JP2003019578A - レーザによってガラスにマーキングする方法及び装置 - Google Patents

レーザによってガラスにマーキングする方法及び装置

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 レーザによってガラスにマーキングするため
の改善された方法及び改善された装置を提供する。 【解決手段】 レーザによってガラスにマーキングする
方法及び装置において、ガラスは、まずガラスの転移温
度より上の温度にされる。ガラスは、それからレーザパ
ルスによって作用を受け、このレーザパルスは、ガラス
の表面にマーキングを取付ける。なるべくレーザパルス
のピーク出力は、ガラス表面と熱的な相互作用に通じる
だけのように選択される。このことは、マーキングされ
たガラスの材料特性をマーキングされない製品と比較し
て不変のままにするという利点を有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、とくに管引抜き装
置において、レーザによってガラスにマーキングする方
法及び装置に関する。
【0002】
【従来の技術】レーザビームによりガラスにマーキング
し又は書き込みするために、従来の技術によれば種々の
方法が公知である:
【0003】ドイツ連邦共和国特許第4407547号
明細書によれば、部材の内側にマーキングを有する透明
な材料からなる部材を製造する方法が公知であり、ここ
では部材の内側に制限された空間的な範囲が存在し、こ
の範囲内にレーザビームによって点状の微細傷が形成さ
れる。微細傷は、裸眼で見ることができるような直径を
有する。
【0004】PCT国際公開第WO92/03297号
明細書(=ドイツ連邦共和国特許第4126626号明
細書は、レーザビームによってマーキングすべきガラス
部材の内側において材料がイオン化され、したがって同
様に微細傷が生じる、相応する方法に関する。
【0005】別の相応する方法は、PCT第WO94/
14567号明細書により公知であり、ここでは同様に
局所的な微細傷の形成によって、部材の内側に画像が発
生される。
【0006】従来の技術から公知の前記の方法におい
て、>10*7W/cm*2の高いエネルギー密度を有
する固体レーザ(Nd:YAG)が使用される。このよ
うなレーザビームによって所定のガラスしか反応しない
ことは、前記の方法において不利である。さらに微細傷
構造はマーキングされるガラスの材料特性を悪化するこ
とは不利である。
【0007】PCT国際公開第WO00/32349号
明細書及びPCT国際公開第WO00/32531号明
細書によれば、同様に固体レーザ(Nd:YAG)によ
って動作する、ガラスにマーキングする方法が公知であ
り、ここでは破壊を引起こす微細傷が生じないように、
レーザパラメータが選択されている。発生されたマーキ
ングが裸眼では認識できないことは、この方法において
不利である。ガラス部材の内側におけるレーザビームの
集束が、表面までの傷成長を防ぐために、十分に大きな
ガラス容積又は例えば少なくとも1mmの最小ガラス厚
さを前提とすることは、さらに不利である。
【0008】固体レーザの波長に対するガラスのかなり
の程度の透明度にもかかわらず、相互作用又はマーキン
グ効果を達成するために、ガラスに吸収層を取付けるこ
とが周知である。このような方法は、例えばヨーロッパ
特許第0761377号明細書によって公知であり、そ
の際、取付けられた材料層にマーキングするために、
1.06μmの波長を有するNd:YAGレーザが利用
される。さらにドイツ連邦共和国特許出願公開第422
428号明細書によれば、金属ドーピングした特殊ガラ
スが、Nd:YAGレーザによってマーキングされる相
応する方法が公知である。
【0009】PCT国際公開第WO95/05286号
明細書によれば、ガラス表面を変化することなく、ガラ
ス部材にマーキングする方法が公知である。そのためC
O2レーザが利用され、このCO2レーザは、表面の下
のほぼ50ミクロンの深さまでにおける局所的な応力を
持込むために、焦点における少なくとも6kW/cm*
2エネルギー密度のエネルギー密度を有する。マーキン
グが裸眼では見ることができないことは、この方法にお
いて不利である。
【0010】さらにドイツ連邦共和国特許第31211
38明細書によれば、ガラス製品を装飾する方法が公知
であり、ここではガラス材料が表面層から蒸発し、又は
ガラスの透過度の変化を引起こすような最大エネルギー
のレーザビームが、利用される。
【0011】ドイツ連邦共和国特許第3145278号
明細書によれば、レーザビームによってガラス表面の材
料を切除する方法が公知でありここではレーザビーム
は、部分的に吸収するマトリクスによって多数の個別ビ
ームに分割される。
【0012】さらにドイツ連邦共和国特許出願公開第4
132817号明細書によれば、レーザビームにより点
状に処理すべき表面のガラスを溶融する方法が公知であ
る。蒸発したガラス材料を取り除くために、吸取り装置
を必要とすることは、前記の材料を切除する方法におい
て不利である。さらに材料特性が不利に作用する。
【0013】レーザ加工は、転移温度より下の温度にお
いて行なわれるので、ガラスの応力を逃すために、レー
ザ加工の前、間又はその後に、ガラスの必要な熱処理を
行なうことは、前記の方法において特別な欠点である。
【0014】ドイツ連邦共和国特許出願公開第1992
6878号明細書によれば、レーザビームによりガラス
容器に彫刻する方法が公知であり、この方法は、ラッカ
を利用し、このラッカは、レーザビームの作用を受けて
反応しかつ利用した組合せの色を変化する特性を有する
色素とガラス化可能な基礎の組合せからなる。
【0015】さらにPCT国際公開第WO99/002
15号明細書によれば、ガラスの表面マーキングと内側
マーキングを行なう周知の方法の組合せに基づく方法が
公知である。
【0016】PCT国際公開第WO96/10777号
明細書によれば、UVレーザビームによるガラス表面に
マーキングする方法が公知であり、ここでは補助手段な
しでは認識できないミクロ構造しか達成できない。
【0017】特開平09−278494号公報によれ
ば、ガラス基板にマーキングする方法が公知である。マ
ーキングのために、ほぼ262nmの波長を有するYL
Fレーザが利用される。
【0018】特開平10−101379号公報によれ
ば、ガラスにマーキングする別の方法が公知である。こ
の方法において2,300nmの波長のパルス状のレー
ザビームが利用され、その際、ガラス上のマーキングす
べきそれぞれの位置に、3と100回との間においてレ
ーザビームを加えなければならない。
【0019】ドイツ連邦共和国特許第4126626号
明細書によれば、表面の下に配置されたマーキングをガ
ラス又は合成物質からなる材料部材に備える方法が公知
である。そのために材料部材の表面に、これに対して材
料が透過性の高いエネルギー密度のビームが向けられ
る。ビームは、表面から間隔を有しかつ材料部材内に配
置された場所において集束し、それによりマーキングが
引起こされる。
【0020】ドイツ連邦共和国特許出願公開第3425
263号明細書によれば、レーザビームにより透明な材
料の容積内に情報を書込む方法が公知であり、ここにお
いてレーザビームの集束を選択することにより、種々の
材料深さに情報を書込むことができる。
【0021】ドイツ連邦共和国特許出願公開第1982
3257号明細書によれば、強力なレーザパルスによっ
て金属粒子を含有した誘電体のエクスティンギオン(E
xtingions:消滅)スペクトルを定義して永続
的に変化する方法が公知である。変化は、表面プラズモ
ンの励起によって金属粒子内に引起こされるエクスティ
ングション(Extingtions:消滅)バンド内
に強力なレーザ光が入射することによって引起こされ
る。
【0022】
【発明が解決しようとする課題】それ故に本発明の課題
は、レーザによってガラスにマーキングするための改善
された方法及び改善された装置を提供することにある。
【0023】
【課題を解決するための手段】本発明の基礎とする課題
は、それぞれ独立の特許請求の範囲の特徴によって次の
ようにして解決される。すなわちa)引抜きプロセスに
沿ってマーキング位置を選択し、このマーキング位置
が、転移温度より上のガラス温度を有し、b)ガラスの
表面にマーキングを取付けるためにガラスにレーザパル
スを作用させる。すなわちa)管引抜きプロセスにおけ
る引抜き速度でガラスを動かす手段を有し、b)ガラス
の転移温度より上にある温度に管引抜きプロセスの範囲
におけるマーキングすべきガラスを熱処理する手段を有
し、c)ガラスの表面にマーキングを取付けるためにレ
ーザパルスをガラスに作用させる手段を有し、その際、
レーザパルスが管引抜きプロセスの範囲においてガラス
表面に当たるように、作用させる手段が配置されてい
る。有利な構成は、特許請求の範囲従属請求項に記載さ
れている。
【0024】本発明は、ガラスのマーキングを製造課程
に、例えば管引抜き装置に統合することを可能にする。
それによりマーキングを取付けるためにガラスの製造の
後に分離した加工ステップの必要性が省略される。
【0025】さらに本発明は、すでに高い温度において
管を製造する間に、ガラスにはっきりと見ることができ
るが微細傷のないマーキングを取付けることを可能にす
る。製造課程におけるマーキングの可能な統合は、本発
明による方法を適用するためにここにいずれにせよ存在
する高い温度を利用することを可能にし、その際、後続
の引続き加工ステップにおいてガラスの転移温度を越え
るこれらの温度を発生する必要もない。
【0026】本発明の特別な利点は、これを遅らせるこ
となく、又はさもなければ不利な影響を及ぼすことな
く、これが、連続した製造プロセス内に挿入されるると
いう点にある。
【0027】その他の利点は、本発明が、微細傷を発生
することなく、表面に応力の少ないマーキングを製造す
ることを可能にするので、製造されたガラスの材料特性
がマーキングによって不利な影響を受けないという点に
ある。その際、有利な構成において、レーザビームは、
短い間だけしかピーク出力に達しないように調整され
る。その際、ピーク出力は、ガラスの物理的なパラメー
ター例えばその熱膨張係数及び熱伝導−に依存して、ガ
ラスへの応力持ち込みを最小にするように選定される。
【0028】この純粋に熱的な相互作用は、マーキング
すべきガラスが転移温度より上にあり、かつそれ故にガ
ラスが容易に変形可能であるので、ガラス表面に見るこ
とができるマーキングを取付けるために十分である。相
応してマーキングを取付けるために相対的にわずかなレ
ーザ出力しか必要としない。
【0029】有利な構成において、パルス化された疑似
連続的なCO2レーザビームが適用される。CO2レー
ザビームの種々のパルス−休止−比によって、レーザの
近くを通り抜けるガラス表面に種々のパターン−例えば
点、短線、線−の任意に永続的なマーキングを発生する
ことができる。
【0030】有利なように、レーザビームを発生するた
めの制御部は、測定装置に連結することができる。この
ことは、品質保証のために測定装置によって認識される
欠陥に相応してガラスにマーキングすることを可能にす
る。このような測定装置が、例えばガラス欠陥、例えば
泡又は節を確認すると、測定装置は、相応する信号をレ
ーザの制御電子装置に送出することができる。それから
当該の材料範囲の表面に、マーキングが取付けられ、こ
のマーキングは、後に別の製造課程において、なお必要
な後処理を表わすため、又は相応する製品を選り分ける
ために使うことができる。
【0031】レーザビームのパルス時間及び/又はピー
ク出力は、マーキングが裸眼で認識できるのではなく、
顕微鏡を利用し又は偏光計によってしか確認できないよ
うにも選択することができる。マーキングは、機械によ
って読むことができるようにも、例えばいわゆるバーコ
ードの形に形成することもできる。
【0032】本発明による方法によれば、製品海賊行為
を克服するためにガラスに例えば偽造不可能なマーキン
グを取付けることができる。同様にマーク、会社のロゴ
マーク又はその他の製品装備は、これがガラスの材料特
性に後から不利な影響を及ぼすことなく、かつ製品製造
にマーキングの取付けを完全に統合して、本発明による
方法によって、ガラス表面に偽造不可能に取付けること
ができる。
【0033】方法は非接触で作業するので、相応する装
置は、その他の製造プロセスからカプセル化して構成す
ることができる。このことは、保守の少ないこと及びマ
ーキングユニットの簡単な可動に構成すべき構造の別の
利点を有する。
【0034】
【発明の実施の形態】さらに図面を引用して本発明の有
利な構成を詳細に説明する。
【0035】図1は、1つのマーキングを拡大した表示
で示しており、このマーキングは、レーザパルスによっ
てガラス表面に製造されている。まずそのためにマーキ
ングすべきガラスは、ガラスの転移温度より上にある温
度にされる。そのためにガラスのタイプに応じて、ほぼ
500−600°Cの温度が必要である。ガラス製造に
マーキング方法を統合する場合、相応するレーザマーキ
ング装置は、近くを通るガラス条片の位置に配置され、
この位置においてガラスの転移温度より高い必要なマー
キング温度が存在する。
【0036】利用できるレーザ出力によって、まだ見る
ことができるマーキングが結果として生じるように、も
はやガラスと相互作用が行なわれないという趣旨で、マ
ーキングすべきガラス表面の温度は、上方に向かって制
限されている。
【0037】その際、ガラス表面と当たるレーザパルス
の相互作用は、純粋に熱的であり、その際、ガラス材料
の物理的又は化学的な変化には至らない。とくにそれに
よりガラス材料のイオン化、及び微細傷の形成等は、大
体において防止される。
【0038】図1に示されたマーキングは、1.3mm
の長さを有する。マーキングの楕円形の形は、マーキン
グすべきガラスが、レーザ源に対して相対的に、運動速
度とレーザパルスの長さによって楕円の長さが生じるよ
うに運動を行なうことによって達成される。
【0039】図2は、相応するレーザパルスの時間的な
経過を示している。レーザパルスは、tanの立上り時
間を有する。立上り時間の後に、レーザ出力は、図2に
Ppeakとして示されたその最大値に達する。最大出
力に達した直後に、これは、立下り時間tabにおいて
再び0に低下する。
【0040】その際、最大出力Ppeakは、なるべく
熱的なもの以外に加工すべき表面及び製品のそれ以上の
影響に至らないように選択される。それ故に最大出力P
peakは、マーキングすべきガラスの物理的パラメー
タに依存して、すなわちその熱膨張係数及びその熱伝導
に依存して行なわれる。その際、ガラスの化学的特性も
考慮することができる。
【0041】その際、立上り時間tanは、有利なよう
に最大出力Ppeakを達成するために必要な最小時間
として選択される。この最小時間は、利用されるレーザ
によって装置に依存して与えられる。レーザパラメータ
(パルス幅、パルス休止期間)の選択は、所望のマーキ
ングの様式、例えば線長さに依存している。
【0042】最大出力Ppeakに達した後に同じく、
レーザへのエネルギ供給は再び中断されるので、この時
に同様に装置に依存した立下り時間tabにおいて、レ
ーザパルスの出力は、再び0に戻る。CO2レーザシス
テムを利用する際、立上り及び立下り時間は、それぞれ
50ないし60μsであることができ、それからほぼ1
00ないし120μsのパルス幅が得られる。しかしな
がら例えばtpuls=300μS又はそれより長い一
層長いパルス時間を選択することもできる。
【0043】図3は、管引抜き装置においてガラスを、
例えばガラス管を連続的に製造する装置を示している。
その際、例えばダンナー−法を適用することができ、こ
の方法は、米国特許第1218598号明細書により公
知である。さらにヴェロ−法及びA−引抜き−法(ドイ
ツ連邦共和国特許出願公告第1025581号明細
書)、又はガラス引抜き法も適用できる。
【0044】管引抜き装置においてガラス材料1は、所
定の速度で大体において並進して、矢印2の方向に動か
される。引抜き速度は、その際、6m/sより下、なる
べくほぼ4m/sである。
【0045】ガラス材料1からなるガラス管列は、図3
の管引抜き装置においてまず測定装置3を通過する。測
定装置3は、ガラス材料1の1つ又は複数の材料特性を
検査するために使われ、例えば泡、節又はその他の材料
不規則性、欠陥又はその他の特性に関するテストのため
に使われる。測定装置は、400°Cによって表わされ
る位置の高さにおいて危険もなく有利なようにガラス条
片に沿って配置することができる。欠陥マーキングのた
めにレーザマーキングを利用しようとするとき、この場
合、レーザ所在地は、引抜き方向において測定装置の後
に選択しなければならない。
【0046】所定のテスト条件が満たされないと、測定
装置3は相応する信号を送出し、この信号は、線4を介
してレーザ6の制御部5に伝達される。
【0047】レーザ6は、制御部5の他に、CO2レー
ザヘッド7及び相応する冷却器8及び高周波網部分9か
らなる。レーザヘッド7は、制御部5による相応する制
御の際、CO2レーザパルスを発生し、このレーザパル
スは、集束光学系10を介してガラス材料1に向けられ
る。
【0048】集束光学系10は、ガラス材料1の方に向
いたその側に、図3には詳細に示さない光学系洗浄部1
1を有する。温度は、ガラス材料1にレーザヘッド7の
レーザが当たる範囲において、当該の例においてほぼ6
00°Cであり、したがってガラス材料1の転移温度よ
り上にある。
【0049】管引抜き装置のそれに続く区間において、
ガラス材料1の温度は、400°Cに又は200°Cに
連続的に低下する。管引抜き装置の後側端部に、引抜き
機12があり、この引抜き機は、ガラス材料1を所望の
ように並進運動させる。引抜き機12の後において引抜
かれたガラス材料は、管13に細分化され、これらの管
は、必要な場合に、後処理14を受ける。
【0050】レーザヘッド7は、大体において図1及び
2に関連して前に説明したように、ガラス材料1の表面
の熱的な作用だけに通じるレーザパルスによって管列の
近くを通るガラス材料1が作用を受けるように、レーザ
6の制御部5によって調整される。マーキングを取付け
るための正確な位置は、集束光学系によって決められ
る。
【0051】図3の考慮された実施例において、集束光
学系10は、ガラス材料1の表面からほぼ63.5mm
の動作間隔のところにある。例えば±1mmの管列の変
動による理想的な焦点からの場合によっては生じる偏差
は、ビームの焦点深度によって無視することができる。
【0052】光学系洗浄部11は、集束レンズを例えば
ガラスのほこり等から保護するために、方向付けられた
ガス流によって集束光学系10の集束レンズを洗浄する
ように考慮している。
【0053】例えば制御部5のレーザパラメータは、パ
ルス幅tpuls(図2参照)が、60μsであり、か
つパルス周波数が、10kHzであるように設定するこ
とができる。ピーク出力は、ほぼ200Wであることが
でき、このことは、ほぼ120Wの平均出力に相当す
る。それによりほぼ4m/sの引抜き速度に基づいて、
ほぼ0.25×0.1mmの線寸法を有する線によって
マーキングが生じ、その際、線は、ガラス材料1の表面
において、それぞれほぼ0.4mmだけ間隔を置いてい
る。
【0054】このようにして発生されたマーキングは、
補助手段なしに、最終製品のガラス管13においてかつ
後処理製品、例えばアンプルにおいて裸眼で認識するこ
とができる。ガラス表面における外方への上方湾曲、及
び不利な応力又は微細傷は全く誘発されない。このこと
は、ここにおいて相応する製品がマーキングを持たない
製品と比較して相違を持たない例えばアンプルの熱処理
(冷却炉)及び熱衝撃によって証明することができる。
【0055】図4は、レーザヘッド7(図3参照)から
送出されるレーザパルスの時間的な経過の図を示してい
る。これらは、その形に応じてそれぞれ図2のレーザパ
ルスに相当する。パルス休止期間tpauseの期間の
変化によって、ガラス材料の表面に発生されるマーキン
グ線の間隔を変化することができる。
【0056】図5は、相応するマーキング線を拡大して
示している。個々のマーキング線の中心は、その際、選
択されたパラメータに基づいてほぼ2mmだけ互いに離
れている。
【0057】しかしながら集束光学系10(図3参照)
の相応する形成によって、ガラス表面に任意のマーキン
グパターンを発生することもできる。その際、例えば製
品管理のために、例えば装飾パターン、マーク、ロゴ、
製品構成又はその他の特徴を問題にすることができる。
【0058】さらにレーザ6及び/又は集束光学系10
を管引抜き装置に対して相対的に管列に対して平行に可
動に配置することも可能なので、レーザビームは、ガラ
ス材料1の表面に例えばさらに複雑なパターンを取付け
るために、所定の距離にわたってガラス材料1に対して
平行に矢印2の方向に一緒に動くことができる。それに
より引抜き速度による光学系の連行運動は、管引抜き運
動と同時に行なうことができる。その代わりに走査装置
を使用してもよい。相応したマーキングの終了の後に、
レーザ6及び/又は集束光学系10は、新たなマーキン
グステップを準備するために、再び初期位置に戻され
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明によりガラスの表面に発生された1つの
マーキングを示す図である。
【図2】ガラスの表面にマーキングを発生するためのレ
ーザパルスの形を示す基本図である。
【図3】ガラスにマーキングする本発明による装置の構
成を含む管引抜き装置の図である。
【図4】図3の管引抜き装置において適用される疑似連
続的なレーザパルスのパルス−パルス休止−比を示す図
である。
【図5】図4の疑似連続的なレーザビームによって発生
されたガラス表面上のマーキングを示す図である。
【符号の説明】
1 ガラス材料 2 引抜き方向 3 測定装置 4 線 5 制御部 6 レーザ 7 レーザヘッド 8 冷却器 9 HF−網部分 10 集束光学系 11 光学系洗浄部 12 引抜き 13 管 14 後処理部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4E068 AA02 AB01 CA03 DA15 DB13 4G015 FA06 FB01 FC02 FC14 4G059 AA01 AA08 AB09 AC08 AC30

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 a)引抜きプロセスに沿ってマーキング
    位置を選択し、このマーキング位置が、転移温度より上
    のガラス温度を有し、 b)ガラスの表面にマーキングを取付けるためにガラス
    にレーザパルスを作用させる:ステップを含むことを特
    徴とする、ガラスにマーキングする方法。
  2. 【請求項2】 レーザパルスが、短い間だけしかピーク
    出力に達しないことを特徴とする、請求項1に記載の方
    法。
  3. 【請求項3】 レーザパルスのピーク出力が、ガラスの
    物理的なパラメータに依存して、ガラスのマーキングす
    べき表面の熱的な作用に至るだけのように選定されてい
    ることを特徴とする、請求項1又は2に記載の方法。
  4. 【請求項4】 ガラスがパルス化されたレーザビームを
    加えられることを特徴とする、請求項1、2又は3に記
    載の方法。
  5. 【請求項5】 ガラスが、レーザビームに対して相対的
    に引抜き装置における引抜き速度で動かされることを特
    徴とする、請求項1ないし4の1つに記載の方法。
  6. 【請求項6】 レーザパルスが、25ないし60μsの
    立上り時間、及び25ないし60μsの立下り時間を有
    することを特徴とする、請求項1ないし5の1つに記載
    の方法。
  7. 【請求項7】 レーザパルスのパルス幅が、300μs
    より短く、なるべく130μsより短く、とくに60μ
    sであることを特徴とする、請求項1ないし6の1つに
    記載の方法。
  8. 【請求項8】 ガラスが特性に関して検査され、かつ特
    性が存在する際又は存在しない際に、レーザパルスによ
    って相応するマーキングが取付けられることを特徴とす
    る、請求項1ないし7の1つに記載の方法。
  9. 【請求項9】 レーザパルスがCO2レーザによって発
    生されることを特徴とする、請求項1ないし8の1つに
    記載の方法。
  10. 【請求項10】 a)管引抜きプロセスにおける引抜き
    速度でガラスを動かす手段を有し、 b)ガラスの転移温度より上にある温度に管引抜きプロ
    セスの範囲におけるマーキングすべきガラスを熱処理す
    る手段を有し、 c)ガラスの表面にマーキングを取付けるためにレーザ
    パルスをガラスに作用させる手段を有し、その際、レー
    ザパルスが管引抜きプロセスの範囲においてガラス表面
    に当たるように、作用させる手段が配置されている:こ
    とを特徴とする、ガラスにマーキングする装置。
  11. 【請求項11】 レーザパルスが短い間しかピーク出力
    に達しないように、レーザパルスを調整する手段を有す
    ることを特徴とする、請求項10に記載の装置。
  12. 【請求項12】 パルス化されたレーザ手段として、レ
    ーザパルスをガラスに作用させる手段が形成されている
    ことを特徴とする、請求項10又は11に記載の装置。
  13. 【請求項13】 レーザパルスが25ないし60μsの
    立上り時間、及び25ないし60μsの立下り時間を有
    するように、レーザパルスをガラスに作用させる手段が
    形成されていることを特徴とする、請求項10、11又
    は12に記載の装置。
  14. 【請求項14】 レーザパルスのパルス幅が、300μ
    sより短く、なるべく130μsより短く、とくに50
    μsと120μsとの間にあるように、レーザパルスを
    ガラスに作用させる手段が形成されていることを特徴と
    する、請求項10ないし13の1つに記載の装置。
  15. 【請求項15】 特性の存在又は不在に依存してレーザ
    パルスをガラスに作用させる手段に制御信号を出力する
    ために、特性に関してガラスを検査する手段を有するこ
    とを特徴とする、請求項10ないし14の1つに記載の
    装置。
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