JP2003019764A

JP2003019764A - 光触媒機能を有する装飾シート

Info

Publication number: JP2003019764A
Application number: JP2001207270A
Authority: JP
Inventors: Takashi Saito; 隆斉藤; Masayoshi Yamada; 真義山田; Katsuyoshi Mizutani; 勝義水谷; Masayuki Kamite; 正行上手
Original assignee: Achilles Corp; Misawa Homes Co Ltd; Misawa Ceramics Corp
Current assignee: Achilles Corp; Misawa Homes Co Ltd; Misawa Ceramics Corp
Priority date: 2001-07-09
Filing date: 2001-07-09
Publication date: 2003-01-21

Abstract

(57)【要約】【課題】基材の材質を問わず、長寿命で、かつ意匠
性に富む光触媒機能を有する装飾シートを提供する。【解決手段】裏打紙１１に発泡合成樹脂層１２を設け
た基材１上に、アモルファス型酸化チタン層３と、アナ
ターゼ型酸化チタン含有アモルファス型酸化チタン層４
を積層してなる。アモルファス型酸化チタン層３は、ア
モルファス型酸化チタンを含む水系溶液をコートして積
層され、アナターゼ型酸化チタン含有アモルファス型酸
化チタン層４は、アモルファス型酸化チタンとアナター
ゼ型酸化チタンを含む水系溶液にアナターゼ型酸化チタ
ン粉末を添加した水系溶液をコートして積層される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光触媒機能を有す
る装飾シートに関し、詳しくは、基材の材質を問わず、
長寿命で、かつ意匠性に富む上記装飾シートに関する。

【０００２】

【技術背景】従来から、壁紙や家具等の表面材に、光触
媒機能を付与させて、これら壁紙や表面材自体の防カビ
効果、抗菌効果、セルフクリーニング効果等、あるいは
壁紙や表面材近傍部雰囲気の消臭効果等を図ったものが
知られている。ただし、光触媒機能を有する酸化チタン
等の化合物は、この光触媒機能のために、該化合物に接
触する合成樹脂、顔料・染料等の着色材、その他の各種
物質を変質・分解させてしまう。このため、光触媒機能
を有する酸化チタン等を含む層（以下、光触媒層と記す
こともある）は、合成樹脂層上に設けることができなか
ったり、また光触媒層の下層や上層に顔料や染料を使用
したプリント層を設けることができない等の不具合があ
る。

【０００３】これらの不具合を解消するために、（１）
光触媒能力を低下させる、（２）光触媒機能を有する化
合物を、該化合物による変質や分解を生じることのない
無機物中に含浸させて使用する、（３）光触媒層と合成
樹脂層あるいはプリント層との間にバリア層を設ける、
（４）光触媒機能を有する化合物による変質や分解の生
じない合成樹脂を使用する、等が考えられている。

【０００４】上記（１）の手法では、上記した抗菌効果
や消臭効果等の光触媒効果が低下してしまい、光触媒層
を設ける意義が消失する。上記（２）の手法では、光触
媒機能を有する化合物が合成樹脂等と直接接触する面積
が少なくなるため、合成樹脂層やプリント層等の耐久性
は向上するが、光触媒機能を有する化合物は、無機物に
より被覆された状態となっているため、該化合物に光が
効率的にあたらず、光触媒機能を十分に発揮することは
できない。なお、この手法に使用する無機物は、多孔質
体が多いため、臭気成分等の吸着による消臭効果等を得
ることはできるが、光触媒機能での該成分の分解による
消臭等ではないため、臭気等の根本的な解決にはなって
いない。

【０００５】上記（３）の手法としては、特開平１０−
２１７３８３号公報でフッ素樹脂層を設けるもの、特開
平１０−１８０９４３号公報で無機質層を設けるもの等
が提案されている。しかし、前者のフッ素樹脂を使用す
るものは価格の高騰が懸念される。後者の無機質層を設
けるものは、無機質物質として酸化マグネシウムや酸化
亜鉛等を使用し、これらの結合材として水ガラスやアル
ミノケイ酸塩等を使用するため、乾燥に時間を要するば
かりか、皮膜形成性も余りよくなく、作業性の低下を招
く上、無機質層に亀裂等が発生すると、該層上に設けら
れている光触媒層の光触媒機能の影響が該層の下層の合
成樹脂層やプリント層等に及び、これらの層の変質・分
解等を招く。

【０００６】上記（４）の手法としては、特開平１１−
１０８０２号公報の活性酸素に対して安定な合成樹脂、
例えばフッ素樹脂を使用するものがあるが、上記の特開
平１０−２１７３８３号公報の場合と同様に、価格の高
騰が懸念される。

【０００７】

【発明の目的】本発明は、以上の問題を解消するために
なされたものであって、光触媒層を設ける基材として耐
熱性や耐薬品性に劣る合成樹脂等であっても使用できる
のみならず、耐久性が高く（長寿命で）、かつ意匠性に
も富む光触媒機能を有する装飾シートを提供することを
目的とする。

【０００８】

【発明の概要】上記目的を達成するために、本発明の光
触媒機能を有する装飾シートは、基材上に順に、厚さ１
〜１０μｍのアモルファス型酸化チタン層（以下、アン
ダー層と記すこともある）と、アナターゼ型酸化チタン
を１０〜９５重量％含む厚さ１〜１０μｍのアモルファ
ス型酸化チタン層（以下、光触媒層と記すこともある）
を積層してなることを特徴とする。また、本発明の装飾
シートは、上記の基材が合成樹脂製材または合成樹脂層
を含むものであって、該合成樹脂部分に凹凸模様が形成
され、この上に発泡性インクを用いたプリント層が設け
られ、かつ光触媒層から少なくとも前記プリント層に至
る凹凸模様が形成されてなるものであってもよい。更
に、本発明の装飾シートは、上記のアンダー層が、アモ
ルファス型酸化チタンを含む水系溶液をウエット状態で
５〜５０ｇ／ｍ^２となるようにコートしてなるものであ
り、上記の光触媒層が、アモルファス型酸化チタンとア
ナターゼ型酸化チタンを含む水系溶液に、アナターゼ型
酸化チタン粉末を、光触媒層のアナターゼ型酸化チタン
含有量が１０〜９５重量％となるように、添加した水系
溶液を、ウエット状態で５〜５０ｇ／ｍ^２となるように
コートしてなるものであってもよい。そして、これらア
ンダー層形成用水系溶液と、光触媒層形成用水系溶液と
が、それぞれ界面活性剤を０．１〜５．０重量％含むも
のであってもよい。

【０００９】本発明における基材としては、普通紙、難
燃紙、不燃紙等の紙類（５０〜１６０ｇ／ｍ^２）；動物
性繊維（羊毛、絹等）、植物性繊維（綿、麻、パルプ
等）、ガラス繊維、ロックウール、合成繊維等の無機あ
るいは有機繊維に、必要に応じて炭酸カルシウム、クレ
ー、水酸化アルミニウム等の充填材や、樹脂バインダー
等を配合してなる織布、不織布、編布等の布類；これら
の表面に全面あるいは模様状に発泡あるいは非発泡の合
成樹脂層を（例えば、アクリル樹脂：エチレン酢酸ビニ
ル共重合体（重量比）＝４０：６０〜９０：１０の混合
エマルジョンに、該エマルジョンの樹脂固形分１００重
量部に対して、マイクロカプセル等の発泡剤２〜１０重
量部を加えたエマルジョン等を、ウエット状態で８０〜
４００ｇ／ｍ^２となるようにコートして）形成したも
の；塩化ビニル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、その他
各種の合成樹脂に、必要に応じて難燃剤、その他の各種
添加剤を配合してなるシートやフィルム；等が使用でき
る。

【００１０】また、上記の基材が、合成樹脂製のシート
やフィルム、あるいは上記のような合成樹脂層を有する
場合は、これらの合成樹脂に発泡抑制剤および／または
発泡促進剤等によるケミカルエンボス加工を施したり、
あるいはメカニカルエンボス加工を施して、凹凸模様を
形成したものであってもよい。なお、上記のケミカルエ
ンボス加工は、後述するプリント層の形成、アンダー層
や光触媒層の積層の後に行う加熱・発泡工程での発泡あ
るいは発泡抑制・発泡促進により完成され、上記のメカ
ニカルエンボス加工は、これらの各層の形成・積層後に
エンボスロール等を用いて施される。

【００１１】以上の基材の厚さは、特に制限されず、用
途に応じて適宜選定すればよいが、厚すぎるとロール状
に巻き取ることが困難になる等の不具合が生じ、薄すぎ
ると機械的強度上の問題が生じるため、一般には０．３
〜１．０ｍｍ程度とすることが好ましい。

【００１２】本発明では、上記の基材上に、プリント層
を設けたものであってもよい。プリント層を設ける際に
使用するインクやプリント層を設ける手法は、特に制限
されず、通常のこの種のプリント用のインクや手法がそ
のまま採用できる。例えば、各種の顔料や染料等の着色
材の他に、必要に応じて、発泡剤、紫外線吸収剤、熱安
定剤、界面活性剤等の各種添加剤を配合したインクを用
い、グラビア印刷機、フレキソ印刷機、ロータリースク
リーン印刷機等により、適宜の模様をプリントすること
により設けられる。

【００１３】上記基材上に順に、アンダー層と、光触媒
層とが積層される。このアンダー層を構成するアモルフ
ァス型の酸化チタンは、偏平状をなしており、この偏平
状のアモルファス型酸化チタンからなる緻密なアンダー
層が、この上に積層される光触媒層の基材側に対する光
触媒作用を遮蔽する機能を発現し、該光触媒作用の影響
による基材やプリント層の変質・分解を効果的に防ぐこ
とができる。このような遮蔽機能を効果的に得るため
に、このアンダー層の厚さは、１〜１０μｍとすること
が重要である。これより薄いと、この遮蔽機能を得るこ
とができず、これより厚いと、該層（膜）の強度が高く
なりすぎて、エンボス加工を施す際に膜の割れが発生し
易くなるばかりか、この割れが原因で膜の剥離も生じ易
くなり実用性に欠ける等の不具合が生じる。

【００１４】このアンダー層の積層手法は、どのような
手法であってもよく、例えば、特開２００１−４８５３
８号公報記載の、金属チタン、あるいは酸化チタン（ア
モルファス型）や塩化チタン等のチタン化合物と、アン
モニアや水酸化ナトリウム等のアルカリと、過酸化水素
水とを含む水溶液を８０℃未満の低温で加熱して得られ
るアモルファス型酸化チタンを含む水溶液を、上記の基
材にウエット状態で５〜５０ｇ／ｍ^２となるようにコー
トし、８０〜１４０℃程度の温度で５〜３０秒程度で乾
燥する手法等が採用できる。ウエット状態でのコート厚
を上記範囲内とすれば、上記条件での乾燥により、上記
層厚のアモルファス型酸化チタン層を得ることができ
る。

【００１５】なお、上記のような低温、短時間の乾燥に
より、基材上にコートされた上記溶液中のアモルファス
型酸化チタンは、上記のような偏平状のアモルファス型
で、基材上に、緻密で均一な層を形成して定着し、上記
より高温、長時間の乾燥であると、アナターゼ型酸化チ
タン微粒子が形成されてしまう場合があり、アナターゼ
型酸化チタン微粒子が形成されると、この微粒子による
光触媒作用により、上記の基材やプリント層が変質・分
解する懸念がある。

【００１６】また、上記の水系溶液には、必要に応じ
て、界面活性剤を添加してもよい。この界面活性剤は、
上記の水系溶液が、基材あるいはプリント層との馴染み
性がなく、基材上に良好なアンダー層が形成されない場
合に添加されるものであって、添加量が少なすぎれば、
所望の馴染み性を得ることができず、多すぎても、この
効果は飽和してしまうため、水系溶液中に０．１〜５．
０重量％程度となる量でよい。使用できる界面活性剤と
しては、アニオン系界面活性剤の他に、アルコール類等
を挙げることができる。

【００１７】上記のアンダー層上に積層する光触媒層
は、優れた光触媒機能を有するアナターゼ型酸化チタン
を１０〜９５重量％含み、このアナターゼ型酸化チタン
により優れた光触媒機能を保有する。この光触媒層は、
アナターゼ型酸化チタンの微粒子が該層中の偏平なアモ
ルファス型酸化チタンに強固に保持された形態、すなわ
ちアモルファス型酸化チタンがアナターゼ型酸化チタン
微粒子のバインダーとして作用し、該微粒子を強固に保
持した形態となる。しかも、光触媒層中のアモルファス
型酸化チタンと、アンダー層のアモルファス型酸化チタ
ンとは、良好な相性を持って引き付け合うため、光触媒
層とアンダー層とは強固に密着した積層状態となる。こ
のような光触媒層において、アナターゼ型酸化チタンの
含有量が上記未満であると、所望の光触媒機能を得るこ
とができず、上記より多いと、コストが高騰するばかり
か、アナターゼ型酸化チタン微粒子のバインダーとして
の作用や、アンダー層との引き付け合い作用をなすアモ
ルファス型酸化チタンの含有量が相対的に少なくなり、
アナターゼ型酸化チタン微粒子の密着力やアンダー層と
の密着力が低下し、本発明の装飾シート使用中のアナタ
ーゼ型酸化チタン微粒子の剥落や、光触媒層とアンダー
層間の剥離が懸念される。

【００１８】この光触媒層の厚さは、１〜１０μｍとす
ることが重要である。上記未満であると、優れた光触媒
機能を有するアナターゼ型酸化チタン微粒子の量が相対
的に少なくなって、該層による所望の光触媒作用を得る
ことができなくなり、上記より厚いと、該層（膜）の強
度が高くなりすぎて、エンボス加工を施す際に膜の割れ
が発生し易くなるばかりか、この割れが原因で膜の剥離
も生じ易くなり実用性に欠ける等の不具合が生じる。

【００１９】この光触媒層の積層手法は、どのような手
法であってもよく、例えば、次のような方法が採用でき
る。特許第２８７５９９３号公報や同２９３８３７６号
公報に記載の方法の、水酸化チタンゲル（塩化チタンや
硫酸チタン等の水溶液をアンモニアや水酸化ナトリウム
等と反応させたもの）、水酸化チタン、あるいは酸化チ
タン等の超微粒子を分散した液に過酸化水素水を加えて
攪拌し、これを８５℃〜２００℃で４０時間〜２時間の
加熱処理、あるいはオートクレーブ中で８０℃以上の加
熱処理をして得られるアナターゼ型酸化チタンとアモル
ファス型酸化チタンとを含む水系溶液に、アナターゼ型
酸化チタン粉末を、光触媒層中のアナターゼ型酸化チタ
ン含有量が１０〜９５重量％となるように、添加してコ
ート用の水系溶液を調製する。このコート用の水系溶液
を、上記のアンダー層上に、ウエット状態で５〜５０ｇ
／ｍ^２となるようにコートし、８０〜１４０℃程度の温
度で５〜３０秒程度で乾燥する手法等が採用できる。ウ
エット状態でのコート厚を上記範囲内とすれば、上記条
件での乾燥により、上記層厚の光触媒層を得ることがで
きる。

【００２０】上記のような低温、短時間の乾燥により、
アンダー層上にコートされた上記溶液中のアモルファス
型酸化チタンは、上記のような偏平状のアモルファス型
で、アンダー層上に、緻密で均一な膜を形成して定着
し、アナターゼ型酸化チタン微粒子は、この膜に保持さ
れた状態で定着する。この保持状態は、薄いアモルファ
ス型酸化チタンの膜に、粒子の下部あるいは中間部等の
一部のみが接触して保持された状態となるため、光にあ
たる面積は十分大きく、優れた光触媒機能を得ることが
できる。なお、上記より高温、長時間の乾燥であると、
アモルファス型酸化チタンの大部分がアナターゼ型酸化
チタン微粒子となってしまう場合があるため、アナター
ゼ型酸化チタン微粒子のバインダーとしてのアモルファ
ス型酸化チタンの量が少なくなり、該粒子の強固な定着
状態を得ることができなくなる懸念がある。

【００２１】また、上記の水系溶液にも、必要に応じ
て、界面活性剤を添加することもできる。この界面活性
剤は、上記の水系溶液が、アンダー層との馴染み性がな
く、アンダー層上に良好な光触媒層が形成されない場合
に添加されるものであって、添加量が少なすぎれば、所
望の馴染み性を得ることができず、多すぎても、この効
果は飽和してしまうため、水系溶液中に０．１〜５．０
重量％程度となる量でよい。使用できる界面活性剤とし
ては、アニオン系界面活性剤の他に、アルコール類等を
挙げることができる。

【００２２】上記のような構成を有する本発明の装飾シ
ートは、更に、上記の光触媒層から少なくとも上記のプ
リント層に至る凹凸模様を形成したものであってもよ
い。この凹凸模様は、例えば、光触媒層側からエンボス
ロール等によるメカニカルエンボス加工を施し、光触媒
層からプリント層に渡って形成するか、あるいは上記の
ように、プリント層の下側に存在する基材にまで、基材
の一部としての発泡または非発泡の合成樹脂層にまで渡
って形成してもよい。このとき、光触媒層およびアンダ
ー層のアモルファス型酸化チタンは、上記のように、偏
平状をなし、かつ緻密な膜を形成しているため、メカニ
カルエンボス加工によっても、容易に亀裂が発生するこ
とはないし、また光触媒層とアンダー層の両者に亀裂が
発生することは少なく、アンダー層による光触媒層の基
材側に対する光触媒作用遮蔽効果は良好に維持される
し、光触媒層の外観も良好に維持される。

【００２３】

【発明の実施の形態】図１は本発明の装飾シートの一実
施態様例を示す説明図で、同図において、１は紙（裏打
紙）１１の全面に発泡合成樹脂層１２（ケミカルエンボ
ス加工による凹凸模様を有していてもよい）を形成した
基材であり、該基材１上（発泡合成樹脂層１２上）に、
プリント層２が設けられ、該プリント層２上に偏平状を
なすアモルファス型酸化チタンからなる緻密で均一なア
ンダー層３が積層され、該アンダー層３上に、アナター
ゼ型酸化チタンを含有するアモルファス型酸化チタンか
らなる優れた光触媒機能を有する光触媒層４が積層され
ている。

【００２４】図１に示す本発明の一実施態様例による装
飾シートは、図２に一例を示す工程により得ることがで
きる。図２において、ロール状に巻かれた裏打紙１１
を、繰り出して搬送し、ロータリースクリーン印刷機等
２１で発泡合成樹脂層１２用の発泡性合成樹脂をコート
し、乾燥手段２２１で１３０〜１４５℃程度で１０〜９
０秒間程度乾燥して、基材１を調製する。次いで、基材
１の発泡合成樹脂層１２上に、グラビア印刷機等２３で
プリント層２用のインクによる適宜の模様をプリント
し、乾燥手段２２２で１２０〜１３０℃程度で５〜１０
秒間程度乾燥して、プリント層２を形成する。

【００２５】このプリント層２上に、必要に応じて界面
活性剤を加えたアモルファス型酸化チタン水系溶液を、
グラビア印刷機等２４で、ウエット状態で５〜５０ｇ／
ｍ^２となるようにコートし、乾燥手段２２３で１２０〜
１３０℃程度で５〜３０秒間程度乾燥して、アンダー層
３を形成する。

【００２６】このアンダー層３上に、アモルファス型酸
化チタンとアナターゼ型酸化チタンを含む水系溶液に、
必要に応じてアナターゼ型酸化チタン粉末を加えて、光
触媒層４中のアナターゼ型酸化チタンが１０〜９５重量
％となるように調整し、かつ必要に応じて界面活性剤を
加えた水系溶液を、グラビア印刷機等２５で、ウエット
状態で５〜５０ｇ／ｍ^２となるようにコートし、乾燥手
段２２４で１２０〜１３０℃程度で５〜３０秒間程度乾
燥して、光触媒層４を形成する。

【００２７】その後、加熱炉２２５で１６０〜１８０℃
程度で３５〜９０秒間程度加熱し、上記の発泡性合成樹
脂を加熱発泡させて、発泡合成樹脂層１２の発泡、ある
いは該層１２へのケミカルエンボス加工を完成させ、図
１に示す本発明の装飾シートを形成することができる。
なお、プリント層２に発泡剤含有インクを使用している
場合には、このインクの発泡も行い、プリント層２も完
成させる。この加熱炉の温度や該炉内の保持（搬送）時
間は、基材や各層の使用材料により異なり、一概には決
められないが、上記より高温、長時間にすると、前述の
ようにアモルファス型酸化チタンがアナターゼ型酸化チ
タン微粒子になってしまうことがあり、上記より低温、
短時間では上記のような発泡が完了しないし、低温にす
る場合は保持（搬送）時間を長時間にする必要が生じ、
作業効率が低下する。

【００２８】更に、本発明では、乾燥炉２２５を出た装
飾シートに、エンボスロール等２６により、光触媒層４
側からメカニカルエンボス加工を施して、凹凸模様を、
プリント層に至るまで、あるいは発泡合成樹脂層１２や
裏打紙１１に至るまで形成することもできる。次に、上
記態様例による本発明の装飾シートの作製例（実施例
１，２）を示す。

【００２９】実施例１繰り出した６０ｇ／ｍ^２の裏打紙１１上に、アクリル樹
脂：エチレン酢酸ビニル共重合体（重量比）＝６０：４
０の混合エマルジョンに、該エマルジョンの樹脂固形分
１００重量部に対しマイクロカプセル６重量部を加えた
ものを、ロータリースクリーン印刷機２１で、ウエット
状態で２５０ｇ／ｍ^２となるようにコートし、１３０℃
に加熱保持したヒートゾーン２２１で１分間乾燥し、発
泡合成樹脂層１２を形成して基材１とした。この基材１
の発泡合成樹脂層１２上に、インクとして水性グラビア
インクを用い、グラビア印刷機２３で模様をプリント
し、１２０℃に加熱保持したヒートゾーン２２２で１０
秒間乾燥してプリント層２を形成した。

【００３０】次に、このプリント層２上に、アモルファ
ス型酸化チタン水系溶液を用い、これにアニオン系界面
活性剤を０．１重量％加えた後、グラビア印刷機等２４
で、ウエット状態で５ｇ／ｍ^２となるようにコートし、
１２０℃に加熱保持したヒートゾーン２２３で１０秒間
乾燥して、厚さ１μｍのアンダー層３を形成した。

【００３１】一方、アモルファス型酸化チタンとアナタ
ーゼ型酸化チタンを含む水系溶液を用い、これにアナタ
ーゼ型酸化チタン粉末を、光触媒層４中のアナターゼ型
酸化チタンが９０重量％となるように加え、更にアニオ
ン系界面活性剤を０．１重量％加えて、光触媒層用の水
系溶液を調製した。この水系溶液を、上記のアンダー層
３上に、グラビア印刷機等２５で、ウエット状態で５ｇ
／ｍ^２となるようにコートし、１２０℃に加熱保持した
ヒートゾーン２２４で１０秒間乾燥して、厚さ１μｍの
光触媒層４を形成した。

【００３２】その後、１６０℃に加熱保持した加熱炉２
２５で１分間、発泡合成樹脂層１２の加熱発泡を行い、
更に光触媒層４側から、プリント層２に渡って凹凸模様
が形成されるように、エンボスロール２６によりメカニ
カルエンボス加工を施した。

【００３３】以上のようにして得られた本発明の装飾シ
ートは、光触媒層４やアンダー層３の亀裂の発生は確認
されず、しかも光触媒層４及びアンダー層３を介してプ
リント層２を視認することができ、このプリント層２の
模様に加えてメカニカルエンボス加工による凹凸模様
と、発泡合成樹脂層１２の凹凸模様とにより良好な意匠
性を保持することができた。また、この装飾シートを、
揮発性の溶剤を使用する工場内の小部屋の壁面全面に貼
着し、この小部屋内で１か月の作業を行った結果、溶剤
臭は殆ど感じられなかった。

【００３４】実施例２１６０ｇ／ｍ^２の裏打紙１１を使用し、ここにアクリル
樹脂：エチレン酢酸ビニル共重合体（重量比）＝８０：
２０の混合エマルジョンに、該エマルジョンの樹脂固形
分１００重量部に対しマイクロカプセル３重量部を加え
たものを、ウエット状態で３００ｇ／ｍ^２となるように
コートし、ヒートゾーン２２１の保持温度を１４５℃と
し、保持（搬送）時間を６０秒間とした以外は、実施例
１と同様にして基材１を得た。この基材１の発泡合成樹
脂層１２上に、実施例１と同様にしてプリント層２を形
成した。

【００３５】このプリント層２上に、実施例１で使用し
たアンダー層３用水溶液をウエット状態で５０ｇ／ｍ^２
となるようにコートし、ヒートゾーン２２３の保持温度
を１３０℃と、保持（搬送）時間を３０秒間とする以外
は、実施例１と同様にして、厚さ１０μｍのアンダー層
３を形成した。

【００３６】アモルファス型酸化チタンにアナターゼ型
酸化チタンを、光触媒層４中のアナターゼ型酸化チタン
が１０重量％となるように加え、更にアニオン系界面活
性剤を０．１重量％添加した水系溶液を用い、上記のア
ンダー層３上にウエット状態で５０ｇ／ｍ^２となるよう
にコートし、ヒートゾーン２２４の保持温度を１３０℃
と、保持（搬送）時間を３０秒間とする以外は、実施例
１と同様にして、厚さ１０μｍの光触媒層４を形成し
た。

【００３７】その後、１８０℃に加熱保持した加熱炉２
２５で１分間、発泡合成樹脂層１２の加熱発泡を行い、
更に光触媒層４側から、プリント層２に渡って凹凸模様
が形成されるように、エンボスロール２６によりメカニ
カルエンボス加工を施した。

【００３８】以上のようにして得られた本発明の装飾シ
ートは、光触媒層４やアンダー層３の亀裂の発生は確認
されず、しかも光触媒層４及びアンダー層３を介してプ
リント層２を視認することができ、このプリント層２の
模様に加えてメカニカルエンボス加工による凹凸模様
と、発泡合成樹脂層１２の凹凸模様とにより良好な意匠
性を保持することができた。また、この装飾シートを、
揮発性の溶剤を使用する工場内の小部屋の壁面全面に貼
着し、この小部屋内で３か月の作業を行った結果、溶剤
臭は殆ど感じられなかった。

【００３９】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の光触媒機
能を有する装飾シートによれば、次のような効果を奏す
ることができる。（１）アモルファス型酸化チタンによるアンダー層が、
光触媒層のアナターゼ型酸化チタンによる基材側への光
触媒作用を遮蔽する機能に優れているため、アンダー層
の下に存在するプラスチック使用の基材や、基材上に形
成するプリント層の、光触媒による変質や分解を効果的
に防止し、本発明の装飾シートを耐久性に優れたものと
することができる。（２）アモルファス型酸化チタンは、偏平状であるた
め、２００℃未満の比較的低温度でも、緻密で、均質な
層を容易に形成するため、本発明の装飾シート製造工程
中での、上記プラスチック使用の基材やプリント層の、
熱による変質や分解をも効果的に防止することができ
る。（３）アナターゼ型酸化チタンは、優れた光触媒機能の
他に、耐酸性や紫外線カット性にも優れているため、基
材やプリント層の、薬品や紫外線による変質や分解をも
効果的に防止することができる。（４）上記（１）〜（３）の結果として、基材には、無
機質の材料のみならず、有機質の材料（合成樹脂等）を
も、優れた耐久性を有して使用することができるばかり
か、プリント層形成用のインクも材質の制約を受けるこ
とがなく、種々のインクを使用することができる。（５）アナターゼ型酸化チタンとアモルファス型酸化チ
タンによる光触媒層は、光触媒機能に優れたアナターゼ
型酸化チタン微粒子が、偏平状のアモルファス型酸化チ
タンにより強固に保持されるため、アナターゼ型酸化チ
タン微粒子の剥落は容易に生じることはなく、本発明の
装飾シートの耐久性をより優れたものとする。（６）アンダー層と光触媒層に用いられるアモルファス
型酸化チタンが、これら両層を強固に接着させ、本発明
の装飾シートの耐久性を一層優れたものとする。（７）基材上にケミカルエンボス加工を加えた合成樹脂
層を設け、またアンダー層の下にプリント層を設けるこ
とにより、あるいは光触媒層側から基材側へのメカニカ
ルエンボス加工を施すことにより、本発明の装飾シート
を高い意匠効果を有するものとすることができる。（８）光触媒層には、光触媒機能の強さに見合うアナタ
ーゼ型酸化チタン微粒子量を適宜配合することができる
ため、種々の強さの光触媒機能を有する装飾シートとす
ることができる。（９）アンダー層、光触媒層共に水系の溶剤を使用する
ことができるため、本発明の装飾シートの製造工程の環
境を良好に保つことができる。（１０）本発明の装飾シートの製造工程には、特殊な装
置は不要であり、従来の装飾シートの製造工程を、条件
のみを設定・制御することで、そのまま使用することが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光触媒機能を有する装飾シートの一実
施態様例を説明するための断面模式図である。

【図２】図１に示す本発明の光触媒機能を有する装飾シ
ートを製造する工程を概略的に示す説明図である。

【符号の説明】

１基材１１裏打紙１２発泡合成樹脂層２プリント層３アモルファス型酸化チタン層４アナターゼ型酸化チタン含有アモルファス型酸化
チタン層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者斉藤隆群馬県新田郡新田町小金井958−13 (72)発明者山田真義栃木県足利市南大町3365 アキレス興和寮 (72)発明者水谷勝義愛知県江南市前野町東２番地の１ミサワセラミックス株式会社内 (72)発明者上手正行東京都杉並区高井戸東２丁目４番５号ミサワホーム株式会社内Ｆターム(参考） 4C080 AA07 BB02 CC01 HH05 JJ06 KK08 LL03 MM02 NN26 4F100 AA21B AK01A AK25 AT00A BA02 BA07 DG10 EH46 GB08 HB31 JL00 JL08B YY00B 4G069 AA03 AA08 BA04A BA04B BA22A BA22B BA48A CA01 CA11 CA17 EA07 EB03 EB11 EB15X EB15Y EC22X EC22Y EC26 EC28 ED04 FA03 FB15 FB23 FC08

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基材上に順に、厚さ１〜１０μｍのアモ
ルファス型酸化チタン層と、アナターゼ型酸化チタンを
１０〜９５重量％含む厚さ１〜１０μｍのアモルファス
型酸化チタン層を積層してなることを特徴とする光触媒
機能を有する装飾シート。
【請求項２】基材が合成樹脂製材または合成樹脂層を
含むものであって、該合成樹脂部分に凹凸模様が形成さ
れ、この上に発泡性インクを用いたプリント層が設けら
れ、かつアナターゼ型酸化チタンを１０〜９５重量％含
むアモルファス型酸化チタン層から少なくとも前記プリ
ント層に至る凹凸模様が形成されてなることを特徴とす
る請求項１記載の光触媒機能を有する装飾シート。
【請求項３】アモルファス型酸化チタン層が、アモル
ファス型酸化チタンを含む水系溶液をウエット状態で５
〜５０ｇ／ｍ^２となるようにコートしてなるものであ
り、アナターゼ型酸化チタンを１０〜９５重量％含むアモル
ファス型酸化チタン層が、アモルファス型酸化チタンと
アナターゼ型酸化チタンを含む水系溶液に、アナターゼ
型酸化チタン粉末を、アナターゼ型酸化チタンを含むア
モルファス型酸化チタン層のアナターゼ型酸化チタン含
有量が１０〜９５重量％となるように、添加した水系溶
液を、ウエット状態で５〜５０ｇ／ｍ^２となるようにコ
ートしてなるものであることを特徴とする請求項１又は
２記載の光触媒機能を有する装飾シート。
【請求項４】アモルファス型酸化チタン層形成用水系
溶液と、アナターゼ型酸化チタンを１０〜９５重量％含
むアモルファス型酸化チタン層形成用水系溶液が、それ
ぞれ界面活性剤を０．１〜５．０重量％含むことを特徴
とする請求項３記載の光触媒機能を有する装飾シート。