JP2003016629A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ヘッド摩耗・ヘッド汚れが少なく、かつ、ヘ
ッド当たりが良好な磁気記録媒体を提供すること。 【解決手段】 磁性層に研磨剤を含有した磁気記録媒体
において、下記（１）及び（２）を満足する磁気記録媒
体。 ０．０１≦Ｈ₁₅／Ｈ₁₀≦０．３ （１） ０．６≦Ｓ_TD／Ｓ_MD≦１．２ （２） ただし、Ｈ₁₀；磁性層表面に存在する高さ１０ｎｍ未満
の研磨剤個数（個／μｍ²）、Ｈ₁₅；磁性層表面に存在
する高さ１５ｎｍ以上３０ｎｍ以下の研磨剤個数（個／
μｍ²）、Ｓ_MD；磁気記録媒体の長手方向のスティフネ
ス、Ｓ_TD；磁気記録媒体の幅方向のスティフネス

Description

【発明の詳細な説明】 【０００１】 【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録媒体、特に
高い信頼性を要求される業務用・データ記録用の塗布型
磁気記録媒体に関するものである。 【０００２】 【従来の技術】磁気記録媒体は、録音用テープ、ビデオ
テープ、データ記録用テープ、ディスク等として広く用
いられている。磁気記録媒体は年々高密度化され記録波
長が短くなっており、記録方式もアナログ方式からデジ
タル方式まで検討されている。特に、鉄を主体とした強
磁性金属粉末を、結合剤と共に非磁性支持体上に塗布し
た磁気記録媒体はその優れたコストパフォーマンスで、
現在業務用ビデオ用・データ記録用の媒体の主流になっ
ている。これら業務用ビデオ用・データ記録用の磁気記
録媒体には高い電磁変換特性が要求されると同時に、扱
われる画像やデータが商品になるため、一般コンシュー
マー用途に比べ様々な環境条件での過酷な使用に耐える
走行耐久性が要求されている。走行耐久性にはスチル・
目詰まり・出力低下などがある。 【０００３】ところで、磁気テープと磁気ヘッドが接触
して使用されると、両者は使用するにつれて摩耗する。
特に接触圧力が大きい上に磁気テープの走行速度が大き
い場合、ヘッド摩耗の問題は重大で、摩耗したヘッドの
交換コストもかさむため、一般にヘッド摩耗量は少ない
ことが望まれる。 【０００４】一般にこれら塗布型磁気記録媒体には磁性
層に研磨力のある粒子、いわゆる研磨剤を添加してい
る。これによってヘッドに付着した汚れを除去しながら
テープが走行でき、耐久性が向上する。しかしながら走
行耐久性を向上させるために研磨剤を増量すると、ヘッ
ドに付着した汚れを除去すると同時に磁気ヘッド自身も
摩耗させ、つまりヘッド摩耗量が多くなり、ヘッドの寿
命が短くなってしまう。このように単純な研磨剤量の増
減では走行耐久性とヘッド摩耗量とがトレードオフの関
係になる。これらを両立させ、かつ電磁変換特性も高い
レベルに維持することが課題であり、従来種種の検討が
なされてきた。例えば、下記のようなものがある。 【０００５】１）特開昭６１−５７０３６号公報；磁性
層表面における研磨剤粒子の単位面積あたりの個数を
０．２５個／１００μｍ²に特定することにより、磁気
ヘッドに対する研磨力を改善した磁気記録媒体を開示し
ている。 ２）特開昭６４−８８９１７号公報；研磨剤としてアル
ミナの磁性層表面に於ける単位面積あたりの個数を０．
２５〜０．６０個／１００μｍ²に特定することによ
り、磁気ヘッドに対する研磨力を改善した磁気記録媒体
を開示している。 ３）特開平６−５２５４１号公報：磁性層表面に存在す
る研磨剤の平均突起高さを１５ｎｍ以下にすることによ
りへッド摩耗及びへッド汚れを改善すると記載されてい
る。 ４）特開平９−３５２５１号公報；磁性層表面の０．３
μｍ以上の大きさの研磨剤の存在単位を３．５個／１０
０μｍ²以下とすることで、ヘッド摩耗の少ない磁気記
録媒体が開示されている。 ５）特開平９−１２８７３９号公報；研磨剤に起因する
凸起と研磨剤以外に起因する凸起を特定の範囲とするこ
とでヘッド摩耗の少ない磁気記録媒体が開示されてい
る。 【０００６】しかしながら、上記従来技術では電磁変換
特性、ヘッド摩耗、走行耐久性のバランスがいまだ不充
分であった。本発明者らはこのヘッド摩耗とヘッド目詰
まりという相反する課題達成のために鋭意検討した結
果、磁性層の表面に存在している研磨剤の突出高さと、
磁気記録媒体のスティフネスを特定の範囲とすることに
より、ヘッド摩耗・ヘッド汚れが少なく、かつヘッド当
たりも良好な磁気記録媒体が得られることがわかり、本
発明をなすに至ったものである。 【０００７】 【発明が解決しようとする課題】本発明は、ヘッド摩耗
・ヘッド汚れが少なく、かつ、ヘッド当たりが良好な磁
気記録媒体を提供することを目的とする。特に、テープ
／ヘッド間の相対速度が大きく、単位時間当たりに大面
積のテープを使用するシステム用のテープにおいて、磁
気ヘッドの摩耗が少ないと同時に、ヘッド汚れも少なく
良好で、かつ、ヘッド当たりが良好な磁気記録媒体を提
供することを目的とする。 【課題を解決するための手段】本発明の目的は下記によ
り達成された。すなわち、支持体上に強磁性粉末と結合
剤樹脂を主体とする磁性層が形成され、該磁性層に研磨
剤を含有した磁気記録媒体において、以下の関係式にお
いて（１）かつ（２）を満足することを特徴とする磁気
記録媒体。 ０．０１≦Ｈ₁₅／Ｈ₁₀≦０．３ （１） ０．６≦Ｓ_TD／Ｓ_MD≦１．２ （２） ただし、Ｈ₁₀、Ｈ₁₅、Ｓ_MD、Ｓ_TDは以下を表す。 Ｈ₁₀；磁性層表面に存在する高さ１０ｎｍ未満の研磨剤
個数（個／μｍ²） Ｈ₁₅；磁性層表面に存在する高さ１５ｎｍ以上３０ｎｍ
以下の研磨剤個数（個／μｍ²） Ｓ_MD；磁気記録媒体の長手方向のスティフネス Ｓ_TD；磁気記録媒体の幅方向のスティフネス 【０００８】本発明者らは、磁性層表面に存在している
研磨剤の突出高さとヘッド摩耗及び走行耐久性との関係
について詳細に調べた。その結果、磁性層表面に突出し
ている研磨剤粒子の高さが低いほどヘッド摩耗量が小さ
くなることが分かった。従来、添加する研磨剤はもっぱ
らその平均粒径のみに着目してきたが、本発明者らは研
磨剤の磁性層表面からの突出高さとヘッド摩耗との関係
が強く、研磨剤の高い突起を少なくして、研磨剤の低い
突起を数多く形成することでヘッド摩耗を低減できるこ
とを見出した。すなわち、磁性層表面に存在する研磨剤
のうち、高さ１０ｎｍ未満のものの単位面積当たりの数
をＨ₁₀、高さ１５ｎｍ以上３０ｎｍ以下のものの単位面
積当たりの数をＨ₁₅としたときに、０．０１≦Ｈ₁₅／Ｈ
₁₀≦０．３の範囲ではヘッド摩耗量が少なく、ヘッドの
長寿命化が図れる。より好ましいのは０．０１≦Ｈ₁₅／
Ｈ₁₀≦０．２のときである。Ｈ₁₅／Ｈ₁₀が０．０１より
小さいときは、低い突起が多すぎて磁性層表面の磁性体
の充填密度が低下して電磁変換特性が劣化したり、また
は、高い突起が少なすぎるとヘッドに付着した汚れを除
去する能力が少なく、ヘッド汚れが劣化することが分か
った。Ｈ₁₅／Ｈ₁₀が０．３より大きいときは、高い突起
が多すぎてヘッド摩耗量が多く、ヘッドの長寿命化が図
れない。 【０００９】ただし、磁性層表面の研磨剤突起高さのみ
の制御では、ヘッド摩耗量の低下に伴い、ヘッドのクリ
ーニング能力も低下するため、ヘッド汚れが増加する傾
向にあった。本発明者らは、上記研磨剤突起高さの制御
に加え、磁気記録媒体のスティフネスの作用についても
検討した結果、磁気記録媒体の長手方向のスティフネス
をＳ _MD、幅方向のスティフネスをＳ_TDとしたときに、
０．６≦Ｓ_TD／Ｓ_MD≦１．２、より好ましくは０．７≦
Ｓ_TD／Ｓ_MD≦１．０の範囲では良好なヘッド当たりが得
られるだけでなく、ヘッド摩耗が少なくてもヘッド汚れ
を少なく出来ることを見出した。Ｓ_TD／Ｓ_MDがこの範囲
より大きいときは、ヘッドとテープの接触圧が大きすぎ
るためヘッド摩耗が大きくなり、この範囲より小さいと
きは、ヘッド当たりが劣化するだけでなく、ヘッドとテ
ープの接触が不安定となるため、ヘッドのクリーニング
能力が低下し、ヘッド汚れが増加した。すなわち、磁性
層表面の研磨剤突起高さと磁気記録媒体のスティフネス
を制御することにより、ヘッド摩耗・ヘッド汚れが少な
く、かつ、ヘッド当たりが良好な磁気記録媒体を開発す
ることができた。本発明に対して、Ｈ₁₅／Ｈ₁₀が０．０
１未満でＳ_TD／Ｓ_MDが０．６未満の場合には、ヘッド汚
れ及びヘッド当りが良好に確保されず、Ｈ₁₅／Ｈ₁₀が
０．０１未満でＳ_TD／Ｓ_MDが１．２超の場合には、ヘッ
ド汚れの改善が充分でなく、Ｈ₁₅／Ｈ₁₀が０．３超でＳ
_TD／Ｓ_MDが０．６未満の場合には、ヘッド摩耗が改善さ
れず、かつヘッド当りが良好に確保されず、Ｈ₁₅／Ｈ₁₀
が０．３超でＳ_TD／Ｓ_MDが１．２超の場合には、ヘッド
摩耗が充分に改善されない。 【００１０】本発明において磁性層表面に存在する研磨
剤の突起高さ分布は、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により
求められる。その際、突起が研磨剤起因かどうかの判別
は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）とＥＰＭＡ（Ｅｌｅｃ
ｔｒｏｎ ｐｒｏｂｅ Ｘ−ｒａｙ ｍｉｃｒｏａｎａ
ｌｙｚｅｒ）解析を併用することで可能である。次ぎに
研磨剤の高さ分布を制御するには、例えば以下のような
方法が挙げられる。 １）平均粒径及び粒度分布の制御：具体的には、下記の
ものが挙げられる。 １−１）研磨剤自身の粒度分布の調整：公知の方法によ
って研磨剤の平均粒径と粒度分布は制御できる。粒度分
布についてはその研磨剤の製造方法と関係が強い。例え
ば一般に液中から結晶析出工程を経て製造された研磨剤
は粒度分布が小さく、バルクから粉砕法により生成され
た研磨剤は平均粒径の割に粒度分布が大きい傾向があ
る。 １−２）２種以上の研磨剤の併用：平均粒径・粒度分布
の異なる２種以上の研磨剤を併用すれば、それらの混合
比率によって中心粒径と粒度分布を制御できる。 １−３）研磨剤の分散条件：研磨剤を結合剤と溶剤であ
らかじめ分散してから研磨剤を含まない磁性液に添加
し、混合分散して磁性塗料とする方法、あるいは研磨剤
と結合剤と溶剤をあらかじめ分散しておきこれに別途分
散した研磨剤を含まない磁性液を混合し、必要に応じて
更に分散して磁性塗料とする方法、更に例えば研磨剤の
一部をあらかじめ結合剤と溶剤とともに分散しておき、
これと、その残り研磨剤を、別途結合剤と溶剤とともに
混練処理した強磁性粉末の混練処理液に添加して、分散
処理を行うことが挙げられる。この研磨剤の分散条件の
調節、例えば分散時間を調整したり、強力な分散機を使
用したり、或いはビーズ等の分散メディアの大きさ・比
重を調節することで、磁性層中の研磨剤の平均粒径と粒
径分布を調整できる。 【００１１】２）研磨剤分散バインダ：研磨剤を結合剤
と溶剤であらかじめ分散してから研磨剤を含まない磁性
液に添加し、混合分散して磁性塗料とする方法、あるい
は研磨剤と結合剤と溶剤をあらかじめ分散しておきこれ
に別途分散した研磨剤を含まない磁性液を混合し、必要
に応じて更に分散して磁性塗料とする方法において、研
磨剤を分散する際のバインダと、研磨剤を含まない磁性
液中のバインダの相溶性を高くする或いは低くする。相
溶性が高ければ磁性層が塗布乾燥される際の研磨剤粒子
の移動を抑制でき研磨剤の突出高さを低くでき、逆に相
溶性が低くすれば研磨剤の突出高さを高くできる。 【００１２】３）カレンダ処理：圧力、温度、ロール材
質などを選定する。例えば、高圧力、高温度の下、金属
ロールなどの硬いロールで磁性層表面を成形し高い研磨
剤突起を磁性層中に押し込ませる。 ４）バインダの調整：磁性層のバインダの種類や配合比
を調整してカレンダ前の磁性層のＴｇを小さくすると、
同じ条件でカレンダしても研磨剤突起高さを低く出来
る。また、磁性体に対するバインダの量を分散を損ねな
い程度に適度に少なくすると、カレンダ前の磁性層の空
隙が多くなり、同じ条件でカレンダしても研磨剤突起高
さを低く出来る。 ５）混練条件；磁性塗料の調製の際には、磁性体とバイ
ンダと少量の溶剤で、ニーダーなどの装置を用いて強い
剪断力で混練処理を行うのが一般的である。混練処理に
より磁性体とバインダの吸着力が増し磁性層の充填度が
大きくなりまた磁性層の強度が大きくなる。強く混練す
ると充填度が大きくなるが塗布後の磁性層の空隙が少な
くなりカレンダされにくくなり研磨剤突起高さが高くな
る。 ６）ブレード処理：磁気テープを研磨テープにラッピン
グしたり、ダイヤモンド粉末などの硬い粉末を散りばめ
た回転ロールにラッピングさせて、磁性層を研磨処理
し、研磨剤の突起をトップカットする。具体的に、研磨
テープにラッピングしてブレードする方式（ＬＴＢＬ方
式）や、ダイヤモンド粉末を散りばめた回転ロールにラ
ッピングさせてブレードする方式（ＤＷＢＬ方式）など
が挙げられる。上記１）〜６）の手段は、単独または組
み合わせて用いられるが、後者が有効である。 【００１３】本発明において、Ｈ₁₀は０．３０〜０．６
０個／μｍ²が好ましく、更には０．３５〜０．５５個
／μｍ²が好ましい。ここで、Ｈ₁₀は高さ０ｎｍも包含
する。Ｈ₁₅は０．０３〜０．１０個／μｍ²が好まし
く、更には０．０２〜０．０７個／μｍ²が好ましい。
また、磁性層表面に存在する高さ１０ｎｍ以上１５ｎｍ
未満の研磨剤個数（個／μｍ²）をＨ₁₀〜₁₅とするとＨ
₁₀〜₁₅は０．０６〜０．１２個／μｍ²が好ましく、更
には０．０４〜０．０９個／μｍ²が好ましい。本発明
において、研磨剤の高さとは磁性層表面の平坦領域と研
磨剤の頂点との距離を指し、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ；
デジタルインストルメンツ（株）製ナノスコープ）によ
り求められるものを指す。探針には正四面体で１／２稜
角＝３５゜、曲率半径１００ｎｍ以下のものを用い、測
定試料は１５μｍ×１５μｍ角で、測定結果は３次の補
正を行って傾き等を補正して求める。本発明において、
Ｓ_MDは１．５〜３．５ｍＮが好ましく、更には２．０〜
３．５ｍＮが好ましい。Ｓ_TDは０．４〜２．５ｍＮが好
ましく、更には０．８〜２．０ｍＮが好ましい。研磨剤
の使用量は、強磁性粉末１００質量部に対して５〜２５
質量部が好ましく、１０〜２０質量部が更に好ましい。
また、磁性層中の研磨剤の平均粒径は、０．０１〜２．
０μｍが好ましく、０．０５〜１．０μｍが更に好まし
い。 【００１４】次に、本発明で磁性層に用いられる研磨剤
について詳述する。研磨剤としては無機質非磁性粉末が
使用できる。無機質非磁性粉末としては、金属酸化物、
金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金
属硫化物、等の無機質化合物から選択することができ
る。無機質化合物としては例えばα化率９０〜１００％
のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、炭化ケ
イ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コラン
ダム、窒化珪素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸
化珪素、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化タングステ
ン、酸化ジルコニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、硫酸バ
リウム、二硫化モリブデンなどが単独または組合せで使
用される。特に好ましいのはα−アルミナ、べんがら、
酸化クロムである。炭酸カルシウムは水溶性金属イオン
の供給源となるので好ましくない。 【００１５】本発明において用いられる研磨剤は、磁性
層表面に存在している研磨剤の高さ分布であるＨ₁₅／Ｈ
₁₀が０．０１〜０．３になるように、種類、量、粒径、
形状、それらの組み合わせ等を種々変えて使用すると共
に上記制御手段により制御される。本発明で使用する研
磨剤単体での粒径は、平均粒径０．０１〜２．０μｍの
ものが好ましい。この研磨剤単体での粒子サイズは、実
際の磁性層に存在している研磨剤粒子の粒子サイズと必
ずしも等しくはない。上記したように磁性層に存在する
研磨剤粒子の粒子サイズは研磨剤の分散条件等によって
調整することができるからである。 【００１６】研磨剤粉末のタップ密度は０．３〜２．０
ｋｇ／ｌ（０．３〜２．０ｇ／ｍｌ）、含水率は０．１
〜５．０重量％、ｐＨは２〜１１、比表面積は０．１〜
３．０×１０⁴ｍ²／ｋｇ（１〜３０ｍ²／ｇ）が好まし
い。これらの研磨剤の表面に、Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、Ｔ
ｉＯ₂、ＺｒＯ₂、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＺｎＯで表面処
理することもできる。特にＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、Ｔｉ
Ｏ₂、ＺｒＯ₂を用いると分散性が良好である。これらは
組み合わせて使用しても良いし、単独で用いることもで
きる。また、目的に応じて共沈させた表面処理層を用い
ても良いし、先ずアルミナで処理した後にその表層をシ
リカで処理する方法、またはその逆の方法を採ることも
できる。また、表面処理層は目的に応じて多孔質層にし
ても構わないが、均質で密である方が一般には好まし
い。 【００１７】本発明の磁性層に用いられる研磨剤の粉末
の具体的な例としては、昭和電工製ナノタイト、住友化
学製ＨＩＴ１００、ＨＩＴ８２、ＨＩＴ８０、ＨＩＴ７
０、ＨＩＴ６０Ａ、ＨＩＴ５５、ＡＫＰ２０、ＡＫＰ３
０、ＡＫＰ５０、ＺＡ−Ｇ１、レイノルズ製ＥＲＣ−Ｄ
ＢＭ、ＨＰ−ＤＢＭ、ＨＰＦ−ＤＢＭ、ＨＰＦＸ−ＤＢ
Ｍ、ＨＰＳ−ＤＢＭ、ＨＰＳＸ−ＤＢＭ、不二見研摩材
製ＷＡ８０００、ＷＡ１００００、上村工業製ＵＢ２
０、ＵＢ４０Ｂ、メカノックスＵ４、昭和軽金属製ＵＡ
２０５５、ＵＡ５１５５、ＵＡ５３０５、日本化学工業
製Ｇ−５、Ｇ−７、クロメックスＭ、クロメックスＳ
１、クロメックスＵ２、クロメックスＵ１、クロメック
スＸ１０、クロメックスＫＸ１０、日本電工製ＮＤ８０
３、ＮＤ８０２、ＮＤ８０１、東ソー製Ｆ−１、Ｆ−
２、ＵＦ−５００、戸田工業社製ＤＰＮ−２５０、ＤＰ
Ｎ−２５０ＢＸ、ＤＰＮ−２４５、ＤＰＮ−２７０ＢＸ
ＴＦ−１００、ＴＦ−１２０、ＴＦ−１４０、ＤＰＮ−
５５０ＢＸ、ＴＦ−１８０、昭和鉱業製Ａ−３、Ｂ−
３、セントラルガラス製ベータＳｉＣ、ＵＦ、イビデン
製ベータランダムスタンダード、ベータランダムウルト
ラファイン、帝国化工製ＪＲ４０１、ＭＴ５００Ｂ、石
原産業製ＴＹ−５０、ＴＴＯ−５１Ｂ、ＴＴＯ−５５
Ａ、ＴＴＯ−５５Ｂ、ＴＴＯ−５５Ｃ、ＴＴＯ−５５
Ｓ、ＴＴＯ−５５Ｄ、ＳＮ−１００、Ｅ２７０，Ｅ２７
１、チタン工業製ＳＴＴ−４Ｄ、ＳＴＴ−３０Ｄ、ＳＴ
Ｔ−３０、ＳＴＴ−６５Ｃ、Ｙ−ＬＯＰ、テイカ製ＭＴ
−１００Ｓ、ＭＴ−１００Ｔ、ＭＴ−１５０Ｗ、ＭＴ−
５００Ｂ、ＭＴ−６００Ｂ、ＭＴ−１００Ｆ、ＭＴ−５
００ＨＤ、堺化学製ＦＩＮＥＸ−２５、ＢＦ−１、ＢＦ
−１０、ＢＦ−２０、ＳＴ−Ｍ、北開化学製ＨＺｎ、Ｈ
Ｚｒ３Ｍ、同和鉱業製ＤＥＦＩＣ−Ｙ、ＤＥＦＩＣ−
Ｒ、日本アエロジル製ＡＳ２ＢＭ、ＴｉＯ₂ Ｐ２５、宇
部興産製１００Ａ、５００Ａ及びそれらを焼成したもの
が挙げられる。 【００１８】本発明において、Ｓ_MD及びＳ_TDは、市販の
スティフネステスターを使用して測定される値である。
例えば、東洋精機社製ループスティフネステスターを使
用し、製造した磁気記録媒体を幅８ｍｍ、長さ５０ｍｍ
の試料を、Ｓ_MDの測定用には試料長さ方向が磁気記録媒
体の塗布方向と同じになるように、Ｓ_TDの測定用には試
料長さ方向が磁気記録媒体の幅方向と同じになるように
切り出してこれを円環として、内径方向に変位速度３．
５ｍｍ／ｓｅｃで変位５ｍｍを与えるに要する力をＮ
（ニュートン）で表した値を各Ｓ_MD、Ｓ_TDとする。Ｓ_MD
及びＳ_TDを制御する方法としては、支持体の長さ方向、
幅方向のヤング率の調整、使用する磁性、非磁性粉末の
粒子サイズの調整、結合剤のヤング率の調整、磁性粉末
と結合剤の調合比率の調整等がある。しかし、本発明が
これらに限定されるものではない。例えば、支持体の長
手方向のヤング率は３，５００〜１０，０００ＭＰａが
好ましく、更には４，０００〜９，０００ＭＰａが好ま
しい。支持体の幅方向のヤング率は３，５００〜１２，
０００ＭＰａが好ましく、更には４，０００〜１１，０
００ＭＰａが好ましい。 【００１９】次ぎに本発明使用される強磁性粉末につい
て述べる。本発明における強磁性粉末の素材は特に制限
はなく、酸化鉄、強磁性金属粉末、六方晶系フェライト
粉末等が用いられるが、中でも鉄を主体とする強磁性金
属粉末が好ましい。また、強磁性粉末の形状には特に制
限はなく、針状・紡錘状・球状・球状の連鎖状・サイコ
ロ状・板状などのいずれもが使用できる。このうち針状
及び紡錘状が好ましい。針状及び紡錘状の場合は平均長
軸長が０．０３〜０．３μｍであり、好ましくは０．０
５〜０．２μｍである。平均長軸長がこの範囲より大き
いと磁性体同士がからまりあい易くなり、磁性層中での
磁性体の充填率が低下して電磁変換特性が低下するとも
に、塗膜中で塗布面内から垂直方向に立ち上がった磁性
体が多くなることでヘッド磨耗量が増加する。逆に平均
長軸長がこの範囲より小さいと磁性粒子が微細に過ぎ
て、耐久性が劣化する。 【００２０】鉄を主体とする強磁性金属粉末は、その生
成過程において粒子内に空孔が形成される。空孔の程度
は比表面積で把握でき、本発明では４〜６×１０⁴ｍ²／
ｋｇ（４０〜６０ｍ²／ｇ）、より好ましくは４．５〜
５．５×１０⁴ｍ²／ｋｇ（４５〜５５ｍ²／ｇ）であ
る。６×１０⁴ｍ²／ｋｇ（６０ｍ²／ｇ）を超えると金
属粉末中の空孔が多くなり、磁気特性が低下して電磁変
換特性が充分でない。また塗料化の際の粘度が大きくな
り塗料化も困難となる。比表面積が上記範囲より小さい
と粒子サイズが大きくなり電磁変換特性が悪化し好まし
くない。このような強磁性金属粉末の製造方法は、特に
制限はなく従来公知の方法が適用できるが、鉄を主体と
する酸化物もしくは含水酸化物を還元性気体中で加熱還
元する方法が性能及び生産性の両面で最も好ましい。 【００２１】これら金属磁性粉末は表面に酸化被膜が形
成されていることが好ましい。これは金属磁性粉末を生
成後にその表面を徐酸化することによって得られる。徐
酸化の方法は、有機溶剤に浸漬したのち乾燥させる方
法、有機溶剤に浸漬したのち酸素含有ガスを送り込んで
表面に酸化膜を形成したのち乾燥させる方法、有機溶剤
を用いず酸素ガスと不活性ガスの分圧を調整して表面に
酸化皮膜を形成する方法など従来公知の方法をいずれも
用いることができる。好ましいのは気相反応で行う方法
であり、均一な酸化被膜ができ耐酸化安定性が向上し好
ましい。 【００２２】強磁性金属粉末は、必要に応じて任意の元
素を添加することができる。例えば、Ａｌ、Ｓｉ、Ｓ、
Ｃａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａ
ｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、
Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｐ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｓ
ｒ、Ｂ、Ｙ、Ｌａ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｇｄなどが挙げられ
る。これらのうちＮｉ及びＣｏの添加量は両者を合わせ
て５０ａｔｍ％以下（対Ｆｅ）が好ましく、より好まし
くは１〜４０ａｔｍ％である。またＮｉ・Ｃｏ以外の添
加元素は１〜３０ａｔｍ％（対Ｆｅ＋Ｎｉ＋Ｃｏ）が好
ましく、より好ましくは５〜２０ａｔｍ％である。強磁
性金属粉末の結晶子サイズは通常１２〜２２ｎｍ程度で
あり、好ましくは１３〜１８ｎｍである。飽和磁化（σ
ｓ）は通常１００〜１８０Ａ・ｍ²／ｋｇ程度であり、
好ましくは１２０〜１６０Ａ・ｍ²／ｋｇである。Ｈｃ
は使用されるシステムに応じて設定でき、１１０〜２２
２ｋＡ／ｍ程度が使用できる。ｐＨは用いる結合剤との
組み合わせにより最適化するのが好ましい。その範囲は
４〜１２であるが、好ましくは７〜１１である。強磁性
金属粉末には０．１〜２．０重量％の水分が含有されて
いることが好ましい。水または水蒸気を含んだ気体と強
磁性金属粉末を接触させることで、水分を含んだ強磁性
金属粉末が得られる。 【００２３】強磁性金属粉末にはあとで述べる分散剤、
潤滑剤、界面活性剤、帯電防止剤などで分散前にあらか
じめ処理を行ってもかまわない。具体的には、特公昭４
４−１４０９０号、特公昭４５−１８３７２号、特公昭
４７−２２０６２号、特公昭４７−２２５１３号、特公
昭４６−２８４６６号、特公昭４６−３８７５５号、特
公昭４７−４２８６号、特公昭４７−１２４２２号、特
公昭４７−１７２８４号、特公昭４７−１８５０９号、
特公昭４７−１８５７３号、特公昭３９−１０３０７
号、特公昭４８−３９６３９号、米国特許３０２６２１
５号、同３０３１３４１号、同３１００１９４号、同３
２４２００５号、同３３８９０１４号などに記載されて
いる。 【００２４】本発明の結合剤は、従来公知の熱可塑性樹
脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物が使用
される。熱可塑性樹脂としては、ガラス転移温度が−２
０〜９０℃、数平均分子量が１，０００〜２００，００
０、好ましくは１０，０００〜１００，０００、重合度
が約５０〜１，０００程度のものである。このような結
合剤の例としては、塩化ビニル・酢酸ビニル・ビニルア
ルコール・マレイン酸・アクリル酸・アクリル酸エステ
ル・塩化ビニリデン・アクリロニトリル・メタクリル酸
・メタクリル酸エステル・スチレン・ブタジエン・エチ
レン・ビニルブチラール・ビニルアセタール・ビニルエ
ーテル等を構成単位として含む重合体または共重合体、
ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂がある。また、熱硬
化性樹脂または反応型樹脂としてはフェノール樹脂・エ
ポキシ樹脂・ポリウレタン硬化型樹脂・尿素樹脂・メラ
ミン樹脂・アルキド樹脂・アクリル系反応樹脂・ホルム
アルデヒド樹脂・シリコーン樹脂・エポキシ−ポリアミ
ド樹脂・ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマ
ーの混合物・ポリエステルポリオールとポリイソシアネ
ートの混合物・ポリウレタンとポリイソシアネートの混
合物等があげられる。これらの樹脂については朝倉書店
発行の「プラスチックハンドブック」に詳細に記載され
ている。また、公知の電子線硬化型樹脂を使用すること
も可能である。これらの結合剤の例とその製造方法につ
いては特開昭６２−２５６，２１９号に詳細に記載され
ている。 【００２５】以上の樹脂は単独または組合せて使用でき
るが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂・塩化ビニル
酢酸ビニル樹脂・塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコー
ル樹脂・塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合体
の中から選ばれる少なくとも１種とポリウレタン樹脂の
組合せ、またはこれらにポリイソシアネートを組み合わ
せたものがあげられる。ポリウレタン樹脂の構造はポリ
エステルポリウレタン・ポリエーテルポリウレタン・ポ
リエーテルポリエステルポリウレタン・ポリカーボネー
トポリウレタン・ポリエステルポリカーボネートポリウ
レタン・ポリカプロラクトンポリウレタンポリオレフィ
ンポリウレタンなど公知のものが使用できる。ここに示
したすべての結合剤について、より優れた分散性と耐久
性を得るためには必要に応じ、−ＣＯＯＭ、−ＳＯ
₃Ｍ、−ＯＳＯ₃Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ´）₂、−Ｏ−Ｐ＝
Ｏ（ＯＭ´）₂、（以上につきＭは水素原子、またはア
ルカリ金属原子を示す。Ｍ´は、水素原子、アルカリ金
属原子または低級炭化水素基を示す）、−ＯＨ、−ＮＲ
₂、−Ｎ⁺Ｒ₃（Ｒは炭素数１〜１２の炭化水素基を示
す）、エポキシ基、−ＳＨ、−ＣＮ、スルフォベタイ
ン、カルボキシベタイン、ホスホベタイン等、好ましく
は−ＣＯＯＭ、−ＳＯ₃Ｍ、−ＯＳＯ₃Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（Ｏ
Ｍ´）₂から選ばれる少なくとも１種を共重合または付
加反応で好ましくはポリウレタン樹脂及び塩化ビニル系
樹脂の少なくとも一方に導入したものを用いることが好
ましい。このような極性基の量は１０^-8〜１０^-1ｍｏｌ
／ｇであり、好ましくは１０^-6〜１０^-2ｍｏｌ／ｇ、更
に好ましくは、３×１０^-5〜２０×１０^-5ｍｏｌ／ｇで
ある。 【００２６】本発明に用いられるこれらの結合剤の具体
的な例としてはユニオンカーバイト社製ＶＡＧＨ、ＶＹ
ＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ、ＶＲＯＨ、ＶＹ
ＥＳ、ＶＹＮＣ、ＶＭＣＣ、ＸＹＨＬ、ＸＹＳＧ、ＰＫ
ＨＨ、ＰＫＨＪ、ＰＫＨＣ、ＰＫＦＥ、日信化学工業社
製ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５、ＭＰＲ−ＴＡＬ、Ｍ
ＰＲ−ＴＳＮ、ＭＰＲ−ＴＭＦ、ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰＲ
−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学社製１０００Ｗ、Ｄ
Ｘ８０、ＤＸ８１、ＤＸ８２、ＤＸ８３、１００ＦＤ、
日本ゼオン社製ＭＲ−１０４、ＭＲ−１０５、ＭＲ−１
１０、ＭＲ−１００、４００Ｘ−１１０Ａ、日本ポリウ
レタン社製ニッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２３
０４、大日本インキ社製パンデックスＴ−５１０５、Ｔ
−Ｒ３０８０、Ｔ−５２０１、バーノックＤ−４００、
Ｄ−２１０−８０、クリスボン６１０９、７２０９、東
洋紡社製バイロンＵＲ−８３００、ＵＲ−８６００、Ｕ
Ｒ−５５００、ＵＲ−４３００、ＲＶ５３０、ＲＶ２８
０、ＦＢ−８４、大日精化社製ダイフェラミン４０２
０、５０２０、５１００、５３００、９０２０、９０２
２、７０２０、三菱化成社製ＭＸ５００４、三洋化成社
製サンプレンＳＰ−１５０、ＴＩＭ−３００３、ＴＩＭ
−３００５、旭化成社製サランＦ３１０、Ｆ２１０など
があげられる。この中でＭＲ−１０４、ＭＲ−１１０が
特に好ましい。 【００２７】本発明に用いるポリイソシアネートとして
は、トリレンジイソシアネート、４，４´−ジフェニル
メタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，
５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタン
トリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これ
らのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、ま
た、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソ
シアネート等を使用することができる。これらのイソシ
アネート類の市販されている商品名としては、日本ポリ
ウレタン社製コロネートＬ、コロネートＨＬ、コロネー
ト２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、
ミリオネートＭＴＬ、武田薬品社製タケネートＤ−１０
２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、
タケネートＤ−２０２、住友バイエル社製デスモジュー
ルＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ、デスモ
ジュールＨＬ、等がありこれらを単独または二つもしく
はそれ以上の組合せで用いることができる。 【００２８】本発明の磁性層に用いられる結合剤は強磁
性粉末に対し、１０〜３０重量％の範囲、好ましくは１
５〜２５重量％の範囲で用いられる。特に塩化ビニル系
樹脂（塩ビ系樹脂と記す）・ポリウレタン・ポリイソシ
アネートの３種を併用するのが好ましい。これら３種を
併用する場合、塩ビ系樹脂は５〜２０重量％、好ましく
は７〜１５重量％、ポリウレタン樹脂は２〜１５重量
％、好ましくは４〜１０重量％、ポリイソシアネ−トは
２〜２０重量％、好ましくは３〜１０重量％の範囲でこ
れらを組み合わせ、３種の総量が１０〜３０重量％、好
ましくは１５〜２５重量％とする。これにより、塩ビ系
樹脂に強磁性粉末を充分に分散させ、ポリウレタンによ
り磁性層にしなやかさを付与させ、ポリイソシアネート
により磁性層を架橋させて強靱な磁性層にできる。 【００２９】本発明の磁性層には、カーボンブラック等
の粉体を用いることができる。本発明に使用されるカ−
ボンブラックはゴム用ファ−ネス、ゴム用サ−マル、カ
ラ−用ブラック、アセチレンブラック、等を用いること
ができる。比表面積は５〜５００×１０³ｍ²／ｋｇ（５
〜５００ｍ²／ｇ）、ＤＢＰ吸油量は１０〜４００ｍｌ
／１００ｇ、粒子径は５〜３００ｎｍ、ｐＨは２〜１
０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜
１．０ｋｇ／ｌ（０．１〜１．０ｇ／ｍｌ）が好まし
い。本発明に用いられるカ−ボンブラックの具体的な例
としてはキャボット社製ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０
００、１３００、１０００、９００、８００、７００、
ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、旭カ−ボン社製＃８０、＃
６０、＃５５、＃５０、＃３５、三菱化成工業社製＃２
４００Ｂ、＃２３００、＃５、＃９００、＃９５０、＃
９７０、＃１０００、＃３０、＃４０、＃１０Ｂ、コロ
ンビアカ−ボン社製ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶ
ＥＮ １５０、５０、４０、１５などがあげられる。 【００３０】カ−ボンブラックを分散剤などで表面処理
したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部
をグラファイト化したものを使用してもかまわない。ま
た、カ−ボンブラックを磁性塗料に添加する前にあらか
じめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカ−ボン
ブラックは単独、または組合せで使用することができ
る。カ−ボンブラックを使用する場合は強磁性粉末に対
する量の０．１〜３０％で用いることが好ましい。カ−
ボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係数低減、遮光
性付与、膜強度向上などの働きがあり、これらは用いる
カ−ボンブラックにより異なる。従って本発明に使用さ
れるこれらのカ−ボンブラックは所望によりその種類、
量、組合せを変え、粒子サイズ、吸油量、電導度、ｐＨ
などの先に示した諸特性をもとに目的に応じて使い分け
ることはもちろん可能である。本発明の磁性層で使用で
きるカ−ボンブラックは例えば「カ−ボンブラック便
覧」カ−ボンブラック協会編を参考にすることができ
る。 【００３１】本発明に使用される、添加剤としては潤滑
効果、帯電防止効果、分散効果、可塑効果、などをもつ
ものが使用される。二硫化モリブデン、二硫化タングス
テングラファイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコ−
ンオイル、極性基をもつシリコ−ン、脂肪酸変性シリコ
−ン、フッ素含有シリコ−ン、フッ素含有アルコ−ル、
フッ素含有エステル、ポリオレフィン、ポリグリコ−
ル、アルキル燐酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、
アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、ポリ
フェニルエ−テル、フッ素含有アルキル硫酸エステルお
よびそのアルカリ金属塩、炭素数１０〜２４の一塩基性
脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもか
まわない）、および、これらの金属塩（Ｌｉ、Ｎａ、
Ｋ、Ｃｕなど）または、炭素数１２〜２２の一価、二
価、三価、四価、五価、六価アルコ−ル、（不飽和結合
を含んでも、また分岐していてもかまわない）、炭素数
１２〜２２のアルコキシアルコ−ル、炭素数１０〜２４
の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐し
ていてもかまわない）と炭素数２〜１２の一価、二価、
三価、四価、五価、六価アルコ−ルのいずれか一つ（不
飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）
とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エステル
またはトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド重合物
のモノアルキルエ−テルの脂肪酸エステル、炭素数８〜
２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪族アミン、
などが使用できる。これらの具体例としてはラウリン
酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘ
ン酸、ステアリン酸ブチル、オレイン酸、リノ−ル酸、
リノレン酸、エライジン酸、ステアリン酸オクチル、ス
テアリン酸アミル、ステアリン酸イソオクチル、ミリス
チン酸オクチル、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒ
ドロソルビタンモノステアレ−ト、アンヒドロソルビタ
ンジステアレ−ト、アンヒドロソルビタントリステアレ
−ト、オレイルアルコ−ル、ラウリルアルコ−ル、があ
げられる。 【００３２】また、アルキレンオキサイド系、グリセリ
ン系、グリシド−ル系、アルキルフェノ−ルエチレンオ
キサイド付加体、等のノニオン界面活性剤、環状アミ
ン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダン
トイン誘導体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニ
ウム類、等のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スル
フォン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、な
どの酸性基を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、ア
ミノスルホン酸類、アミノアルコ−ルの硫酸または燐酸
エステル類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤
等も使用できる。これらの界面活性剤については、「界
面活性剤便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載
されている。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも
１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応
物、副反応物、分解物、酸化物等の不純分がふくまれて
もかまわない。これらの不純分は３０％以下が好まし
く、さらに好ましくは１０％以下である。本発明で使用
されるこれらの潤滑剤、界面活性剤はその種類、量を必
要に応じ使い分けることができる。例えば、融点の異な
る脂肪酸を用い表面へのにじみ出しを制御する、沸点や
極性の異なるエステル類を用い表面へのにじみ出しを制
御する、界面活性剤量を調節することで塗布の安定性を
向上させるなど考えられ、無論ここに示した例のみに限
られるものではない。また、本発明で用いられる添加剤
の全てまたはその一部は、磁性塗料製造のどの工程で添
加してもかまわない。例えば、混練工程前に強磁性粉末
と混合する場合、強磁性粉末と結合剤と溶剤による混練
工程で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散後
に添加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。
また、目的に応じて磁性層を塗布した後、同時または逐
次塗布で、添加剤の一部または全部を塗布することによ
り目的が達成される場合がある。また、目的によっては
カレンダーした後、またはスリット終了後、磁性層表面
に潤滑剤を塗布することもできる。 【００３３】本発明で使用されるこれら潤滑剤の商品例
としては、日本油脂社製ＮＡＡ−１０２、ＮＡＡ−４１
５、ＮＡＡ−３１２、ＮＡＡ−１６０、ＮＡＡ−１８
０、ＮＡＡ−１７４、ＮＡＡ−１７５、ＮＡＡ−２２
２、ＮＡＡ−３４、ＮＡＡ−３５、ＮＡＡ−１７１、Ｎ
ＡＡ−１２２、ＮＡＡ−１４２、ＮＡＡ−１６０、ＮＡ
Ａ−１７３Ｋ、ヒマシ硬化脂肪酸、ＮＡＡ−４２、ＮＡ
Ａ−４４、カチオンＳＡ、カチオンＭＡ、カチオンＡ
Ｂ、カチオンＢＢ、ナイミ−ンＬ−２０１、ナイミ−ン
Ｌ−２０２、ナイミ−ンＳ−２０２、ノニオンＥ−２０
８、ノニオンＰ−２０８、ノニオンＳ−２０７、ノニオ
ンＫ−２０４、ノニオンＮＳ−２０２、ノニオンＮＳ−
２１０、ノニオンＨＳ−２０６、ノニオンＬ−２、ノニ
オンＳ−２、ノニオンＳ−４、ノニオンＯ−２、ノニオ
ンＬＰ−２０Ｒ、ノニオンＰＰ−４０Ｒ、ノニオンＳＰ
−６０Ｒ、ノニオンＯＰ−８０Ｒ、ノニオンＯＰ−８５
Ｒ、ノニオンＬＴ−２２１、ノニオンＳＴ−２２１、ノ
ニオンＯＴ−２２１、モノグリＭＢ、ノニオンＤＳ−６
０、アノンＢＦ、アノンＬＧ、ブチルステアレ−ト、ブ
チルラウレ−ト、エルカ酸、関東化学社製オレイン酸、
竹本油脂社製ＦＡＬ−２０５、ＦＡＬ−１２３、パイオ
ニンＥ−８１８、新日本理化社製エヌジェルブＬＯ、エ
ヌジョルブＩＰＭ，サンソサイザ−Ｅ４０３０、信越化
学社製ＴＡ−３、ＫＦ−９６、ＫＦ−９６Ｌ、ＫＦ−９
６Ｈ、ＫＦ−４１０、ＫＦ−４２０、ＫＦ−９６５、Ｋ
Ｆ−５４、ＫＦ−５０、ＫＦ−５６、ＫＦ−９０７、Ｋ
Ｆ−８５１、Ｘ−２２−８１９、Ｘ−２２−８２２、Ｋ
Ｆ−９０５、ＫＦ−７００、ＫＦ−３９３、ＫＦ−８５
７、ＫＦ−８６０、ＫＦ−８６５、Ｘ−２２−９８０、
ＫＦ−１０１、ＫＦ−１０２、ＫＦ−１０３、Ｘ−２２
−３７１０、Ｘ−２２−３７１５、ＫＦ−９１０、ＫＦ
−３９３５、ライオンア−マ−社製ア−マイドＰ、ア−
マイドＣ、ア−モスリップＣＰ、ライオン油脂社製デュ
オミンＴＤＯ、日清製油社製ＢＡ−４１Ｇ、三洋化成社
製プロファン２０１２Ｅ、ニュ−ポ−ルＰＥ６１、イオ
ネットＭＳ−４００、イオネットＭＯ−２００、イオネ
ットＤＬ−２００、イオネットＤＳ−３００、イオネッ
トＤＳ−１０００、イオネットＤＯ−２００などが挙げ
られる。 【００３４】更に、添加剤として分子量３００以下の有
機リン化合物を用いると、強磁性粉末と結合剤との結合
力・結合量を更に高めて、分散が良好になりヘッド磨耗
量が低減し、また強磁性粉末に吸着していない結合剤が
より少なくなるので磁気記録媒体の耐久性を飛躍的に高
めることができる。これら有機化合物として、例えば、
特開平１−１８９０２５号記載の化合物、例えばフェニ
ルリン酸Ｃ₆Ｈ₅ＯＰＯ（ＯＨ）₂、リン酸ｎ−ブチルｎ
−Ｃ₄Ｈ₉ＯＰＯ（ＯＨ）₂、亜リン酸ジブチル（Ｃ₄Ｈ₉
Ｏ）₂Ｐ（ＯＨ）、フェニルホスホン酸Ｃ₆Ｈ₅ＰＯ（Ｏ
Ｈ）₂、等をあげることができる。 【００３５】本発明の磁気記録媒体の厚み構成は通常、
支持体が１〜１００μｍ、好ましくは４〜１２μｍ、磁
性層が通常０．１〜５μｍ、好ましくは０．１〜３μ
ｍ、バック層が通常０．１〜２μｍ、好ましくは０．４
〜１μｍである。また、支持体と磁性層の間に、密着性
向上のための接着層（０．０１〜２μｍ・好ましくは
０．０２〜０．５μｍ）や、非磁性粉末と結合剤を主体
とした非磁性層（０．１〜４μｍ・好ましくは０．４〜
２．５μｍ）があってもかまわない。これらの接着層・
非磁性層・バックコ−ト層は公知のものが使用できる。
本発明に用いられる支持体は、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリエチレンナフタレート、芳香族ポリアミド、
脂肪族ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポ
リベンズオキシダゾールなどの公知のフィルムが使用で
きる。特に、ポリエチレンテレフタレート・ポリエチレ
ンナフタレートもしくは芳香族ポリアミド樹脂を用いた
非磁性支持体が好ましい。 【００３６】これらの支持体にはあらかじめコロナ放電
処理、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理、
などを行っても良い。支持体の中心線平均表面粗さは２
〜３０ｎｍ、好ましくは５〜２５ｎｍ、さらに好ましく
は１０〜２０ｎｍである。また、これらの支持体は単に
中心線平均表面粗さが小さいだけではなく、１μｍ以上
の粗大突起がないことが好ましい。また表面の粗さ形状
は必要に応じて支持体に添加されるフィラ−の大きさと
量により自由にコントロ−ルされるものである。これら
のフィラ−としては一例としてはＡｌ、Ｃａ、Ｓｉ、Ｔ
ｉなどの酸化物や炭酸塩で結晶性、非晶質を問わない
他、アクリル系、メラミン系などの有機微粉末があげら
れる。また、走行耐久性との両立を図るためには、バッ
ク層を塗布する面の粗さは磁性層を塗布する面の粗さよ
り粗い事が好ましい。支持体の磁性層塗布面とバック層
塗布面とは、表面粗さが同一であっても違っていてもか
まわない。粗さを変える場合には、デュアル構成の支持
体を用いても良いし、コーテイング層を設ける事によっ
て変えても構わない。本発明に用いられる支持体のＦ−
５値は、テ−プ走行方向・幅方向ともに好ましくは７０
〜３００ＭＰａである。また、支持体のテ−プ走行方向
および幅方向の１００℃、３０分での熱収縮率は好まし
くは３％以下、さらに好ましくは１．５％以下、８０℃
３０分での熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ま
しくは０．５％以下である。破断強度は両方向とも５０
〜１，０００ＭＰａ、弾性率は１〜２０ＧＰａが好まし
い。また、本発明での９００ｎｍでの光透過率は３０％
以下が好ましく、更に好ましくは３％以下である。 【００３７】本発明の目的を達成するためには、従来公
知の製造技術、すなわち磁性塗料を製造し、これを支持
体上に塗布・配向・乾燥し、表面平滑化処理を行って、
所定の幅に裁断乃至ディスク状等に打ち抜くことによっ
て得られる。磁性塗料の調製には、強磁性粉末、結合
剤、カ−ボンブラック、研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、
その他を、通常は溶剤とともに混練分散して磁性塗料と
する。混練。分散の際に用いられる溶剤としては、通常
磁性塗料の調製に使用されているメチルエチルケトン・
トルエン・酢酸ブチル・シクロヘキサノンなどの溶剤を
用いることができる。混練分散の方法は、通常磁性塗料
の調製に利用されている方法であれば特に制限はなく、
各成分の添加順序も適宜設定できる。さらに成分の一部
をあらかじめ予備分散しておいてから添加したり、別に
分散しておき最後に混合することもできる。磁性塗料の
調製には通常の混練機、例えば、２本ロールミル、３本
ロールミル、ボールミル、サンドグラインダー、アトラ
イター、高速インペラー分散機、高速ストーンミル、高
速度衝撃ミル、ディスパー、ニーダー、高速ミキサー、
ホモジナイザー、及び超音波分散機などが使用される。
混練分散に関する技術の詳細は、Ｔ．Ｃ．Ｐａｔｔｏｎ
“Ｐａｉｎｔ Ｆｌｏｗ ａｎｄ ＰｉｇｍｅｎｔＤｉ
ｓｐｅｒｓｉｏｎ”（Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏ
ｎｓ，１９６４）や田中信一著「工業材料」２５巻３７
（１９７７年）などに記載されている。また米国特許第
２５８１４１４号明細書及び同第２８５５５１５号明細
書にも記載がある。本発明においても上記の引用文献に
記載された方法に準じて混練分散を行い、磁性塗料を調
製することができる。 【００３８】このように調製された磁性塗料は、前述の
支持体上に塗布される。その際磁性層の乾燥後の層厚が
好ましくは０．０５〜１０μｍの範囲内、より好ましく
は０．２〜５．０μｍになるように塗布する。ここで多
層構成の場合は複数の磁性塗料を逐次あるいは同時に重
層塗布してもよい。上記磁性塗料を塗布する塗布機とし
ては、エアードクターコート、ブレードコート、ロッド
コート、押出しコート、エアナイフコート、スクイズコ
ート、含浸コート、リバースロールコート、トランスフ
ァーロールコート、グラビヤコード、キスコート、キャ
ストコート、スプレイコート、スピンコート等が利用で
きる。これらについては例えば株式会社「総合技術セン
タ−」発行の「最新コ−テイング技術」（昭和５８年５
月３１日）を参考にできる。塗布された磁性塗料の塗布
層は、磁性塗料の塗布層中に含まれる強磁性粉末を磁場
配向処理を施した後に乾燥される。磁場配向処理は、１
００×１０^-3Ｔ以上のソレノイドと２００×１０^-3Ｔ以
上のコバルト磁石を同極対向で併用することが好まし
く、さらには乾燥後の配向性が最も高くなるように配向
前に予め適度の乾燥工程を設けることが好ましい。支持
体の磁性塗料が塗布されていない面にバック層（バッキ
ング層）が設けられていてもよい。通常バック層は、支
持体の磁性塗料が塗布されていない面に、研磨剤、帯電
防止剤などの粒状成分と結合剤とを有機溶剤に分散した
バック層形成塗料を塗布して設けられた層である。な
お、支持体の磁性塗料およびバック層形成塗料の塗布面
に接着剤層が設けられいてもよい。なおバック層の塗設
は磁性層の塗布乾燥後に行われることが好ましいが、磁
性層の塗布前でも、次に述べる表面平滑化処理の後でも
かまわない。 【００３９】塗布層の形成及び乾燥後、表面平滑化処理
を施す。表面平滑化処理には、たとえばスーパーカレン
ダーロールなどが利用される。表面平滑化処理を行うこ
とにより、乾燥時の溶剤の除去によって生じた空孔が消
滅し磁性層中の強磁性粉末の充填率が向上するので、電
磁変換特性の高い磁気記録媒体を得ることができる。カ
レンダー処理ロールとして各種金属ロール、エポキシ、
ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐熱性
のあるプラスチックロールを使用する。カレンダー処理
条件としては、カレンダーロールを温度を６０〜１５０
℃の範囲、好ましくは７０〜１３０℃の範囲、特に好ま
しくは８０〜１１０℃の範囲である。圧力は１，０００
〜５，０００Ｎ／ｃｍの範囲、好ましくは２，０００〜
４，５００Ｎ／ｃｍの範囲、特に好ましくは２，５００
〜４，０００Ｎ／ｃｍの範囲の条件で作動させることに
よって行われる。カレンダー処理の後、サーモ処理する
こともできる。サーモ処理は４０〜８０℃で６〜１２０
時間行うことができる。この後、スリッターなどの裁断
機で所望の形状に裁断する。さらに裁断後または裁断
前、磁性層表面をサファイア刃等でブレード処理するこ
ともできる。 【００４０】本発明の磁気記録媒体の磁気特性は磁場７
９６ｋＡ／ｍでＶＳＭ（振動試料型磁力計）で測定した
場合、テ−プ走行方向の角形比は０．７０以上であり、
好ましくは０．７５以上であり、さらに好ましくは０．
８０以上である。テ−プ走行方向に直角な二つの方向の
角型比は走行方向の角型比の８０％以下となることが好
ましい。磁性層のＳＦＤは０．７以下であることが好ま
しく、更に好ましくは０．６以下である。 【００４１】本発明の磁気記録媒体の磁性層面と反対面
のＳＵＳ４２０Ｊに対する摩擦係数は好ましくは０．１
〜０．５、さらに好ましくは０．２〜０．３である。表
面固有抵抗は好ましくは１０⁴〜１０¹²オーム／ｓｑ、
磁性層の０．５％伸びでの弾性率は走行方向、幅方向と
も好ましくは１０〜２０ＧＰａ、破断強度は好ましくは
１０〜３００ＭＰａ、磁気記録媒体の弾性率は走行方
向、幅方向とも好ましくは１〜１５ＧＰａ、残留伸びは
好ましくは０．５％以下、１００℃以下のあらゆる温度
での熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは
０．５％以下、もっとも好ましくは０．１％以下で、０
％が理想である。磁性層のガラス転移温度（１１０Ｈｚ
で測定した動的粘弾性測定の損失弾性率の極大点）は５
０℃以上１２０℃以下が好ましい。損失弾性率は１×１
０⁹〜８×１０¹⁰μＮ／ｃｍ²の範囲にあることが好まし
く、損失正接は０．２以下であることが好ましい。損失
正接が大きすぎると粘着故障がでやすい。 【００４２】磁性層中に含まれる残留溶媒は好ましくは
０．１ｇ／ｍ²以下、さらに好ましくは０．０１ｇ／ｍ²
以下である。磁性層が有する空隙率は、好ましくは４０
容量％以下、さらに好ましくは３０容量％以下である。
空隙率は高出力を果たすためには小さい方が好ましい
が、目的によってはある値を確保した方が良い場合があ
る。例えば、繰り返し用途が重視されるデータ記録用磁
気記録媒体では空隙率が大きい方が走行耐久性は好まし
いことが多い。本発明の磁気記録媒体は磁性層を少なく
とも一層有するが、目的に応じてこれを複層構造のもの
としてもよい。また、磁性層と支持体の間に少なくとも
非磁性粉末と結合剤からなる非磁性層を設けてもよい。
そして、各層で各種の物理特性を変えることができる。 【００４３】 【実施例】以下、本発明の具体的な実施例をあげて本発
明を更に詳しく説明するが、本発明はこれらに限定され
るものではない。なお、実施例中の「部」の表示は「重
量部」を示す。 実施例１ （磁性液１の調製）強磁性金属粉末（平均長軸長：０．
１３μｍ、比表面積：４９ｍ²／ｇ、軸比：８、Ｃｏ／
Ｆｅ＝７原子％、Ａｌ／（Ｆｅ＋Ｃｏ）＝１原子％、Ｈ
ｃ＝１３１．３ｋＡ／ｍ）１００部をオープンニーダー
で１０分間粉砕し、次いで カーボンブラック（平均粒径：８０ｎｍ） １部 塩ビ系樹脂（ＭＲ−１１０；日本ゼオン社製） １０部 ポリウレタン（ＵＲ−８３００；東洋紡社製） ６部（固形分） メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１ ６０部 を加えて６０分間混練した。この混練物にオープンニー
ダーを運転しながら、（メチルエチルケトン／シクロヘ
キサノン＝１／１ ２００部）を６時間かけて添加し
た。次いで、研磨剤分散液Ａ（２０部）を加えてサンド
ミルで１２０分間分散した。 【００４４】さらに ポリイソシアネート ４部（固形分 ） （日本ポリウレタン製コロネート３０４１） ステアリン酸 １部 ２−エチルヘキシルステアレート １．５部 ステアリン酸アミド ０．２部 トルエン ５０部 を加えて２０分間攪拌混合した。その後、１μｍの平均
孔径を有するフィルターを用いて濾過し、磁性塗料１を
調製した。 【００４５】 （研磨剤分散液Ａの調製） α−Ａｌ₂Ｏ₃ １００部 （住友化学社製ＨＩＴ−５５；平均粒子径：０．２２μｍ） 塩化ビニル樹脂（日本ゼオン社製、ＭＲ−１１０） １０部 メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５／５混合溶剤 ９０部 上記混合物を酸化ジルコニウム（ＺｒＯ₂）でコーティ
ングしたベッセルに入れて、酸化ジルコニウム製の１．
５ｍｍ径のビーズを用いてサンドグラインダで１時間分
散した。 【００４６】 （バック液１の組成） カーボンブラック（粒径１８ｎｍ） １００部 ニトロセルロース（旭化成社製ＨＩＧ１／２） ６０部 ポリウレタン（日本ポリウレタン社製Ｎ−２３０１） ６０部 ポリイソシアネート ２０部 （日本ポリウレタン社製コロネートＬ） メチルエチルケトン １０００部 トルエン １０００部 【００４７】（実施例１の磁気テープの製造）得られた
磁性液１を乾燥後の厚さが３μｍになるように、厚さ１
０μｍのＰＥＴ支持体の表面にエクストルージョン型塗
布ヘッドを用いて塗布し、磁性塗料が未乾燥の状態で３
００×１０^-3Ｔの磁石で磁場配向を行ない、更にバック
液１を乾燥後の厚さが０．５μｍになるように塗布乾燥
した。その後、金属ロールと耐熱性プラスチックロール
の組み合せによる５段のカレンダー処理を行なった（速
度２００ｍ／ｍｉｎ、線圧３３００Ｎ／ｃｍ、温度８０
℃）。その後、２００ｍ／ｍｉｎで０．０１２７ｍ（１
／２インチ）幅にスリットした。更に、スリット済みの
磁気テープを、研磨テープ（富士写真フイルム（株）製
ＭＳ−２００００）を用いて、送り出しテンション＝４
０ｇ／１／２インチ幅でブレード処理を行って、磁気テ
ープを得た。なお、このとき、支持体の幅方向、長手方
向のヤング率の調整により、Ｓ_TD／Ｓ_MDを０．８付近に
調整した。 【００４８】実施例２ 実施例１の研磨剤分散液の種類を下記の研磨剤分散液Ｂ
に変えて磁気テープを作成した。なお、このとき、支持
体の幅方向、長手方向のヤング率の調整により、Ｓ_TD／
Ｓ_MDを１．０付近に調整した。 【００４９】 （研磨剤分散液Ｂの調製） α−Ａｌ₂Ｏ₃ １００部 （住友化学社製ＨＩＴ−７０；平均粒子径０．１３μｍ） 塩化ビニル樹脂（日本ゼオン社製、ＭＲ−１１０） １０部 メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５／５混合溶剤 ９０部 上記混合物を酸化ジルコニウム（ＺｒＯ₂）でコーティ
ングしたベッセルに入れて、酸化ジルコニウム製の１．
５ｍｍ径のビーズを用いてサンドグラインダで１時間分
散した。 【００５０】実施例３ 実施例２と同様に磁気テープを作成した。なお、このと
き、支持体の幅方向、長手方向のヤング率の調整によ
り、Ｓ_TD／Ｓ_MDを０．８付近に調整した。 【００５１】実施例４ 実施例１と同様に磁気テープを作成した。なお、このと
き、支持体の幅方向、長手方向のヤング率の調整によ
り、Ｓ_TD／Ｓ_MDを０．６５付近に調整した。 【００５２】比較例１ 実施例１と同様に磁気テープを作成した。なお、このと
き、支持体の幅方向、長手方向のヤング率の調整によ
り、Ｓ_TD／Ｓ_MDを０．５付近に調整した。 【００５３】比較例２ 実施例１の研磨剤分散液の種類を下記の研磨剤分散液Ｃ
に変えて磁気テープを作成した。なお、このとき、支持
体の幅方向、長手方向のヤング率の調整により、Ｓ_TD／
Ｓ_MDを０．８付近に調整した。 【００５４】 （研磨剤分散液Ｃの調製） Ｃｒ₂Ｏ₃（日本化学工業製Ｇ−５；平均粒径０．３３μｍ） １００部 塩化ビニル樹脂（日本ゼオン社製、ＭＲ−１１０） １０部 メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５／５混合溶剤 ９０部 上記混合物を酸化ジルコニウム（ＺｒＯ₂）でコーティ
ングしたベッセルに入れて、酸化ジルコニウム製の１．
５ｍｍ径のビーズを用いてサンドグラインダで１時間分
散した。 【００５５】比較例３ 比較例２と同様に磁気テープを作成した。なお、このと
き、支持体の幅方向、長手方向のヤング率の調製によ
り、Ｓ_TD／Ｓ_MDを１．４付近に調製した。 【００５６】比較例４ 実施例２と同様に磁気テープを作成した。ただし、金属
ロールと耐熱プラスチックロールの組み合わせによる５
段のカレンダー処理に代えて、下記のような処理を行っ
た。金属ロールのみによる５段のカレンダー処理 速度２００ｍ／ｍｉｎ、線圧４５００Ｎ／ｃｍ、温度９
５℃ なお、このとき、支持体の幅方向、長手方向のヤング率
の調整により、Ｓ_TD／Ｓ_MDを１．４付近に調整した。 【００５７】比較例５ 比較例４と同様に磁気テープを作成した。なお、このと
き、支持体の幅方向、長手方向のヤング率の調整によ
り、Ｓ_TD／Ｓ_MDを０．５付近に調整した。 【００５８】評価方法 ＜Ｈ₁₅、Ｈ₁₀及びＨ₁₅／Ｈ₁₀＞原子間力顕微鏡（ＡＦ
Ｍ；デジタルインストルメンツ（株）製ナノスコープ）
により求めた。探針には正四面体で１／２稜角＝３５
゜、曲率半径１００ｎｍ以下のものを用いて、コンタク
トモードで、Ｖｅｒ３．２５のソフトウェアで行った。
測定試料は１５μｍ×１５μｍ角で、測定結果は３次の
補正を行って傾き等を補正し、Ｒｏｕｇｈｎｅｓｓ Ａ
ｎａｌｙｓｉｓのピーク数を求めるコマンドで処理して
突起分布を求めた。 ＜Ｓ_MD、Ｓ_TD及びＳ_TD／Ｓ_MD＞ループスティフネステス
ター（東洋精機社製）を使用した。製造した磁気記録媒
体を幅８ｍｍ、長さ５０ｍｍの試料を、Ｓ_MDの測定用に
は試料長さ方向が磁気記録媒体の塗布方向と同じになる
ように、Ｓ_TDの測定用には試料長さ方向が磁気記録媒体
の幅方向と同じになるように切り出してこれを円環とし
て、内径方向に変位速度３．５ｍｍ／ｓｅｃで変位５ｍ
ｍを与えるに要する力をＮ（ニュートン）で表した値を
各Ｓ_MD、Ｓ_TDとし、Ｓ_TD／Ｓ_MDを求めた。 【００５９】＜ヘッド摩耗＞ソニー株式会社製のデジタ
ルベータカムＶＴＲ、ＤＶＷ−Ａ５００型を用いて、１
２４分長のテープを２１℃５０％ＲＨ環境で１巻２パス
を連続２５巻走行させて、各ヘッドの走行前後のヘッド
ハイトを測定して摩耗量を求め、平均値を求めた。 ＜ヘッド汚れ＞上記ヘッド摩耗の測定に際し、２５巻走
行後のヘッド汚れの状態を以下の観点で評価した。 汚れなし：◎、汚れややあり：○、汚れあり：△、汚れ
がヘッドギャップ部にあり：× ＜ヘッド当たり＞ソニー株式会社製のデジタルベータカ
ムＶＴＲ、ＤＶＷ−Ａ５００型を用い、再生したときの
ＲＦエンベロープをオシロスコープで観察し、エンベロ
ープ中央部に対して入口部、出口部の最落ち込み部を読
みとり、以下の観点で評価した。 落ち込みなし：◎、１ｄＢ未満：○、１ｄＢ以上３ｄＢ
未満：△、３ｄＢ以上：× 【００６０】 【表１】 【００６１】結果を表１に示すが、表１より本発明の磁
気記録媒体は、評価した諸特性が何れも優れているが、
比較例では該諸特性の何れかが劣るものであり、本発明
実施例が比較例に比べ優れていることが分かる。 【００６２】 【発明の効果】本発明により、テープ／ヘッド間の相対
速度が大きく、単位時間当たりに大面積のテープを使用
するシステム用テープにおいて、ヘッド摩耗・ヘッド汚
れが少なく、かつ、ヘッド当たりが良好な磁気記録媒体
の提供を可能にした。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 【請求項１】 支持体上に強磁性粉末と結合剤樹脂を主
   体とする磁性層が形成され、該磁性層に研磨剤を含有し
   た磁気記録媒体において、以下の関係式において（１）
   かつ（２）を満足することを特徴とする磁気記録媒体。 ０．０１≦Ｈ₁₅／Ｈ₁₀≦０．３ （１） ０．６≦Ｓ_TD／Ｓ_MD≦１．２ （２） ただし、Ｈ₁₀、Ｈ₁₅、Ｓ_MD、Ｓ_TDは以下を表す。 Ｈ₁₀；磁性層表面に存在する高さ１０ｎｍ未満の研磨剤
   個数（個／μｍ²） Ｈ₁₅；磁性層表面に存在する高さ１５ｎｍ以上３０ｎｍ
   以下の研磨剤個数（個／μｍ²） Ｓ_MD；磁気記録媒体の長手方向のスティフネス Ｓ_TD；磁気記録媒体の幅方向のスティフネス