JP2003050385A - 液晶表示セルおよび該液晶表示セル用塗布液 - Google Patents
液晶表示セルおよび該液晶表示セル用塗布液Info
- Publication number
- JP2003050385A JP2003050385A JP2001239369A JP2001239369A JP2003050385A JP 2003050385 A JP2003050385 A JP 2003050385A JP 2001239369 A JP2001239369 A JP 2001239369A JP 2001239369 A JP2001239369 A JP 2001239369A JP 2003050385 A JP2003050385 A JP 2003050385A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid crystal
- crystal display
- insulating film
- display cell
- transparent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 耐擦傷性、耐酸性、耐アルカリ性、耐水性、
絶縁性に優れ、電極膜あるいはポリイミド樹脂などの疎
水性の強い樹脂からなる膜などとの密着性にも優れ、特
に下層の配線見えを抑制することができる透明絶縁膜が
形成された液晶表示セルを提供する。 【解決手段】 少なくとも一方の基板の表面にカラーフ
ィルター、透明絶縁膜、透明電極膜および配向膜が順次
積層されてなる一対の透明電極付基板が、それぞれの透
明電極同士が対向するように所定の間隔をあけて配置さ
れ、この一対の透明電極付基板間の間隙に液晶が封入さ
れている液晶表示セルにおいて、透明絶縁膜を、マトリ
ックス（Ａ）および強誘電性微粒子（Ｂ）からなる構成
とした。
絶縁性に優れ、電極膜あるいはポリイミド樹脂などの疎
水性の強い樹脂からなる膜などとの密着性にも優れ、特
に下層の配線見えを抑制することができる透明絶縁膜が
形成された液晶表示セルを提供する。 【解決手段】 少なくとも一方の基板の表面にカラーフ
ィルター、透明絶縁膜、透明電極膜および配向膜が順次
積層されてなる一対の透明電極付基板が、それぞれの透
明電極同士が対向するように所定の間隔をあけて配置さ
れ、この一対の透明電極付基板間の間隙に液晶が封入さ
れている液晶表示セルにおいて、透明絶縁膜を、マトリ
ックス（Ａ）および強誘電性微粒子（Ｂ）からなる構成
とした。
Description
【０００１】
【発明の技術分野】本発明は、耐擦傷性、耐酸性、耐ア
ルカリ性、耐水性、配向膜との密着性などに優れ、数μ
ｍ程度の微細な凹凸を有する基板を平坦化することがで
き、透明性を有するとともに所望の屈折率を有する絶縁
膜を、低温の加熱処理で形成することのできる透明絶縁
膜形成用塗布液、およびこのような透明絶縁膜形成用塗
布液から形成された透明絶縁膜付基材ならびにこのよう
な透明絶縁膜付基材を有する液晶表示セルに関する。
ルカリ性、耐水性、配向膜との密着性などに優れ、数μ
ｍ程度の微細な凹凸を有する基板を平坦化することがで
き、透明性を有するとともに所望の屈折率を有する絶縁
膜を、低温の加熱処理で形成することのできる透明絶縁
膜形成用塗布液、およびこのような透明絶縁膜形成用塗
布液から形成された透明絶縁膜付基材ならびにこのよう
な透明絶縁膜付基材を有する液晶表示セルに関する。
【０００２】
【発明の技術的背景】従来より、ガラス基板の表面にＩ
ＴＯなどの透明電極膜、ポリイミドなどの高分子からな
る配向膜が順次積層されている一対の透明電極付基板
を、それぞれの透明電極膜同士が対向するようにスペー
サを介して対向させ、このスペーサによって所定の間隔
に開けられた隙間に液晶を封入した液晶表示セルが知ら
れている。
ＴＯなどの透明電極膜、ポリイミドなどの高分子からな
る配向膜が順次積層されている一対の透明電極付基板
を、それぞれの透明電極膜同士が対向するようにスペー
サを介して対向させ、このスペーサによって所定の間隔
に開けられた隙間に液晶を封入した液晶表示セルが知ら
れている。
【０００３】このタイプの液晶表示セルは、製造工程で
液晶セル内部に混入した異物やスペーサによって配向膜
が傷つけられ、その結果、上下の電極間に導通が生じ、
この導通に起因する表示不良が発生することがあった。
このため、上記のような液晶表示セルでは、透明電極付
基板の透明電極膜と配向膜との間に絶縁膜が形成されて
いる（特開昭６０−２６００２１号公報、特開平１−１
５０１１６号公報、特開平２−２２１９２３号公報など
参照）。
液晶セル内部に混入した異物やスペーサによって配向膜
が傷つけられ、その結果、上下の電極間に導通が生じ、
この導通に起因する表示不良が発生することがあった。
このため、上記のような液晶表示セルでは、透明電極付
基板の透明電極膜と配向膜との間に絶縁膜が形成されて
いる（特開昭６０−２６００２１号公報、特開平１−１
５０１１６号公報、特開平２−２２１９２３号公報など
参照）。
【０００４】ところで、上記配向膜としてはポリイミド
樹脂などの疎水性の強い樹脂が多く用いられている。こ
のような疎水性の強い樹脂からなる配向膜を絶縁膜上に
形成すると、絶縁膜と配向膜との密着性が不充分とな
り、液晶表示セルにラビング傷などによる表示むらが生
じることがあった。このため、本願出願人は特開平４−
２４７４２７号公報において、配向膜との密着性に優れ
た絶縁膜を形成可能な塗布液として特定の粒子径を有す
る無機化合物を含むものを提案している。
樹脂などの疎水性の強い樹脂が多く用いられている。こ
のような疎水性の強い樹脂からなる配向膜を絶縁膜上に
形成すると、絶縁膜と配向膜との密着性が不充分とな
り、液晶表示セルにラビング傷などによる表示むらが生
じることがあった。このため、本願出願人は特開平４−
２４７４２７号公報において、配向膜との密着性に優れ
た絶縁膜を形成可能な塗布液として特定の粒子径を有す
る無機化合物を含むものを提案している。
【０００５】また、透明電極と配向膜との間にこのよう
な絶縁膜を形成すると、配向膜のラビング時に発生する
静電気などによって配向膜に傷や配向不良などが生じる
こともあった。このため本願出願人は、特開平５−２３
２４５９号公報において、導電性微粒子とマトリックス
からなり、かつ表面抵抗が１０9〜１０13Ω／□である
保護膜を透明電極表面に形成することを提案している。
な絶縁膜を形成すると、配向膜のラビング時に発生する
静電気などによって配向膜に傷や配向不良などが生じる
こともあった。このため本願出願人は、特開平５−２３
２４５９号公報において、導電性微粒子とマトリックス
からなり、かつ表面抵抗が１０9〜１０13Ω／□である
保護膜を透明電極表面に形成することを提案している。
【０００６】このような液晶表示セルを用いた液晶表示
装置として、ＴＦＴ型液晶表示装置およびＳＴＮ型液晶
表示装置が知られている。ＴＦＴ型液晶表示装置は、透
明基板上にＴＦＴ（薄膜トランジスタ）素子、データ電
極などのＴＦＴアレイが設けられている。このＴＦＴア
レイによる凹凸を平坦化膜により平坦化した後、その上
にＩＴＯなどの表示電極を取り付ける構成にすることに
より、開口率の向上とＴＦＴアレイの凹凸による液晶の
配向乱れをなくすようにしている。さらにカラーフィル
ターを有する液晶表示装置においても、カラーフィルタ
ー画素の平坦化あるいは信頼性の向上のために絶縁性保
護被膜が設けられている。
装置として、ＴＦＴ型液晶表示装置およびＳＴＮ型液晶
表示装置が知られている。ＴＦＴ型液晶表示装置は、透
明基板上にＴＦＴ（薄膜トランジスタ）素子、データ電
極などのＴＦＴアレイが設けられている。このＴＦＴア
レイによる凹凸を平坦化膜により平坦化した後、その上
にＩＴＯなどの表示電極を取り付ける構成にすることに
より、開口率の向上とＴＦＴアレイの凹凸による液晶の
配向乱れをなくすようにしている。さらにカラーフィル
ターを有する液晶表示装置においても、カラーフィルタ
ー画素の平坦化あるいは信頼性の向上のために絶縁性保
護被膜が設けられている。
【０００７】このような電子材料分野における平坦化被
膜、絶縁性保護被膜の形成材料として、アクリル系樹
脂、ポリエステル樹脂などの有機樹脂、ＳiＯ2、Ｓi3Ｎ
4などの無機系被膜、有機・無機複合系のアルキルトリ
ヒドロキシシランの重合物などが用いられている。しか
しながらこれらの被膜形成材では、耐熱性、クラックの
発生、被膜の強度、該被膜上へのレジスト膜の形成性な
どに問題があった。このため、本願出願人はＷＯ９７／
４９７７５号において、無機化合物粒子と特定の有機ケ
イ素化合物の加水分解物を含む透明被膜形成用塗布液を
提案している。
膜、絶縁性保護被膜の形成材料として、アクリル系樹
脂、ポリエステル樹脂などの有機樹脂、ＳiＯ2、Ｓi3Ｎ
4などの無機系被膜、有機・無機複合系のアルキルトリ
ヒドロキシシランの重合物などが用いられている。しか
しながらこれらの被膜形成材では、耐熱性、クラックの
発生、被膜の強度、該被膜上へのレジスト膜の形成性な
どに問題があった。このため、本願出願人はＷＯ９７／
４９７７５号において、無機化合物粒子と特定の有機ケ
イ素化合物の加水分解物を含む透明被膜形成用塗布液を
提案している。
【０００８】また、上記した絶縁膜を形成した液晶パネ
ルにおいて、電圧駆動時以外にも下層基板上の透明電極
の配線形状が見える問題（以下、配線見えということが
ある。）があった。このため、マトリックス形成成分に
高屈折率のＴiＯ2成分を配合することによって絶縁膜の
屈折率を調節し、配線見えを抑制することが行われてき
た。しかしながら、ＴiＯ2成分の配合量が多いと、日光
や蛍光灯の光に長時間暴露された部位と未暴露部位とで
は液晶分子の挙動が異なり、光が暴露された部位の形状
が長時間ムラとして表示される（以下、光焼き付き現象
ということがある。）問題があった。
ルにおいて、電圧駆動時以外にも下層基板上の透明電極
の配線形状が見える問題（以下、配線見えということが
ある。）があった。このため、マトリックス形成成分に
高屈折率のＴiＯ2成分を配合することによって絶縁膜の
屈折率を調節し、配線見えを抑制することが行われてき
た。しかしながら、ＴiＯ2成分の配合量が多いと、日光
や蛍光灯の光に長時間暴露された部位と未暴露部位とで
は液晶分子の挙動が異なり、光が暴露された部位の形状
が長時間ムラとして表示される（以下、光焼き付き現象
ということがある。）問題があった。
【０００９】このため、前記被膜形成材として強誘電性
化合物を形成しうるたとえばアルカリ金属とチタン酸を
単独で、あるいは前記材料に混入して用いることが検討
されてきた。しかしながら、これらが強誘電性の効果を
発揮するためには結晶性が高いＢaＴiＯ3等に変換する
必要があり、このためにはたとえば５００℃以上の高温
で加熱処理する必要があった。特にマトリックス形成成
分としてシリカ系成分を用いた場合は、さらに高温の加
熱処理を必要とし、耐熱性の低い基材には用いることが
できず、低温で処理した場合は得られる絶縁膜の絶縁
性、光安定性には優れているものの、基材との密着性や
耐薬品性、配線見え等に劣る欠点があった。
化合物を形成しうるたとえばアルカリ金属とチタン酸を
単独で、あるいは前記材料に混入して用いることが検討
されてきた。しかしながら、これらが強誘電性の効果を
発揮するためには結晶性が高いＢaＴiＯ3等に変換する
必要があり、このためにはたとえば５００℃以上の高温
で加熱処理する必要があった。特にマトリックス形成成
分としてシリカ系成分を用いた場合は、さらに高温の加
熱処理を必要とし、耐熱性の低い基材には用いることが
できず、低温で処理した場合は得られる絶縁膜の絶縁
性、光安定性には優れているものの、基材との密着性や
耐薬品性、配線見え等に劣る欠点があった。
【００１０】
【発明の目的】本発明は、前記のような従来技術におけ
る問題点を解決すべくなされたものであり、すなわち耐
擦傷性、耐酸性、耐アルカリ性、耐水性、絶縁性に優
れ、電極膜あるいはポリイミド樹脂などの疎水性の強い
樹脂からなる膜などとの密着性にも優れ、特に下層の配
線見えを抑制することができる透明絶縁膜が形成された
液晶表示セルを提供することを目的としている。
る問題点を解決すべくなされたものであり、すなわち耐
擦傷性、耐酸性、耐アルカリ性、耐水性、絶縁性に優
れ、電極膜あるいはポリイミド樹脂などの疎水性の強い
樹脂からなる膜などとの密着性にも優れ、特に下層の配
線見えを抑制することができる透明絶縁膜が形成された
液晶表示セルを提供することを目的としている。
【００１１】
【発明の概要】本発明に係る第１の液晶表示セルは、少
なくとも一方の基板の表面に透明電極膜、透明絶縁膜お
よび配向膜が順次積層されてなる一対の透明電極付基板
が、それぞれの透明電極同士が対向するように所定の間
隔をあけて配置され、この一対の透明電極付基板の間に
あけられた間隙に液晶が封入されている液晶表示セルに
おいて、透明絶縁膜が、マトリックス（Ａ）および強誘
電性微粒子（Ｂ）からなることを特徴としている。
なくとも一方の基板の表面に透明電極膜、透明絶縁膜お
よび配向膜が順次積層されてなる一対の透明電極付基板
が、それぞれの透明電極同士が対向するように所定の間
隔をあけて配置され、この一対の透明電極付基板の間に
あけられた間隙に液晶が封入されている液晶表示セルに
おいて、透明絶縁膜が、マトリックス（Ａ）および強誘
電性微粒子（Ｂ）からなることを特徴としている。
【００１２】本発明に係る第２の液晶表示セルは、少な
くとも一方の基板の表面にカラーフィルター、透明絶縁
膜、透明電極膜および配向膜が順次積層されてなる一対
の透明電極付基板が、それぞれの透明電極同士が対向す
るように所定の間隔をあけて配置され、この一対の透明
電極付基板の間にあけられた間隙に液晶が封入されてい
る液晶表示セルにおいて、透明絶縁膜が、マトリックス
（Ａ）および強誘電性微粒子（Ｂ）からなることを特徴
としている。
くとも一方の基板の表面にカラーフィルター、透明絶縁
膜、透明電極膜および配向膜が順次積層されてなる一対
の透明電極付基板が、それぞれの透明電極同士が対向す
るように所定の間隔をあけて配置され、この一対の透明
電極付基板の間にあけられた間隙に液晶が封入されてい
る液晶表示セルにおいて、透明絶縁膜が、マトリックス
（Ａ）および強誘電性微粒子（Ｂ）からなることを特徴
としている。
【００１３】本発明に係る第３の液晶表示セルは、少な
くとも一方の基板の表面にＴＦＴアレイ、透明絶縁膜、
透明電極膜および配向膜が順次積層されてなる一対の透
明電極付基板が、それぞれの透明電極同士が対向するよ
うに所定の間隔をあけて配置され、この一対の透明電極
付基板の間にあけられた間隙に液晶が封入されている液
晶表示セルにおいて、透明絶縁膜が、マトリックス
（Ａ）および強誘電性微粒子（Ｂ）からなることを特徴
としている。
くとも一方の基板の表面にＴＦＴアレイ、透明絶縁膜、
透明電極膜および配向膜が順次積層されてなる一対の透
明電極付基板が、それぞれの透明電極同士が対向するよ
うに所定の間隔をあけて配置され、この一対の透明電極
付基板の間にあけられた間隙に液晶が封入されている液
晶表示セルにおいて、透明絶縁膜が、マトリックス
（Ａ）および強誘電性微粒子（Ｂ）からなることを特徴
としている。
【００１４】前記強誘電性微粒子（Ｂ）が、Ｂａ、Ｃ
ａ、Ｓｒ、Ｐｂ、Ｆｅ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｂ、Ｎｂ、Ｓ
ｎ、ＴａおよびＬａから選ばれる２種以上の元素および
酸素から構成される化合物からなる微粒子が好ましく、
特にＢaＴiＯ3、ＳrＴiＯ3、Ｂa( 1-X)ＳrXＴiＯ3（Ｘは
１未満）、ＰbＴiＯ3、ＣdＴiＯ3、ＣaＴiＯ3から選ば
れる１種または２種以上からなる結晶性酸化物微粒子で
あることが好ましい。
ａ、Ｓｒ、Ｐｂ、Ｆｅ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｂ、Ｎｂ、Ｓ
ｎ、ＴａおよびＬａから選ばれる２種以上の元素および
酸素から構成される化合物からなる微粒子が好ましく、
特にＢaＴiＯ3、ＳrＴiＯ3、Ｂa( 1-X)ＳrXＴiＯ3（Ｘは
１未満）、ＰbＴiＯ3、ＣdＴiＯ3、ＣaＴiＯ3から選ば
れる１種または２種以上からなる結晶性酸化物微粒子で
あることが好ましい。
【００１５】前記強誘電性微粒子（Ｂ）の平均粒子径
は、１〜１００ｎｍの範囲にあり、屈折率が１.７〜３
の範囲にあることが好ましい。マトリックスは、アセチ
ルアセトナトキレート化合物、有機ケイ素化合物、金属
アルコキシドおよびポリシラザンから選ばれる１種また
は２種以上の混合物から選ばれるマトリックス形成成分
から形成されたものであることが好ましい。
は、１〜１００ｎｍの範囲にあり、屈折率が１.７〜３
の範囲にあることが好ましい。マトリックスは、アセチ
ルアセトナトキレート化合物、有機ケイ素化合物、金属
アルコキシドおよびポリシラザンから選ばれる１種また
は２種以上の混合物から選ばれるマトリックス形成成分
から形成されたものであることが好ましい。
【００１６】
【発明の具体的説明】以下本発明に係る液晶表示セルに
ついて具体的に説明する。 [液晶表示セル]次に、本発明に係る液晶表示セルについ
て具体的に説明する。本発明に係る液晶表示セルは、い
ずれもマトリックス（Ａ）および強誘電性微粒子（Ｂ）
からなる透明絶縁膜を有する透明電極付基板を用いたも
のである。
ついて具体的に説明する。 [液晶表示セル]次に、本発明に係る液晶表示セルについ
て具体的に説明する。本発明に係る液晶表示セルは、い
ずれもマトリックス（Ａ）および強誘電性微粒子（Ｂ）
からなる透明絶縁膜を有する透明電極付基板を用いたも
のである。
【００１７】本発明に係る第１の液晶表示セルは、少な
くとも一方の基板の表面に透明電極膜、透明絶縁膜およ
び配向膜が順次積層されてなる一対の透明電極付基板
が、それぞれの透明電極同士が対向するように所定の間
隔をあけて配置され、この一対の透明電極付基板の間に
設けられた間隙に液晶が封入されている液晶表示セルで
ある。
くとも一方の基板の表面に透明電極膜、透明絶縁膜およ
び配向膜が順次積層されてなる一対の透明電極付基板
が、それぞれの透明電極同士が対向するように所定の間
隔をあけて配置され、この一対の透明電極付基板の間に
設けられた間隙に液晶が封入されている液晶表示セルで
ある。
【００１８】図１は、本発明に係る第１の液晶表示セル
の１態様例を模式的に表す断面図である。この液晶表示
セル１は、ガラス基板１１の表面に透明電極膜１２、透
明絶縁膜１３および配向膜１４が順次積層されてなる一
対の透明電極付基板２が、それぞれの透明電極膜１２、
１２同士が対向するように複数のスペーサ粒子５により
所定の間隔ｄを開けて配置され、この所定間隔ｄに開け
られた透明電極膜１２、１２間の隙間に液晶４が封入さ
れて形成されている。
の１態様例を模式的に表す断面図である。この液晶表示
セル１は、ガラス基板１１の表面に透明電極膜１２、透
明絶縁膜１３および配向膜１４が順次積層されてなる一
対の透明電極付基板２が、それぞれの透明電極膜１２、
１２同士が対向するように複数のスペーサ粒子５により
所定の間隔ｄを開けて配置され、この所定間隔ｄに開け
られた透明電極膜１２、１２間の隙間に液晶４が封入さ
れて形成されている。
【００１９】透明絶縁膜１３は、上記透明絶縁膜形成用
塗布液を透明電極膜１２上に塗布することにより形成し
た膜であり、この膜は、表面硬度が高く、透明性および
耐擦傷性に優れ、絶縁抵抗が高く、透明絶縁膜１３と配
向膜１４との密着性が良好である上に、配線見えするこ
とがなく、イオン吸着性微粒子を含む場合は液晶パネル
中の可動イオンを効果的に低減することができる。
塗布液を透明電極膜１２上に塗布することにより形成し
た膜であり、この膜は、表面硬度が高く、透明性および
耐擦傷性に優れ、絶縁抵抗が高く、透明絶縁膜１３と配
向膜１４との密着性が良好である上に、配線見えするこ
とがなく、イオン吸着性微粒子を含む場合は液晶パネル
中の可動イオンを効果的に低減することができる。
【００２０】なお、本発明に係る第１の液晶表示セルで
は、ガラス基板１１と透明電極膜１２との間にさらにＳ
ｉＯ2膜などのアルカリパッシベーション膜を形成した
透明電極付基板を用いてもよいなど、様々な変形が可能
である。本発明に係る第２の液晶表示セルは、少なくと
も一方の基板の表面にカラーフィルター、透明絶縁膜、
透明電極膜および配向膜が順次積層されてなる一対の透
明電極付基板が、それぞれの透明電極同士が対向するよ
うに所定の間隔をあけて配置され、この一対の透明電極
付基板の間に設けられた間隙に液晶が封入されている液
晶表示セルである。
は、ガラス基板１１と透明電極膜１２との間にさらにＳ
ｉＯ2膜などのアルカリパッシベーション膜を形成した
透明電極付基板を用いてもよいなど、様々な変形が可能
である。本発明に係る第２の液晶表示セルは、少なくと
も一方の基板の表面にカラーフィルター、透明絶縁膜、
透明電極膜および配向膜が順次積層されてなる一対の透
明電極付基板が、それぞれの透明電極同士が対向するよ
うに所定の間隔をあけて配置され、この一対の透明電極
付基板の間に設けられた間隙に液晶が封入されている液
晶表示セルである。
【００２１】図２は、本発明に係る第２の液晶表示セル
の１態様例を模式的に表す断面図である。この図２にそ
の特徴的部分が示されているカラー液晶表示装置１’
は、ガラス基板２１ａ上にアルカリパッシベーション膜
２１ｂ、複数の画素電極２１ｃ、透明イオンゲッター膜
２１ｄおよび配向膜２１ｅが順次積層された電極板２１
と、ガラス基板２２ａ上にアルカリパッシベーション膜
２２ｂ、カラーフィルター２２ｃ、透明絶縁膜２２ｄ、
透明電極２２ｅおよび配向膜２２ｆが順次積層された対
向電極板２２を有する液晶表示セル２’と、この液晶表
示セルの両側に一対の偏光板３、４とを備えている。こ
のうち、透明絶縁膜２１ｄおよび２２ｄは、前記透明絶
縁膜形成用塗布液を塗布して形成された膜である。
の１態様例を模式的に表す断面図である。この図２にそ
の特徴的部分が示されているカラー液晶表示装置１’
は、ガラス基板２１ａ上にアルカリパッシベーション膜
２１ｂ、複数の画素電極２１ｃ、透明イオンゲッター膜
２１ｄおよび配向膜２１ｅが順次積層された電極板２１
と、ガラス基板２２ａ上にアルカリパッシベーション膜
２２ｂ、カラーフィルター２２ｃ、透明絶縁膜２２ｄ、
透明電極２２ｅおよび配向膜２２ｆが順次積層された対
向電極板２２を有する液晶表示セル２’と、この液晶表
示セルの両側に一対の偏光板３、４とを備えている。こ
のうち、透明絶縁膜２１ｄおよび２２ｄは、前記透明絶
縁膜形成用塗布液を塗布して形成された膜である。
【００２２】前記液晶表示セル２の電極板２１と対向電
極板２２とは、それぞれのガラス基板２１ａおよび２２
ａを外側にして、複数の画素電極２１ｃのそれぞれと複
数のカラーフィルターＲ、Ｇ、Ｂのそれぞれとが対向す
るように配置されている。また、この電極２１と対向電
極板２２との間の間隙には液晶２３が封入されている。
極板２２とは、それぞれのガラス基板２１ａおよび２２
ａを外側にして、複数の画素電極２１ｃのそれぞれと複
数のカラーフィルターＲ、Ｇ、Ｂのそれぞれとが対向す
るように配置されている。また、この電極２１と対向電
極板２２との間の間隙には液晶２３が封入されている。
【００２３】さらに複数の画素電極２１ｃのそれぞれと
透明電極２２ｅとの間には不図示の回路が形成され、こ
の回路はカラー液晶表示装置１’本体に接続されてい
る。また、対向電極板２２のアルカリパッシベーション
膜２２ｂ上に形成されたカラーフィルター２２ｃは、Ｒ
（レッドフィルター）、Ｇ（グリーンフィルター）、Ｂ
（ブルーフィルター）の複数のカラー要素からなり、各
カラー要素が互いに隣接するように規則正しく配列さ
れ、これにより液晶表示装置１’本体から送られてくる
表示信号により特定の画素電極２１ｃと透明電極２２ｅ
との間に形成された回路が作動し、表示信号に対応した
カラー画像が対向電極板２２の外側に配置された偏光板
４を通して観察できるようになっている。
透明電極２２ｅとの間には不図示の回路が形成され、こ
の回路はカラー液晶表示装置１’本体に接続されてい
る。また、対向電極板２２のアルカリパッシベーション
膜２２ｂ上に形成されたカラーフィルター２２ｃは、Ｒ
（レッドフィルター）、Ｇ（グリーンフィルター）、Ｂ
（ブルーフィルター）の複数のカラー要素からなり、各
カラー要素が互いに隣接するように規則正しく配列さ
れ、これにより液晶表示装置１’本体から送られてくる
表示信号により特定の画素電極２１ｃと透明電極２２ｅ
との間に形成された回路が作動し、表示信号に対応した
カラー画像が対向電極板２２の外側に配置された偏光板
４を通して観察できるようになっている。
【００２４】本発明に係る第３の液晶表示セルは、少な
くとも一方の基板の表面にＴＦＴアレイ、透明絶縁膜、
透明電極膜および配向膜が順次積層されてなる一対の透
明電極付基板が、それぞれの透明電極同士が対向するよ
うに所定の間隔をあけて配置され、この一対の透明電極
付基板の間に設けられた間隙に液晶が封入されている液
晶表示セルである図３は、本発明に係る第３の液晶表示
セルの１態様例を模式的に表す断面図である。
くとも一方の基板の表面にＴＦＴアレイ、透明絶縁膜、
透明電極膜および配向膜が順次積層されてなる一対の透
明電極付基板が、それぞれの透明電極同士が対向するよ
うに所定の間隔をあけて配置され、この一対の透明電極
付基板の間に設けられた間隙に液晶が封入されている液
晶表示セルである図３は、本発明に係る第３の液晶表示
セルの１態様例を模式的に表す断面図である。
【００２５】この液晶表示セル１”は、表面にＴＦＴア
レイ３２が形成され、このＴＦＴアレイ３２表面に、透
明絶縁膜３３、画素電極３４および配向膜３５が順次積
層された透明絶縁性基板３１と、表面にブラックマトリ
クス（遮蔽膜）４２、カラーフィルター４３、透明絶縁
膜４４、対向電極４５および配向膜４６が順次積層され
た対向基板４１とが、液晶層５１とを挟んで配向膜３５
および４６が対峙するように構成されている。
レイ３２が形成され、このＴＦＴアレイ３２表面に、透
明絶縁膜３３、画素電極３４および配向膜３５が順次積
層された透明絶縁性基板３１と、表面にブラックマトリ
クス（遮蔽膜）４２、カラーフィルター４３、透明絶縁
膜４４、対向電極４５および配向膜４６が順次積層され
た対向基板４１とが、液晶層５１とを挟んで配向膜３５
および４６が対峙するように構成されている。
【００２６】なお、図１のように配向膜３５および４６
の間にはスペーサ粒子が介在していてもよい。ＴＦＴア
レイ３２は、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）素子、データ
電極、補助容量などとからなるものである。上記第１〜
第３の液晶表示セルでは、透明絶縁膜の細孔容積が０.
０１〜０.３ml／ｇの範囲にあり、平均細孔径が１〜２
０ｎｍの範囲にあることが好ましい。
の間にはスペーサ粒子が介在していてもよい。ＴＦＴア
レイ３２は、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）素子、データ
電極、補助容量などとからなるものである。上記第１〜
第３の液晶表示セルでは、透明絶縁膜の細孔容積が０.
０１〜０.３ml／ｇの範囲にあり、平均細孔径が１〜２
０ｎｍの範囲にあることが好ましい。
【００２７】透明絶縁膜
透明絶縁膜は、マトリックス（Ａ）および強誘電性微粒
子（Ｂ）からなる。マトリックス（Ａ） マトリックス（Ａ）は、以下に示すマトリックス形成成
分から誘導される金属酸化物または水酸化物から構成さ
れる。
子（Ｂ）からなる。マトリックス（Ａ） マトリックス（Ａ）は、以下に示すマトリックス形成成
分から誘導される金属酸化物または水酸化物から構成さ
れる。
【００２８】マトリックス形成成分（Ａ）は、 (a)アセ
チルアセトナトキレート化合物、(b)有機ケイ素化合
物、(c)金属アルコキシドおよび(d)ポリシラザンから選
ばれる１種または２種以上の混合物から選択される。(a)アセチルアセトナトキレート化合物 アセチルアセトナトキレート化合物はアセチルアセトン
を配位子とするキレート化合物で、下記化学式（１）で
表される化合物またはその縮合体である。
チルアセトナトキレート化合物、(b)有機ケイ素化合
物、(c)金属アルコキシドおよび(d)ポリシラザンから選
ばれる１種または２種以上の混合物から選択される。(a)アセチルアセトナトキレート化合物 アセチルアセトナトキレート化合物はアセチルアセトン
を配位子とするキレート化合物で、下記化学式（１）で
表される化合物またはその縮合体である。
【００２９】
【化１】
【００３０】〔ただし、式中、ａ＋ｂは２〜４であり、
ａは０〜３であり、ｂは１〜４であり、Ｒは−ＣnＨ
2n+1（ｎ＝３または４）であり、Ｘは−ＣＨ3、−ＯＣ
Ｈ3、−Ｃ2Ｈ5または−ＯＣ2Ｈ5である。Ｍ1は周期率表
第ＩＢ族、第IIＡ、Ｂ族、第III Ａ、Ｂ族、第IVＡ、Ｂ
族、第ＶＡ、Ｂ族、第VIＡ族、第VII Ａ族、第VIII族か
ら選ばれる元素またはバナジル（ＶＯ）である。この
内、これらの元素などとａ、ｂの好ましい組み合わせ
は、次表の通りである。〕
ａは０〜３であり、ｂは１〜４であり、Ｒは−ＣnＨ
2n+1（ｎ＝３または４）であり、Ｘは−ＣＨ3、−ＯＣ
Ｈ3、−Ｃ2Ｈ5または−ＯＣ2Ｈ5である。Ｍ1は周期率表
第ＩＢ族、第IIＡ、Ｂ族、第III Ａ、Ｂ族、第IVＡ、Ｂ
族、第ＶＡ、Ｂ族、第VIＡ族、第VII Ａ族、第VIII族か
ら選ばれる元素またはバナジル（ＶＯ）である。この
内、これらの元素などとａ、ｂの好ましい組み合わせ
は、次表の通りである。〕
【００３１】
【表１】
【００３２】このような化合物の具体例としては、たと
えばジブトキシ−ビスアセチルアセトナトジルコニウ
ム、トリブトキシ−モノアセチルアセトナトジルコニウ
ム、ビスアセチルアセトナト鉛、トリスアセチルアセト
ナト鉄、ジブトキシ−ビスアセチルアセトナトハフニウ
ム、モノアセチルアセトナト−トリブトキシハフニウム
などが挙げられる。
えばジブトキシ−ビスアセチルアセトナトジルコニウ
ム、トリブトキシ−モノアセチルアセトナトジルコニウ
ム、ビスアセチルアセトナト鉛、トリスアセチルアセト
ナト鉄、ジブトキシ−ビスアセチルアセトナトハフニウ
ム、モノアセチルアセトナト−トリブトキシハフニウム
などが挙げられる。
【００３３】(b)有機ケイ素化合物
有機ケイ素化合物としては、
一般式 Ｒa−Ｓｉ(ＯＲ')4-a （２）
（ただし、式中、Ｒは−ＣnＨ2n+1であり、Ｒ’は−Ｃn
Ｈ2n+1または−Ｃ2Ｈ4Ｃ nＨ2n+1であり、ａは０ないし
３の整数であり、ｎは１ないし４の整数である。）で示
される有機ケイ素化合物が用いられる。
Ｈ2n+1または−Ｃ2Ｈ4Ｃ nＨ2n+1であり、ａは０ないし
３の整数であり、ｎは１ないし４の整数である。）で示
される有機ケイ素化合物が用いられる。
【００３４】このような有機ケイ素化合物としては、具
体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラ
ン、モノメチルトリメトキシシラン、モノエチルトリエ
トキシシラン、モノエチルトリメトキシシラン、モノメ
チルトリエトキシシラン、ビニルシラン、エポキシシラ
ンなどが好ましく用いられる。上記有機ケイ素化合物か
らマトリックスが構成されていると、耐擦傷性、耐酸
性、耐アルカリ性、耐水性および絶縁性に優れた被膜が
形成される。
体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラ
ン、モノメチルトリメトキシシラン、モノエチルトリエ
トキシシラン、モノエチルトリメトキシシラン、モノメ
チルトリエトキシシラン、ビニルシラン、エポキシシラ
ンなどが好ましく用いられる。上記有機ケイ素化合物か
らマトリックスが構成されていると、耐擦傷性、耐酸
性、耐アルカリ性、耐水性および絶縁性に優れた被膜が
形成される。
【００３５】特に、後述する（結晶性で高屈折率の）強
誘電性微粒子（Ｂ）が配合されているので低温で加熱処
理することができ光学特性に優れた被膜が形成される。(c)金属アルコキシド マトリックス形成成分として使用される金属アルコキシ
ドとしては、Ｍ2(ＯＲ)n（式中、Ｍ2は金属原子であ
り、Ｒはアルキル基または−ＣmＨ2mＯ2（ｍ＝３〜１
０）であり、ｎはＭ2の原子価と同じ整数である。）で
表される化合物またはそれらの縮合体が好ましく、これ
らの化合物またはその縮合体から選ばれる１種または２
種以上を組み合わせて用いることができる。上記式中の
Ｍ2は、金属であれば特に限定されることはないが、好
ましいＭ2は、Ｂｅ、Ａｌ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｆ
ｅ、Ｎｉ，Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｓｅ、Ｙ、Ｚｒ、
Ｎｂ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｐ
ｂ、Ｂｉ、ＣｅまたはＣｕである。
誘電性微粒子（Ｂ）が配合されているので低温で加熱処
理することができ光学特性に優れた被膜が形成される。(c)金属アルコキシド マトリックス形成成分として使用される金属アルコキシ
ドとしては、Ｍ2(ＯＲ)n（式中、Ｍ2は金属原子であ
り、Ｒはアルキル基または−ＣmＨ2mＯ2（ｍ＝３〜１
０）であり、ｎはＭ2の原子価と同じ整数である。）で
表される化合物またはそれらの縮合体が好ましく、これ
らの化合物またはその縮合体から選ばれる１種または２
種以上を組み合わせて用いることができる。上記式中の
Ｍ2は、金属であれば特に限定されることはないが、好
ましいＭ2は、Ｂｅ、Ａｌ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｆ
ｅ、Ｎｉ，Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｓｅ、Ｙ、Ｚｒ、
Ｎｂ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｐ
ｂ、Ｂｉ、ＣｅまたはＣｕである。
【００３６】このような金属アルコキシドとしては、具
体的には、テトラブトキシジルコニウム、ジイソプロポ
キシ−ジオクチルオキシチタニウム、ジエトキシ鉛など
が好ましく用いられる。上記金属アルコキシドからマト
リックスが形成されていると、この金属アルコキシドの
重合硬化により、耐擦傷性、耐酸性、耐アルカリ性、耐
水性および絶縁性に優れた被膜が形成される。
体的には、テトラブトキシジルコニウム、ジイソプロポ
キシ−ジオクチルオキシチタニウム、ジエトキシ鉛など
が好ましく用いられる。上記金属アルコキシドからマト
リックスが形成されていると、この金属アルコキシドの
重合硬化により、耐擦傷性、耐酸性、耐アルカリ性、耐
水性および絶縁性に優れた被膜が形成される。
【００３７】(d)ポリシラザン
また、マトリックス形成成分として使用されるポリシラ
ザンとしては下記式（３）で表される繰り返し単位を有
するポリシラザンが用いられる。
ザンとしては下記式（３）で表される繰り返し単位を有
するポリシラザンが用いられる。
【００３８】
【化２】
【００３９】〔ただし、式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は、
それぞれ水素原子または炭素原子数１〜８のアルキル基
である。〕 マトリックス形成成分として、前記式（３）で表される
ポリシラザンを用いる場合、アルキル基がメチル基、エ
チル基、またはプロピル基であるポリシラザンが好まし
く、このようなポリシラザンを使用すると、加熱時に分
解するアルキル基がなく、加熱時に膜の収縮が少なく、
このため収縮ストレス時にクラックが生じることが少な
くなり、クラックのほとんどない透明絶縁膜が得られ
る。
それぞれ水素原子または炭素原子数１〜８のアルキル基
である。〕 マトリックス形成成分として、前記式（３）で表される
ポリシラザンを用いる場合、アルキル基がメチル基、エ
チル基、またはプロピル基であるポリシラザンが好まし
く、このようなポリシラザンを使用すると、加熱時に分
解するアルキル基がなく、加熱時に膜の収縮が少なく、
このため収縮ストレス時にクラックが生じることが少な
くなり、クラックのほとんどない透明絶縁膜が得られ
る。
【００４０】また、上記式（３）で表わされる繰り返し
単位を有するポリシラザンは、直鎖状であっても、環状
であってもよく、直鎖状のポリシラザンと環状のポリシ
ラザンとが混合して含まれていてもよい。強誘電性微粒子（Ｂ） 本発明でいう強誘電体とは、自発分極を持つ結晶に外部
から電界を加えると自発分極の方向が反転する性質をも
つ強誘電性を示す結晶を指す。これらの強誘電体として
は、Ｂａ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｐｂ、Ｆｅ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓ
ｂ、Ｎｂ、Ｓｎ、ＴａおよびＬａから選ばれる２種以上
の元素および酸素から構成される化合物であり、代表的
な化合物としては、ペロブスカイト型の結晶構造をもつ
化合物、イルメナイト型の結晶構造をもつ化合物および
パイロクロア型の結晶構造をもつ化合物が挙げられる。
本発明では、このような化合物の具体例としては、Ｂａ
ＴｉＯ3、ＳｒＴｉＯ3およびＰｂＴｉＯ3などのペロブ
スカイト化合物、ＦｅＴｉＯ3などのイルメナイト化合
物、Ｐｂ2Ｔｉ2Ｏ6などのパイロクロア型化合物が挙げ
られる。特にＢaＴiＯ3、ＳrＴiＯ3、Ｂa(1-X)ＳrXＴi
Ｏ3（Ｘは１未満）、ＰbＴiＯ3、ＣdＴiＯ3、ＣaＴi
Ｏ3、ＢaＴiＯ3から選ばれる１種または２種以上からな
る微粒子であることが好ましい。
単位を有するポリシラザンは、直鎖状であっても、環状
であってもよく、直鎖状のポリシラザンと環状のポリシ
ラザンとが混合して含まれていてもよい。強誘電性微粒子（Ｂ） 本発明でいう強誘電体とは、自発分極を持つ結晶に外部
から電界を加えると自発分極の方向が反転する性質をも
つ強誘電性を示す結晶を指す。これらの強誘電体として
は、Ｂａ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｐｂ、Ｆｅ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓ
ｂ、Ｎｂ、Ｓｎ、ＴａおよびＬａから選ばれる２種以上
の元素および酸素から構成される化合物であり、代表的
な化合物としては、ペロブスカイト型の結晶構造をもつ
化合物、イルメナイト型の結晶構造をもつ化合物および
パイロクロア型の結晶構造をもつ化合物が挙げられる。
本発明では、このような化合物の具体例としては、Ｂａ
ＴｉＯ3、ＳｒＴｉＯ3およびＰｂＴｉＯ3などのペロブ
スカイト化合物、ＦｅＴｉＯ3などのイルメナイト化合
物、Ｐｂ2Ｔｉ2Ｏ6などのパイロクロア型化合物が挙げ
られる。特にＢaＴiＯ3、ＳrＴiＯ3、Ｂa(1-X)ＳrXＴi
Ｏ3（Ｘは１未満）、ＰbＴiＯ3、ＣdＴiＯ3、ＣaＴi
Ｏ3、ＢaＴiＯ3から選ばれる１種または２種以上からな
る微粒子であることが好ましい。
【００４１】本発明においては加熱等の処理により上記
結晶構造をとり得る化合物（水和物等）も本発明にいう
強誘電体に含まれる。上記のような強誘電体微粒子の調
製方法としては、特に制限はなく、従来公知の方法で調
製されたものが使用し得る。たとえば、ペロブスカイト
型化合物であるチタン酸バリウムの調製法として、酸化
チタン粉末と炭酸バリウムに粉末を混合し、１,０００
℃以上の高温で焼成したのち微粉砕する固相法、バリウ
ム塩とチタン塩の混合水溶液をシュウ酸水溶液中で沈澱
させ、濾別、加熱処理して微粉末を得る方法、チタンア
ルコキシドとバリウムアルコキシドとを有機溶媒中で加
水分解することにより、チタン酸バリウムゾルを得る方
法等があげられる。
結晶構造をとり得る化合物（水和物等）も本発明にいう
強誘電体に含まれる。上記のような強誘電体微粒子の調
製方法としては、特に制限はなく、従来公知の方法で調
製されたものが使用し得る。たとえば、ペロブスカイト
型化合物であるチタン酸バリウムの調製法として、酸化
チタン粉末と炭酸バリウムに粉末を混合し、１,０００
℃以上の高温で焼成したのち微粉砕する固相法、バリウ
ム塩とチタン塩の混合水溶液をシュウ酸水溶液中で沈澱
させ、濾別、加熱処理して微粉末を得る方法、チタンア
ルコキシドとバリウムアルコキシドとを有機溶媒中で加
水分解することにより、チタン酸バリウムゾルを得る方
法等があげられる。
【００４２】このような強誘電体微粒子は、表面がシリ
カで被覆されていることが好ましい。被覆用のシリカ原
料としては、ケイ酸液（水ガラス水溶液を陽イオン交換
樹脂等で脱アルカリして得られる）またはテトラアルコ
キシシランなどの加水分解性有機ケイ素化合物の加水分
解物が挙げられる。また、その被覆法としては特に制限
はなく、たとえばゾル中にこれらのシリカ原料を添加
し、所定時間反応させることによって、表面がシリカで
被覆された強誘電体微粒子が得られる。シリカの被覆量
は、被覆後の微粒子に対し、ＳｉＯ2として１〜８０重
量％、好ましくは５〜５０重量％の範囲であることが好
ましい。１重量％未満では、被覆効果が不十分である。
また、８０重量％を越すと微粒子の屈折率の低下が著し
くなり、このような微粒子からは高屈折率の透明被膜が
得られない。
カで被覆されていることが好ましい。被覆用のシリカ原
料としては、ケイ酸液（水ガラス水溶液を陽イオン交換
樹脂等で脱アルカリして得られる）またはテトラアルコ
キシシランなどの加水分解性有機ケイ素化合物の加水分
解物が挙げられる。また、その被覆法としては特に制限
はなく、たとえばゾル中にこれらのシリカ原料を添加
し、所定時間反応させることによって、表面がシリカで
被覆された強誘電体微粒子が得られる。シリカの被覆量
は、被覆後の微粒子に対し、ＳｉＯ2として１〜８０重
量％、好ましくは５〜５０重量％の範囲であることが好
ましい。１重量％未満では、被覆効果が不十分である。
また、８０重量％を越すと微粒子の屈折率の低下が著し
くなり、このような微粒子からは高屈折率の透明被膜が
得られない。
【００４３】さらに、強誘電体微粒子は、その表面を有
機シラン化合物で改質すると、有機溶媒中での長期分散
安定性が増し、かつ強誘電体等とマトリックスとの反応
性および親和性が向上する。このように強誘電体微粒子
またはシリカ被覆強誘電体微粒子を有機シラン化合物と
接触させて表面改質する際には、シランカップリング剤
として通常用いられている有機シラン化合物が用いら
れ、その種類は、マトリックスの種類などに応じて適宜
選定される。このような表面改質用有機シラン化合物と
しては、具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエ
トキシシランなどのテトラアルコキシシラン類、メチル
トリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチ
ルトリアセトキシシラン、メチルトリプロポキシシラ
ン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシ
ラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシ
シラン、ビニルトリアセトキシシラン、フェニルトリメ
トキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニル
トリアセトキシシラン、γ-クロロプロピルトリメトキ
シシラン、γ-クロロプロピルトリエトキシシラン、γ-
クロロプロピルトリプロポキシシラン、γ-グリシドキ
シプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロ
ピルトリエトキシシラン、γ-（β-グリシドキシエトキ
シ）プロピルトリメトキシシラン、γ-メタクリルオキ
シプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルト
リメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリエトキ
シシランなどのトリアルコキシまたはトリアシルオキシ
シラン類、およびジメチルジメトキシシラン、ジメチル
ジエトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、
γ-グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ-
グリシドキシプロピルフェニルジエトキシシラン、γ-
クロロプロピルメチルジメトキシシラン、ジメチルジア
セトキシシラン、γ-メタクリルオキシプロピルメチル
ジメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルメチルジメ
トキシシラン、γ-アミノプロピルメチルジメトキシシ
ランなどのジアルコキシシランまたはジアシルオキシシ
ラン類またはトリメチルクロロシランなどが挙げられ、
単独または２種以上組合せることも可能である。
機シラン化合物で改質すると、有機溶媒中での長期分散
安定性が増し、かつ強誘電体等とマトリックスとの反応
性および親和性が向上する。このように強誘電体微粒子
またはシリカ被覆強誘電体微粒子を有機シラン化合物と
接触させて表面改質する際には、シランカップリング剤
として通常用いられている有機シラン化合物が用いら
れ、その種類は、マトリックスの種類などに応じて適宜
選定される。このような表面改質用有機シラン化合物と
しては、具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエ
トキシシランなどのテトラアルコキシシラン類、メチル
トリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチ
ルトリアセトキシシラン、メチルトリプロポキシシラ
ン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシ
ラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシ
シラン、ビニルトリアセトキシシラン、フェニルトリメ
トキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニル
トリアセトキシシラン、γ-クロロプロピルトリメトキ
シシラン、γ-クロロプロピルトリエトキシシラン、γ-
クロロプロピルトリプロポキシシラン、γ-グリシドキ
シプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロ
ピルトリエトキシシラン、γ-（β-グリシドキシエトキ
シ）プロピルトリメトキシシラン、γ-メタクリルオキ
シプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルト
リメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリエトキ
シシランなどのトリアルコキシまたはトリアシルオキシ
シラン類、およびジメチルジメトキシシラン、ジメチル
ジエトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、
γ-グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ-
グリシドキシプロピルフェニルジエトキシシラン、γ-
クロロプロピルメチルジメトキシシラン、ジメチルジア
セトキシシラン、γ-メタクリルオキシプロピルメチル
ジメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルメチルジメ
トキシシラン、γ-アミノプロピルメチルジメトキシシ
ランなどのジアルコキシシランまたはジアシルオキシシ
ラン類またはトリメチルクロロシランなどが挙げられ、
単独または２種以上組合せることも可能である。
【００４４】強誘電体微粒子等の表面改質は、例えば上
記有機シラン化合物のアルコール溶液中に強誘電体微粒
子等を分散し、一定時間、一定温度で反応させ後、溶媒
を除去することにより行われる。または有機シラン化合
物分解触媒を添加し、一定時間、一定温度反応させた
後、溶媒を除去することにより行われる。あるいは上記
有機シラン化合物のアルコール溶液と強誘電体微粒子等
の水分散を混合し、一定温度、一定時間反応後、混合液
中の水を分離し、濃縮することにて行われる。
記有機シラン化合物のアルコール溶液中に強誘電体微粒
子等を分散し、一定時間、一定温度で反応させ後、溶媒
を除去することにより行われる。または有機シラン化合
物分解触媒を添加し、一定時間、一定温度反応させた
後、溶媒を除去することにより行われる。あるいは上記
有機シラン化合物のアルコール溶液と強誘電体微粒子等
の水分散を混合し、一定温度、一定時間反応後、混合液
中の水を分離し、濃縮することにて行われる。
【００４５】強誘電性微粒子（Ｂ）の平均粒子径が１〜
１００ｎｍ、さらには１〜５０ｎｍの範囲にあることが
望ましい。強誘電性微粒子（Ｂ）の平均粒子径が１ｎｍ
未満の場合は結晶性が不充分となり、強誘電体としての
特性を充分発現できないことがある。強誘電性微粒子
（Ｂ）の平均粒子径が１００ｎｍを越えると絶縁膜の透
明性が不充分となることがある。また、得られる絶縁膜
表面の凹凸が大きくなり、液晶分子の配向乱れによる表
示不良を起こすことがある。
１００ｎｍ、さらには１〜５０ｎｍの範囲にあることが
望ましい。強誘電性微粒子（Ｂ）の平均粒子径が１ｎｍ
未満の場合は結晶性が不充分となり、強誘電体としての
特性を充分発現できないことがある。強誘電性微粒子
（Ｂ）の平均粒子径が１００ｎｍを越えると絶縁膜の透
明性が不充分となることがある。また、得られる絶縁膜
表面の凹凸が大きくなり、液晶分子の配向乱れによる表
示不良を起こすことがある。
【００４６】強誘電性微粒子（Ｂ）の屈折率は１.７〜
３、さらには２〜３の範囲にあることが望ましい。強誘
電性微粒子（Ｂ）の屈折率が１.７未満の場合は、強誘
電性微粒子（Ｂ）の配合量や絶縁膜の膜厚等によっても
異なるが、絶縁膜の屈折率が１.６未満となることがあ
り、下層の配線見えを抑制できないことがある。
３、さらには２〜３の範囲にあることが望ましい。強誘
電性微粒子（Ｂ）の屈折率が１.７未満の場合は、強誘
電性微粒子（Ｂ）の配合量や絶縁膜の膜厚等によっても
異なるが、絶縁膜の屈折率が１.６未満となることがあ
り、下層の配線見えを抑制できないことがある。
【００４７】透明絶縁膜中にはイオン吸着性微粒子が含
まれていても良い。イオン吸着性微粒子が含まれている
と液晶中に存在する不純物の無機、有機の可動イオンを
吸着することができるので表示不良を起こすことがな
く、また消費電力が少なく、長期信頼性に優れた透明絶
縁膜を形成することができる。イオン吸着性微粒子とし
ては、具体的にはＳiＯ2、Ａl2Ｏ3、ＺrＯ2、ＳnＯ2、
Ｉn2Ｏ3、Ｓb2Ｏ5等の金属酸化物およびこれらの複合金
属酸化物等の他イオン交換樹脂などが挙げられる。
まれていても良い。イオン吸着性微粒子が含まれている
と液晶中に存在する不純物の無機、有機の可動イオンを
吸着することができるので表示不良を起こすことがな
く、また消費電力が少なく、長期信頼性に優れた透明絶
縁膜を形成することができる。イオン吸着性微粒子とし
ては、具体的にはＳiＯ2、Ａl2Ｏ3、ＺrＯ2、ＳnＯ2、
Ｉn2Ｏ3、Ｓb2Ｏ5等の金属酸化物およびこれらの複合金
属酸化物等の他イオン交換樹脂などが挙げられる。
【００４８】さらに、必要に応じて前記強誘電性微粒子
およびイオン吸着性微粒子以外に、絶縁性または導電性
の無機化合物微粒子あるいは樹脂微粒子が含まれていて
もよい。このようにして透明電極上に屈折率がコントロ
ールされた透明絶縁膜を形成することにより、たとえば
この上に形成される配向膜の屈折率より高くして電極な
どが透けて見えるのを防止することができる。特に前記
強誘電性微粒子（Ｂ）が配合されているので焼き付きが
起きることがなく、得られる表示装置は表示ムラが無
い。
およびイオン吸着性微粒子以外に、絶縁性または導電性
の無機化合物微粒子あるいは樹脂微粒子が含まれていて
もよい。このようにして透明電極上に屈折率がコントロ
ールされた透明絶縁膜を形成することにより、たとえば
この上に形成される配向膜の屈折率より高くして電極な
どが透けて見えるのを防止することができる。特に前記
強誘電性微粒子（Ｂ）が配合されているので焼き付きが
起きることがなく、得られる表示装置は表示ムラが無
い。
【００４９】このような透明絶縁膜は、前記したマトリ
ックス形成成分と強誘電性微粒子とが、水と有機溶媒と
からなる混合溶媒に分散されてなる透明絶縁膜形成用塗
布液を公知の方法で塗布し、乾燥、焼成して硬化するこ
とで形成される。マトリックス形成成分（Ａ）として
は、（ａ）アセチルアセトナトキレート化合物、（ｂ）
有機ケイ素化合物、（ｃ）金属アルコキシド、（ｄ）ポ
リシラザンが使用され、これらを２種以上併用する場
合、（ａ）アセチルアセトナトキレート化合物、（ｂ）
有機ケイ素化合物、（ｃ）金属アルコキシド、（ｄ）ポ
リシラザンをそれぞれ、酸化物、窒化物に換算したと
き、すなわち（ａ）アセチルアセトナトキレート化合物
を（Ｍ1Ｏx）で表し、（ｂ）有機ケイ素化合物を（Ｓi
Ｏ2）であらわし、（ｃ）金属アルコキシド（Ｍ2Ｏx）
で表し、（ｄ）ポリシラザンを（ＳiＮ）であらわした
とき、各成分の重量比が、以下のような関係を満たして
いることが好ましい。
ックス形成成分と強誘電性微粒子とが、水と有機溶媒と
からなる混合溶媒に分散されてなる透明絶縁膜形成用塗
布液を公知の方法で塗布し、乾燥、焼成して硬化するこ
とで形成される。マトリックス形成成分（Ａ）として
は、（ａ）アセチルアセトナトキレート化合物、（ｂ）
有機ケイ素化合物、（ｃ）金属アルコキシド、（ｄ）ポ
リシラザンが使用され、これらを２種以上併用する場
合、（ａ）アセチルアセトナトキレート化合物、（ｂ）
有機ケイ素化合物、（ｃ）金属アルコキシド、（ｄ）ポ
リシラザンをそれぞれ、酸化物、窒化物に換算したと
き、すなわち（ａ）アセチルアセトナトキレート化合物
を（Ｍ1Ｏx）で表し、（ｂ）有機ケイ素化合物を（Ｓi
Ｏ2）であらわし、（ｃ）金属アルコキシド（Ｍ2Ｏx）
で表し、（ｄ）ポリシラザンを（ＳiＮ）であらわした
とき、各成分の重量比が、以下のような関係を満たして
いることが好ましい。
【００５０】０．００１≦Ｍ1Ｏx／（ＳiＯ2＋ＳiＮ＋
Ｍ2Ｏx）≦１０ アセチルアセトナトキレート化合物を使用する場合、こ
の値が０．００１以上であると、耐アルカリ性、耐酸
性、耐塩水性、耐水性、耐溶剤性に優れた被膜を得るこ
とができる。また、有機ケイ素化合物およびポリシラザ
ンと金属アルコキシドとの配合割合は、０．００１≦Ｍ
2Ｏx／（ＳiＯ2＋ＳiＮ＋Ｍ2Ｏx）≦１．０であること
が好ましい。
Ｍ2Ｏx）≦１０ アセチルアセトナトキレート化合物を使用する場合、こ
の値が０．００１以上であると、耐アルカリ性、耐酸
性、耐塩水性、耐水性、耐溶剤性に優れた被膜を得るこ
とができる。また、有機ケイ素化合物およびポリシラザ
ンと金属アルコキシドとの配合割合は、０．００１≦Ｍ
2Ｏx／（ＳiＯ2＋ＳiＮ＋Ｍ2Ｏx）≦１．０であること
が好ましい。
【００５１】塗布液に使用される有機溶媒としては、有
機溶媒を用いる場合、具体的には、メタノール、エタノ
ール、イソプロパノールなどのアルコール類、メチルセ
ロソルブ、エチルセロソルブ、エチレングリコールなど
のグリコール類、酢酸メチル、酢酸エチルなどのエステ
ル類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエ
ーテル類、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン
類、ジクロールエタンなどのハロゲン化炭化水素、トル
エン、キシレンなどの芳香族炭化水素およびN,N-ジメチ
ルホルムアミドなどが挙げられる。これらの溶媒は、単
独でまたは２種以上混合して用いられる。
機溶媒を用いる場合、具体的には、メタノール、エタノ
ール、イソプロパノールなどのアルコール類、メチルセ
ロソルブ、エチルセロソルブ、エチレングリコールなど
のグリコール類、酢酸メチル、酢酸エチルなどのエステ
ル類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエ
ーテル類、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン
類、ジクロールエタンなどのハロゲン化炭化水素、トル
エン、キシレンなどの芳香族炭化水素およびN,N-ジメチ
ルホルムアミドなどが挙げられる。これらの溶媒は、単
独でまたは２種以上混合して用いられる。
【００５２】混合溶媒中の水濃度は、０．１〜５０重量
％の範囲であることが好ましい。この値が０．１重量％
未満であると、アセチルアセトナトキレート化合物、有
機ケイ素化合物、ポリシラザンおよび金属アルコキシド
の加水分解、縮重合、複合化などが充分になされず、得
られる絶縁膜の耐擦傷性、耐久性が低下する傾向にあ
り、また、この値が５０重量％を越えると、塗布の際、
塗布液が基材からはじかれやすくなり、絶縁膜を形成し
にくくなることがある。
％の範囲であることが好ましい。この値が０．１重量％
未満であると、アセチルアセトナトキレート化合物、有
機ケイ素化合物、ポリシラザンおよび金属アルコキシド
の加水分解、縮重合、複合化などが充分になされず、得
られる絶縁膜の耐擦傷性、耐久性が低下する傾向にあ
り、また、この値が５０重量％を越えると、塗布の際、
塗布液が基材からはじかれやすくなり、絶縁膜を形成し
にくくなることがある。
【００５３】塗布液中に含まれるマトリックス形成成分
（Ａ）と強誘電性微粒子（Ｂ）の混合割合、マトリック
ス形成成分（Ａ）に含まれる金属種などによって、得ら
れる絶縁膜の屈折率および誘電率を自由にコントロール
することができる。塗布液中の強誘電微粒子の濃度は
０．１〜１０重量％、好ましくは０．５〜８重量％の範
囲にあることが望ましい。
（Ａ）と強誘電性微粒子（Ｂ）の混合割合、マトリック
ス形成成分（Ａ）に含まれる金属種などによって、得ら
れる絶縁膜の屈折率および誘電率を自由にコントロール
することができる。塗布液中の強誘電微粒子の濃度は
０．１〜１０重量％、好ましくは０．５〜８重量％の範
囲にあることが望ましい。
【００５４】また塗布液中のマトリックス形成成分の濃
度は０．０１〜１０重量％、好ましくは０．１〜８重量
％の範囲にあることが望ましい。透明絶縁膜形成用塗布
液には、前記したようにイオン吸着性微粒子が含まれて
いてもよく、さらに、必要に応じて前記強誘電性微粒子
以外に、絶縁性または導電性の無機化合物微粒子あるい
は樹脂微粒子が含まれていてもよい。この場合、塗布液
中には、絶縁性または導電性の無機化合物微粒子あるい
は樹脂微粒子が形成した透明絶縁膜中に、酸化物、窒化
物、樹脂を含む固形分として６５重量％以下の量で存在
していることが好ましい。
度は０．０１〜１０重量％、好ましくは０．１〜８重量
％の範囲にあることが望ましい。透明絶縁膜形成用塗布
液には、前記したようにイオン吸着性微粒子が含まれて
いてもよく、さらに、必要に応じて前記強誘電性微粒子
以外に、絶縁性または導電性の無機化合物微粒子あるい
は樹脂微粒子が含まれていてもよい。この場合、塗布液
中には、絶縁性または導電性の無機化合物微粒子あるい
は樹脂微粒子が形成した透明絶縁膜中に、酸化物、窒化
物、樹脂を含む固形分として６５重量％以下の量で存在
していることが好ましい。
【００５５】透明絶縁膜は、まず、前記のような透明絶
縁膜形成用塗布液を、ディッピング法、スピナー法、ス
プレー法、ロールコーター法、フレキソ印刷などの方法
で塗布し、ついでこのようにして基材表面に形成された
絶縁膜を常温〜８０℃で乾燥し、必要に応じてさらに１
２０℃以上、必要に応じて、３００℃以上に加熱して硬
化するなどの方法により形成される。
縁膜形成用塗布液を、ディッピング法、スピナー法、ス
プレー法、ロールコーター法、フレキソ印刷などの方法
で塗布し、ついでこのようにして基材表面に形成された
絶縁膜を常温〜８０℃で乾燥し、必要に応じてさらに１
２０℃以上、必要に応じて、３００℃以上に加熱して硬
化するなどの方法により形成される。
【００５６】なお、本発明の透明絶縁膜には前記強誘電
性微粒子（Ｂ）が含まれているので、透明性、絶縁性、
光安定性、基材との密着性、耐薬品性、配線見え等に優
れた透明絶縁膜を得ることができる。さらにこの基材に
形成されている透明絶縁膜は、次のような方法で硬化促
進処理が施されていてもよい。
性微粒子（Ｂ）が含まれているので、透明性、絶縁性、
光安定性、基材との密着性、耐薬品性、配線見え等に優
れた透明絶縁膜を得ることができる。さらにこの基材に
形成されている透明絶縁膜は、次のような方法で硬化促
進処理が施されていてもよい。
【００５７】硬化促進処理として具体的には、上記塗布
工程または乾燥工程の後に、あるいは乾燥工程中に、未
硬化段階の被膜に可視光線よりも波長の短い電磁波を照
射したり、未硬化段階の被膜の硬化反応を促進するガス
雰囲気中に晒したりする処理が挙げられる。上記で透明
絶縁膜の厚さは、前記第１の液晶表示セル、第２の液晶
表示セル、第３の液晶表示セルいずれの場合も３０〜１
５０ｎｍ、好ましくは４０〜１００ｎｍの範囲にあるこ
とが望ましい。
工程または乾燥工程の後に、あるいは乾燥工程中に、未
硬化段階の被膜に可視光線よりも波長の短い電磁波を照
射したり、未硬化段階の被膜の硬化反応を促進するガス
雰囲気中に晒したりする処理が挙げられる。上記で透明
絶縁膜の厚さは、前記第１の液晶表示セル、第２の液晶
表示セル、第３の液晶表示セルいずれの場合も３０〜１
５０ｎｍ、好ましくは４０〜１００ｎｍの範囲にあるこ
とが望ましい。
【００５８】透明絶縁膜の厚さが３０ｎｍ未満の場合は
充分な絶縁性が得られないことがあり、１５０ｎｍを越
えるとクラックが発生することがあり、このため膜の強
度が不充分となることがある。こうして形成された膜
は、表面硬度が高く、密着性、透明性に優れるととも
に、耐擦傷性、耐水性、耐アルカリ性などの耐久性にも
優れている上、液晶パネル中の可動イオンを効果的に低
減でき、絶縁抵抗が高く、絶縁性の膜として好適であ
る。
充分な絶縁性が得られないことがあり、１５０ｎｍを越
えるとクラックが発生することがあり、このため膜の強
度が不充分となることがある。こうして形成された膜
は、表面硬度が高く、密着性、透明性に優れるととも
に、耐擦傷性、耐水性、耐アルカリ性などの耐久性にも
優れている上、液晶パネル中の可動イオンを効果的に低
減でき、絶縁抵抗が高く、絶縁性の膜として好適であ
る。
【００５９】
【発明の効果】本発明では、凹凸を有する基板、例えば
ＴＦＴアレイ付基板あるいはカラーフィルター付基板上
に形成された透明絶縁膜の表面は平坦化されており、こ
のため液晶層と接触する配向膜表面も平坦化されている
ので、表面形状に起因する液晶の表示乱れの抑制、表示
ドメインの発生防止、パネル表示時の光抜けの低減およ
びコントラストの向上などに有効である。また特定の絶
縁膜が形成されているので、配線見えや焼き付き現象も
なく、得られる液晶表示装置は表示品位、長期信頼性に
優れる。
ＴＦＴアレイ付基板あるいはカラーフィルター付基板上
に形成された透明絶縁膜の表面は平坦化されており、こ
のため液晶層と接触する配向膜表面も平坦化されている
ので、表面形状に起因する液晶の表示乱れの抑制、表示
ドメインの発生防止、パネル表示時の光抜けの低減およ
びコントラストの向上などに有効である。また特定の絶
縁膜が形成されているので、配線見えや焼き付き現象も
なく、得られる液晶表示装置は表示品位、長期信頼性に
優れる。
【００６０】
【実施例】以下本発明を実施例により説明するが、本発
明はこれら実施例に限定されるものではない。
明はこれら実施例に限定されるものではない。
【００６１】
【実施例１】塗布液（Ａ）の調製
マトリックス形成成分としてγ−グリシドキシプロピル
トリメトキシシラン（信越化学（株）製：KBM-403,Ｓi
Ｏ2濃度２５.４重量％）１９.７ｇとエチルシリケート
２８（多摩化学工業社製：ＳiＯ2濃度２８.８重量％）
１７.４ｇを、ヘキシレングリコール５２.４ｇに添加
し、５分間撹拌した後、これに純水１０.５ｇと濃度６
１％の硝酸０.１ｇを加えて、室温で２４時間撹拌を行
いγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランとエチ
ルシリケートの共部分加水分解物分散液（Ａ）１００ｇ
を調製した。
トリメトキシシラン（信越化学（株）製：KBM-403,Ｓi
Ｏ2濃度２５.４重量％）１９.７ｇとエチルシリケート
２８（多摩化学工業社製：ＳiＯ2濃度２８.８重量％）
１７.４ｇを、ヘキシレングリコール５２.４ｇに添加
し、５分間撹拌した後、これに純水１０.５ｇと濃度６
１％の硝酸０.１ｇを加えて、室温で２４時間撹拌を行
いγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランとエチ
ルシリケートの共部分加水分解物分散液（Ａ）１００ｇ
を調製した。
【００６２】強誘電性微粒子として、濃度１.０モル／
リットルとなるように秤量したジエトキシバリウムとテ
トライソプロポキシドチタンをメタノールとジメトキシ
メタノールとの混合溶媒（体積比３：２）に溶解し、こ
の溶液を５℃に維持しながら水を徐々に添加してジエト
キシバリウムとテトライソプロポキシドチタンの共加水
分解を行い、ついで８時間熟成して結晶性チタン酸バリ
ウムゾル（Ａ）（濃度０.５重量％、平均粒子径２０ｎ
ｍ）１０００ｇを得た。これにへキシレングリコール７
８ｇを添加し、４０℃で１２時間攪拌を行った後、減圧
蒸留にて濃縮し、酸化物として濃度６.０重量％のチタ
ン酸バリウムのヘキシレングリコール分散ゾル（Ａ）８
３ｇを得た。
リットルとなるように秤量したジエトキシバリウムとテ
トライソプロポキシドチタンをメタノールとジメトキシ
メタノールとの混合溶媒（体積比３：２）に溶解し、こ
の溶液を５℃に維持しながら水を徐々に添加してジエト
キシバリウムとテトライソプロポキシドチタンの共加水
分解を行い、ついで８時間熟成して結晶性チタン酸バリ
ウムゾル（Ａ）（濃度０.５重量％、平均粒子径２０ｎ
ｍ）１０００ｇを得た。これにへキシレングリコール７
８ｇを添加し、４０℃で１２時間攪拌を行った後、減圧
蒸留にて濃縮し、酸化物として濃度６.０重量％のチタ
ン酸バリウムのヘキシレングリコール分散ゾル（Ａ）８
３ｇを得た。
【００６３】ついで、前記γ−グリシドキシプロピルト
リメトキシシランとエチルシリケートの共部分加水分解
物分散液（Ａ）２.５ｇにヘキシレングリコール１.７ｇ
を添加して５分間撹拌した後、前記チタン酸バリウムの
ヘキシレングリコール分散ゾル（Ａ）８０ｇを添加し
た。これを、４０℃で１２時間撹拌して固形分濃度６.
０重量％の塗布液（Ａ）を調製した。塗布液の組成は表
に示した。
リメトキシシランとエチルシリケートの共部分加水分解
物分散液（Ａ）２.５ｇにヘキシレングリコール１.７ｇ
を添加して５分間撹拌した後、前記チタン酸バリウムの
ヘキシレングリコール分散ゾル（Ａ）８０ｇを添加し
た。これを、４０℃で１２時間撹拌して固形分濃度６.
０重量％の塗布液（Ａ）を調製した。塗布液の組成は表
に示した。
【００６４】透明絶縁膜（Ａ）の形成
パターニングされたＩＴＯ表示電極つきガラス基板（旭
硝子（株）製：３０Ω／□以下品）上にフレキソ印刷に
て塗布液（Ａ）を塗布し、得られた塗膜を９０℃で５分
間乾燥させた後、１４０℃で１５分間加熱処理して透明
絶縁膜（Ａ）を形成した。得られた透明絶縁膜（Ａ）の
膜厚を触針式表面粗さ計（東京精密（株）製：サーフコ
ム）で測定したところ６５ｎｍであった。また別途同様
にしてシリコンウェハー上に形成した透明絶縁膜の屈折
率をエリプソメータ（ＵＬＶＡＣ社製、測定波長：６３
１ｎｍ）により測定したところ１.９０であった。
硝子（株）製：３０Ω／□以下品）上にフレキソ印刷に
て塗布液（Ａ）を塗布し、得られた塗膜を９０℃で５分
間乾燥させた後、１４０℃で１５分間加熱処理して透明
絶縁膜（Ａ）を形成した。得られた透明絶縁膜（Ａ）の
膜厚を触針式表面粗さ計（東京精密（株）製：サーフコ
ム）で測定したところ６５ｎｍであった。また別途同様
にしてシリコンウェハー上に形成した透明絶縁膜の屈折
率をエリプソメータ（ＵＬＶＡＣ社製、測定波長：６３
１ｎｍ）により測定したところ１.９０であった。
【００６５】液晶表示セル（Ａ）の作成
次に、透明絶縁膜（Ａ）上にポリイミド膜形成用塗料
（日産化学（株）製：サンエバー）をフレキソ印刷で塗
布し、１００℃で５分間乾燥した後、２００℃で２０分
間加熱処理してポリイミド膜を形成し、ついでラビング
処理を行なった。このようにして、硝子基板上に透明電
極、透明絶縁膜（Ａ）およびラビング処理した配向膜が
順次積層した一対の透明電極付き基板を得た。得られた
一対の透明電極付き基板のうち一方の基板には（２枚の
基板間距離に相当する粒子径）のスペーサを散布し、も
う一方の基板にはシーリング用のシール材を印刷し、こ
れらの基板を透明電極同士が互いに対向するように貼り
合わせ、ＳＴＮ液晶を封入し、ついで封入口を封止材で
封止して液晶表示セル（Ａ）を作成した。
（日産化学（株）製：サンエバー）をフレキソ印刷で塗
布し、１００℃で５分間乾燥した後、２００℃で２０分
間加熱処理してポリイミド膜を形成し、ついでラビング
処理を行なった。このようにして、硝子基板上に透明電
極、透明絶縁膜（Ａ）およびラビング処理した配向膜が
順次積層した一対の透明電極付き基板を得た。得られた
一対の透明電極付き基板のうち一方の基板には（２枚の
基板間距離に相当する粒子径）のスペーサを散布し、も
う一方の基板にはシーリング用のシール材を印刷し、こ
れらの基板を透明電極同士が互いに対向するように貼り
合わせ、ＳＴＮ液晶を封入し、ついで封入口を封止材で
封止して液晶表示セル（Ａ）を作成した。
【００６６】配線見えの観察
液晶表示セル（Ａ）の両面に偏光方向が所定の方向にな
るように偏光板を貼り合わせ、パネルに電圧をかけるこ
となく自然光の下で、パネル内にあって透明絶縁膜
（Ａ）の下層のＩＴＯ表示電極部を目視観察し、以下の
基準で評価した。結果を表２に示した。
るように偏光板を貼り合わせ、パネルに電圧をかけるこ
となく自然光の下で、パネル内にあって透明絶縁膜
（Ａ）の下層のＩＴＯ表示電極部を目視観察し、以下の
基準で評価した。結果を表２に示した。
【００６７】
電極の存在、形状が全く視認できない ：◎
電極の存在が僅かに視認できる ：○
電極の形状が僅かに視認できる ：△
電極の存在、形状が明らかに視認できる：×液晶パネルの表示ムラ（光焼き付き）の観察
上記パネルの表示エリアの半分が隠れるようにセルをア
ルミ箔で完全に覆い、１１５Ｗの白色蛍光灯下３０ｃｍ
の位置で１２時間蛍光灯に曝した。ついで、アルミ箔を
取り除き、所定の駆動波形を用いて液晶表示セル（Ａ）
を全面表示させ、遮光部と暴露部との表示色の違いを観
察し、以下の基準で評価した。
ルミ箔で完全に覆い、１１５Ｗの白色蛍光灯下３０ｃｍ
の位置で１２時間蛍光灯に曝した。ついで、アルミ箔を
取り除き、所定の駆動波形を用いて液晶表示セル（Ａ）
を全面表示させ、遮光部と暴露部との表示色の違いを観
察し、以下の基準で評価した。
【００６８】結果を表２にあわせて示す。
表示色の違いが認められない ：○
表示色の違いが僅かに認められる ：△
表示色の違いが明らかに認められる：×
【００６９】
【実施例２】塗布液（Ｂ）の調製
強誘電性微粒子として、濃度１.５モル／リットルとな
るように秤量したジエトキシバリウムとテトライソプロ
ポキシドチタンをメタノールとジメトキシメタノールと
の混合溶媒（体積比３：２）に溶解し、この溶液を５℃
に維持しながら水を徐々に添加してジエトキシバリウム
とテトライソプロポキシドチタンの共加水分解を行い、
ついで６時間熟成して結晶性チタン酸バリウムゾル
（Ｂ）（濃度０.５重量％、平均粒子径１０ｎｍ）１０
００ｇを得た。
るように秤量したジエトキシバリウムとテトライソプロ
ポキシドチタンをメタノールとジメトキシメタノールと
の混合溶媒（体積比３：２）に溶解し、この溶液を５℃
に維持しながら水を徐々に添加してジエトキシバリウム
とテトライソプロポキシドチタンの共加水分解を行い、
ついで６時間熟成して結晶性チタン酸バリウムゾル
（Ｂ）（濃度０.５重量％、平均粒子径１０ｎｍ）１０
００ｇを得た。
【００７０】この結晶性チタン酸バリウムゾル用い、実
施例１と同様にして、酸化物として濃度６.０重量％の
チタン酸バリウムのヘキシレングリコール分散ゾル
（Ｂ）８３ｇを得た。ついで、実施例１で得たγ−グリ
シドキシプロピルトリメトキシシランとエチルシリケー
トの共部分加水分解物分散液（Ａ）１２ｇにヘキシレン
グリコール８ｇを添加して５分間撹拌した後、チタン酸
バリウムのヘキシレングリコール分散ゾル（Ｂ）８０ｇ
を添加した。これを、４０℃で１２時間撹拌して固形分
濃度６.０重量％の塗布液（Ｂ）を調製した。塗布液の
組成は表２にあわせて示した。
施例１と同様にして、酸化物として濃度６.０重量％の
チタン酸バリウムのヘキシレングリコール分散ゾル
（Ｂ）８３ｇを得た。ついで、実施例１で得たγ−グリ
シドキシプロピルトリメトキシシランとエチルシリケー
トの共部分加水分解物分散液（Ａ）１２ｇにヘキシレン
グリコール８ｇを添加して５分間撹拌した後、チタン酸
バリウムのヘキシレングリコール分散ゾル（Ｂ）８０ｇ
を添加した。これを、４０℃で１２時間撹拌して固形分
濃度６.０重量％の塗布液（Ｂ）を調製した。塗布液の
組成は表２にあわせて示した。
【００７１】透明絶縁膜（Ｂ）の形成
実施例１と同様に、塗布液（Ｂ）を用いて透明絶縁膜
（Ｂ）を形成した。得られた透明絶縁膜（Ｂ）の膜厚お
よび別途同様にシリコンウェハー上に形成した透明絶縁
膜の屈折率を測定した。液晶表示セル（Ｂ）の作成 実施例１と同様に、透明絶縁膜（Ｂ）を用いて液晶表示
セル（Ｂ）を作成した。
（Ｂ）を形成した。得られた透明絶縁膜（Ｂ）の膜厚お
よび別途同様にシリコンウェハー上に形成した透明絶縁
膜の屈折率を測定した。液晶表示セル（Ｂ）の作成 実施例１と同様に、透明絶縁膜（Ｂ）を用いて液晶表示
セル（Ｂ）を作成した。
【００７２】得られた液晶表示セル（Ｂ）について、配
線見えの観察および液晶パネルの表示ムラ（光焼き付
き）の観察を行った。結果を表２にあわせて示す。
線見えの観察および液晶パネルの表示ムラ（光焼き付
き）の観察を行った。結果を表２にあわせて示す。
【００７３】
【実施例３】塗布液（Ｃ）の調製
実施例１で得たγ−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シランとエチルシリケートの共部分加水分解物分散液
（Ａ）２４ｇにヘキシレングリコール１６ｇを添加して
５分間撹拌した後、チタン酸バリウムのヘキシレングリ
コール分散ゾル（Ａ）８０ｇを添加した。これを、４０
℃で１２時間撹拌して固形分濃度６.０重量％の塗布液
（Ｃ）を調製した。塗布液の組成は表２に示す。
シランとエチルシリケートの共部分加水分解物分散液
（Ａ）２４ｇにヘキシレングリコール１６ｇを添加して
５分間撹拌した後、チタン酸バリウムのヘキシレングリ
コール分散ゾル（Ａ）８０ｇを添加した。これを、４０
℃で１２時間撹拌して固形分濃度６.０重量％の塗布液
（Ｃ）を調製した。塗布液の組成は表２に示す。
【００７４】透明絶縁膜（Ｃ）の形成
実施例１と同様に、塗布液（Ｃ）を用いて透明絶縁膜
（Ｃ）を形成した。得られた透明絶縁膜（Ｃ）の膜厚お
よび別途同様にシリコンウェハー上に形成した透明絶縁
膜の屈折率を測定した。液晶表示セル（Ｃ）の作成 実施例１と同様に、透明絶縁膜（Ｃ）を用いて液晶表示
セル（Ｃ）を作成した。
（Ｃ）を形成した。得られた透明絶縁膜（Ｃ）の膜厚お
よび別途同様にシリコンウェハー上に形成した透明絶縁
膜の屈折率を測定した。液晶表示セル（Ｃ）の作成 実施例１と同様に、透明絶縁膜（Ｃ）を用いて液晶表示
セル（Ｃ）を作成した。
【００７５】得られた液晶表示セル（Ｃ）について、配
線見えの観察および液晶パネルの表示ムラ（光焼き付
き）の観察を行った。結果を表２にあわせて示す。
線見えの観察および液晶パネルの表示ムラ（光焼き付
き）の観察を行った。結果を表２にあわせて示す。
【００７６】
【実施例４】塗布液（Ｄ）の調製
実施例１で得たγ−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シランとエチルシリケートの共部分加水分解物分散液
（Ａ）３ｇにヘキシレングリコール８ｇを添加して５分
間撹拌した後、チタン酸バリウムのヘキシレングリコー
ル分散ゾル（Ａ）８０ｇ、平均粒子径２０ｎｍのＳb2Ｏ
5微粒子のヘキシレングリコール分散液（Ｓb2Ｏ5 濃度
１０重量％）６ｇ、平均粒子径３５ｎｍのＳiＯ2微粒子
のヘキシレングリコール分散液（ＳiＯ2濃度１０重量
％）３ｇを順次添加した。これを、４０℃で１２時間撹
拌して固形分濃度６.０重量％の塗布液（Ｄ）を調製し
た。塗布液の組成は表２にあわせて示した。
シランとエチルシリケートの共部分加水分解物分散液
（Ａ）３ｇにヘキシレングリコール８ｇを添加して５分
間撹拌した後、チタン酸バリウムのヘキシレングリコー
ル分散ゾル（Ａ）８０ｇ、平均粒子径２０ｎｍのＳb2Ｏ
5微粒子のヘキシレングリコール分散液（Ｓb2Ｏ5 濃度
１０重量％）６ｇ、平均粒子径３５ｎｍのＳiＯ2微粒子
のヘキシレングリコール分散液（ＳiＯ2濃度１０重量
％）３ｇを順次添加した。これを、４０℃で１２時間撹
拌して固形分濃度６.０重量％の塗布液（Ｄ）を調製し
た。塗布液の組成は表２にあわせて示した。
【００７７】透明絶縁膜（Ｄ）の形成
実施例１と同様に、塗布液（Ｄ）を用いて透明絶縁膜
（Ｄ）を形成した。得られた透明絶縁膜（Ｄ）の膜厚お
よび別途同様にシリコンウェハー上に形成した透明絶縁
膜の屈折率を測定した。液晶表示セル（Ｄ）の作成 実施例１と同様に、透明絶縁膜（Ｄ）を用いて液晶表示
セル（Ｄ）を作成した。
（Ｄ）を形成した。得られた透明絶縁膜（Ｄ）の膜厚お
よび別途同様にシリコンウェハー上に形成した透明絶縁
膜の屈折率を測定した。液晶表示セル（Ｄ）の作成 実施例１と同様に、透明絶縁膜（Ｄ）を用いて液晶表示
セル（Ｄ）を作成した。
【００７８】得られた液晶表示セル（Ｄ）について、配
線見えの観察および液晶パネルの表示ムラ（光焼き付
き）の観察を行った。結果を表２にあわせて示す。
線見えの観察および液晶パネルの表示ムラ（光焼き付
き）の観察を行った。結果を表２にあわせて示す。
【００７９】
【実施例５】塗布液（Ｅ）の調製
強誘電性微粒子として、濃度１.０モル／リットルとな
るように秤量したジエトキシストロンチウムとテトライ
ソプロポキシドチタンをメタノールとジメトキシメタノ
ールとの混合溶媒（体積比３：２）に溶解し、この溶液
を５℃に維持しながら水を徐々に添加してジエトキシバ
リウムとテトライソプロポキシドチタンの共加水分解を
行い、ついで８時間熟成して結晶性チタン酸ストロンチ
ウム（Ｅ）（濃度０.５重量％、平均粒子径１５ｎｍ）
１０００ｇを得た。これにへキシレングリコール７８ｇ
を添加し、４０℃で１２時間攪拌を行った後、減圧蒸留
にて濃縮し、酸化物として濃度６.０重量％のチタン酸
ストロンチウムのヘキシレングリコール分散ゾル（Ｅ）
８３ｇを得た。
るように秤量したジエトキシストロンチウムとテトライ
ソプロポキシドチタンをメタノールとジメトキシメタノ
ールとの混合溶媒（体積比３：２）に溶解し、この溶液
を５℃に維持しながら水を徐々に添加してジエトキシバ
リウムとテトライソプロポキシドチタンの共加水分解を
行い、ついで８時間熟成して結晶性チタン酸ストロンチ
ウム（Ｅ）（濃度０.５重量％、平均粒子径１５ｎｍ）
１０００ｇを得た。これにへキシレングリコール７８ｇ
を添加し、４０℃で１２時間攪拌を行った後、減圧蒸留
にて濃縮し、酸化物として濃度６.０重量％のチタン酸
ストロンチウムのヘキシレングリコール分散ゾル（Ｅ）
８３ｇを得た。
【００８０】ついで、実施例１で得たγ−グリシドキシ
プロピルトリメトキシシランとエチルシリケートの共部
分加水分解物分散液（Ａ）１２ｇにヘキシレングリコー
ル８ｇを添加して５分間撹拌した後、チタン酸ストロン
チウムのヘキシレングリコール分散ゾル（Ｅ）８０ｇを
添加した。これを、４０℃で１２時間撹拌して固形分濃
度６.０重量％の塗布液（Ｅ）を調製した。塗布液の組
成は表２に示した。
プロピルトリメトキシシランとエチルシリケートの共部
分加水分解物分散液（Ａ）１２ｇにヘキシレングリコー
ル８ｇを添加して５分間撹拌した後、チタン酸ストロン
チウムのヘキシレングリコール分散ゾル（Ｅ）８０ｇを
添加した。これを、４０℃で１２時間撹拌して固形分濃
度６.０重量％の塗布液（Ｅ）を調製した。塗布液の組
成は表２に示した。
【００８１】透明絶縁膜（Ｅ）の形成
実施例１と同様に、塗布液（Ｅ）を用いて透明絶縁膜
（Ｅ）を形成した。得られた透明絶縁膜（Ｅ）の膜厚お
よび別途同様にシリコンウェハー上に形成した透明絶縁
膜の屈折率を測定した。液晶表示セル（Ｅ）の作成 実施例１と同様に、透明絶縁膜（Ｅ）を用いて液晶表示
セル（Ｅ）を作成した。
（Ｅ）を形成した。得られた透明絶縁膜（Ｅ）の膜厚お
よび別途同様にシリコンウェハー上に形成した透明絶縁
膜の屈折率を測定した。液晶表示セル（Ｅ）の作成 実施例１と同様に、透明絶縁膜（Ｅ）を用いて液晶表示
セル（Ｅ）を作成した。
【００８２】得られた液晶表示セル（Ｅ）について、配
線見えの観察および液晶パネルの表示ムラ（光焼き付
き）の観察を行った。結果を表２にあわせて示す。
線見えの観察および液晶パネルの表示ムラ（光焼き付
き）の観察を行った。結果を表２にあわせて示す。
【００８３】
【比較例１】塗布液（Ｆ）の調製
実施例１で得たγ−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シランとエチルシリケートの共部分加水分解物分散液
（Ａ）６０ｇにヘキシレングリコール４０ｇを添加し、
３時間撹拌して固形分濃度６.０重量％の塗布液（Ｆ）
を調製した。塗布液の組成は表２にあわせて示した。
シランとエチルシリケートの共部分加水分解物分散液
（Ａ）６０ｇにヘキシレングリコール４０ｇを添加し、
３時間撹拌して固形分濃度６.０重量％の塗布液（Ｆ）
を調製した。塗布液の組成は表２にあわせて示した。
【００８４】透明絶縁膜（Ｆ）の形成
実施例１と同様に、塗布液（Ｆ）を用いて透明絶縁膜
（Ｆ）を形成した。得られた透明絶縁膜（Ｆ）の膜厚お
よび別途同様にシリコンウェハー上に形成した透明絶縁
膜の屈折率を測定した。液晶表示セル（Ｆ）の作成 実施例１と同様に、透明絶縁膜（Ｆ）を用いて液晶表示
セル（Ｆ）を作成した。
（Ｆ）を形成した。得られた透明絶縁膜（Ｆ）の膜厚お
よび別途同様にシリコンウェハー上に形成した透明絶縁
膜の屈折率を測定した。液晶表示セル（Ｆ）の作成 実施例１と同様に、透明絶縁膜（Ｆ）を用いて液晶表示
セル（Ｆ）を作成した。
【００８５】得られた液晶表示セル（Ｆ）について、配
線見えの観察および液晶パネルの表示ムラ（光焼き付
き）の観察を行った。結果を表２にあわせて示す。
線見えの観察および液晶パネルの表示ムラ（光焼き付
き）の観察を行った。結果を表２にあわせて示す。
【００８６】
【比較例２】塗布液（Ｇ）の調製
まず、以下のようにして光屈折率微粒子として酸化チタ
ンゾルを調製した。濃度３重量％に希釈したメタチタン
酸にアンモニア水を加えてｐＨ８に調製し、得られた沈
殿を洗浄した。この沈殿に４級アミン４８０ｇを添加
し、９５℃で１時間加温してＴiＯ2としての濃度が２０
重量％、平均粒子径が２５ｎｍの酸化チタンゾルを調製
した。
ンゾルを調製した。濃度３重量％に希釈したメタチタン
酸にアンモニア水を加えてｐＨ８に調製し、得られた沈
殿を洗浄した。この沈殿に４級アミン４８０ｇを添加
し、９５℃で１時間加温してＴiＯ2としての濃度が２０
重量％、平均粒子径が２５ｎｍの酸化チタンゾルを調製
した。
【００８７】ついで、実施例１で得たγ−グリシドキシ
プロピルトリメトキシシランとエチルシリケートの共部
分加水分解物分散液（Ａ）１５ｇにヘキシレングリコー
ルを５０ｇ加えた後、前記酸化チタンゾルをヘキシレン
グリコールに分散させたＴiＯ2としての濃度が１０重量
％の酸化チタンのヘキシレングリコール分散ゾル６０ｇ
を加えて２４時間撹拌し、ついで４０℃で１２時間撹拌
して固形分濃度６.０重量％の塗布液（Ｇ）を調製し
た。塗布液の組成は表２に示した。
プロピルトリメトキシシランとエチルシリケートの共部
分加水分解物分散液（Ａ）１５ｇにヘキシレングリコー
ルを５０ｇ加えた後、前記酸化チタンゾルをヘキシレン
グリコールに分散させたＴiＯ2としての濃度が１０重量
％の酸化チタンのヘキシレングリコール分散ゾル６０ｇ
を加えて２４時間撹拌し、ついで４０℃で１２時間撹拌
して固形分濃度６.０重量％の塗布液（Ｇ）を調製し
た。塗布液の組成は表２に示した。
【００８８】透明絶縁膜（Ｇ）の形成
実施例１と同様に、塗布液（Ｇ）を用いて透明絶縁膜
（Ｇ）を形成した。得られた透明絶縁膜（Ｇ）の膜厚お
よび別途同様にシリコンウェハー上に形成した透明絶縁
膜の屈折率を測定した。液晶表示セル（Ｇ）の作成 実施例１と同様に、透明絶縁膜（Ｇ）を用いて液晶表示
セル（Ｇ）を作成した。
（Ｇ）を形成した。得られた透明絶縁膜（Ｇ）の膜厚お
よび別途同様にシリコンウェハー上に形成した透明絶縁
膜の屈折率を測定した。液晶表示セル（Ｇ）の作成 実施例１と同様に、透明絶縁膜（Ｇ）を用いて液晶表示
セル（Ｇ）を作成した。
【００８９】得られた液晶表示セル（Ｇ）について、配
線見えの観察および液晶パネルの表示ムラ（光焼き付
き）の観察を行った。結果を表２にあわせて示す。
線見えの観察および液晶パネルの表示ムラ（光焼き付
き）の観察を行った。結果を表２にあわせて示す。
【００９０】
【比較例３】塗布液（Ｈ）の調製
マトリックス形成成分としてエチルシリケート２８（多
摩化学工業（株）製：ＳiＯ2濃度２８.８重量％）９
ｇ、ジイソプロポキシ-ジオクチルオキシチタニウムの
イソプロピルアルコール溶液（ＴiＯ2濃度１０重量％）
１０４ｇをチッソガス雰囲気下で混合し、さらに濃度６
１重量％の硝酸０.２ｇ、純水２ｇおよびヘキシレング
リコール１０１ｇとの混合物を添加し、４０℃で２４時
間撹拌し、エチルシリケートとジイソプロポキシ-ジオ
クチルオキシチタニウムの共部分加水分解物分散液（固
形分濃度６.０重量％）を調製し、これを塗布液（Ｈ）
とした。なお、塗布液（Ｈ）には粒子状成分は含まれて
いない。
摩化学工業（株）製：ＳiＯ2濃度２８.８重量％）９
ｇ、ジイソプロポキシ-ジオクチルオキシチタニウムの
イソプロピルアルコール溶液（ＴiＯ2濃度１０重量％）
１０４ｇをチッソガス雰囲気下で混合し、さらに濃度６
１重量％の硝酸０.２ｇ、純水２ｇおよびヘキシレング
リコール１０１ｇとの混合物を添加し、４０℃で２４時
間撹拌し、エチルシリケートとジイソプロポキシ-ジオ
クチルオキシチタニウムの共部分加水分解物分散液（固
形分濃度６.０重量％）を調製し、これを塗布液（Ｈ）
とした。なお、塗布液（Ｈ）には粒子状成分は含まれて
いない。
【００９１】透明絶縁膜（Ｈ）の形成
パターニングされたＩＴＯ表示電極つきガラス基板（旭
硝子（株）製：３０Ω／□以下品）上にフレキソ印刷に
て塗布液（Ｈ）を塗布し、得られた塗膜を９０℃で５分
間乾燥させた後、高圧水銀ランプで積算光量６,０００
ｍJ/cm2（３６５nm用センサにて測定）の条件で紫外線
を照射し、ついで２５０℃で１５分間加熱処理を行ない
透明絶縁膜（Ｈ）を形成した。
硝子（株）製：３０Ω／□以下品）上にフレキソ印刷に
て塗布液（Ｈ）を塗布し、得られた塗膜を９０℃で５分
間乾燥させた後、高圧水銀ランプで積算光量６,０００
ｍJ/cm2（３６５nm用センサにて測定）の条件で紫外線
を照射し、ついで２５０℃で１５分間加熱処理を行ない
透明絶縁膜（Ｈ）を形成した。
【００９２】得られた透明絶縁膜（Ｈ）の膜厚および別
途同様にシリコンウェハー上に形成した透明絶縁膜の屈
折率を測定した。液晶表示セル（Ｈ）の作成 実施例１と同様に、透明絶縁膜（Ｈ）を用いて液晶表示
セル（Ｈ）を作成した。
途同様にシリコンウェハー上に形成した透明絶縁膜の屈
折率を測定した。液晶表示セル（Ｈ）の作成 実施例１と同様に、透明絶縁膜（Ｈ）を用いて液晶表示
セル（Ｈ）を作成した。
【００９３】得られた液晶表示セル（Ｈ）について、配
線見えの観察および液晶パネルの表示ムラ（光焼き付
き）の観察を行った。結果を表２にあわせて示す。
線見えの観察および液晶パネルの表示ムラ（光焼き付
き）の観察を行った。結果を表２にあわせて示す。
【００９４】
【表２】
【図１】本発明に係る第１の液晶表示セルの一態様例の
概略断面図を示す。
概略断面図を示す。
【図２】本発明に係る第２の液晶表示セルの一態様例の
概略断面図を示す。
概略断面図を示す。
【図３】本発明に係る第３の液晶表示セルの一態様例の
概略断面図を示す。
概略断面図を示す。
１、１'、１"・・・液晶表示セル
２、２’・・・・・液晶表示セル
３、４・・・・・・偏光板
５・・・・・・・・スペーサ粒子
６・・・・・・・・液晶
１１・・・・・・・ガラス基板
１２・・・・・・・透明電極膜
１３・・・・・・・透明イオンゲッター膜
１４・・・・・・・配向膜
２１・・・・・・・電極板
２１ａ・・・・・・ガラス基板
２１ｂ・・・・・・アルカリパッシベーション膜
２１ｃ・・・・・・複数の画素電極
２１ｄ・・・・・・透明イオンゲッター膜
２１ｅ・・・・・・配向膜
２２・・・・・・・対向電極板
２２ａ・・・・・・ガラス基板
２２ｂ・・・・・・アルカリパッシベーション膜
２２ｃ・・・・・・カラーフィルター
２２ｄ・・・・・・透明イオンゲッター膜
２２ｅ・・・・・・透明電極
２２ｆ・・・・・・配向膜
２３・・・・・・・液晶
３１・・・・・・・透明絶縁性基板
３２・・・・・・・ＴＦＴアレイ
３３・・・・・・・透明イオンゲッター膜
３４・・・・・・・画素電極
３５・・・・・・・配向膜
３６・・・・・・・絶縁膜
４１・・・・・・・対向基板
４２・・・・・・・ブラックマトリクス（遮蔽膜）
４３・・・・・・・カラーフィルター
４４・・・・・・・透明イオンゲッター膜
４５・・・・・・・対向電極
４６・・・・・・・配向膜
５１・・・・・・・液晶層
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｇ０９Ｆ 9/30 ３４８ Ｇ０９Ｆ 9/30 ３４８Ａ
9/35 9/35
(72)発明者 小 松 通 郎
福岡県北九州市若松区北湊町13番２号 触
媒化成工業株式会社若松工場内
Ｆターム(参考） 2H090 HA03 HA04 HB07X HB12X
HB14X HB19X HD03 HD04
HD08 LA01 LA04 LA15
2H091 FA02Y GA03 GA06 GA07
GA13 LA15 LA30
2H092 GA17 GA18 JA24 JB58 NA02
NA18 NA19 PA02 PA08
5C094 AA31 AA37 BA03 BA43 CA19
CA24 DA14 DA15 EA04 EA05
EA07 EB02 EC03 ED03 ED14
ED15
Claims (11)
- 【請求項１】少なくとも一方の基板の表面に透明電極
膜、透明絶縁膜および配向膜が順次積層されてなる一対
の透明電極付基板が、それぞれの透明電極同士が対向す
るように所定の間隔をあけて配置され、この一対の透明
電極付基板の間にあけられた間隙に液晶が封入されてい
る液晶表示セルにおいて、 透明絶縁膜が、マトリックス（Ａ）および強誘電性微粒
子（Ｂ）からなることを特徴とする液晶表示セル。 - 【請求項２】少なくとも一方の基板の表面にカラーフィ
ルター、透明絶縁膜、透明電極膜および配向膜が順次積
層されてなる一対の透明電極付基板が、それぞれの透明
電極同士が対向するように所定の間隔をあけて配置さ
れ、この一対の透明電極付基板の間にあけられた間隙に
液晶が封入されている液晶表示セルにおいて、 透明絶縁膜が、マトリックス（Ａ）および強誘電性微粒
子（Ｂ）からなることを特徴とする液晶表示セル。 - 【請求項３】少なくとも一方の基板の表面にＴＦＴアレ
イ、透明絶縁膜、透明電極膜および配向膜が順次積層さ
れてなる一対の透明電極付基板が、それぞれの透明電極
同士が対向するように所定の間隔をあけて配置され、こ
の一対の透明電極付基板の間にあけられた間隙に液晶が
封入されている液晶表示セルにおいて、 透明絶縁膜が、マトリックス（Ａ）および強誘電性微粒
子（Ｂ）からなることを特徴とする液晶表示セル。 - 【請求項４】前記強誘電性微粒子（Ｂ）が、Ｂａ、Ｃ
ａ、Ｓｒ、Ｐｂ、Ｆｅ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｂ、Ｎｂ、Ｓ
ｎ、ＴａおよびＬａから選ばれる２種以上の元素および
酸素から構成される化合物からなる微粒子であることを
特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の液晶表示セ
ル。 - 【請求項５】前記強誘電性微粒子がＢaＴiＯ3、ＳrＴi
Ｏ3、Ｂa(1-X)ＳrXＴiＯ3（Ｘは１未満）、ＰbＴiＯ3、
ＣdＴiＯ3、ＣaＴiＯ3から選ばれる１種または２種以上
からなる結晶性酸化物微粒子であることを特徴とする請
求項４に記載の液晶表示セル。 - 【請求項６】前記強誘電性微粒子（Ｂ）の平均粒子径が
１〜１００ｎｍの範囲にあり、屈折率が１.７〜３の範
囲にあることを特徴とする請求項４または５に記載の液
晶表示セル。 - 【請求項７】マトリックスが、アセチルアセトナトキレ
ート化合物、有機ケイ素化合物、金属アルコキシドおよ
びポリシラザンから選ばれる１種、または２種以上の混
合物から選ばれるマトリックス形成成分から形成された
ものであることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに
記載の液晶表示セル。 - 【請求項８】マトリックス形成成分（Ａ）および強誘電
性微粒子（Ｂ）が、水と有機溶媒とからなる混合溶媒中
に分散されてなることを特徴とする液晶表示セル用透明
絶縁膜形成用塗布液。 - 【請求項９】前記強誘電性微粒子（Ｂ）が、Ｂａ、Ｃ
ａ、Ｓｒ、Ｐｂ、Ｆｅ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｂ、Ｎｂ、Ｓ
ｎ、ＴａおよびＬａから選ばれる２種以上の元素および
酸素から構成される化合物からなる微粒子であることを
特徴とする請求項８に記載の液晶表示セル用透明絶縁膜
形成用塗布液。 - 【請求項１０】前記強誘電性微粒子（Ｂ）の平均粒子径
が１〜１００ｎｍの範囲にあり、屈折率が１.７〜３の
範囲にあることを特徴とする請求項８または９に記載の
液晶表示セル用透明絶縁膜形成用塗布液。 - 【請求項１１】マトリックス形成成分が、アセチルアセ
トナトキレート化合物、有機ケイ素化合物、金属アルコ
キシドおよびポリシラザンから選ばれる１種または２種
以上の混合物からなることを特徴とする請求項８〜１０
のいずれかに記載の液晶表示セル用透明絶縁膜形成用塗
布液。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001239369A JP3914011B2 (ja) | 2001-08-07 | 2001-08-07 | 液晶表示セルおよび該液晶表示セル用塗布液 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001239369A JP3914011B2 (ja) | 2001-08-07 | 2001-08-07 | 液晶表示セルおよび該液晶表示セル用塗布液 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003050385A true JP2003050385A (ja) | 2003-02-21 |
| JP3914011B2 JP3914011B2 (ja) | 2007-05-16 |
Family
ID=19070137
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001239369A Expired - Lifetime JP3914011B2 (ja) | 2001-08-07 | 2001-08-07 | 液晶表示セルおよび該液晶表示セル用塗布液 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3914011B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1463787A2 (en) * | 2002-01-10 | 2004-10-06 | Kent State University | A material for liquid crystal cell |
| JP2006091233A (ja) * | 2004-09-22 | 2006-04-06 | Seiko Epson Corp | 液晶表示装置、液晶表示装置の製造方法、及び電子機器 |
| JP2007304529A (ja) * | 2006-05-10 | 2007-11-22 | Trendon Touch Technology Corp | 透明な基板における透明な基板が見えないようにするという処理方法 |
| JP2008026430A (ja) * | 2006-07-19 | 2008-02-07 | Hitachi Displays Ltd | 液晶表示装置及びその製造方法 |
| US7758773B2 (en) | 2002-01-10 | 2010-07-20 | Kent State University | Non-synthetic method for modifying properties of liquid crystals |
| WO2016016260A1 (de) * | 2014-07-29 | 2016-02-04 | AZ Electronic Materials (Luxembourg) S.à.r.l. | Hybridmaterial zur verwendung als beschichtungsmittel in optoelektronischen bauteilen |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110109293A (zh) * | 2019-04-04 | 2019-08-09 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 液晶无机配向薄膜的制造方法 |
-
2001
- 2001-08-07 JP JP2001239369A patent/JP3914011B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1463787A4 (en) * | 2002-01-10 | 2005-03-23 | Univ Kent State Ohio | MATERIAL FOR LIQUID CRYSTAL CELL |
| EP1463787A2 (en) * | 2002-01-10 | 2004-10-06 | Kent State University | A material for liquid crystal cell |
| US7758773B2 (en) | 2002-01-10 | 2010-07-20 | Kent State University | Non-synthetic method for modifying properties of liquid crystals |
| US7903228B2 (en) | 2002-01-10 | 2011-03-08 | Kent State University | Material for liquid crystal cell |
| JP2006091233A (ja) * | 2004-09-22 | 2006-04-06 | Seiko Epson Corp | 液晶表示装置、液晶表示装置の製造方法、及び電子機器 |
| JP4609017B2 (ja) * | 2004-09-22 | 2011-01-12 | セイコーエプソン株式会社 | 液晶表示装置、液晶表示装置の製造方法、及び電子機器 |
| JP2014132469A (ja) * | 2006-05-10 | 2014-07-17 | Trendon Touch Technology Corp | 透明基板における透明電極が見えないようにする処理方法 |
| JP2007304529A (ja) * | 2006-05-10 | 2007-11-22 | Trendon Touch Technology Corp | 透明な基板における透明な基板が見えないようにするという処理方法 |
| KR101252276B1 (ko) * | 2006-05-10 | 2013-04-08 | 티피케이 터치 솔루션스 인코포레이션 | 터치 패널의 투명 기판 상에서 투명 전극을 은폐하는 방법 및 그 방법에 의해 제조된 터치 패널용 부품 |
| JP2008026430A (ja) * | 2006-07-19 | 2008-02-07 | Hitachi Displays Ltd | 液晶表示装置及びその製造方法 |
| WO2016016260A1 (de) * | 2014-07-29 | 2016-02-04 | AZ Electronic Materials (Luxembourg) S.à.r.l. | Hybridmaterial zur verwendung als beschichtungsmittel in optoelektronischen bauteilen |
| KR20170066309A (ko) * | 2014-07-29 | 2017-06-14 | 에이제트 일렉트로닉 머티어리얼스 (룩셈부르크) 에스.에이.알.엘. | 광전자 부품의 코팅 수단으로 사용하기 위한 하이브리드 재료 |
| JP2017524158A (ja) * | 2014-07-29 | 2017-08-24 | エイ・ゼット・エレクトロニック・マテリアルズ（ルクセンブルク）エス・ア・エール・エル | オプトエレクトロニクス部品のコーティング手段として使用するためのハイブリッド材料 |
| US10385234B2 (en) | 2014-07-29 | 2019-08-20 | AZ Electronics Materials (LUXEMBOURG) S.Á.R.L. | Hybrid material for use as coating means in optoelectronic components |
| TWI671362B (zh) * | 2014-07-29 | 2019-09-11 | AZ ELECTRONIC MATERIALS (LUXEMBOURG) S. a. r. l. | 混成材料之用途、其塗布方法及光電元件 |
| KR102487423B1 (ko) * | 2014-07-29 | 2023-01-10 | 메르크 파텐트 게엠베하 | 광전자 부품의 코팅 수단으로 사용하기 위한 하이브리드 재료 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3914011B2 (ja) | 2007-05-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100317898B1 (ko) | 투명피막형성용도포액,투명피막이도포된기재및그의용도 | |
| JP5605359B2 (ja) | ケイ素系液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 | |
| JP2011059692A (ja) | 液晶表示セル | |
| TW588564B (en) | Organic electroluminescence element-use transparent substrate and element | |
| JP3881051B2 (ja) | 透明被膜形成用塗布液および被膜付基材 | |
| JP3914011B2 (ja) | 液晶表示セルおよび該液晶表示セル用塗布液 | |
| JP2003186054A (ja) | 液晶表示セル | |
| KR101829479B1 (ko) | 액정 배향제, 액정 배향막 및 액정 표시 소자 | |
| JP2967944B2 (ja) | 透明被膜形成用塗布液、被膜付基材および液晶表示セル | |
| JP4744657B2 (ja) | 透明イオンゲッター膜形成用塗布液、被膜付基材および液晶表示セル | |
| JP3913483B2 (ja) | 液晶表示セル | |
| JP5160880B2 (ja) | イオン拡散防止膜の製造方法、イオン拡散防止膜付基材および液晶表示セル | |
| JP4002385B2 (ja) | 透明イオンゲッター膜形成用塗布液、該膜付基材および液晶表示セル | |
| JPH05232459A (ja) | 液晶表示セルおよびその製造方法 | |
| JPH06212125A (ja) | 塗布液、その製造方法および被膜付基材 | |
| JP2003149653A (ja) | 液晶表示セルおよびシール剤 | |
| JP5999084B2 (ja) | ケイ素系液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 | |
| JP3130614B2 (ja) | 液晶表示装置およびその製造方法 | |
| JP2006003571A (ja) | Ｉｐｓ用カラーフィルタおよび液晶表示装置 | |
| JP3913962B2 (ja) | 液晶表示セルおよびその製造方法 | |
| JP2003202960A (ja) | タッチパネル | |
| EP0768558B1 (en) | Liquid crystal device and process for production thereof | |
| KR20190033172A (ko) | 발수성이 우수하고 자기회복능력을 갖는 박막용 조성물 및 이로부터 제조된 발수성 박막 | |
| JP3278043B2 (ja) | 液晶素子及びその製造方法 | |
| JPH10206835A (ja) | 液晶表示素子用基板 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040728 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060907 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060913 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061110 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070123 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070201 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 3914011 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110209 Year of fee payment: 4 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120209 Year of fee payment: 5 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120209 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130209 Year of fee payment: 6 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140209 Year of fee payment: 7 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |