JP2004107150A - ガラスマーキング方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】ガラスに歪みや傷を発生させることなく、粉塵や廃液も無く、また特別の日常メンテナンスを要しないで、ガラス表面上に製品一個ごとに高速で小さい高品質の個別の文字や識別記号を刻印するガラスマーキング方法を提供することにある。
【解決手段】レーザ発振管から出力する中心軸が強く外に向かってエネルギー強度が減衰するガウシアン分布のモードパターンのパルスレーザビームを、円錐レンズ２枚で構成されるモード変換レンズを通して照射部のエネルギーを均一分布にしたフラットトップ分布のモードパターンに変換してガラス面に照射させてガラス表面に刻印を行うことを特徴とするガラスマーキング方法
【選択図】 図２
【解決手段】レーザ発振管から出力する中心軸が強く外に向かってエネルギー強度が減衰するガウシアン分布のモードパターンのパルスレーザビームを、円錐レンズ２枚で構成されるモード変換レンズを通して照射部のエネルギーを均一分布にしたフラットトップ分布のモードパターンに変換してガラス面に照射させてガラス表面に刻印を行うことを特徴とするガラスマーキング方法
【選択図】 図２
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はマーキング方法、特にガラス表面の刻印箇所やその近辺に歪や割れ傷を発生させることなく、かつ、構造が簡単で高速で微細な製品一個毎の個別文字や識別記号を刻印するマーキング方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、製品一個ごとの品質管理や品質保証が要請されており、それに対応するため製品一個ごとに異なる個別文字や個別識別記号を刻印する、高速で極く小さい面積に割れや歪みを発生させることのない品質の良いマーキング方法が求められている。これはガラス製品についても要請されており、従来、一定生産量のガラス製品をまとめてロット管理する場合の同一の文字や識別記号を刻印するマーキング方式としてはエアブラスト法や浸食法等がある。またインクジェット法やレーザを照射してマーキングする方法も試みられている。
【０００３】
エアブラスト法は希望の文字や記号の刻印マークを切り抜いた型板をガラス表面に貼り、外部より研磨材等を高速で吹き付けガラス表面に細かい傷を付けて刻印するものである。また浸食法はガラス表面を薬品により腐食浸食させて刻印するものである。
【０００４】
しかしながらエアブラスト法や浸食法では、製品一個づつの個別整理の文字や識別記号の刻印においては刻印が変わる度に型板の変更が必要となり、刻印速度が遅くなり製造ライン速度に対応できないという問題がある。また刻印の小面積化に限界があった。また粉塵や廃液が発生し、最近の無公害要求に応えるものではなかった。
【０００５】
インクジェット法は、ノズルをＸＹ平面上で移動させてノズル移動に同期させてインクを点噴射して、ガラスの表面に顔料を連続点噴射して付着させることによって希望する文字や記号を印刷するものである。しかしながら、インクジェット方式では印字後のガラスの熱処理工程で印字が消えたり、溶剤揮発による濃度の変化により印字濃さに変化が生じて印字品質が劣化したり、ノズルに詰まりが生じて使用不可能となる等、液体インキの粘度管理や顔料の溶剤濃度管理に経験を要し、メンテナンス上で問題があった。
【０００６】
レーザ照射法は刻印場所にレーザ光を照射することによって刻印する方法である。ガラス製品に刻印する場合、分子結合を切断し光分解して被刻印物の材料を気化して蒸発させるアブレーション加工が必要となるが、それにはエネルギー密度の高いレーザ発振装置が必要となる。しかしエネルギー密度の高いレーザ発振装置は高価であり工業的に使用するのに優位性がない。一方、安価な炭酸ガスレーザでは波長が長くエネルギー密度が低いためアブレーション加工が不可能であった。
【０００７】
従って、炭酸ガスレーザを用いて刻印する場合は、レーザを刻印部に照射して、レーザのエネルギーによって照射部を溶融せしめて蒸発させるヒートモード加工を使用することになる。しかし、ガラスは局所的に加熱されると歪みが発生し、照射点周囲近辺の歪みが割れに発展し破損する問題があった。
【０００８】
特に、レーザ出力のエネルギー強度分布は中心軸が強く、外に向かって減衰するガウシアン分布のモードパターンになっているため、ガラス表面に照射時には照射中心部が深くＶ字形に刻印されて、照射中心部から周囲に熱応力がかかり歪や割れの原因になっていた。
【特許文献１】特許第２５２０９５３号
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
本発明はこれらの問題点を解決し、ガラスに歪みや割れを発生することなく粉塵や廃液も無く、また特別の日常メンテナンスを要しないで、ガラス表面上に製品一個ごとに高品質の小さい個別の文字や識別記号を高速で刻印するガラスマーキング方法を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明はかかる目的を達成するために検討した結果なされたもので、レーザ発振管から出力するエネルギー強度分布が、中心軸が強く外に向かって減衰するガウシアン分布のモードパターンのパルスレーザビームを、円錐レンズ２枚で構成されるモード変換レンズを通して、中心軸から外に向かってエネルギー強度分布が均一なフラットトップ分布のモードパターンに変換して照射してガラス表面に刻印を行うことを特徴とするガラスマーキング方法を提供するものである。
【００１１】
また本発明はレーザ発振管から出力したパルスレーザビームをパルスに同期してＸＹ平面上で任意の方向に移動する駆動装置に固定したマーキング対象のガラス材料表面に照射して、文字や識別記号を刻印する上記のガラスマーキング方法、および、レーザ発振管から出力したパルスレーザビームを任意の刻印形状に走査照射するＸＹ高速２軸反射ミラー走査装置でパルスに同期して反射照射して、刻印対象のガラス表面に文字や識別記号を刻印する上記のガラスマーキング方法を提供するものである。
【００１２】
【発明の実施の形態】
近年、レーザから出力された元のビームモードを円錐形のレンズを組み合わせたモード変換レンズを通してさまざまなモードに変換する研究が進んでいる。
【００１３】
本発明は炭酸ガスを発振媒体とするパルスレーザをガラス部品に照射して刻印を行うが、図１のごとく、レーザ発振管２から発振されたレーザ出力分布は中心軸が強く、外に向かって強度が減衰するガウシアン分布のモードパターンで出力される。
【００１４】
本発明においては、このガウシアン分布のモードパターンを、図２に示すように２枚の円錐レンズ３、３で構成するモード変換レンズを通過させて、フラットトップ分布のモードパターンにエネルギーを均一分布に変換して、均一分布に変換されたエネルギーをガラス表面に刻印するものである。円錐レンズによるモード変換については特許文献１に記載がある。
【００１５】
本発明は、図３、図４に示す装置を用いて実施することができる。図３はマーキング装置１で、刻印対象のガラス材料４をＸＹ平面移動させるガラス材料移動装置５とその駆動電源６と刻印対象ガラス平面に垂直にレーザビームを照射するレーザ発振管２とその励起電源８とを有し、また、レーザ出力モードをガウシアン分布からフラットトップ分布に変換する２枚の円錐レンズ３、３のモード変換レンズを装着することによって構成されている。
【００１６】
ガラス材料移動装置５の駆動電源６とレーザ発振管２の励起電源８には制御装置７が接続されている。
【００１７】
この制御装置７には、ガラス材料４がガラス材料移動装置５により希望する刻印文字や識別記号のパターンに従ってＸＹ平面上で移動する制御指令が組み込まれており、ガラス材料４がガラス材料移動装置５により指令パターンに従って移動した直後に短時間のパルスレーザが励起し出力するように、ガラス材料移動とパルスレーザ励起を同期させる制御指令が組み込まれている。
【００１８】
すなわち制御装置７からの指令によりガラス材料４が微小移動すると短時間パルスレーザがフラットトップ分布のビームを照射してガラス材料表面に刻印を形成する。これを連続繰り返して希望する文字や識別記号を刻印するものである。
【００１９】
本第一実施例では刻印対象のガラス材料４は小型軽量のものが適しており、ガラス材料移動装置５は、電磁式または圧電式またはモータ式アクチュエータを使用したものがよい。
【００２０】
また、本発明は図４に示す装置を用いて行うことができる。
【００２１】
図４は本発明に使用されるマーキング装置１で、レーザ発振管２の発振方向の先端に、レーザ出力モードをガウシアン分布からフラットトップ分布のビームに変換する２枚の円錐レンズ３、３のモード変換レンズを介して、刻印対象のガラス材料４のＸＹ表面に文字や識別記号を刻印するレーザビームを任意の刻印形状に走査照射するＸＹ高速２軸反射ミラー走査装置９、９が設置され、その駆動電源１０が接続されている。
【００２２】
そしてＸＹ高速２軸反射ミラー走査装置９、９の駆動電源１０とレーザ発振管２の励起電源８には制御装置７が接続されて操作装置９、９の駆動とレーザ発振管２の出力が同期するように構成されている。
【００２３】
レーザビームの制御機構についてさらに詳しく述べれば、ＸＹ高速２軸反射ミラー走査装置９、９は高速モータ等のアクチュエータで反射角度が変えられる独立した２枚の反射ミラーで構成され、接続した駆動電源１０により２枚の反射ミラーを独立して駆動して反射角度を変えて、刻印対象のガラス材料の表面に文字や識別記号を刻印するレーザビームを任意の刻印形状に反射走査照射するものである。
【００２４】
制御装置７はＸＹ高速２軸反射ミラー走査装置９、９の駆動電源１０により２枚の反射ミラーの反射角度を変化させた直後に短時間のパルスレーザが励起出力するように、反射ミラーの角度変化とガラス材料移動とパルスレーザ励起とを同期させる制御指令が組み込まれている。
【００２５】
すなわち制御装置７からの指令によりＸＹ高速２軸反射ミラー走査装置９、９の駆動電源１０により２枚の反射ミラーの反射角度が微小変化すると、短時間パルスレーザがフラットトップ分布で点照射してガラス材料表面を点状にエッチングをして、この連続により希望する文字や識別記号を刻印するものである。
【００２６】
この方法はレーザビームを反射ミラーの反射角度を微小変化させてビーム照射位置を移動させるので、刻印対象のガラス材料４を移動する必要がない。
【００２７】
【実施例】
炭酸ガスを管内に封止した構造のレーザ発振管で励起放電をさせてレーザを出力しガラス材料に照射実験を行った。
【００２８】
炭酸ガスレーザの透過に適したＺｎＳｅ材料で円錐部角度１７８度の円錐レンズを２個製作し対向させてモード変換レンズを構成した。
【００２９】
最大パワー１パルス３０ミリジュールのレーザビームを１００マイクロ秒間、１００ミリメートルの距離からモード変換レンズを通してガラス材料に照射した。照射痕孔径は円形状で直径２００マイクロメートルあり、歪や破片粉や割れは観察されなかった。
【００３０】
【発明の効果】
本発明はレーザビームを軸中心部の強度の強い分布のガウシアン分布のモードパターンを、モード変換レンズを通してエネルギーを均一分布にしたフラットトップ分布のモードパターンに変換してガラス表面に刻印するものであるから、ガラス表面の照射部が均一にエッチングされて歪みの発生がなく、したがってガラスの破損等を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】パルスレーザ出力波形のガウシアン分布のエネルギー強度パターンを示す説明図
【図２】ガウシアン分布を、モード変換レンズを通してフラットトップ分布のエネルギー強度パターンへ変換するフローを示す説明図
【図３】本発明の第一実施例の構成図
【図４】本発明の第二実施例の構成図。
【符号の説明】
１：マーキング装置
２：レーザ発振管
３：円錐レンズ
４：ガラス材料
５：ガラス材料移動装置
６：ガラス材料移動装置の駆動電源
７：制御装置
８：レーザ発振管の励起電源
９：ＸＹ高速２軸反射ミラー走査装置
１０：ＸＹ高速２軸反射ミラー走査装置の駆動電源
【発明の属する技術分野】
本発明はマーキング方法、特にガラス表面の刻印箇所やその近辺に歪や割れ傷を発生させることなく、かつ、構造が簡単で高速で微細な製品一個毎の個別文字や識別記号を刻印するマーキング方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、製品一個ごとの品質管理や品質保証が要請されており、それに対応するため製品一個ごとに異なる個別文字や個別識別記号を刻印する、高速で極く小さい面積に割れや歪みを発生させることのない品質の良いマーキング方法が求められている。これはガラス製品についても要請されており、従来、一定生産量のガラス製品をまとめてロット管理する場合の同一の文字や識別記号を刻印するマーキング方式としてはエアブラスト法や浸食法等がある。またインクジェット法やレーザを照射してマーキングする方法も試みられている。
【０００３】
エアブラスト法は希望の文字や記号の刻印マークを切り抜いた型板をガラス表面に貼り、外部より研磨材等を高速で吹き付けガラス表面に細かい傷を付けて刻印するものである。また浸食法はガラス表面を薬品により腐食浸食させて刻印するものである。
【０００４】
しかしながらエアブラスト法や浸食法では、製品一個づつの個別整理の文字や識別記号の刻印においては刻印が変わる度に型板の変更が必要となり、刻印速度が遅くなり製造ライン速度に対応できないという問題がある。また刻印の小面積化に限界があった。また粉塵や廃液が発生し、最近の無公害要求に応えるものではなかった。
【０００５】
インクジェット法は、ノズルをＸＹ平面上で移動させてノズル移動に同期させてインクを点噴射して、ガラスの表面に顔料を連続点噴射して付着させることによって希望する文字や記号を印刷するものである。しかしながら、インクジェット方式では印字後のガラスの熱処理工程で印字が消えたり、溶剤揮発による濃度の変化により印字濃さに変化が生じて印字品質が劣化したり、ノズルに詰まりが生じて使用不可能となる等、液体インキの粘度管理や顔料の溶剤濃度管理に経験を要し、メンテナンス上で問題があった。
【０００６】
レーザ照射法は刻印場所にレーザ光を照射することによって刻印する方法である。ガラス製品に刻印する場合、分子結合を切断し光分解して被刻印物の材料を気化して蒸発させるアブレーション加工が必要となるが、それにはエネルギー密度の高いレーザ発振装置が必要となる。しかしエネルギー密度の高いレーザ発振装置は高価であり工業的に使用するのに優位性がない。一方、安価な炭酸ガスレーザでは波長が長くエネルギー密度が低いためアブレーション加工が不可能であった。
【０００７】
従って、炭酸ガスレーザを用いて刻印する場合は、レーザを刻印部に照射して、レーザのエネルギーによって照射部を溶融せしめて蒸発させるヒートモード加工を使用することになる。しかし、ガラスは局所的に加熱されると歪みが発生し、照射点周囲近辺の歪みが割れに発展し破損する問題があった。
【０００８】
特に、レーザ出力のエネルギー強度分布は中心軸が強く、外に向かって減衰するガウシアン分布のモードパターンになっているため、ガラス表面に照射時には照射中心部が深くＶ字形に刻印されて、照射中心部から周囲に熱応力がかかり歪や割れの原因になっていた。
【特許文献１】特許第２５２０９５３号
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
本発明はこれらの問題点を解決し、ガラスに歪みや割れを発生することなく粉塵や廃液も無く、また特別の日常メンテナンスを要しないで、ガラス表面上に製品一個ごとに高品質の小さい個別の文字や識別記号を高速で刻印するガラスマーキング方法を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明はかかる目的を達成するために検討した結果なされたもので、レーザ発振管から出力するエネルギー強度分布が、中心軸が強く外に向かって減衰するガウシアン分布のモードパターンのパルスレーザビームを、円錐レンズ２枚で構成されるモード変換レンズを通して、中心軸から外に向かってエネルギー強度分布が均一なフラットトップ分布のモードパターンに変換して照射してガラス表面に刻印を行うことを特徴とするガラスマーキング方法を提供するものである。
【００１１】
また本発明はレーザ発振管から出力したパルスレーザビームをパルスに同期してＸＹ平面上で任意の方向に移動する駆動装置に固定したマーキング対象のガラス材料表面に照射して、文字や識別記号を刻印する上記のガラスマーキング方法、および、レーザ発振管から出力したパルスレーザビームを任意の刻印形状に走査照射するＸＹ高速２軸反射ミラー走査装置でパルスに同期して反射照射して、刻印対象のガラス表面に文字や識別記号を刻印する上記のガラスマーキング方法を提供するものである。
【００１２】
【発明の実施の形態】
近年、レーザから出力された元のビームモードを円錐形のレンズを組み合わせたモード変換レンズを通してさまざまなモードに変換する研究が進んでいる。
【００１３】
本発明は炭酸ガスを発振媒体とするパルスレーザをガラス部品に照射して刻印を行うが、図１のごとく、レーザ発振管２から発振されたレーザ出力分布は中心軸が強く、外に向かって強度が減衰するガウシアン分布のモードパターンで出力される。
【００１４】
本発明においては、このガウシアン分布のモードパターンを、図２に示すように２枚の円錐レンズ３、３で構成するモード変換レンズを通過させて、フラットトップ分布のモードパターンにエネルギーを均一分布に変換して、均一分布に変換されたエネルギーをガラス表面に刻印するものである。円錐レンズによるモード変換については特許文献１に記載がある。
【００１５】
本発明は、図３、図４に示す装置を用いて実施することができる。図３はマーキング装置１で、刻印対象のガラス材料４をＸＹ平面移動させるガラス材料移動装置５とその駆動電源６と刻印対象ガラス平面に垂直にレーザビームを照射するレーザ発振管２とその励起電源８とを有し、また、レーザ出力モードをガウシアン分布からフラットトップ分布に変換する２枚の円錐レンズ３、３のモード変換レンズを装着することによって構成されている。
【００１６】
ガラス材料移動装置５の駆動電源６とレーザ発振管２の励起電源８には制御装置７が接続されている。
【００１７】
この制御装置７には、ガラス材料４がガラス材料移動装置５により希望する刻印文字や識別記号のパターンに従ってＸＹ平面上で移動する制御指令が組み込まれており、ガラス材料４がガラス材料移動装置５により指令パターンに従って移動した直後に短時間のパルスレーザが励起し出力するように、ガラス材料移動とパルスレーザ励起を同期させる制御指令が組み込まれている。
【００１８】
すなわち制御装置７からの指令によりガラス材料４が微小移動すると短時間パルスレーザがフラットトップ分布のビームを照射してガラス材料表面に刻印を形成する。これを連続繰り返して希望する文字や識別記号を刻印するものである。
【００１９】
本第一実施例では刻印対象のガラス材料４は小型軽量のものが適しており、ガラス材料移動装置５は、電磁式または圧電式またはモータ式アクチュエータを使用したものがよい。
【００２０】
また、本発明は図４に示す装置を用いて行うことができる。
【００２１】
図４は本発明に使用されるマーキング装置１で、レーザ発振管２の発振方向の先端に、レーザ出力モードをガウシアン分布からフラットトップ分布のビームに変換する２枚の円錐レンズ３、３のモード変換レンズを介して、刻印対象のガラス材料４のＸＹ表面に文字や識別記号を刻印するレーザビームを任意の刻印形状に走査照射するＸＹ高速２軸反射ミラー走査装置９、９が設置され、その駆動電源１０が接続されている。
【００２２】
そしてＸＹ高速２軸反射ミラー走査装置９、９の駆動電源１０とレーザ発振管２の励起電源８には制御装置７が接続されて操作装置９、９の駆動とレーザ発振管２の出力が同期するように構成されている。
【００２３】
レーザビームの制御機構についてさらに詳しく述べれば、ＸＹ高速２軸反射ミラー走査装置９、９は高速モータ等のアクチュエータで反射角度が変えられる独立した２枚の反射ミラーで構成され、接続した駆動電源１０により２枚の反射ミラーを独立して駆動して反射角度を変えて、刻印対象のガラス材料の表面に文字や識別記号を刻印するレーザビームを任意の刻印形状に反射走査照射するものである。
【００２４】
制御装置７はＸＹ高速２軸反射ミラー走査装置９、９の駆動電源１０により２枚の反射ミラーの反射角度を変化させた直後に短時間のパルスレーザが励起出力するように、反射ミラーの角度変化とガラス材料移動とパルスレーザ励起とを同期させる制御指令が組み込まれている。
【００２５】
すなわち制御装置７からの指令によりＸＹ高速２軸反射ミラー走査装置９、９の駆動電源１０により２枚の反射ミラーの反射角度が微小変化すると、短時間パルスレーザがフラットトップ分布で点照射してガラス材料表面を点状にエッチングをして、この連続により希望する文字や識別記号を刻印するものである。
【００２６】
この方法はレーザビームを反射ミラーの反射角度を微小変化させてビーム照射位置を移動させるので、刻印対象のガラス材料４を移動する必要がない。
【００２７】
【実施例】
炭酸ガスを管内に封止した構造のレーザ発振管で励起放電をさせてレーザを出力しガラス材料に照射実験を行った。
【００２８】
炭酸ガスレーザの透過に適したＺｎＳｅ材料で円錐部角度１７８度の円錐レンズを２個製作し対向させてモード変換レンズを構成した。
【００２９】
最大パワー１パルス３０ミリジュールのレーザビームを１００マイクロ秒間、１００ミリメートルの距離からモード変換レンズを通してガラス材料に照射した。照射痕孔径は円形状で直径２００マイクロメートルあり、歪や破片粉や割れは観察されなかった。
【００３０】
【発明の効果】
本発明はレーザビームを軸中心部の強度の強い分布のガウシアン分布のモードパターンを、モード変換レンズを通してエネルギーを均一分布にしたフラットトップ分布のモードパターンに変換してガラス表面に刻印するものであるから、ガラス表面の照射部が均一にエッチングされて歪みの発生がなく、したがってガラスの破損等を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】パルスレーザ出力波形のガウシアン分布のエネルギー強度パターンを示す説明図
【図２】ガウシアン分布を、モード変換レンズを通してフラットトップ分布のエネルギー強度パターンへ変換するフローを示す説明図
【図３】本発明の第一実施例の構成図
【図４】本発明の第二実施例の構成図。
【符号の説明】
１：マーキング装置
２：レーザ発振管
３：円錐レンズ
４：ガラス材料
５：ガラス材料移動装置
６：ガラス材料移動装置の駆動電源
７：制御装置
８：レーザ発振管の励起電源
９：ＸＹ高速２軸反射ミラー走査装置
１０：ＸＹ高速２軸反射ミラー走査装置の駆動電源
Claims (3)
- レーザ発振管から出力するエネルギー強度分布が、中心軸が強く外に向かって減衰するガウシアン分布のモードパターンのパルスレーザビームを、円錐レンズ２枚で構成されるモード変換レンズを通して、中心軸から外に向かってエネルギー強度分布が均一なフラットトップ分布のモードパターンに変換して照射してガラス表面に刻印を行うことを特徴とするガラスマーキング方法。
- レーザ発振管から出力したパルスレーザビームを、パルスに同期してＸＹ平面上で任意の方向に移動する駆動装置に固定したマーキング対象のガラス材料表面に照射して、文字や識別記号を刻印する請求項１に記載のガラスマーキング方法。
- レーザ発振管から出力したパルスレーザビームを、刻印形状に対応して走査照射するＸＹ高速２軸反射ミラー走査装置でパルスに同期して反射照射して、刻印対象のガラス表面に文字や識別記号を刻印する請求項１〜２いずれかに記載のガラスマーキング方法。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002272970A JP2004107150A (ja) | 2002-09-19 | 2002-09-19 | ガラスマーキング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002272970A JP2004107150A (ja) | 2002-09-19 | 2002-09-19 | ガラスマーキング方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2004107150A true JP2004107150A (ja) | 2004-04-08 |
Family
ID=32269855
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002272970A Pending JP2004107150A (ja) | 2002-09-19 | 2002-09-19 | ガラスマーキング方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2004107150A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013145863A (ja) * | 2011-11-29 | 2013-07-25 | Gigaphoton Inc | ２光束干渉装置および２光束干渉露光システム |
| JP2013211541A (ja) * | 2012-02-28 | 2013-10-10 | Kyocera Corp | 太陽電池素子および太陽電池素子の製造方法 |
| JP2014012897A (ja) * | 2007-02-07 | 2014-01-23 | Imra America Inc | 結晶チタニアのナノ粒子および膜の堆積方法 |
-
2002
- 2002-09-19 JP JP2002272970A patent/JP2004107150A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014012897A (ja) * | 2007-02-07 | 2014-01-23 | Imra America Inc | 結晶チタニアのナノ粒子および膜の堆積方法 |
| JP2013145863A (ja) * | 2011-11-29 | 2013-07-25 | Gigaphoton Inc | ２光束干渉装置および２光束干渉露光システム |
| US9507248B2 (en) | 2011-11-29 | 2016-11-29 | Gigaphoton Inc. | Two-beam interference apparatus and two-beam interference exposure system |
| JP2013211541A (ja) * | 2012-02-28 | 2013-10-10 | Kyocera Corp | 太陽電池素子および太陽電池素子の製造方法 |
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