JPH10206835A - 液晶表示素子用基板 - Google Patents
液晶表示素子用基板Info
- Publication number
- JPH10206835A JPH10206835A JP1978897A JP1978897A JPH10206835A JP H10206835 A JPH10206835 A JP H10206835A JP 1978897 A JP1978897 A JP 1978897A JP 1978897 A JP1978897 A JP 1978897A JP H10206835 A JPH10206835 A JP H10206835A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- resin
- liquid crystal
- layer
- resin substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 軽量性や耐熱性、透明性や耐衝撃性等の樹脂
基板の利点を維持しつつ、耐湿性やガスバリア性に優れ
て透明導電膜付設後の洗浄や乾燥で湾曲を生じにくく、
耐久性に優れる液晶セルを製造効率に優れる組立ライン
スピードで得ることができる液晶表示素子用基板の開
発。 【解決手段】 樹脂基板（１）の片面に高分子皮膜から
なるガスバリア層（２）を介して架橋樹脂層（３）を有
し、その樹脂基板の他面に当該基板に隣接して無機酸化
物層（４）を有する透明な液晶表示素子用基板。 【効果】 基板に透明導電膜を付設した場合に基板表裏
での吸水度の対称性が維持されて湾曲化が防止され、従
来のガラス基板と同様に処理作業できてガラス基板に匹
敵する良好な画質を長期に維持し、耐久性に優れる液晶
セルが得られる。
基板の利点を維持しつつ、耐湿性やガスバリア性に優れ
て透明導電膜付設後の洗浄や乾燥で湾曲を生じにくく、
耐久性に優れる液晶セルを製造効率に優れる組立ライン
スピードで得ることができる液晶表示素子用基板の開
発。 【解決手段】 樹脂基板（１）の片面に高分子皮膜から
なるガスバリア層（２）を介して架橋樹脂層（３）を有
し、その樹脂基板の他面に当該基板に隣接して無機酸化
物層（４）を有する透明な液晶表示素子用基板。 【効果】 基板に透明導電膜を付設した場合に基板表裏
での吸水度の対称性が維持されて湾曲化が防止され、従
来のガラス基板と同様に処理作業できてガラス基板に匹
敵する良好な画質を長期に維持し、耐久性に優れる液晶
セルが得られる。
Description
【０００１】
【発明の技術分野】本発明は、耐湿性、ガスバリア性、
透明性、耐熱性、耐久性、軽量性等に優れて液晶セルの
形成などに好適な樹脂系の液晶表示素子用基板に関す
る。
透明性、耐熱性、耐久性、軽量性等に優れて液晶セルの
形成などに好適な樹脂系の液晶表示素子用基板に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】液晶セルの大画面化等に伴いガラス基板
では割れやすく、かつ重いという難点があるため薄型
で、かつ軽いという利点を有する樹脂基板が提案されて
おり、その機械的強度や耐衝撃性を向上した改良品、あ
るいはガスバリア層の付設による水分や酸素の侵入防止
で液晶の変質や外観の不良化を防止した改良品も提案さ
れている（特開昭５８−２０８０３９号公報、特開平２
−１６９６２０号公報、特開平５−１１０６３９号公
報、特開平５−２８５８３６号公報）。
では割れやすく、かつ重いという難点があるため薄型
で、かつ軽いという利点を有する樹脂基板が提案されて
おり、その機械的強度や耐衝撃性を向上した改良品、あ
るいはガスバリア層の付設による水分や酸素の侵入防止
で液晶の変質や外観の不良化を防止した改良品も提案さ
れている（特開昭５８−２０８０３９号公報、特開平２
−１６９６２０号公報、特開平５−１１０６３９号公
報、特開平５−２８５８３６号公報）。
【０００３】しかしながら、従来のいずれの樹脂基板に
あってもその基板に透明導電膜を付設してセル基板と
し、液晶セルの組立ラインに供して洗浄、乾燥を行うと
基板が湾曲し、後続の処理が施せなくなる問題点があっ
た。ライン速度を落すと湾曲を抑制しうるものの、液晶
セルの製造効率が大幅に低下する。また従来の樹脂基板
には、ガスバリア層を付設したセル基板を用いた液晶セ
ルの場合にあっても、時間の経過とともに水分や酸素が
セル内部に侵入して液晶の変質や曇り等の外観不良を発
生して表示素子の品質を低下させ、耐久性に乏しい問題
点もあった。
あってもその基板に透明導電膜を付設してセル基板と
し、液晶セルの組立ラインに供して洗浄、乾燥を行うと
基板が湾曲し、後続の処理が施せなくなる問題点があっ
た。ライン速度を落すと湾曲を抑制しうるものの、液晶
セルの製造効率が大幅に低下する。また従来の樹脂基板
には、ガスバリア層を付設したセル基板を用いた液晶セ
ルの場合にあっても、時間の経過とともに水分や酸素が
セル内部に侵入して液晶の変質や曇り等の外観不良を発
生して表示素子の品質を低下させ、耐久性に乏しい問題
点もあった。
【０００４】
【発明の技術的課題】従って本発明は、軽量性や耐熱
性、透明性や耐衝撃性等の樹脂基板の利点を維持しつ
つ、耐湿性やガスバリア性に優れて透明導電膜付設後の
洗浄や乾燥で湾曲を生じにくく、耐久性に優れる液晶セ
ルを製造効率に優れる組立ラインスピードで得ることが
できる液晶表示素子用基板の開発を課題とする。
性、透明性や耐衝撃性等の樹脂基板の利点を維持しつ
つ、耐湿性やガスバリア性に優れて透明導電膜付設後の
洗浄や乾燥で湾曲を生じにくく、耐久性に優れる液晶セ
ルを製造効率に優れる組立ラインスピードで得ることが
できる液晶表示素子用基板の開発を課題とする。
【０００５】
【課題の解決手段】本発明は、樹脂基板の片面に高分子
皮膜からなるガスバリア層を介して架橋樹脂層を有し、
その樹脂基板の他面に当該基板に隣接して無機酸化物層
を有することを特徴とする透明な液晶表示素子用基板を
提供するものである。
皮膜からなるガスバリア層を介して架橋樹脂層を有し、
その樹脂基板の他面に当該基板に隣接して無機酸化物層
を有することを特徴とする透明な液晶表示素子用基板を
提供するものである。
【０００６】
【発明の作用・効果】本発明によれば、基板の無機酸化
物層に透明導電膜を付設して洗浄・乾燥した場合に、基
板片側のガスバリア層と架橋樹脂層の複層構造と、基板
の他方側の透明導電膜を付設した無機酸化物層の複層構
造が水分の侵入・拡散・揮散の制御層として機能し、基
板表裏からの水分の侵入・拡散・揮散をバランスさせ、
樹脂基板内、特に基板の表側と裏側との間での吸水度の
対称性が維持され、基板湾曲の原因となる基板表裏での
不均一な吸水度状態に基づく不均一な膨脹状態の発生が
防止されて湾曲の発生が防止される。
物層に透明導電膜を付設して洗浄・乾燥した場合に、基
板片側のガスバリア層と架橋樹脂層の複層構造と、基板
の他方側の透明導電膜を付設した無機酸化物層の複層構
造が水分の侵入・拡散・揮散の制御層として機能し、基
板表裏からの水分の侵入・拡散・揮散をバランスさせ、
樹脂基板内、特に基板の表側と裏側との間での吸水度の
対称性が維持され、基板湾曲の原因となる基板表裏での
不均一な吸水度状態に基づく不均一な膨脹状態の発生が
防止されて湾曲の発生が防止される。
【０００７】すなわち前記は、上記した従来のセル基板
における問題、特に湾曲問題は、強度上厚めに設定した
樹脂基板に洗浄時等に水分が侵入し、それが内部に拡散
しにくいために時間の経過とともに基板内、特に基板の
表側と裏側の間で吸水度の不均一な状態が生じ、その不
均一な吸水度に基づいて発生する膨脹差が湾曲の原因で
あり、従って湾曲の防止には単なる耐湿性の向上だけで
は不十分で、基板内、特に基板の表裏での吸水度をバラ
ンスさせることが必要であることを究明したことによ
る。
における問題、特に湾曲問題は、強度上厚めに設定した
樹脂基板に洗浄時等に水分が侵入し、それが内部に拡散
しにくいために時間の経過とともに基板内、特に基板の
表側と裏側の間で吸水度の不均一な状態が生じ、その不
均一な吸水度に基づいて発生する膨脹差が湾曲の原因で
あり、従って湾曲の防止には単なる耐湿性の向上だけで
は不十分で、基板内、特に基板の表裏での吸水度をバラ
ンスさせることが必要であることを究明したことによ
る。
【０００８】上記の結果、軽量性や耐熱性、透明性や耐
衝撃性等の利点を維持しつつ、耐湿性やガスバリア性に
優れて透明導電膜付設後の洗浄や乾燥で湾曲を生じにく
く、従来のガラス基板の場合と同様の液晶セルの組立ラ
インにおいて良好な搬送性や処理作業性を示す液晶表示
素子用の樹脂系基板が得られ、製造効率のよいラインス
ピードで液晶セルを形成することができる。しかも得ら
れた液晶セルは、ガラス基板に匹敵する良好な画質を示
すと共に、水分や酸素の遮蔽性に優れて液晶の品質や外
観を良好な状態に長期に維持し、耐久性に優れて良画質
状態を長期に維持し、寿命やその信頼性にも優れてい
る。
衝撃性等の利点を維持しつつ、耐湿性やガスバリア性に
優れて透明導電膜付設後の洗浄や乾燥で湾曲を生じにく
く、従来のガラス基板の場合と同様の液晶セルの組立ラ
インにおいて良好な搬送性や処理作業性を示す液晶表示
素子用の樹脂系基板が得られ、製造効率のよいラインス
ピードで液晶セルを形成することができる。しかも得ら
れた液晶セルは、ガラス基板に匹敵する良好な画質を示
すと共に、水分や酸素の遮蔽性に優れて液晶の品質や外
観を良好な状態に長期に維持し、耐久性に優れて良画質
状態を長期に維持し、寿命やその信頼性にも優れてい
る。
【０００９】
【発明の実施形態】本発明の液晶表示素子用基板は、樹
脂基板の片面に高分子皮膜からなるガスバリア層を介し
て架橋樹脂層を有し、その樹脂基板の他面に当該基板に
隣接して無機酸化物層を有するものからなる。その例を
図１、図２に示した。１が樹脂基板、２がガスバリア
層、３が架橋樹脂層、４が無機酸化物層であり、５はＳ
ｉＯx層、６は透明導電膜である。
脂基板の片面に高分子皮膜からなるガスバリア層を介し
て架橋樹脂層を有し、その樹脂基板の他面に当該基板に
隣接して無機酸化物層を有するものからなる。その例を
図１、図２に示した。１が樹脂基板、２がガスバリア
層、３が架橋樹脂層、４が無機酸化物層であり、５はＳ
ｉＯx層、６は透明導電膜である。
【００１０】樹脂基板は、ガスバリア層等の付設層を支
持する基板のベースとなるものであり、熱可塑性樹脂や
熱硬化性樹脂などの適宜な樹脂にて形成することができ
る。透明導電膜を付設する際の耐熱性などの点より好ま
しく用いうる樹脂基板は、ガラス転移温度が１３０℃以
上、就中１５０℃以上、特に１６０℃以上の樹脂からな
るものである。
持する基板のベースとなるものであり、熱可塑性樹脂や
熱硬化性樹脂などの適宜な樹脂にて形成することができ
る。透明導電膜を付設する際の耐熱性などの点より好ま
しく用いうる樹脂基板は、ガラス転移温度が１３０℃以
上、就中１５０℃以上、特に１６０℃以上の樹脂からな
るものである。
【００１１】また樹脂基板は、透明性や耐衝撃性に優れ
ることが好ましく、就中、光透過率が８０％以上である
ものが好ましい。さらに、液晶の変質の防止や液晶セル
とした場合の耐久性などの点より耐薬品性、光学的等方
性、低吸水性、低透湿性、酸素等のガスバリア性に優れ
るものが好ましい。
ることが好ましく、就中、光透過率が８０％以上である
ものが好ましい。さらに、液晶の変質の防止や液晶セル
とした場合の耐久性などの点より耐薬品性、光学的等方
性、低吸水性、低透湿性、酸素等のガスバリア性に優れ
るものが好ましい。
【００１２】樹脂基板の形成に一般に用いられる樹脂の
例としては、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリ
エーテルスルホン、ポリエステル、ポリスルホン、ポリ
メチルメタクリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミ
ドなどの熱可塑性樹脂や、エポキシ系樹脂、不飽和ポリ
エステル、ポリジアリルフタレート、ポリイソボニルメ
タクリレートなどの熱硬化性樹脂などがあげられる。か
かる樹脂は、１種又は２種以上を用いることができ、他
成分との共重合体や混合物などとしても用いうる。
例としては、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリ
エーテルスルホン、ポリエステル、ポリスルホン、ポリ
メチルメタクリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミ
ドなどの熱可塑性樹脂や、エポキシ系樹脂、不飽和ポリ
エステル、ポリジアリルフタレート、ポリイソボニルメ
タクリレートなどの熱硬化性樹脂などがあげられる。か
かる樹脂は、１種又は２種以上を用いることができ、他
成分との共重合体や混合物などとしても用いうる。
【００１３】上記した性能の点より特に好ましく用いう
る樹脂基板は、エポキシ系樹脂、就中、脂環式エポキシ
樹脂と酸無水物系硬化剤とリン系硬化触媒を含有するエ
ポキシ系組成物の硬化体からなるものである。その脂環
式エポキシ樹脂としては、種々のものを用いることがで
き、特に限定はない。
る樹脂基板は、エポキシ系樹脂、就中、脂環式エポキシ
樹脂と酸無水物系硬化剤とリン系硬化触媒を含有するエ
ポキシ系組成物の硬化体からなるものである。その脂環
式エポキシ樹脂としては、種々のものを用いることがで
き、特に限定はない。
【００１４】酸無水物系硬化剤としては、例えば無水フ
タル酸、３．６エンドメチレンテトラヒドロ無水フタル
酸、無水コハク酸、無水マレイン酸、ヘキサヒドロ無水
フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒ
ドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸な
どがあげられ、就中ヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラ
ヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル
酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸などの無色ないし
淡黄色の酸無水物が好ましく用いうる。酸無水物系硬化
剤の配合量は、エポキシ樹脂における１エポキシ当量あ
たり０．５〜１．３当量が好ましい。
タル酸、３．６エンドメチレンテトラヒドロ無水フタル
酸、無水コハク酸、無水マレイン酸、ヘキサヒドロ無水
フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒ
ドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸な
どがあげられ、就中ヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラ
ヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル
酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸などの無色ないし
淡黄色の酸無水物が好ましく用いうる。酸無水物系硬化
剤の配合量は、エポキシ樹脂における１エポキシ当量あ
たり０．５〜１．３当量が好ましい。
【００１５】リン系硬化触媒としては、アルキルホスフ
ィン類、ホスフィンオキサイド類、ホスホニウム塩類な
どがあげられる。その配合量は、酸無水物系硬化剤１０
０重量部あたり、０．２〜１０重量部、就中０．５〜４
重量部が好ましい。
ィン類、ホスフィンオキサイド類、ホスホニウム塩類な
どがあげられる。その配合量は、酸無水物系硬化剤１０
０重量部あたり、０．２〜１０重量部、就中０．５〜４
重量部が好ましい。
【００１６】樹脂基板の形成は、例えばキャスティング
成形方式、流延成形方式、射出成形方式、ロール塗工成
形方式、押出成形方式、トランスファ成形方式、反応射
出成形方式（ＲＩＭ）などの適宜な方式で行うことがで
きる。その形成に際しては、必要に応じて例えば染料、
変性剤、変色防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、離型
剤、反応性希釈剤、非反応性希釈剤などの適宜な添加剤
を透明性を損なわない範囲で適宜に配合することができ
る。
成形方式、流延成形方式、射出成形方式、ロール塗工成
形方式、押出成形方式、トランスファ成形方式、反応射
出成形方式（ＲＩＭ）などの適宜な方式で行うことがで
きる。その形成に際しては、必要に応じて例えば染料、
変性剤、変色防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、離型
剤、反応性希釈剤、非反応性希釈剤などの適宜な添加剤
を透明性を損なわない範囲で適宜に配合することができ
る。
【００１７】樹脂基板の厚さは、薄型化や軽量性、強度
や変形防止性などの点より、１mm以下、就中０．８mm以
下、特に０．１〜０．５mmが好ましい。なお樹脂基板
は、単層物や積層物として形成されていてよく、従って
樹脂基板の前記厚さは、同種又は異種の樹脂からなる２
層又は３層以上の積層物として達成されていてもよい。
や変形防止性などの点より、１mm以下、就中０．８mm以
下、特に０．１〜０．５mmが好ましい。なお樹脂基板
は、単層物や積層物として形成されていてよく、従って
樹脂基板の前記厚さは、同種又は異種の樹脂からなる２
層又は３層以上の積層物として達成されていてもよい。
【００１８】樹脂基板上に設けるガスバリア層は、水分
や酸素の遮蔽を目的とし、本発明においては基板表裏で
の吸水状態をバランスさせるために樹脂基板の片面のみ
に設けられる。ガスバリア層は、耐久性や良変形性等を
目的に高分子皮膜にて形成されるが、その高分子として
は例えばポリビニルアルコールやその部分ケン化物、エ
チレン・ビニルアルコール共重合体やポリアクリロニト
リル、ポリ塩化ビニリデンなどの酸素透過係数が小さい
ポリマーが好ましく用いうる。特に、ガスバリア性や水
分の拡散性ないし吸水度の均一化などの点より、ビニル
アルコール系ポリマーが好ましい。
や酸素の遮蔽を目的とし、本発明においては基板表裏で
の吸水状態をバランスさせるために樹脂基板の片面のみ
に設けられる。ガスバリア層は、耐久性や良変形性等を
目的に高分子皮膜にて形成されるが、その高分子として
は例えばポリビニルアルコールやその部分ケン化物、エ
チレン・ビニルアルコール共重合体やポリアクリロニト
リル、ポリ塩化ビニリデンなどの酸素透過係数が小さい
ポリマーが好ましく用いうる。特に、ガスバリア性や水
分の拡散性ないし吸水度の均一化などの点より、ビニル
アルコール系ポリマーが好ましい。
【００１９】ガスバリア層の形成は、キャスティング方
式やスピンコート方式等の適宜な塗工方式による高分子
溶液の展開方式などにより行うことができる。ガスバリ
ア層の厚さは、透明性や着色の防止、酸素や水蒸気等の
ガスバリア性などの点より、１５μm以下、就中１〜１
０μmが好ましい。
式やスピンコート方式等の適宜な塗工方式による高分子
溶液の展開方式などにより行うことができる。ガスバリ
ア層の厚さは、透明性や着色の防止、酸素や水蒸気等の
ガスバリア性などの点より、１５μm以下、就中１〜１
０μmが好ましい。
【００２０】ガスバリア層の上に設ける架橋樹脂層は、
硬質表面を形成して視認を阻害する擦り傷の発生防止な
どを目的とする。従って透明な硬質膜を形成する適宜な
架橋性樹脂にて形成しうる。就中、多官能性単量体を光
触媒等を介して紫外線照射により三次元架橋しうるよう
にした、例えばウレタンアクリル系やエポキシ系などの
紫外線硬化樹脂が好ましく用いうる。
硬質表面を形成して視認を阻害する擦り傷の発生防止な
どを目的とする。従って透明な硬質膜を形成する適宜な
架橋性樹脂にて形成しうる。就中、多官能性単量体を光
触媒等を介して紫外線照射により三次元架橋しうるよう
にした、例えばウレタンアクリル系やエポキシ系などの
紫外線硬化樹脂が好ましく用いうる。
【００２１】架橋樹脂層の形成は、キャスティング方式
やスピンコート方式やディッピング方式等の適宜な塗工
方式で樹脂液をガスバリア層上に展開して架橋処理する
方法などにより行うことができる。架橋樹脂層の厚さ
は、適宜に決定でき、一般には２００μm以下、就中１
００μm以下、特に１〜５０μmとされる。
やスピンコート方式やディッピング方式等の適宜な塗工
方式で樹脂液をガスバリア層上に展開して架橋処理する
方法などにより行うことができる。架橋樹脂層の厚さ
は、適宜に決定でき、一般には２００μm以下、就中１
００μm以下、特に１〜５０μmとされる。
【００２２】樹脂基板のガスバリア層付設側とは反対側
に設ける無機酸化物層は、透明導電膜の密着性の向上な
どを目的とし、基板表裏での吸水度をバランスさせるた
めに樹脂基板に隣接して付設される。無機酸化物層は、
透明層を形成する公知の無機酸化物にて形成でき、就
中、前記の密着性などの点より金属アルコキシドの加水
分解・重縮合体にて形成することが好ましい。
に設ける無機酸化物層は、透明導電膜の密着性の向上な
どを目的とし、基板表裏での吸水度をバランスさせるた
めに樹脂基板に隣接して付設される。無機酸化物層は、
透明層を形成する公知の無機酸化物にて形成でき、就
中、前記の密着性などの点より金属アルコキシドの加水
分解・重縮合体にて形成することが好ましい。
【００２３】前記の金属アルコキシドとしては、例えば
アルコキシシラン、アルコキシアルミニウム、アルコキ
シチタン、アルコキシアンチモン、アルコキシジルコン
などの、加水分解・重縮合により透明な無機酸化物を形
成する適宜なものを用いうる。就中、反応の容易性等の
点より好ましく用いうる金属アルコキシドは、アルコキ
シシランであり、特に下記の一般式で表されるアルコキ
シシランが好ましく用いうる。 （ただし、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は、同種又は異種の炭素
数が１〜４のアルキル基である。）
アルコキシシラン、アルコキシアルミニウム、アルコキ
シチタン、アルコキシアンチモン、アルコキシジルコン
などの、加水分解・重縮合により透明な無機酸化物を形
成する適宜なものを用いうる。就中、反応の容易性等の
点より好ましく用いうる金属アルコキシドは、アルコキ
シシランであり、特に下記の一般式で表されるアルコキ
シシランが好ましく用いうる。 （ただし、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は、同種又は異種の炭素
数が１〜４のアルキル基である。）
【００２４】ちなみに前記の一般式で表されるアルコキ
シシランの具体例としては、例えばテトラメトキシシラ
ン、テトラエトキシシラン、テトラ-ｎ-プロポキシシラ
ン、テトライソプロポキシシラン、テトラ-ｎ-ブトキシ
シラン、テトラ-sec-ブトキシシラン、テトラ-tert-ブ
トキシシランの如きテトラアルコキシシラン、メチルト
リメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチル
トリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ｎ-
プロピルトリメトキシシラン、ｎ-プロピルトリエトキ
シシラン、イソプロピルトリメトキシシラン、イソプロ
ピルトリエトキシシラン、γ-クロロプロピルトリメト
キシシラン、γ-クロロプロピルトリエトキシシラン、
メチルトリイソプロポキシシラン、エチルトリイソプロ
ポキシシラン、イソプロピルトリイソプロポキシシラ
ン、ｎ-プロピルトリイソプロポキシシラン、メチルト
リ-ｎ-プロポキシシラン、エチルトリ-ｎ-プロポキシシ
ラン、イソプロピルトリ-ｎ-プロポキシシラン、ｎ-プ
ロピルトリ-ｎ-プロポキシシラン、γ-クロロプロピル
トリイソプロポキシシラン、γ-クロロプロピルトリ-ｎ
-プロポキシシラン、メチルジメトキシイソプロポキシ
シラン、メチルメトキシジイソプロポキシシラン、エチ
ルジエトキシイソプロポキシシラン、エチルエトキシジ
イソプロポキシシラン、メチルジエトキシイソプロポキ
シシラン、メチルエトキシジイソプロポキシシランの如
きモノアルキルトリアルコキシシランなどがあげられ
る。
シシランの具体例としては、例えばテトラメトキシシラ
ン、テトラエトキシシラン、テトラ-ｎ-プロポキシシラ
ン、テトライソプロポキシシラン、テトラ-ｎ-ブトキシ
シラン、テトラ-sec-ブトキシシラン、テトラ-tert-ブ
トキシシランの如きテトラアルコキシシラン、メチルト
リメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチル
トリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ｎ-
プロピルトリメトキシシラン、ｎ-プロピルトリエトキ
シシラン、イソプロピルトリメトキシシラン、イソプロ
ピルトリエトキシシラン、γ-クロロプロピルトリメト
キシシラン、γ-クロロプロピルトリエトキシシラン、
メチルトリイソプロポキシシラン、エチルトリイソプロ
ポキシシラン、イソプロピルトリイソプロポキシシラ
ン、ｎ-プロピルトリイソプロポキシシラン、メチルト
リ-ｎ-プロポキシシラン、エチルトリ-ｎ-プロポキシシ
ラン、イソプロピルトリ-ｎ-プロポキシシラン、ｎ-プ
ロピルトリ-ｎ-プロポキシシラン、γ-クロロプロピル
トリイソプロポキシシラン、γ-クロロプロピルトリ-ｎ
-プロポキシシラン、メチルジメトキシイソプロポキシ
シラン、メチルメトキシジイソプロポキシシラン、エチ
ルジエトキシイソプロポキシシラン、エチルエトキシジ
イソプロポキシシラン、メチルジエトキシイソプロポキ
シシラン、メチルエトキシジイソプロポキシシランの如
きモノアルキルトリアルコキシシランなどがあげられ
る。
【００２５】無機酸化物層の形成は、例えば金属アルコ
キシドと水をアルコール等の適宜な親水性溶媒に溶解さ
せた溶液を例えばキャスティング方式やスピンコート方
式やディッピング方式などの適宜な方式で樹脂基板の所
定面に展開し、それを必要に応じ加熱処理して水や溶媒
を蒸発させながら金属アルコキシドを加水分解・重縮合
させ、無機酸化物とする方法などにより行うことができ
る。形成する無機酸化物層の厚さは、使用目的等に応じ
て適宜に決定することができ、一般には５０μm以下、
就中２０μm以下、特に０．１〜５μmとされる。
キシドと水をアルコール等の適宜な親水性溶媒に溶解さ
せた溶液を例えばキャスティング方式やスピンコート方
式やディッピング方式などの適宜な方式で樹脂基板の所
定面に展開し、それを必要に応じ加熱処理して水や溶媒
を蒸発させながら金属アルコキシドを加水分解・重縮合
させ、無機酸化物とする方法などにより行うことができ
る。形成する無機酸化物層の厚さは、使用目的等に応じ
て適宜に決定することができ、一般には５０μm以下、
就中２０μm以下、特に０．１〜５μmとされる。
【００２６】前記した展開液の調製に際しては、２種以
上の金属アルコキシドを用いることもできる。また、加
水分解・重縮合反応の促進の点よりは展開液のｐＨを２
〜５に調整することが好ましい。その調整には、硝酸、
塩酸、酢酸などの適宜な酸を用いうる。なお金属アルコ
キシドの加水分解・重縮合反応は、常温にても進行する
が、反応を速やかに行わせる点よりは８０〜２００℃で
３０〜１２０分間加熱することが好ましい。
上の金属アルコキシドを用いることもできる。また、加
水分解・重縮合反応の促進の点よりは展開液のｐＨを２
〜５に調整することが好ましい。その調整には、硝酸、
塩酸、酢酸などの適宜な酸を用いうる。なお金属アルコ
キシドの加水分解・重縮合反応は、常温にても進行する
が、反応を速やかに行わせる点よりは８０〜２００℃で
３０〜１２０分間加熱することが好ましい。
【００２７】ちなみに、前記した金属アルコキシドの加
水分解・重縮合反応は、テトラアルコキシシランの場合
を例に下式（１），（２）で表される。 （１） Ｓi（ＯＲ2）4＋４Ｈ2Ｏ＝Ｓi（ＯＨ）4＋４Ｒ2ＯＨ （２） Ｓi（ＯＨ）4＝ＳiＯ2＋２Ｈ2Ｏ
水分解・重縮合反応は、テトラアルコキシシランの場合
を例に下式（１），（２）で表される。 （１） Ｓi（ＯＲ2）4＋４Ｈ2Ｏ＝Ｓi（ＯＨ）4＋４Ｒ2ＯＨ （２） Ｓi（ＯＨ）4＝ＳiＯ2＋２Ｈ2Ｏ
【００２８】従って、金属アルコキシドの加水分解・重
縮合反応が１００％進行した場合には、シラン系アルコ
キシドのときのＳiＯ2のような無機酸化物が１００％の
無機酸化物層が形成されるが、アルコキシ基や上記一般
式におけるＲ1、Ｒ2などの有機基が残存する場合には有
機成分含有の無機酸化物層が形成されることとなる。本
発明においては、かかる有機成分を含有しない無機酸化
物層であることが好ましいが、有機成分を含有する場合
にはその含有量が２０重量％以下の無機酸化物層である
ことが透明導電膜の密着性などの点より好ましい。
縮合反応が１００％進行した場合には、シラン系アルコ
キシドのときのＳiＯ2のような無機酸化物が１００％の
無機酸化物層が形成されるが、アルコキシ基や上記一般
式におけるＲ1、Ｒ2などの有機基が残存する場合には有
機成分含有の無機酸化物層が形成されることとなる。本
発明においては、かかる有機成分を含有しない無機酸化
物層であることが好ましいが、有機成分を含有する場合
にはその含有量が２０重量％以下の無機酸化物層である
ことが透明導電膜の密着性などの点より好ましい。
【００２９】また無機酸化物層には、凹凸構造に基づく
アンカー効果等による透明導電膜等の密着力のより向上
などを目的として、無機酸化物粒子を分散含有させるこ
ともできる。その無機酸化物粒子としては、例えばシリ
カ、アルミナ、酸化チタン、酸化アンチモン、ジルコニ
アなどからなる、無機酸化物層中で透明性を示す適宜な
粒子を用いることができ、就中、アルミナ粒子が好まし
い。
アンカー効果等による透明導電膜等の密着力のより向上
などを目的として、無機酸化物粒子を分散含有させるこ
ともできる。その無機酸化物粒子としては、例えばシリ
カ、アルミナ、酸化チタン、酸化アンチモン、ジルコニ
アなどからなる、無機酸化物層中で透明性を示す適宜な
粒子を用いることができ、就中、アルミナ粒子が好まし
い。
【００３０】無機酸化物粒子の大きさは、透明性等の点
より０．１μm以下、就中０．０５μm以下が好ましい。
また、樹脂基板との密着性や膜強度などの点より、無機
酸化物層における無機酸化物粒子の含有量は、８５重量
％以下とすることが好ましい。
より０．１μm以下、就中０．０５μm以下が好ましい。
また、樹脂基板との密着性や膜強度などの点より、無機
酸化物層における無機酸化物粒子の含有量は、８５重量
％以下とすることが好ましい。
【００３１】本発明の液晶表示素子用基板は、液晶表示
装置、就中、液晶セルの形成に好ましく用いうる。特に
液晶セルの形成には、厚さ０．４mmの場合に基づいて分
光光度計による波長６００nmの光の透過率が６０％以
上、就中８０％以上の透明性を示すものが好ましく用い
られる。
装置、就中、液晶セルの形成に好ましく用いうる。特に
液晶セルの形成には、厚さ０．４mmの場合に基づいて分
光光度計による波長６００nmの光の透過率が６０％以
上、就中８０％以上の透明性を示すものが好ましく用い
られる。
【００３２】また液晶表示素子用基板は、例えば位相差
板や偏光板や透明導電膜等の種々の機能層との重畳物な
どとして実用に供することができる。図２は、その透明
導電膜６を重畳したものを例示したものであり、図例で
は密着力の向上等を目的としたＳｉＯx層５を介して透
明導電膜６が設けられている。
板や偏光板や透明導電膜等の種々の機能層との重畳物な
どとして実用に供することができる。図２は、その透明
導電膜６を重畳したものを例示したものであり、図例で
は密着力の向上等を目的としたＳｉＯx層５を介して透
明導電膜６が設けられている。
【００３３】透明導電膜の形成には、例えば酸化インジ
ウム、酸化スズ、インジウム・錫混合酸化物、金、白
金、パラジウム、透明導電塗料などの適宜なものを用い
ることができ、公知物のいずれも用いうる。また透明導
電膜の形成も、例えば真空蒸着法やスパッタリング法等
により付設する方式や透明導電塗料を塗布する方式など
の従来に準じた方式にて行うことができる。従って透明
導電膜を所定のパターン状に直接形成することも可能で
ある。
ウム、酸化スズ、インジウム・錫混合酸化物、金、白
金、パラジウム、透明導電塗料などの適宜なものを用い
ることができ、公知物のいずれも用いうる。また透明導
電膜の形成も、例えば真空蒸着法やスパッタリング法等
により付設する方式や透明導電塗料を塗布する方式など
の従来に準じた方式にて行うことができる。従って透明
導電膜を所定のパターン状に直接形成することも可能で
ある。
【００３４】本発明において基板の湾曲防止等の点より
好ましい透明導電膜は、ＳｉＯx層を介してインジウム
・錫混合酸化物を主成分とする膜を設けたものである。
なおＳｉＯx層の形成は、前記した透明導電膜の形成方
法に準じた方法で行うことができる。
好ましい透明導電膜は、ＳｉＯx層を介してインジウム
・錫混合酸化物を主成分とする膜を設けたものである。
なおＳｉＯx層の形成は、前記した透明導電膜の形成方
法に準じた方法で行うことができる。
【００３５】液晶セルの形成は、例えば前記の透明導電
膜を電極パターン化した液晶表示素子用基板を対向配置
し、その間に液晶を封入する方法などにより行うことが
できる。透明導電膜上に必要に応じて設けられる液晶配
列用の配向膜も同様に従来に準じた方式で行うことがで
きる。形成する液晶セルは、例えばＴＮ型、ＳＴＮ型、
ＴＦＴ型、強誘電性液晶型など任意である。
膜を電極パターン化した液晶表示素子用基板を対向配置
し、その間に液晶を封入する方法などにより行うことが
できる。透明導電膜上に必要に応じて設けられる液晶配
列用の配向膜も同様に従来に準じた方式で行うことがで
きる。形成する液晶セルは、例えばＴＮ型、ＳＴＮ型、
ＴＦＴ型、強誘電性液晶型など任意である。
【００３６】
実施例１ 前記の式で表される脂環式エポキシ樹脂１００部（重量
部、以下同じ）とメチルヘキサヒドロ無水フタル酸１２
５部とトリ−ｎ−ブチルオクチルホスホニウムブロマイ
ド１部からなる混合物を型に注入し、１２０℃で２時間
硬化処理して厚さ０．４mmの樹脂基板を得た。
部、以下同じ）とメチルヘキサヒドロ無水フタル酸１２
５部とトリ−ｎ−ブチルオクチルホスホニウムブロマイ
ド１部からなる混合物を型に注入し、１２０℃で２時間
硬化処理して厚さ０．４mmの樹脂基板を得た。
【００３７】次に、前記の樹脂基板の片面にスピンコー
ト方式で、ポリビニルアルコールの５重量％水溶液を塗
布し、乾燥させて厚さ５μmのガスバリア層を形成した
のち、その上に下式で表されるウレタンアクリル系樹脂
を塗布し、紫外線を照射して架橋処理し厚さ５μmの架
橋樹脂層を形成した。
ト方式で、ポリビニルアルコールの５重量％水溶液を塗
布し、乾燥させて厚さ５μmのガスバリア層を形成した
のち、その上に下式で表されるウレタンアクリル系樹脂
を塗布し、紫外線を照射して架橋処理し厚さ５μmの架
橋樹脂層を形成した。
【００３８】
【００３９】ついで、前記で得た樹脂基板の残る面に、
テトラエトキシシラン３０部、イソプロピルアルコール
４５部、水３０部及び酢酸０．０６部を混合してなる溶
液を塗布し、１７０℃で１時間加熱処理するゾルゲル法
により厚さ２μmの無機酸化物層を付設し、液晶表示素
子用基板を得た。
テトラエトキシシラン３０部、イソプロピルアルコール
４５部、水３０部及び酢酸０．０６部を混合してなる溶
液を塗布し、１７０℃で１時間加熱処理するゾルゲル法
により厚さ２μmの無機酸化物層を付設し、液晶表示素
子用基板を得た。
【００４０】比較例１ 架橋樹脂層側にガスバリア層を付設しないほかは、実施
例１に準じて液晶表示素子用基板を得た。
例１に準じて液晶表示素子用基板を得た。
【００４１】比較例２ 架橋樹脂層側にはガスバリア層を付設せず、無機酸化物
層側にガスバリア層を付設してその上に無機酸化物層を
設けたほかは、実施例１に準じて液晶表示素子用基板を
得た。
層側にガスバリア層を付設してその上に無機酸化物層を
設けたほかは、実施例１に準じて液晶表示素子用基板を
得た。
【００４２】評価試験 実施例、比較例で得た液晶表示素子用基板について下記
の特性を調べた。 透湿度 ＪＩＳ Ｚ ０２０８に準拠したカップ法により透湿度
を測定した。
の特性を調べた。 透湿度 ＪＩＳ Ｚ ０２０８に準拠したカップ法により透湿度
を測定した。
【００４３】酸素透過系数 ＡＳＴＭ Ｄ−３９８５に準拠したオキシトラン法によ
り酸素透過系数を調べた。
り酸素透過系数を調べた。
【００４４】反り開始時間 液晶表示素子用基板の無機酸化物層の上に、スパッタリ
ング方式で厚さ２０nmのＳｉＯ2層とインジウム・錫混
合酸化物（ＩＴＯ）からなる厚さ３５nmの透明導電膜を
順次設け、それを液晶セルの組立て工程に準じて、１５
０℃で２時間加熱後、２５℃、４２％ＲＨの雰囲気に放
置し、ＪＩＳ Ｋ ６９１１に基づく反り率が１０％以
内にある時間を調べた。
ング方式で厚さ２０nmのＳｉＯ2層とインジウム・錫混
合酸化物（ＩＴＯ）からなる厚さ３５nmの透明導電膜を
順次設け、それを液晶セルの組立て工程に準じて、１５
０℃で２時間加熱後、２５℃、４２％ＲＨの雰囲気に放
置し、ＪＩＳ Ｋ ６９１１に基づく反り率が１０％以
内にある時間を調べた。
【００４５】ＩＴＯ耐クラック性 前記のＳｉＯ2層と透明導電膜を設けた液晶表示素子用
基板を、２．５重量％水酸化ナトリウム水溶液中で２．
５分間浸漬濯ぎしたのち、１６０℃で３時間加熱し、つ
いで４０℃、９５％ＲＨの雰囲気に１０００時間放置し
て、４端子法による抵抗率変化（放置後／初期：Ｒ／Ｒ
0）と、光学顕微鏡による観察で透明導電膜におけるク
ラック発生の有無を調べた。
基板を、２．５重量％水酸化ナトリウム水溶液中で２．
５分間浸漬濯ぎしたのち、１６０℃で３時間加熱し、つ
いで４０℃、９５％ＲＨの雰囲気に１０００時間放置し
て、４端子法による抵抗率変化（放置後／初期：Ｒ／Ｒ
0）と、光学顕微鏡による観察で透明導電膜におけるク
ラック発生の有無を調べた。
【００４６】前記の結果を次表に示した。
【００４７】表より、実施例の如く、透明導電膜の付設
側とは反対側に高分子系のガスバリア層を設けることに
より、液晶セルの製造ライン等において取扱が可能な時
間が長く、信頼性に優れる液晶表示素子用基板を得るこ
とができる。
側とは反対側に高分子系のガスバリア層を設けることに
より、液晶セルの製造ライン等において取扱が可能な時
間が長く、信頼性に優れる液晶表示素子用基板を得るこ
とができる。
【図１】実施例の断面図
【図２】他の実施例の断面図
１：樹脂基板 ２：ガスバリア層 ３：架橋樹脂層 ４：無機酸化物層 ５：ＳｉＯx層 ６：透明導電膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ // Ｃ０８Ｌ 29/04 Ｃ０８Ｌ 29/04 Ｚ 63/00 63/00 Ｚ
Claims (4)
- 【請求項１】 樹脂基板の片面に高分子皮膜からなるガ
スバリア層を介して架橋樹脂層を有し、その樹脂基板の
他面に当該基板に隣接して無機酸化物層を有することを
特徴とする透明な液晶表示素子用基板。 - 【請求項２】 請求項１において、樹脂基板が脂環式エ
ポキシ樹脂と酸無水物系硬化剤とリン系硬化触媒を含有
するエポキシ系組成物の硬化体からなり、ガスバリア層
が厚さ１〜１０μmのビニルアルコール系ポリマーから
なり、架橋樹脂層が紫外線硬化樹脂からなり、無機酸化
物層が金属アルコキシドの加水分解・重縮合体からなる
液晶表示素子用基板。 - 【請求項３】 請求項１又は２において、樹脂基板のガ
ラス転移点が１６０℃以上であり、光透過率が８０％以
上である液晶表示素子用基板。 - 【請求項４】 請求項１〜３において、無機酸化物層の
外表面にＳｉＯx層を介して、インジウム・錫混合酸化
物を主成分とする透明導電膜を有する液晶表示素子用基
板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01978897A JP3798492B2 (ja) | 1997-01-17 | 1997-01-17 | 液晶表示素子用基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01978897A JP3798492B2 (ja) | 1997-01-17 | 1997-01-17 | 液晶表示素子用基板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10206835A true JPH10206835A (ja) | 1998-08-07 |
| JP3798492B2 JP3798492B2 (ja) | 2006-07-19 |
Family
ID=12009088
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP01978897A Expired - Fee Related JP3798492B2 (ja) | 1997-01-17 | 1997-01-17 | 液晶表示素子用基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3798492B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6786790B2 (en) | 2001-04-05 | 2004-09-07 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method and apparatus for manufacturing optical resin substrate, method and apparatus for manufacturing liquid crystal display element using it, and liquid crystal display device using it |
| US7341782B2 (en) | 2002-09-19 | 2008-03-11 | Fujifilm Corporation | Polymer composition containing organic modified layered silicate, film and gas barrier film as well as substrate and image display device using them |
| JP2021531192A (ja) * | 2018-11-23 | 2021-11-18 | エルジー・ケム・リミテッド | 光学積層体 |
-
1997
- 1997-01-17 JP JP01978897A patent/JP3798492B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6786790B2 (en) | 2001-04-05 | 2004-09-07 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method and apparatus for manufacturing optical resin substrate, method and apparatus for manufacturing liquid crystal display element using it, and liquid crystal display device using it |
| US7341782B2 (en) | 2002-09-19 | 2008-03-11 | Fujifilm Corporation | Polymer composition containing organic modified layered silicate, film and gas barrier film as well as substrate and image display device using them |
| JP2021531192A (ja) * | 2018-11-23 | 2021-11-18 | エルジー・ケム・リミテッド | 光学積層体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3798492B2 (ja) | 2006-07-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7824043B2 (en) | Reflection preventing layered product and optical member | |
| KR100627526B1 (ko) | 광학부재, 셀 기판 및 액정 표시장치 | |
| JP2000227603A (ja) | 液晶表示素子及びそれに好適な透明導電性基板 | |
| KR100317898B1 (ko) | 투명피막형성용도포액,투명피막이도포된기재및그의용도 | |
| JP3515255B2 (ja) | 透明導電性基板、透明導電性基板の製造方法および表示装置 | |
| JPH08271872A (ja) | 透明導電基板 | |
| US6208397B1 (en) | Optical member cell substrate and liquid-crystal display | |
| JP3655704B2 (ja) | 透明導電性積層体 | |
| JP4297296B2 (ja) | 光学機能性膜の製造方法 | |
| JPH10146929A (ja) | 透明ガスバリアー性積層フィルム | |
| JP2009029108A (ja) | 積層フィルム、偏光板およびタッチパネル | |
| JP2004330507A (ja) | ディスプレイ用に適したガスバリア性高分子積層フィルム | |
| JP4429467B2 (ja) | 透明導電性フィルム | |
| JPH10206835A (ja) | 液晶表示素子用基板 | |
| JPH11211901A (ja) | 反射防止性物品 | |
| JP3027315B2 (ja) | 積層フィルム | |
| JP3210513B2 (ja) | 液晶表示素子用基板 | |
| JP2000160098A (ja) | コーティング溶液、光学機能性膜及び反射防止膜フィルム | |
| JP2001052530A (ja) | 透明導電性基板 | |
| JP3403882B2 (ja) | 透明導電フィルム | |
| JP4230609B2 (ja) | セル基板、液晶セル及び液晶表示装置 | |
| JP2000122038A (ja) | 液晶表示装置用フィルム及びその製造方法 | |
| JPH10180928A (ja) | 透明導電性積層体 | |
| JPH08211376A (ja) | 透明積層フィルム | |
| JPH10111500A (ja) | 透明電極基板及びそれを用いた液晶表示素子 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20050930 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20051115 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060112 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060418 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Effective date: 20060420 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 |
|
| R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |