なるよう
に構成できる。こうすれば、遮光膜の色を平面内で、よ
り一層一様にすることができる。

【００３３】（７）また、本発明に係る液晶パネルにお
いては、前記一方の基板上に電子部品を備え、前記配線
は前記電子部品に接続しているように構成できる。この
液晶パネルは、電子部品を基板上に直接に実装する構造
の、いわゆるＣＯＧ（Chip On Glass）方式の液晶パネ
ルである。ここで用いる電子部品としては、ＩＣチッ
プ、チップコンデンサ、チップコイル、チップ抵抗その
他種々のチップ部品が考えられる。

【００３４】（８）また、本発明に係る液晶パネルにお
いて、前記電子部品はＩＣチップとすることができる。
電子部品としては、ＩＣチップ以外に、チップコンデン
サ、チップコイル、チップ抵抗その他種々のチップ部品
が考えられるが、液晶パネルの分野では駆動用ＩＣが基
板上に直接に実装されることが多い。このような液晶パ
ネルの場合には、ＩＣチップに多数個の出力バンプが設
けられる場合があるから、それらに接続される配線の数
も多くなる傾向にある。従って、このような構成の液晶
パネルに本発明を適用すれば、配線の数が多くなるにも
拘らず、有効表示領域の周りに十分な遮光領域を形成で
きる。

【００３５】（９）次に、本発明に係る液晶パネルは、
画素電極、前記画素電極に接続している能動素子および
第１端子を備えた第１基板と、前記画素電極に対向する
ストライプ状の電極および前記電極に接続している第２
端子を備えた第２基板と、前記第１基板と前記第２基盤
とを貼り合わせたシール材と、前記第１基板と前記第２
端子とを電気的に接続するための導通材と、前記第２基
板上に設けられた反射膜と、前記第１基板上に設けられ
ていて、前記第１端子に接続している配線と、前記第２
基板上の前記配線と対応する領域の少なくとも一部に設
けられた遮光膜とを有することを特徴とする。

【００３６】この構成の液晶パネルは、能動素子をスイ
ッチング素子として用いる構造のアクティブマトリクス
型の液晶パネルに相当する。能動素子としては、例え
ば、ＴＦＤ素子、ＴＦＴ素子等が考えられる。このよう
な液晶パネルにおいて、能動素子を形成する基板上に配
線を形成する場合でも、本発明を適用することにより、
配線に邪魔されること無く、有効表示領域の周りに遮光
領域を正確に形成することができる。

【００３７】（１０）また、本発明に係る液晶パネルに
おいて、前記遮光層は前記反射膜によって形成できる。
この構成の液晶パネルによれば、反射膜の形成と同時に
遮光膜を形成することができるので、遮光膜を簡単、迅
速且つ正確に形成することができる。

【００３８】（１１）また、本発明に係る液晶パネルに
おいて、前記遮光膜はカラーフィルタ膜によって形成で
きる。この構成の液晶パネルによれば、カラーフィルタ
膜の形成と同時に遮光膜を形成することができるので、
遮光膜を簡単、迅速且つ正確に形成することができる。

【００３９】（１２）また、本発明に係る液晶パネルに
おいて、前記遮光膜は前記反射膜と前記反射膜上に配置
されたカラーフィルタ膜とによって形成できる。この構
成の液晶パネルによれば、遮光効率の高い遮光領域を有
効表示領域の周りに確実に形成することができる。

【００４０】（１３）また、本発明に係る液晶パネルに
おいて、前記カラーフィルタ膜は、第１着色層と前記第
１着色層上に配置された第２着色層とからなり、前記第
１着色層の色は赤，緑および青のいずれか又はシアン，
マゼンタおよびイエローのいずれかであり、前記第２着
色層の色は前記第１着色層と異なり、前記第１着色層お
よび前記第２着色層の色は部分的に異なるように構成で
きる。

【００４１】このような着色層の構造は、例えば図５に
示すような、赤、緑、青の３色から選択した２色の積層
色の平面的な配列によって構成することができる。ここ
に示す構成の液晶パネルによれば、単に、単一色のべた
塗り状態で遮光膜を形成する場合に比べて、一様な色合
いの遮光膜を得ることができる。

【００４２】（１４）また、本発明に係る液晶パネルに
おいて、前記第１着色層および前記第２着色層の色は、
有効表示領域内のドットピッチと同じピッチで異なるよ
うに構成できる。こうすれば、遮光膜の色を平面内で、
より一層一様にすることができる。

【００４３】（１５）また、本発明に係る液晶パネル
は、前記第１基板上に電子部品を備え、前記配線は前記
電子部品に接続しているように構成できる。この液晶パ
ネルは、電子部品を基板上に直接に実装する構造の、い
わゆるＣＯＧ（Chip On Glass）方式の液晶パネルであ
る。ここで用いる電子部品としては、ＩＣチップ、チッ
プコンデンサ、チップコイル、チップ抵抗その他種々の
チップ部品が考えられる。

【００４４】（１６）また、本発明に係る液晶パネルに
おいて、前記電子部品はＩＣチップによって構成でき
る。電子部品としては、ＩＣチップ以外に、チップコン
デンサ、チップコイル、チップ抵抗その他種々のチップ
部品が考えられるが、液晶パネルの分野では駆動用ＩＣ
が基板上に直接に実装されることが多い。このような液
晶パネルの場合には、ＩＣチップに多数個の出力バンプ
が設けられる場合があるから、それらに接続される配線
の数も多くなる傾向にある。従って、このような構造の
液晶パネルに本発明を適用すれば、配線の数が多くなる
にも拘らず、有効表示領域の周りに十分な遮光領域を形
成できる。

【００４５】（１７）また、本発明に係る液晶パネルに
おいて、前記能動素子はＴＦＤによって構成できる。

【００４６】（１８）また、本発明に係る液晶パネルに
おいて、前記遮光膜の少なくとも一部は前記シール材に
重なるように構成できる。

【００４７】遮光膜がシール材の手前位置で終わってい
ると、遮光膜の先端とシール材との間に隙間が形成さ
れ、その隙間から光が漏れ出て有効表示領域内の像のコ
ントラストを低下させて表示品質を低下させるおそれが
ある。これに対し、本発明のように、遮光膜をシール材
に重なるように構成すれば、遮光膜とシール材との間に
隙間が形成されることがなくなるので、光漏れによる表
示品質の低下を確実に回避できる。

【００４８】（１９）次に、本発明に係る液晶装置は、
以上に説明した構成の液晶パネルを備えることを特徴と
する。

【００４９】（２０）次に、本発明に係る電子機器は、
上記液晶装置を備えることを特徴とする。この構成の電
子機器によれば、液晶パネル又は液晶装置の有効表示領
域の周りに遮光領域を設けることによって鮮明な像を視
認できるようになる。

【００５０】

【発明の実施の形態】（第１実施形態）以下、本発明を
ＴＦＤ素子をスイッチング素子として用いるアクティブ
マトリクス方式でＣＯＧ方式の液晶装置に適用した場合
を例に挙げて説明する。図１は、その液晶装置の一実施
形態を示している。ここに示す液晶装置１は、図面の手
前側に配置された第１基板２ａと、図面の奥側に配置さ
れた第２基板２ｂとをシール材３によって互いに接合、
すなわち貼り合わせることによって形成される。

【００５１】シール材３、第１基板２ａ及び第２基板２
ｂによって囲まれる領域は高さが一定の間隙、いわゆる
セルギャップを構成する。さらに、シール材３の一部に
は液晶注入用開口３ａが形成される。上記のセルギャッ
プ内には、上記液晶注入用開口３ａを通して液晶が注入
され、その注入の完了後、液晶注入用開口３ａが樹脂等
によって封止される。

【００５２】図１において、第１基板２ａは第２基板２
ｂの外側へ張り出す基板張出し部２ｃを有し、その基板
張出し部２ｃ上に液晶駆動用ＩＣ４ａ及び４ｂが導電接
着要素、例えばＡＣＦ（Anisotropic Conductive Fil
m）６によって実装されている。液晶駆動用ＩＣ４ａと
液晶駆動用ＩＣ４ｂとは特性が異なるものであり、この
ように特性の異なる２種類の液晶駆動用ＩＣを用いるの
は、第１基板２ａ側と第２基板２ｂ側とで、換言すれ
ば、走査線駆動系と信号線駆動系との間で使用する電圧
値が異なっているため、それらを１つのＩＣチップで賄
うことができないからである。

【００５３】図２は、図１におけるＩＩ−ＩＩ線に従っ
て液晶装置１の断面構造を示している。図２において、
第１基板２ａは基材９ａを有し、その基材９ａの内側表
面、すなわち液晶Ｌ側の表面に複数の画素電極１４ａが
形成される。また、図１に示すように、第１基板２ａの
内側表面には、直線状の複数のライン配線３２が互いに
平行にストライプ状に形成され、それらのライン配線３
２に導通するようにＴＦＤ素子３３が形成され、それら
のＴＦＤ素子３３を介して複数の画素電極１４ａがドッ
トマトリクス状に形成される。また、画素電極１４ａ、
ＴＦＤ素子３３及びライン配線３２の上に、図２に示す
ように、配向膜１６ａが形成される。また、基材９ａの
外側表面には位相差板１７ａが形成され、さらにその上
に偏光板１８ａが形成される。

【００５４】図１及び図２において矢印ＩＶで示す１個
のＴＦＤ素子の近傍の構造を示すと、例えば図４の通り
である。図４に示すのは、いわゆるBack-to-Back（バッ
ク・ツー・バック）構造のＴＦＤ素子を用いたものであ
る。図４において、ライン配線３２は、例えば、ＴａＷ
（タンタル・タングステン）によって形成された第１層
３２ａと、例えば陽極酸化膜であるＴａ_２Ｏ_５（酸化タ
ンタル）によって形成された第２層３２ｂと、例えばＣ
ｒによって形成された第３層３２ｃとから成る３層構造
に形成されている。

【００５５】また、ＴＦＤ素子３３は、第１ＴＦＤ部３
３ａと第２ＴＦＤ部３３ｂとを直列に接続することによ
って構成されている。第１ＴＦＤ部３３ａ及び第２ＴＦ
Ｄ部３３ｂは、ＴａＷによって形成された第１金属層３
６と、陽極酸化によって形成されたＴａ_２Ｏ_５の絶縁層
３７と、ライン配線３２の第３層３２ｃと同一層である
Ｃｒの第２金属層３８との３層積層構造によって構成さ
れている。

【００５６】第１ＴＦＤ部３３ａは、ライン配線３２側
からの電流が第２金属層３８→絶縁層３７→第１金属層
３６の順で流れるような積層構造に構成される。他方、
第２ＴＦＤ部３３ｂは、ライン配線３２側からの電流が
第１金属層３６→絶縁層３７→第２金属層３８の順で流
れるような積層構造に構成される。このように一対のＴ
ＦＤ部３３ａ及び３３ｂを電気的に逆向きに直列接続し
てバック・ツー・バック構造のＴＦＤ素子を構成するこ
とにより、ＴＦＤ素子のスイッチング特性の安定化が達
成されている。画素電極１４ａは、第２ＴＦＤ部３３ｂ
の第２金属層３８に導通するように、例えばＩＴＯによ
って形成される。

【００５７】図２において、第２基板２ｂは基材９ｂを
有し、その基材９ｂの内側表面、すなわち液晶Ｌ側の表
面には反射膜１１が形成され、その上にカラーフィルタ
膜１２が形成され、その上にオーバーコート膜１３が形
成され、その上に第２電極１４ｂが形成され、さらにそ
の上に配向膜１６ｂが形成される。また、基材９ｂの外
側表面には、位相差板１７ｂが形成され、さらにその上
に偏光板１８ｂが形成される。

【００５８】第２電極１４ｂは、図１に示すように、多
数の直線状の電極をライン配線３２と交差するように互
いに平行に並べることによりストライプ状に形成されて
いる。なお、図１では、電極パターンをわかり易く示す
ために、第２電極１４ｂの間隔を大きく広げて模式的に
描いてあるが、実際には、第２電極１４ｂの間隔は画素
電極１４ａのドットピッチに合せて非常に狭く形成され
ている。

【００５９】画素電極１４ａと第２電極１４ｂとの交差
点はドットマトリクス状に配列しており、これらの交差
点の個々がそれぞれ１つのドットを構成し、図２のカラ
ーフィルタ膜１２の個々の色パターンがその１ドットに
対応する。カラーフィルタ膜１２は、例えば、Ｒ
（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３原色が１つのユニット
となって１画素を構成する。つまり、３ドットが１つの
ユニットになって１つの画素を構成している。

【００６０】基材９ａ，９ｂは、例えば、ガラス、プラ
スチック等によって形成される。また、反射膜１１は光
反射性の材料、例えば、Ａｌ（アルミニウム）によって
形成される。カラーフィルタ膜１２は、周知の色絵素形
成手法、例えば、インクジェット法、顔料分散法等を用
いて顔料を、モザイク配列、ストライプ配列、デルタ配
列等といった適宜のパターンに塗布することによって形
成される。また、オーバーコート膜１３は、適宜の透光
性樹脂材料を、例えばスピンコート法、ロールコート法
等によって均一に塗布することによって形成される。

【００６１】電極１４ａ及び１４ｂは、例えば、ＩＴＯ
（Indium Tin Oxide）を周知の膜付け法、例えば、スパ
ッタ法、真空蒸着法を用いて膜付けし、さらにフォトエ
ッチング法によって希望のパターンに形成される。配向
膜１６ａ，１６ｂは、例えば、ポリイミド溶液を塗布し
た後に焼成する方法や、オフセット印刷法等によって形
成される。

【００６２】図１において、第１基板２ａの基板張出し
部２ｃ上には、ライン配線３２からそのまま延びる配線
１９ａと、シール材の中に分散された導通材２１(図２
参照)を介して第２基板２ｂ上の第２電極１４ｂに接続
される配線１９ｂとが形成される。また、基板張出し部
２ｃの辺端部には端子２２が形成される。なお、配線１
９ａと第２電極１４ｂとが導通材２１によって接続され
るそれぞれの部分は、端子として機能する。

【００６３】図２では、液晶装置１の全体をわかり易く
示すために、導通材２１を断面楕円状に模式化して示し
てあるが、実際は、導通材２１は球状又は円筒状に形成
され、その大きさはシール材３の線幅に対して非常に小
さいものである。よって、導通材２１はシール材３の線
幅方向に複数個存在することができる。

【００６４】本実施形態に係る液晶装置１は以上のよう
に構成されているので、この液晶装置１は反射型表示に
よって表示を行う。この反射型表示では、図２において
第１基板２ａ側の外部から取り込んだ光を反射膜１１に
よって反射させて液晶Ｌの層へ供給する。この状態で、
液晶Ｌに印加する電圧を画素毎に制御して液晶の配向を
画素毎に制御することにより、液晶Ｌの層へ供給された
光を画素毎に変調し、その変調した光を偏光板１８ａへ
供給する。これにより、第１基板２ａの外側へ文字等と
いった像を表示する。この像は、ドットマトリクス状に
配列された画素電極１４ａとこれに対向する対向電極１
４ｂとが重なった部分に形成されるドットによって区画
される領域である、有効表示領域Ｖすなわち駆動領域Ｖ
の中に形成される。

【００６５】本実施形態では、図２に示すように及び図
１のＩＩＩ−ＩＩＩ線に従った断面図である図３に示す
ように、ＴＦＤ素子３３が形成される基板である第１基
板２ａに対向する第２基板２ｂの内側表面上であって、
有効表示領域Ｖに連続する外側領域に、反射膜１１から
延びる延在部１１ａとカラーフィルタ膜１２から延びる
延在部１２ａとの積層構造によって形成された遮光膜２
３を設けてある。

【００６６】この遮光膜２３は、本実施形態の場合、図
２及び図３に示すように、有効表示領域Ｖから連続的に
延び出てシール材３の下を通過してシール材３の外側へ
広がって、第２基板２ｂの表面のほぼ全域を覆ってい
る。これにより、図１において、有効表示領域Ｖの外側
であってシール材３の内側の周辺領域Ｗは、遮光膜２３
によって完全に覆われている。これにより、有効表示領
域Ｖの周辺領域Ｗにおいて外部へ光が漏れ出ることが防
止され、有効表示領域Ｖ内に形成される像のコントラス
トを高く維持でき、これにより表示品質を高く維持する
ことができる。

【００６７】本実施形態の液晶装置１では、図１及び図
３に示すように、第１基板２ａの内側表面のうち有効表
示領域Ｖの周辺領域Ｗに相当する部分には配線１９ｂが
形成されているので、図１０及び図１１に示した従来の
液晶装置の場合のように、ＴＦＤ素子３３及び画素電極
１４ａを形成した第１基板２ａの周辺領域Ｗにダミー画
素や金属膜によって遮光膜２３を形成することができな
い。しかしながら、本実施形態では、図３に示す通り、
周辺領域Ｗに相当する第２基板２ｂの表面上に遮光膜２
３を形成するようにしたので、配線１９ｂの存在に拘り
無く、何の支障も無く遮光膜２３を設けることが可能に
なった。

【００６８】有効表示領域Ｖ内にあるカラーフィルタ膜
１２は、例えば、Ｒ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）の３色
要素や、Ｃ（シアン），Ｍ（マゼンタ），Ｙ（イエロ
ー）の３色要素を平面的に、モザイク配列、ストライプ
配列、デルタ配列等のような所定の繰り返しパターンに
配列することによって形成される。

【００６９】これに対し、遮光膜２３として作用する延
在部１２ａは、必ずしも３色要素の組み合わせパターン
としなければならないことはなく、例えば、図５に示す
ように、Ｒ，Ｇ，Ｂ又はＣ，Ｍ，Ｙのうちから組み合わ
せを変えて２色を選択してそれらを積層して単位色を形
成し、それら異なる色の単位色を交互に平面的に（すな
わち、図５の紙面垂直方向に）配列することにより形成
することができる。

【００７０】なお、有効表示領域Ｖ内にあるカラーフィ
ルタ膜１２は各色絵素を画素、すなわちピクセルに対応
して配列させて形成されるが、遮光膜２３として作用す
る延在部１２ａに関しては、各色絵素の大きさは必ずし
も画素に対応した大きさとする必要は無い。画素よりも
大きく形成することもできる。しかしながら、延在部１
２ａにおける光反射抑制能力を効果的に発揮させるため
には、延在部１２ａの色合いを平面的に均一にすること
が望ましく、そのためには、例えば、延在部１２ａを構
成する単位色の大きさを、カラーフィルタ膜１２の画素
のドットピッチと同じドットピッチで配列させることが
望ましい。

【００７１】なお、図２及び図３に示した実施形態で
は、反射膜１１の延在部１１ａとカラーフィルタ膜１２
の延在部１２ａとの積層構造によって遮光膜２３を形成
したが、機能的には、カラーフィルタ膜１２の延在部１
２ａだけの単層膜によって遮光膜２３を形成することが
できる。また、液晶装置１の製造工程が複雑になるかも
しれないが、遮光膜２３を反射膜１１やカラーフィルタ
膜１２とは関係の無い他の材料によって形成することも
可能である。

【００７２】さらに、本実施形態では、図２及び図３に
示した通り、遮光膜２３を形成する反射膜１１の延在部
１１ａ及びカラーフィルタ膜１２の延在部１２ａをシー
ル材３の下を通過させて第２基板２ｂのほぼ前面を覆う
ように広く形成した。しかしながら、延在部１１ａ及び
延在部１２ａの延在領域は、これに限定されるものでは
なく、例えば、図６に示すように、シール材３の内壁に
接触又は近接する位置まで延ばしたり、あるいは、図７
に示すように、シール材３の内部に入る位置まで延ばす
こともできる。

【００７３】（第２実施形態）図８は、本発明に係る電
子機器の一実施形態である携帯電話機を示している。こ
こに示した携帯電話機４０は、アンテナ４１、スピーカ
４２、キースイッチ４３、マイクロホン４４等といった
各種構成要素を、外装ケース４６に格納することによっ
て構成される。外装ケース４６の内部には、表示装置と
して作用する液晶装置５０及び制御回路基板４７が収納
される。

【００７４】液晶装置５０は図の上部面が表示面となっ
ており、その表示面に対向する部分の外装ケース４６に
は、液晶装置５０を保護すると共に表示面の視界を確保
するための透明なカバー４８が設けられる。液晶装置５
０は、例えば図１に示す液晶装置１によって構成でき
る。

【００７５】図８に示す携帯電話機４０では、キースイ
ッチ４３及びマイクロホン４４を通して入力される信号
や、アンテナ４１によって受信した受信データ等が制御
回路基板４７の制御回路に入力される。そしてその制御
回路は、入力した各種のデータに基づいて液晶装置５０
の表示面内に数字、文字、図形等といった像を表示し、
さらにアンテナ４１から送信データを送信する。

【００７６】図９は、図８に示す携帯電話機、あるいは
その他の電子機器に用いられる電気制御系の一実施形態
を示している。ここに示した電気制御系は、表示情報出
力源９０、表示情報処理回路９１、電源回路９２、タイ
ミングジェネレータ９３、そして表示装置としての液晶
装置９４を有する。また、液晶装置９４は液晶パネル９
５及び駆動回路９６を有する。液晶装置９４は、例えば
図１に示した液晶装置１を用いて構成できる。

【００７７】表示情報出力源９０は、ＲＯＭ（Read Onl
y Memory）、ＲＡＭ（Random Access Memory）等といっ
たメモリ、各種ディスク等といったストレージユニッ
ト、デジタル画像信号を同調出力する同調回路等を備
え、タイミングジェネレータ９３によって生成された各
種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像
信号等といった表示情報を表示情報処理回路９１に供給
する。

【００７８】表示情報処理回路９１は、シリアル−パラ
レル変換回路や、増幅・反転回路、ローテーション回
路、ガンマ補正回路、クランプ回路等といった周知の各
種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、そ
の画像信号をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路８６へ
供給する。駆動回路９６は走査線駆動回路、データ線駆
動回路、検査回路等を含んで構成される。また、電源回
路９２は各構成要素に所定の電圧を供給する。

【００７９】（その他の実施形態）以上、好ましい実施
形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形
態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明
の範囲内で種々に改変できる。

【００８０】例えば、以上に説明した実施形態ではＴＦ
Ｄ素子をスイッチング素子として用いたアクティブマト
リクス方式の液晶装置に本発明を適用したが、本発明
は、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）等といった３端子
型スイッチング素子をアクティブ素子として用いる構造
のアクティブマトリクス方式の液晶装置にも適用でき、
あるいは、アクティブ素子を用いない単純マトリクス方
式の液晶装置にも適用できる。

【００８１】また、本発明に係る電子機器は、図８に示
した携帯電話機に限られず、その他の任意の電子機器、
例えば携帯情報端末機、デジタルカメラ等とすることも
できる。

【００８２】

【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る液晶
パネル、液晶装置及び電子機器によれば、遮光膜が、配
線が形成された基板に形成されるのではなくて、その配
線に対向する基板側に形成されるので、一方の基板の表
面に配線を形成しなければならない構造の液晶装置にお
いても何等の支障も無く有効表示領域の周りに遮光領域
を設けることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る液晶装置の一実施形態を一部破断
して示す平面図である。

【図２】図１のＩＩ−ＩＩ線に従って液晶装置の断面構
造を示す断面図である。

【図３】図１のＩＩＩ−ＩＩＩ線に従って液晶装置の断
面構造を示す断面図である。

【図４】図１の矢印ＶＩで示すＴＦＤ素子を拡大して示
す斜視図である。

【図５】図１の液晶装置で用いられる遮光膜の一実施形
態の断面構造を模式的に示す図である。

【図６】本発明に係る液晶装置の他の実施形態を示す断
面図である。

【図７】本発明に係る液晶装置のさらに他の実施形態を
示す断面図である。

【図８】本発明に係る電子機器の一実施形態である携帯
電話機の一例を示す斜視図である。

【図９】本発明に係る電子機器の他の実施形態を示すブ
ロック図である。

【図１０】従来の液晶装置の一例を一部破断して示す平
面図である。

【図１１】図１０のＸＩ−ＸＩ線に従って液晶装置の断
面構造を示す断面図である。

【図１２】本発明に係る液晶装置に関連する液晶装置の
一例を一部破断して示す平面図である。

【符号の説明】

１ 液晶装置 ２ａ，２ｂ 基板 ２ｃ 基板張出し部 ３ シール材 ４ａ，４ｂ 液晶駆動用ＩＣ（電子部品） ９ａ，９ｂ 基材 １１ 反射膜 １１ａ 延在部（遮光膜） １２ カラーフィルタ膜 １２ａ 延在部（遮光膜） １３ オーバーコート膜 １４ａ 画素電極 １４ｂ 第２電極 １９ａ，１９ｂ 配線 ２１ 導通材 ２３ 遮光膜 ３２ ライン配線 ３３ ＴＦＤ素子 ４０ 携帯電話機（電子機器） Ｌ 液晶装置 Ｖ 有効表示領域 Ｗ 周辺領域 Ｗ１ ダミー画素領域 Ｗ２ 金属膜領域

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｆ 1/1345 Ｇ０２Ｆ 1/1345 (72)発明者 瀧澤 圭二 長野県諏訪市大和３丁目３番５号 セイコ ーエプソン株式会社内 Ｆターム(参考） 2H042 AA06 AA09 AA15 AA26 2H048 BB01 BB03 BB08 BB42 2H091 FA02Y FA14Y FA34Y FB02 FC26 FD04 FD06 GA13 LA13 LA16 2H092 GA36 GA60 JA05

Claims (20)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 それぞれが電極を備えた一対の基板と、 それらの基板を貼り合せたシール材と、 前記一対の基板のうち一方の基板上に設けられた第１端
   子と、 前記一対の基板のうち他方の基板上に設けられていて、
   前記他方の基板上の前記電極に接続している第２端子
   と、 前記第１端子と前記第２端子とを電気的に接続するため
   の導通材と、 前記他方の基板上に設けられた反射膜と、 前記一方の基板上に設けられていて、前記第１端子に接
   続している配線と、 前記他方の基板上の前記配線と対応する領域の少なくと
   も一部に設けられた遮光膜とを有することを特徴とする
   液晶パネル。
2. 【請求項２】 前記遮光膜は前記反射膜からなることを
   特徴とする請求項１に記載の液晶パネル。
3. 【請求項３】 前記遮光膜はカラーフィルタ膜からなる
   ことを特徴とする請求項１に記載の液晶パネル。
4. 【請求項４】 前記遮光膜は前記反射膜と前記反射膜上
   に配置されたカラーフィルタ膜とを有することを特徴と
   する請求項１に記載の液晶パネル。
5. 【請求項５】 前記カラーフィルタ膜は、第１着色層と
   前記第１着色層上に配置された第２着色層とからなり、
   前記第１着色層の色は赤、緑および青のいずれか又はシ
   アン、マゼンタおよびイエローのいずれかであり、前記
   第２着色層の色は前記第１着色層と異なり、前記第１着
   色層および前記第２着色層の色は部分的に異なることを
   特徴とする請求項３又は請求項４に記載の液晶パネル。
6. 【請求項６】 前記第１着色層および前記第２着色層の
   色は、有効表示領域内のドットピッチと同じピッチで異
   なることを特徴とする請求項５に記載の液晶パネル。
7. 【請求項７】 前記一方の基板上に電子部品を備え、前
   記配線は前記電子部品に接続していることを特徴とする
   請求項１乃至請求項６のいずれかに記載の液晶パネル。
8. 【請求項８】 前記電子部品はＩＣチップであることを
   特徴とする請求項７に記載の液晶パネル。
9. 【請求項９】 画素電極、前記画素電極に接続している
   能動素子および第１端子を備えた第１基板と、 前記画素電極に対向するストライプ状の電極および前記
   電極に接続している第２端子を備えた第２基板と、 前記第１基板と前記第２基板とを貼り合わせたシール材
   と、 前記第１基板と前記第２端子とを電気的に接続するため
   の導通材と、 前記第２基板上に設けられた反射膜と、 前記第１基板上に設けられていて、前記第１端子に接続
   している配線と、 前記第２基板上の前記配線と対応する領域の少なくとも
   一部に設けられた遮光膜とを有することを特徴とする液
   晶パネル。
10. 【請求項１０】 前記遮光層は前記反射膜からなること
    を特徴とする請求項９に記載の液晶パネル。
11. 【請求項１１】 前記遮光膜はカラーフィルタ膜からな
    ることを特徴とする請求項９に記載の液晶パネル。
12. 【請求項１２】 前記遮光膜は前記反射膜と前記反射膜
    上に配置されたカラーフィルタ膜とを有することを特徴
    とする請求項９に記載の液晶パネル。
13. 【請求項１３】 前記カラーフィルタ膜は、第１着色層
    と前記第１着色層上に配置された第２着色層とからな
    り、前記第１着色層の色は赤，緑および青のいずれか又
    はシアン，マゼンタおよびイエローのいずれかであり、
    前記第２着色層の色は前記第１着色層と異なり、前記第
    １着色層および前記第２着色層の色は部分的に異なるこ
    とを特徴とする請求項１１又は請求項１２に記載の液晶
    パネル。
14. 【請求項１４】 前記第１着色層および前記第２着色層
    の色は、有効表示領域内のドットピッチと同じピッチで
    異なることを特徴とする請求項１３に記載の液晶パネ
    ル。
15. 【請求項１５】 前記第１基板上に電子部品を備え、前
    記配線は前記電子部品に接続していることを特徴とする
    請求項９乃至請求項１４のいずれかに記載の液晶パネ
    ル。
16. 【請求項１６】 前記電子部品はＩＣチップであること
    を特徴とする請求項１５に記載の液晶パネル。
17. 【請求項１７】 前記能動素子はＴＦＤであることを特
    徴とする請求項９乃至請求項１６のいずれかに記載の液
    晶パネル。
18. 【請求項１８】 前記遮光膜の少なくとも一部は前記シ
    ール材に重なっていることを特徴とする請求項１乃至請
    求項１７のいずれかに記載の液晶パネル。
19. 【請求項１９】 請求項１乃至請求項１８のいずれかに
    記載の前記液晶パネルを備えた液晶装置。
20. 【請求項２０】 請求項１９に記載の前記液晶装置を備
    えた電子機器。