JP2003057577A

JP2003057577A - 光走査装置及びアクチュエータ

Info

Publication number: JP2003057577A
Application number: JP2001241710A
Authority: JP
Inventors: Kiyotaka Muto; 清高武藤
Original assignee: Nippon Signal Co Ltd
Current assignee: Nippon Signal Co Ltd
Priority date: 2001-08-09
Filing date: 2001-08-09
Publication date: 2003-02-26

Abstract

(57)【要約】【課題】光ビームの有効走査範囲制御用の受光素子のレ
イアウトの制限を緩和する光走査装置及びこの種の光走
査装置に好適なアクチュエータを提供する。【解決手段】両面にミラーを設けた光走査用アクチュエ
ータ１３の表面側走査面１３ａに光ビーム発生装置１１
からの第１の光ビーム１２を入射して有効走査範囲Ａを
走査する一方、裏面側走査面１３ｂに発光素子１５から
の第２の光ビーム１４を入射し、受光素子１６ａ，１６
ｂの受光出力に基づいて制御ユニット１８により光ビー
ム発生装置１１を制御して、第１の光ビーム１２の出
射、停止タイミングを制御する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光ビームを所定の
有効走査範囲に走査制御する光走査装置に関し、特に、
光走査装置の小型化を可能とする技術に関する。また、
この種の光走査装置に好適なアクチュエータに関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、光ビームを所定の有効走査範囲に
走査制御する光走査装置として、例えばレーザプリンタ
等がある。レーザプリンタは、光走査用アクチュエータ
に半導体レーザからのレーザ光を入射し、光走査用アク
チュエータからの反射レーザ光をアクチュエータを駆動
することにより略水平方向に走査し、光走査用アクチュ
エータのレーザ光走査範囲内に配置した感光ドラム上の
所定の有効走査範囲にレーザ光を照射する。そして、レ
ーザ光を有効走査範囲に走査制御するため、光走査用ア
クチュエータからのレーザ光を受光する受光素子を設
け、該受光素子の受光出力に基づいて光走査用アクチュ
エータのレーザ光照射位置を検出することにより、感光
ドラム上へのレーザ光照射の開始タイミングを制御する
ようにしている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところで、従来のこの
種の光走査装置では、感光ドラム上を走査する光ビーム
と受光出力を生成するための光ビームを単一の光ビーム
で兼用する構成である。このため、感光ドラム上を走査
する光ビームの走査平面に受光素子を配置する必要があ
り、図１０に示すように、光ビーム１が感光ドラム２の
有効走査範囲Ａを走査する際に受光素子３が邪魔になら
ないよう、光走査用アクチュエータの図中の点線で示す
光ビーム走査範囲Ｂの内側で前記有効走査範囲Ａの外側
に受光素子３を配置せざるを得ず、受光素子のレイアウ
トに大きな制限があり、光走査装置の小型化を妨げる要
因になっていた。

【０００４】本発明は上記問題点に着目してなされたも
ので、光ビームの有効走査範囲制御用の受光手段のレイ
アウトの制限を緩和できる光走査装置及びこの種の光走
査装置に好適なアクチュエータを提供することを目的と
する。

【０００５】

【課題を解決するための手段】このため、請求項１の発
明は、光ビームを走査する光走査手段と、該光走査手段
で走査された光ビームを受光する受光手段と、該受光手
段の受光出力に基づいて光ビームの有効走査範囲を制御
する制御手段とを備える光走査装置において、前記有効
走査範囲走査用の第１の光ビームとは別に、前記受光出
力生成用の第２の光ビームを、前記光走査手段で走査す
る構成とした。

【０００６】かかる構成では、第１の光ビームで光走査
装置による有効走査範囲を走査し、第２の光により有効
走査範囲を第１の光ビームが走査するよう制御するため
の受光手段からの受光出力を得る。このように、有効走
査範囲を走査する光ビームと受光出力生成用の光ビーム
を別個に設けることにより、有効走査範囲走査用の光ビ
ームの走査範囲とは無関係に受光手段を配置できるよう
になる。

【０００７】前記第１及び第２の光ビームは、請求項２
のように、前記光走査手段の同一走査面で走査する構成
としてもよく、この場合、請求項３のように、前記第１
及び第２の光ビームを、前記光走査手段の光走査方向に
対して垂直方向に互いに角度を付けて入射する構成とす
るとよい。また、請求項４のように、前記第２の光ビー
ムを、前記第１の光ビームを走査する前記光走査手段の
走査面と異なる走査面で走査する構成としてもよい。こ
の場合、請求項５のように、前記第２の光ビームを、前
記第１の光ビームを走査する前記光走査手段の走査面の
裏面側の走査面で走査する構成とするとよい。

【０００８】請求項６のように、前記第１及び第２の光
ビームは、同一の光源で生成する構成とするとよい。例
えばハーフミラー等の光学系により単一の光源からの光
ビームを分光して第１及び第２の光ビームを得るように
すればよい。請求項７の発明では、前記受光手段が、第
２の光ビームを略連続的に受光可能な構成とした。

【０００９】かかる構成では、光走査手段の光ビーム走
査位置をリアルタイムで検出でき、例えば光走査手段の
動作状態の監視が可能になる。請求項８の発明では、前
記請求項１〜７のいずれか１つに記載の光走査装置の光
走査手段に適用可能な光走査用アクチュエータであっ
て、半導体基板に、可動板と、該可動板を揺動可能に軸
支するトーションバーとを一体に形成し、前記可動板に
光学要素を設け、該可動板と該可動板周囲の固定部のい
ずれか一方に駆動コイルを設け、他方に前記駆動コイル
に静磁界を与える静磁界発生手段を設け、前記駆動コイ
ルに電流を流すことにより発生する磁気力で前記可動板
を駆動する構成のアクチュエータにおいて、前記可動板
の両面に前記光学要素を配置し、いずれか一方の面に前
記駆動コイル又は静磁界発生手段を配置する構成とし
た。

【００１０】かかる構成では、例えば請求項９のように
光学要素をミラーとすれば、ミラー面積を拡大できるよ
うになり、ミラーに照射する光ビームのビーム径を大き
くできるので、例えば走査対象物に照射する光ビームの
スポット径を小さくできるようになり、解像度等を向上
できる。この場合、請求項１０のように、前記可動板の
一方の面は、全面にミラーを配置し、他方の面は、周縁
部に駆動コイルを配置すると共に該駆動コイルで囲まれ
る中央部にミラーを配置する構成としてもよく、請求項
１１のように、前記可動板の一方の面は、全面にミラー
を配置し、他方の面は、全面に絶縁層を設け、該絶縁層
内に駆動コイルを埋設し、前記絶縁層上全面にミラーを
配置する構成としてもよい。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
基づいて説明する。図１に、本発明に係る光走査装置の
第１実施形態の概略構成図を示す。図１において、本実
施形態の光走査装置１０は、光ビーム発生装置１１と、
光ビーム発生装置１１から一方の走査面１３ａに入射す
る第１の光ビーム１２を走査する光走査用アクチュエー
タ１３と、図示しない駆動装置により駆動されて第２の
光ビーム１４を発生して光走査用アクチュエータ１３の
他方の走査面１３ｂに入射するＬＥＤ等の発光素子１５
と、前記光走査用アクチュエータ１３の他方の走査面１
３ｂで走査された第２の光ビーム１４を受光して受光出
力を発生する受光手段である２つの受光素子１６Ａ，１
６Ｂと、２つの受光素子１６Ａ，１６Ｂからの受光出力
及び前記光走査用アクチュエータ１３の駆動回路１７か
らの駆動状態情報に基づいて第１の光ビーム１２が有効
走査範囲Ａを走査するよう前記光ビーム発生装置１１の
光ビーム発生・停止タイミングを制御すると共に受光素
子１６Ａ，１６Ｂからの受光出力により前記駆動回路１
７を制御して光走査用アクチュエータ１３の走査角を制
御する制御手段としての制御ユニット１８とを備える。
尚、図中、１２′、１４′は、光走査用アクチュエータ
１３で反射された第１の光ビーム１２と第２の光ビーム
１４の各走査光ビームをそれぞれ示す。

【００１２】前記光ビーム発生装置１１は、例えば半導
体レーザからの光ビームを光学系（図示せず）を介して
第１の光ビーム１２として光走査用アクチュエータ１３
に入射する。尚、光ビームは、レーザ光に限るものでは
ない。前記光走査用アクチュエータ１３は、半導体基板
に可動板と該可動板を軸支するトーションバーを一体に
形成し、可動板の表面側走査面１３ａと裏面側走査面１
３ｂにミラーを設け、可動板に設けたコイルに駆動回路
１７により電流を供給すると共に静磁界を作用させるこ
とにより発生する磁気力で可動板を揺動駆動し、ミラー
に入射する第１及び第２の光ビーム１２，１４を走査す
る構成の半導体ガルバノミラーである。

【００１３】前記制御ユニット１８は、駆動回路１７か
らの駆動状態情報により光走査用アクチュエータ１３が
図中時計回りに回動する時には受光素子１６Ａからの受
光出力に基づいて光ビーム発生装置１１からの第１の光
ビーム１２の出射開始タイミングを制御し、受光素子１
６Ｂからの受光出力に基づいて光ビーム発生装置１１か
らの第１の光ビーム１２の出射停止タイミングを制御す
る。逆に、駆動回路１７からの駆動状態情報により光走
査用アクチュエータ１３が図中反時計回りに回動する時
には受光素子１６Ｂからの受光出力に基づいて第１の光
ビーム１２の出射開始タイミングを制御し、受光素子１
６Ａからの受光出力に基づいて第１の光ビーム１２の出
射停止タイミングを制御する。このようにして、第１の
光ビーム１２の走査が有効走査範囲Ａとなるよう第１の
光ビーム１２の出射、停止を制御する。また、両受光素
子１６Ａ，１６Ｂの受光出力に基づいて駆動回路１７に
よる光走査用アクチュエータ１３の供給電流を制御して
光走査用アクチュエータ１３の走査角を制御する。

【００１４】かかる本実施形態の光走査装置１０は、上
述したように、光走査用アクチュエータ１２の表面側走
査面１３ａに入射する有効走査範囲走査用の第１の光ビ
ーム１２とは別に、受光素子１６Ａ，１６Ｂからの受光
出力生成用の第２の光ビーム１４を光走査用アクチュエ
ータ１２の裏面側走査面１３ｂに入射する構成である。

【００１５】これにより、受光素子１６Ａ，１６Ｂを配
置する場合、第１の光ビーム１２の走査範囲に配慮する
必要がなく、光走査用アクチュエータ１２の裏面側空間
で自由に選択できる。従って、この光走査装置１０をケ
ース等に収納する場合等、従来のような受光素子１６
Ａ，１６Ｂのレイアウトの制限が緩和され、受光素子１
６Ａ，１６Ｂの配置自由度が拡大され、光走査装置１０
の小型化が可能になる。また、第１の光ビーム１２の走
査範囲も図１０のように受光素子１６Ａ，１６Ｂで制約
されることがなく、有効走査範囲Ａを拡大できる利点が
ある。

【００１６】次に、図２に本発明の第２実施形態を示
す。尚、第２実施形態は、光走査用アクチュエータ１２
に対する第２の光ビーム１４の入射位置が第１実施形態
と異なるだけでその他の構成は同じであるので、図２で
は第１の光ビーム１２と第２の光ビーム１４との位置関
係だけを示し説明する。図２において、本実施形態で
は、第１の光ビーム１２と第２の光ビーム１４を光走査
用アクチュエータ１３の同一走査面例えば表面側走査面
１３ａで走査する構成である。

【００１７】この場合、第１の光ビーム１２の走査光ビ
ーム１２′の走査領域と、第２の光ビーム１４の走査光
ビーム１４′の走査領域とが互いに重ならないようにす
るには、各走査領域を９０°以内（望ましくは９０°未
満）とし、第１光ビーム１２と第２の光ビーム１４の入
射方向を適切に設定すればよい。有効走査範囲Ａが９０
°以内の狭い領域でよい場合には、光走査用アクチュエ
ータ１３の裏面側走査面１３ｂを必ずしも使用しなくと
も、第２実施形態のような構成も可能である。

【００１８】また、光走査用アクチュエータ１３の同一
走査面を使用する場合、図３の第３実施形態のような構
成としてもよい。図３の第３実施形態は、第１の光ビー
ム１２と第２の光ビーム１４を、光走査用アクチュエー
タ１３の光走査方向に対して垂直方向に互いに角度θを
設けて走査面１３ｂに入射する構成である。即ち、光走
査用アクチュエータ１３が図に示す揺動軸中心Ａ回りに
図の矢印のように揺動するとした場合、図のように上下
方向に角度θを設けて第１の光ビーム１２と第２の光ビ
ーム１４を、光走査用アクチュエータ１３の表面側走査
面１３ａに入射させればよい。

【００１９】かかる構成によれば、走査光ビーム１２′
と走査光ビーム１４′の走査面が同一平面にないので、
図２の第２実施形態のように走査領域の制約なしに第１
の光ビーム１２と第２の光ビーム１４を、光走査用アク
チュエータ１３の同一走査面で走査することができる。
上述した第１〜第３実施形態では、光走査用アクチュエ
ータ１３として半導体ガルバノミラーを使用した例を示
したが、第１〜第３実施形態において半導体ガルバノミ
ラーに代えて通常のガルバノミラーやポリゴンミラーを
用いてもよいことは言うまでもない。

【００２０】第１実施形態のように光走査用アクチュエ
ータの異なる走査面を利用する場合には、図４の第４実
施形態のようにポリゴンミラー１９の異なる走査面１９
ａ，１９ｂに第１の光ビーム１２と第２の光ビーム１４
を入射させるようにすればよい。尚、ポリゴンミラー１
９は、図示しないモータ等の駆動機構により回転軸２０
を中心に一方向に等速回転する構成である。尚、図では
６面のポリゴンミラー１９を示したが、ポリゴンミラー
の面数は６面に限るものでないことは言うまでもない。

【００２１】光走査用アクチュエータがポリゴンミラー
１９である場合に、第２実施形態のように同一走査面を
利用する構成とするには、走査面が８面以上であればよ
い。即ち、第１の光ビーム１２と第２の光ビーム１４の
走査領域が互いに重ならないためには走査光ビーム１
２′と走査光ビーム１４′の各走査角は９０°以内であ
る。ポリゴンミラーの走査面数と走査角は走査角＝（３
６０／走査面数）×２の関係にある。従って、第１の光
ビーム１２と第２の光ビーム１４の走査領域が互いに重
ならないようにするには、ポリゴンミラーの走査面が８
面以上であればよい。

【００２２】尚、上述の各実施形態では、第１の光ビー
ム１２の光源（光ビーム発生装置１１）と第２の光ビー
ム１４の光源（発光素子１５）を、それぞれ別に設ける
構成としたが、同一の光源から第１と第２の光ビーム１
２，１４を生成する構成としてもよい。例えば、光ビー
ム発生装置１１からの光ビーム１２をハーフミラーや反
射鏡等の光学系を利用して分光し適切な光路を形成して
第２の光ビーム１４を光走査用アクチュエータ１３の所
定の走査面に入射させるようにすればよい。

【００２３】また、制御用の受光出力生成用の受光素子
として、アレイ状に受光素子を有する例えばＣＣＤ（ch
arge-coupled device）や、ＰＳＤ（positioning sensi
ng device）等のような光学素子を使用してもよい。こ
の場合、走査光ビーム１４′を略連続的に受光できるの
で、光走査用アクチュエータの走査位置（走査角度）が
リアルタイムで検出でき、光ビームの走査の制御精度を
向上できる。尚、ＰＳＤは、スポット光が入射すると、
入射位置に光エネルギに比例した電荷が発生し、発生し
た電荷は光電流として抵抗層を通り電極から出力され
る。抵抗層は全面に均一な抵抗値を有するため、光電流
は電極までの距離(抵抗値)に逆比例して分割され取り出
される構造である。

【００２４】次に、図５〜図９に基づいて上述した光走
査装置に好適な本発明に係るアクチュエータについて説
明する。図５及び図６は、本発明に係るアクチュエータ
の第１実施形態の構成図である。図において、本実施形
態のアクチュエータ３０は、シリコン基板３１に、平板
状の可動板３２と、該可動板３２の中心位置でシリコン
基板３１に対して図中矢印方向に揺動可能に可動板３２
を軸支するトーションバー３３とを一体形成する。前記
可動板３２の一方の面側例えば表面側の全面には、例え
ばアルミニウムや金等の薄膜で形成した光学要素として
のミラー３４を設ける。また、図６に示すように、可動
板３２の他方の面側例えば裏面側には、中央部に前面側
と同様に形成された光学要素としてのミラー３５が形成
され、可動板周縁部には、通電により磁界を発生する例
えば銅薄膜の駆動コイル３６を前記ミラー３５を囲むよ
うに形成する。駆動コイル３６の端部は、シリコン基板
３１の固定部に設けた一対の電極端子３７，３７にそれ
ぞれ接続する。更に、静磁界を発生する一対の永久磁石
３８，３８が、前記トーションバー３３の軸方向と平行
な可動板３２の対辺のコイル部分に静磁界が作用するよ
う配置して固定される。

【００２５】かかる構成のアクチュエータ３０の動作原
理について簡単に説明する。可動板３２の両端側では、
永久磁石３８，３８によって可動板３２の平面に沿って
駆動コイル３６を横切るような方向に静磁界が形成され
ており、この静磁界中の駆動コイル３６に電流を流す
と、駆動コイル３６の電流密度と磁束密度に応じて可動
板３２の両端に、電流・磁束密度・力に関するフレミン
グの左手の法則に従った方向に、下記（１）式に示す磁
気力が作用して可動板３２が回動する。

【００２６】Ｆ＝ｉ×Ｂ・・・（１）Ｆは磁気力、ｉは駆動コイルに流れる電流、Ｂは磁束密
度である。一方、可動板３２が回動するとトーションバ
ー３３，３３が捩じられてばね反力が発生し、前記磁気
力Ｆとばね反力が釣り合う位置まで可動板３２が回動す
る。可動板３２の回動角は駆動コイル３６に流れる電流
ｉに比例するので、駆動コイル３６に流す電流ｉを制御
することで可動板３２の回動角を制御できる。従って、
トーションバー３３，３３の軸に対して垂直な面内にお
いてミラー３４，３５に入射する光ビームの反射方向を
自由に走査でき、ミラー３４，３５の変位角を連続的に
反復動作させてレーザ光のスキャニングを行うことがで
きるので、前述した本発明に係る光走査装置の光走査用
アクチュエータ１３に好適である。

【００２７】かかるアクチュエータ３０によれば、光走
査用のミラー３４，３５を可動板３２の両面にそれぞれ
設けたので、可動板３２の両側で光ビームの走査が可能
となる。また、従来のように片面側にミラーと駆動コイ
ルを配置する構成に比較して、可動板３２の表面側のミ
ラー３４の面積を拡大でき、ミラー３４に入射させる光
ビームのビーム径を太くできるようになるので、例えば
レーザプリンタにおける感光ドラム等の走査対象物に照
射する光ビームのスポット径を小さくすることが可能と
なる。

【００２８】図７〜図９に、本発明に係るアクチュエー
タの第２実施形態の構成図を示す。図において、第２実
施形態のアクチュエータ４０は、第１実施形態のアクチ
ュエータ３０と基本構造は同様であり、裏面側の構造が
第１実施形態と異なるだけである。４１はシリコン基
板、４２は可動板、４３はトーションバー、４４は表面
側のミラー、４５は裏面側ミラー、４６は駆動コイル、
４７は電極端子、４８は永久磁石である。

【００２９】第２実施形態では、図９に示すように、前
記可動板４２の裏面側全面に絶縁層４９を設け、該絶縁
層４９内に駆動コイル４６を埋設すると共に、絶縁層４
９の上面全面にミラー４５を設ける構成である。かかる
第２実施形態によれば、裏面側のミラー４５の面積が第
１実施形態よりも拡大できる。

【００３０】尚、可動板に設ける光学要素としては、ミ
ラーのように光ビームを反射するものに限らず、レーザ
素子や受光素子等の光ビームを生成したり光ビームを受
光するような光学要素でもよい。また、本発明のアクチ
ュエータ構造は、例えば特開平７−１７５００５号公報
等で公知の２軸のガルバノミラーにも適用できることは
言うまでもない。

【００３１】更に、アクチュエータ構造として、同じく
特開平７−１７５００５号公報等で示されているよう
に、可動板側に薄膜の永久磁石を設け、可動板周囲の固
定部である半導体基板側に駆動コイルを設ける構成でも
よい。この場合、前述の第１及び第２実施形態の構成に
おいて、駆動コイルを薄膜永久磁石に置き換えればよ
い。

【００３２】

【発明の効果】以上説明したように本発明の光走査装置
によれば、有効走査範囲走査用の光ビームとは別に、受
光出力生成用の光ビームを設ける構成としたので、受光
出力生成用受光素子の配置の制限が緩和でき、配置自由
度の拡大により光走査装置の空きスペースを有効に使用
することで小型化を図ることが可能となる。また、有効
走査範囲走査用の光ビームの走査平面内に受光素子を配
置しなくてよいので、有効走査範囲の拡大が可能にな
る。

【００３３】本発明のアクチュエータによれば、可動板
の一方に設ける光学要素としての例えばミラーの面積を
拡大できるようになり、ミラーに入射する光ビームのビ
ーム径を太くして走査光ビームのスポット径を小さくで
きるので、レーザプリンタ等の解像度等の向上が可能で
ある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る光走査装置の第１実施形態を示す
構成図

【図２】本発明の第２実施形態の簡略図

【図３】本発明の第３実施形態の簡略図

【図４】本発明の第４実施形態の簡略図

【図５】本発明に係るアクチュエータの第１実施形態を
示す構成図

【図６】同上第１実施形態の裏面側を示す図

【図７】本発明のアクチュエータの第２実施形態の表面
側を示す図

【図８】同上第２実施形態の裏面側を示す図

【図９】同上第２実施形態の裏面側の断面図

【図１０】従来の光走査装置の問題点の説明図

【符号の説明】１１光ビーム発生装置１２第１の光ビーム１３光走査用アクチュエータ１４第２の光ビーム１５発光素子１６Ａ、１６Ｂ受光素子１７駆動回路１８制御ユニット１９ポリゴンミラー３０、４０アクチュエータ３２、４２可動板３３、４３トーションバー３４、３５、４４、４５ミラー３６、４６駆動コイル３８、４８永久磁石４９絶縁層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｈ０４Ｎ 1/036 Ｂ４１Ｊ 3/00 Ｄ 1/113 Ｈ０４Ｎ 1/04 １０４ＺＦターム(参考） 2C362 BA18 BB30 2H041 AA12 AB14 AC05 AZ06 2H045 AB03 AB16 AB44 AB62 BA22 CA89 5C051 AA02 CA07 DB02 DB24 DB30 DC02 DC04 DC07 DE09 DE26 5C072 AA03 HA02 HA11 HB08 HB11 HB15 WA05 XA05

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】光ビームを走査する光走査手段と、該光走
査手段で走査された光ビームを受光する受光手段と、該
受光手段の受光出力に基づいて光ビームの有効走査範囲
を制御する制御手段とを備える光走査装置において、前記有効走査範囲走査用の第１の光ビームとは別に、前
記受光出力生成用の第２の光ビームを、前記光走査手段
で走査する構成としたことを特徴とする光走査装置。
【請求項２】前記第１及び第２の光ビームを、前記光走
査手段の同一走査面で走査する構成である請求項１に記
載の光走査装置。
【請求項３】前記第１及び第２の光ビームを、前記光走
査手段の光走査方向に対して垂直方向に互いに角度を付
けて前記同一走査面に入射する請求項２に記載の光走査
装置。
【請求項４】前記第２の光ビームを、前記第１の光ビー
ムを走査する前記光走査手段の走査面と異なる走査面で
走査する構成である請求項１〜３のいずれか１つに記載
の光走査装置。
【請求項５】前記第２の光ビームを、前記第１の光ビー
ムを走査する前記光走査手段の走査面の裏面側の走査面
で走査する構成である請求項４に記載の光走査装置。
【請求項６】前記第１及び第２の光ビームは、同一の光
源で生成する構成である請求項１〜４のいずれか１つに
記載の光走査装置。
【請求項７】前記受光手段が、第２の光ビームを略連続
的に受光可能な構成である請求項１〜６のいずれか１つ
に記載の光走査装置。
【請求項８】前記請求項１〜７のいずれか１つに記載の
光走査装置の光走査手段に適用可能なアクチュエータで
あって、半導体基板に、可動板と、該可動板を揺動可能
に軸支するトーションバーとを一体に形成し、前記可動
板に光学要素を設け、該可動板と該可動板周囲の固定部
のいずれか一方に駆動コイルを設け、他方に前記駆動コ
イルに静磁界を与える静磁界発生手段を設け、前記駆動
コイルに電流を流すことにより発生する磁気力で前記可
動板を駆動する構成のアクチュエータにおいて、前記可動板の両面に前記光学要素を配置し、いずれか一
方の面に前記駆動コイル又は静磁界発生手段を配置する
ことを特徴とするアクチュエータ。
【請求項９】前記光学要素がミラーである請求項８に記
載のアクチュエータ。
【請求項１０】前記可動板の一方の面は、全面にミラー
を配置し、他方の面は、周縁部に駆動コイルを配置する
と共に該駆動コイルで囲まれる中央部にミラーを配置す
る構成である請求項９に記載のアクチュエータ。
【請求項１１】前記可動板の一方の面は、全面にミラー
を配置し、他方の面は、全面に絶縁層を設け、該絶縁層
内に駆動コイルを埋設し、前記絶縁層上全面にミラーを
配置する構成である請求項９に記載のアクチュエータ。