JP2003317231A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】高密度記録用の塗布型磁気記録媒体であって、
低エラーレート、かつ優れた走行耐久性を有する磁気記
録媒体を提供すること。 【解決手段】非磁性支持体上の少なくとも一方の面に、
非磁性粉末及び結合剤を含む非磁性層と強磁性粉末及び
結合剤を含む磁性層をこの順に有する磁気記録媒体。前
記非磁性支持体は、有機物で被覆された粘土化合物を含
み、前記強磁性粉末は、平均板径５〜４０ｎｍの強磁性
六方晶フェライト粉末又は平均長軸長２０〜１００ｎｍ
の強磁性金属粉末である。

Description

【発明の詳細な説明】 【０００１】 【発明の属する技術分野】本発明は、高Ｃ／Ｎ及び低エ
ラーレートを実現することができる塗布型磁気記録媒体
に関する。 【０００２】 【従来の技術】近年、磁気テープの分野では、パーソナ
ルコンピュータ、ワークステーションなどの普及に伴っ
て、外部記憶媒体としてコンピュータデータを記録する
ための磁気テープ（いわゆるバックアップテープ）の研
究が盛んに行われている。このような用途の磁気テープ
の実用化に際しては、特にコンピュータの小型化、情報
処理能力の増大と相俟って、記録の大容量化、小型化を
達成するために、記録容量の向上が強く要求される。一
方、磁気ディスクの分野においても、情報技術の急速な
発展に伴い、益々高密度化及び大容量化した磁気ディス
クの開発が求められている。 【０００３】これまでの磁気記録媒体では、酸化鉄、Ｃ
ｏ変性酸化鉄、ＣｒＯ₂、強磁性六方晶フェライト粉末
を結合剤中に分散した磁性層を非磁性支持体上に塗設し
たものが広く用いられていた。中でも磁性体粉末として
強磁性金属粉末及び強磁性六方晶フェライト粉末は高密
度記録特性に優れていることが知られている。例えば、
磁気ディスクの場合、高密度記録特性に優れる強磁性金
属粉末を用いた大容量ディスクとし１０ＭＢのＭＦ−２
ＴＤ、２１ＭＢのＭＦ−２ＳＤなどが知られ、また強磁
性六方晶フェライト粉末を用いた大容量ディスクとして
４ＭＢのＭＦ−２ＥＤ、２１ＭＢフロプティカルなどが
知られている。しかしながら、取り扱うデータ容量が急
激に増加している今日において、これらの磁気ディスク
であっても記録容量は充分とは言えなくなり、更なる磁
気ディスクの大容量化が望まれていた。 【０００４】一方、磁気テープの分野では、高密度記録
を可能とするために磁気テープの薄層化技術が進展して
おり、磁性層の厚さが２μｍ以下の磁気テープも数多く
登場している。また、磁気記録媒体の高密度化に伴い、
より高度な塗膜平滑性が要求されてきており、磁性体は
微粒子化する傾向にある。しかし、厚さ２μｍ以下の磁
性層を直接支持体に塗布すると磁性層の表面が磁性層中
の研磨剤やカーボンなどの添加剤や磁性粉の凝集体、非
磁性支持体の影響を受けて面粗れし、電磁変換特性やド
ロップアウトの悪化傾向が見られる。 【０００５】この問題を解決する一つの手段として、同
時重層塗布方式を用いて磁性層の下層に非磁性層を設
け、濃度の高い磁性塗布液を薄く塗布する方法が用いら
れている（特開昭６３−１９１３１５号公報、特開昭６
３−１８７４１８号公報等）。このような同時重層塗布
方式を利用することにより、薄層の磁性層を有する塗布
型の磁気記録媒体においても良好な電磁変換特性が得ら
れるようになった。 【０００６】しかし、薄層磁性層を有する磁気記録媒体
においては、非磁性支持体の状態が、非磁性層、さらに
その上層に位置する磁性層に大きく影響する。そのた
め、表面平滑性に劣る支持体を使用した場合、電磁変換
特性の低下やドロップアウトという問題に加え、走行耐
久性の低下という問題も生じる。更に、例えばデジタル
ＶＲＣシステムやＤＤＳ−４システム等、実際に使用さ
れる磁気記録媒体では、記録時と再生時の温度膨張係数
及び湿度膨張係数の変動が大きいことにより、磁気記録
媒体自体の温湿度膨張係数が変動し、電磁変換特性及び
耐久性が低下するという問題があり、更なる改善が必要
とされていた。 【０００７】支持体の改良については、例えば特開平６
−２３４９０７号公報に、支持体に含まれるフィラーの
サイズを規定することが記載されており、特開平８−１
８７７７４号公報、特開２０００−５７５５８号公報、
特開２０００−３３６１８６号公報には、支持体に含ま
れるフィラーとして粘土化合物を用いることが記載され
ている。しかし、上記公報に記載の技術はいずれも、薄
層磁性層と非磁性層を有する重層構成の塗布型磁気記録
媒体において、電磁変換特性及び耐久性の改善を達成し
得るものではなかった。 【０００８】 【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明は、高
密度記録用の塗布型磁気記録媒体であって、低エラーレ
ート、かつ優れた走行耐久性を有する磁気記録媒体を提
供することを目的とする。 【０００９】 【課題を解決するための手段】本発明者らは、非磁性支
持体の長手方向及び幅方向の温度膨張係数及び湿度膨張
係数について鋭意検討した結果、非磁性支持体に、有機
物で被覆した粘度化合物を含有させることにより、温度
膨張係数及び湿度膨張係数の変動が少なく、電磁変換特
性及び耐久性に優れた磁気記録媒体を得ることができる
ことを見出し、本発明を完成するに至った。 【００１０】即ち、上記本発明の目的は、 （１）非磁性支持体上の少なくとも一方の面に、非磁性
粉末及び結合剤を含む非磁性層と強磁性粉末及び結合剤
を含む磁性層をこの順に有する磁気記録媒体であって、
前記非磁性支持体は、有機物で被覆された粘土化合物を
含み、前記強磁性粉末は、平均板径５〜４０ｎｍの強磁
性六方晶フェライト粉末又は平均長軸長２０〜１００ｎ
ｍの強磁性金属粉末であることを特徴とする磁気記録媒
体によって達成される。 【００１１】本発明の磁気記録媒体の好ましい態様は、
以下の通りである。 （２）前記粘土化合物が、層状珪酸塩化合物である
（１）に記載の磁気記録媒体。 （３）前記層状珪酸塩化合物が、スメクタイト族粘土、
膨潤性マイカ、膨潤性バーミキュライトから選ばれる少
なくとも一種である（２）に記載の磁気記録媒体。 （４）ＭＲ（磁気抵抗）ヘッドを用いて再生するための
（１）〜（３）のいずれかに記載の磁気記録媒体。 【００１２】 【発明の実施の形態】以下、本発明の磁気記録媒体につ
いて更に詳細に説明する。 [非磁性支持体]本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体
に有機物で被覆された粘土化合物を含有することを特徴
とする。本発明に用いられる有機物で被覆された粘土化
合物とは、例えば、層状珪酸塩化合物に有機オニウムイ
オンを作用させて得られる化合物（以下、「有機オニウ
ム処理化合物」ともいう）であることができる。 【００１３】磁気記録媒体においては、非磁性支持体中
で、樹脂成分がフィラーに吸着することにより、運動性
（動きやすさ）が低下し、非磁性支持体、ひいては磁気
記録媒体全体の寸法安定性が向上すると考えられる。こ
こで、非磁性支持体に含まれるフィラーの分散性が高い
ほど、フィラーに吸着した樹脂成分、即ち動きにくいポ
リマーが増えるため、寸法安定性を更に向上させること
ができると考えられる。本発明の磁気記録媒体におい
て、非磁性支持体に含まれる有機オニウム処理化合物
は、処理前の層状珪酸塩化合物が有している層が多層積
層したμｍサイズの凝集構造とは全く異なる構造を有す
る。即ち、層状珪酸塩化合物は、有機オニウムイオンで
処理すると、樹脂との親和性を有する有機オニウムイオ
ンが層間に導入される。これにより、層状珪酸塩化合物
の層間が拡大し、樹脂中で非常に細かく互いに独立した
薄片状で分散することができ、極めて優れた分散性を示
す。本発明では、このように優れた分散性を有する有機
オニウム処理化合物をフィラーとして支持体に含有させ
ることにより、寸法安定性に優れ、記録時と再生時の温
度膨張係数及び湿度膨張係数の変動が小さい非磁性支持
体を得ることができる。本発明において用いられる寸法
安定性に優れた非磁性支持体は、記録時と再生時の温度
膨張係数及び湿度膨張係数の変動が極めて小さいため、
微粒子磁性体を含む薄層磁性層を塗布した場合でも、電
磁変換特性及び耐久性に優れた磁気記録媒体を得ること
ができる。 【００１４】上記の層状珪酸塩化合物は、主として酸化
ケイ素の四面体シートと、主として金属水酸化物の八面
体シートからなり、スメクタイト族粘土、膨潤性マイ
カ、膨潤性バーミキュライト等が挙げられる。前記のス
メクタイト族粘土は、一般式：Ｘ_0.2〜_0.6Ｙ₂〜₃Ｚ₄Ｏ
₁₀(ＯＨ)₂・ｎＨ₂Ｏ（ただし、ＸはＫ、Ｎａ、１／２Ｃ
ａ、及び１／２Ｍｇから成る群より選ばれる１種以上で
あり、ＹはＭｇ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ａ
ｌ、及びＣｒから成る群より選ばれる１種以上であり、
ＺはＳｉ、及びＡｌから成る群より選ばれる１種以上で
ある。尚、Ｈ₂Ｏは層間イオンと結合している水分子を
表すが、ｎは層間イオンおよび相対湿度に応じて著しく
変動する）で表され、天然または合成されたものであ
る。該スメクタイト族粘土の具体例としては、例えば、
モンモリロナイト、バイデライト、ノントロナイト、サ
ポナイト、鉄サポナイト、ヘクトライト、ソーコナイ
ト、スチブンサイト、及びベントナイト等、またはこれ
らの置換体、誘導体、あるいはこれらの混合物が挙げら
れる。 【００１５】また、膨潤性マイカは、一般式：Ｘ_0.5〜
_1.0Ｙ₂〜₃(Ｚ₄Ｏ₁₀)（Ｆ、ＯＨ）₂（ただし、ＸはＬ
ｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃａ、Ｂａ、及びＳｒから成る群
より選ばれる１種以上であり、ＹはＭｇ、Ｆｅ、Ｎｉ、
Ｍｎ、Ａｌ、及びＬｉから成る群より選ばれる１種以上
であり、ＺはＳｉ、Ｇｅ、Ａｌ、Ｆｅ、及びＢから成る
群より選ばれる１種以上である。）で表され、天然また
は合成されたものである。これらは、水、水と任意の割
合で相溶する極性溶媒、及び水と該極性溶媒の混合溶媒
中で膨潤する性質を有する物であり、例えば、Ｌｉ型テ
ニオライト、Ｎａ型テニオライト、Ｌｉ型四ケイ素マイ
カ、及びＮａ型四ケイ素マイカ等、またはこれらの置換
体、誘導体、あるいはこれらの混合物が挙げられる。 【００１６】さらに、膨潤性バーミキュライトには３八
面体型と２八面体型があり、一般式：（Ｍｇ，Ｆｅ，Ａ
ｌ）₂〜₃(Ｓｉ_4-XＡｌ_X)Ｏ₁₀(ＯＨ)₂・（Ｍ⁺，１／２Ｍ
²⁺） _X・ｎＨ₂Ｏ（ただし、ＭはＮａ及びＭｇ等のアルカ
リまたはアルカリ土類金属の交換性陽イオン、Ｘ＝０.
６〜０.９、ｎ＝３.５〜５である）で表される。 【００１７】前記の層状珪酸塩化合物は、単独または２
種以上組み合わせて使用することができる。層状珪酸塩
化合物の結晶構造は、ｃ軸方向に規則正しく積み重なっ
た純粋度が高いものが望ましいが、結晶周期が乱れ、複
数種の結晶構造が混じり合った、いわゆる混合層状鉱物
も使用され得る。 【００１８】本発明に用いられる有機オニウムイオンと
は、アンモニウムイオン、ホスホニウムイオン、スルホ
ニウムイオン、複素芳香族環由来のオニウムイオンに代
表される構造を有するものである。オニウムイオンを存
在させることにより負に帯電した層状珪酸塩化合物の層
間に分子間力の小さい有機構造を導入し、層状珪酸塩化
合物と樹脂との親和性を高めることができる。有機オニ
ウムイオンとしては、ラウリルアミンイオンやミリスチ
ルアミンイオン等のアルキルアミンイオンやジエチルメ
チル（ポリプロピレンオキサイド）アンモニウムイオン
や、ジメチルビス（ポリエチレングリコール）アンモニ
ウムイオン等のアルキル基とグリコール鎖を併有したア
ンモニウムイオン等が挙げられる。 【００１９】本発明において、層状珪酸塩化合物に有機
オニウムイオンを供給するために用いられる化合物とし
ては、例えば、アンモニウムイオン供給源として、テト
ラエチルアンモニウムクロリド、ｎ−ドデシルトリメチ
ルアンモニウムクロリド、ジメチルジステアリルアンモ
ニウムクロリドを用いることができ、ホスホニウムイオ
ン供給源として、エチルトリフェニルホスホニウムクロ
ライド、テトラ−ｎ−ブチルホスホニウムブロマイド、
テトラエチルホスホニウムブロマイドを用いることがで
き、スルホニウムイオン供給源として、トリメチルスル
ホニウムアイオダイド、トリフェニルスルホニウムブロ
マイドを用いることができる。 【００２０】このような有機オニウムイオンで処理され
た層状珪酸塩化合物は、有機オニウムイオンを負の層格
子及び交換可能なカチオンを含有する層状粘土鉱物と反
応させる公知の技術（特公昭６１−５４９２号公報、特
開昭６０−４２４５１号公報等）により製造することが
できる。 【００２１】本発明において、非磁性支持体中に存在す
る有機オニウム処理化合物の分散状態は、以下に述べる
ようなパラメーターで表現され得る。まず、平均層厚
を、薄片状に分散した有機オニウム処理化合物の層厚み
の数平均値であると定義すると、支持体中の有機オニウ
ム処理化合物の平均層厚の上限値は１５０Å以下である
ことが好ましく、１００Å以下であることがより好まし
い。また、有機オニウム処理化合物の平均層厚の下限は
特に限定されないが、１０Å程度である。有機オニウム
処理化合物の平均層厚が上記の範囲内であれば、平滑で
ありながら適度な粗さを有する表面を形成することがで
きる。 【００２２】また、最大層厚を、支持体中に薄片状に分
散した有機オニウム処理化合物の層厚みの最大値である
と定義すると、本発明では、支持体中の有機オニウム処
理化合物の最大層厚の上限値は、１５００Åであること
が好ましく、１２００Åであることがより好ましく、１
０００Åであることが更に好ましい。最大層厚の上限値
が１５００Å以下であれば、平滑でありながら適度な粗
さを有する表面を形成することができる。有機オニウム
処理化合物の最大層厚の下限値は特に制限されない。 【００２３】上記の層厚は、顕微鏡等を用いて撮影され
る像から求めることができる。例えば、Ｘ−Ｙ面上に置
いた支持体を、Ｘ−Ｚ面又はＹ−Ｚ面と平行な面で薄片
を切り出し、その薄片を透過型電子顕微鏡等を用い、約
４〜１０万倍以上の高倍率で観察して求めることができ
る。測定は、上記の方法で得られた透過型電子顕微鏡の
像上において、１００個以上の有機オニウム処理化合物
を含む任意の領域を選択し、画像処理装置等で画像化
し、計算機処理すること等により定量化できる。また、
定規等を用いて計測しても求めることができる。 【００２４】本発明に用いることのできる非磁性支持体
としては、例えば、二軸延伸を行ったポリエチレンナフ
タレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリアミド、
ポリイミド、ポリアミドイミド、芳香族ポリアミド、ポ
リベンズオキシダゾール等の公知のものが使用できる。
好ましくはポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン
ナフタレート、芳香族ポリアミドなどが挙げられる。こ
れらの非磁性支持体は、あらかじめコロナ放電、プラズ
マ処理、易接着処理、熱処理などを行ってもよい。 【００２５】また本発明に用いることのできる非磁性支
持体の磁性層塗布面側の中心面平均粗さ（ＪＩＳＢ０６
６０−１９９８、ＩＳＯ４２８７−１９９７）は、カッ
トオフ値０．２５ｍｍにおいて２〜１０ｎｍ、好ましく
は３〜９ｎｍの範囲であることが好ましく、支持体の両
面の粗さは異なっていてもよい。本発明の磁気記録媒体
における非磁性支持体の好ましい厚みは、３〜８０μｍ
である。 【００２６】本発明において、非磁性支持体を調製する
方法は、前記有機物で被覆された粘土化合物を支持体を
構成する樹脂に添加し、分散する以外、特に限定されな
いが、長手方向、幅方向の力学的強度を調整することが
好ましい。具体的には前記有機物で被覆された粘土化合
物を分散した樹脂をフィルム状に形成（製膜）する際
に、長手方向、幅方向を適度に延伸する方法を用いるこ
とが好ましい。本発明で用いる支持体のヤング率は長手
方向、横方向ともに４４００〜１５０００ＭＰａ、好ま
しくは５５００〜１１０００ＭＰａであることが好まし
く、長手方向、横方向のヤング率はそれぞれ異なってい
ても良い。 【００２７】[磁性層]本発明の磁気記録媒体は、高密度
記録を達成するため、磁性層に含まれる磁性粉末として
平均板径５〜４０ｎｍの強磁性六方晶フェライト粉末又
は平均長軸長２０〜１００ｎｍの強磁性金属粉末を使用
することを特徴とする。 ＜強磁性六方晶フェライト粉末＞強磁性六方晶フェライ
ト粉末は、六角状のマグネトプランバイト構造を有し、
極めて大きな一軸結晶磁気異方性をもつと共に非常に高
い抗磁力（Ｈｃ）を有する。このため、強磁性六方晶フ
ェライト粉末を使用した磁気記録媒体は、化学安定性、
耐蝕性及び耐摩擦性に優れ、かつ、高密度化に伴う磁気
スペースシングの減少が可能となり、薄膜化の実現、高
Ｃ／Ｎ及び分解能を可能とする。強磁性六方晶フェライ
ト粉末の平均板径は５〜４０ｎｍであり、好ましくは１
０〜３８ｎｍであり、より好ましくは１５〜３６ｎｍで
ある。一般にトラック密度を上げ、かつ、磁気抵抗ヘッ
ドで再生する場合には、低ノイズにする必要があると共
に、強磁性六方晶フェライト粉末の平均板径も小さくす
る必要がある。また磁気スペーシングを減少させる観点
からも六方晶フェライトの平均板径はできるだけ小さい
方が好ましい。しかし、強磁性六方晶フェライト粉末の
平均板径が小さすぎると熱揺らぎにより磁化が不安定に
なる。このため、本発明の磁気記録媒体の磁性層に使用
する強磁性六方晶フェライト粉末の平均板径の下限値を
５ｎｍとする。平均板径が５ｎｍ未満では、熱揺らぎに
よる影響が大きく、安定した磁化を得ることが困難とな
る。一方、強磁性六方晶フェライト粉末の平均板径の上
限値は４０ｎｍとする。平均板径が４０ｎｍを超える
と、ノイズの増大によって電磁変換特性が低下し、特に
磁気抵抗ヘッド（ＭＲヘッド）での再生に不適となる。 【００２８】強磁性六方晶フェライト粉末の平均板径
は、透過型電子顕微鏡写真で強磁性六方晶フェライト粉
末を撮影し、その写真から強磁性六方晶フェライト粉末
の板径を直接読みとる方法と、画像解析装置カールツァ
イス社製ＩＢＡＳＳＩで透過型電子顕微鏡写真をトレー
スして読みとる方法とを併用して測定した値の平均値か
ら求めることができる。 【００２９】本発明において、磁性層に含まれる強磁性
六方晶フェライト粉末としてが、例えば、バリウムフェ
ライト、ストロンチウムフェライト、鉛フェライト、カ
ルシウムフェライトの各置換体、Ｃｏ置換体等を用いる
ことができる。より具体的には、マグネトプランバイト
型のバリウムフェライト及びストロンチウムフェライ
ト、スピネルで粒子表面を被覆したマグネトプランバイ
ト型フェライト、さらに一部にスピネル相を含有したマ
グネトプランバイト型のバリウムフェライト及びストロ
ンチウムフェライト等が挙げられる。その他、所定の原
子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ，Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃ
ｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、
Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌ
ａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、
Ｓｒ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎｂなどの原子を含んでもかまわな
い。一般には、Ｃｏ−Ｚｎ、Ｃｏ−Ｔｉ、Ｃｏ−Ｔｉ−
Ｚｒ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｂ−Ｚ
ｎ−Ｃｏ、Ｓｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、Ｎｂ−Ｚｎ等の元素を添
加した物を使用できる。また原料・製法によっては特有
の不純物を含有するものもある。 【００３０】強磁性六方晶フェライト粉末の粒子サイズ
は、上述のように平均板径が、５〜４０ｎｍ、好ましく
は１０〜３８ｎｍ、より好ましくは１５〜３６ｎｍであ
る。また平均板厚は、１〜３０ｎｍであることが好まし
く、より好ましくは２〜２５ｎｍ、更に好ましくは３〜
２０ｎｍである。板状比（板径／板厚）は１〜１５であ
り、さらに１〜７であることが好ましい。板状比が１〜
１５であれば、磁性層で高充填性を保持しながら充分な
配向性が得られ、かつ、粒子間のスタッキングによりノ
イズ増大を抑えることができる。また、上記粒子サイズ
の範囲内におけるＢＥＴ法による比表面積は１０〜２０
０ｍ²／ｇである。この比表面積は、概ね粒子板径と板
厚からの計算値と符号する。強磁性六方晶フェライト粉
末の粒子板径・板厚の分布は、通常狭いほど好ましい。
粒子板径・板厚を数値化することは困難であるが、粒子
ＴＥＭ写真より５００粒子を無作為に測定することで比
較できる。粒子板径・板厚の分布は正規分布ではない場
合が多いが、計算して平均サイズに対する標準偏差で表
すと、σ／平均サイズ＝０．１〜２．０である。粒子サ
イズ分布をシャープにするには、粒子生成反応系をでき
るだけ均一にすると共に、生成した粒子に分布改良処理
を施すことも行われている。例えば、酸溶液中で超微細
粒子を選別的に溶解する方法等も知られている。 【００３１】六方晶フェライト粒子の抗磁力（Ｈｃ）
は、１５９．２〜２３８．８ｋＡ／ｍ（２０００〜３０
００ Ｏｅ）の範囲とすることができるが、好ましくは
１７５．１〜２２２．９ｋＡ／ｍ（２２００〜２８００
Ｏｓ）であり、さらに好ましくは１８３．１〜２１
４．９ｋＡ／ｍ（２３００〜２７００ Ｏｅ）である。
但し、ヘッドの飽和磁化（σｓ）が１．４Ｔを越える場
合には１５９．２ｋＡ／ｍ以下にすることが好ましい。
抗磁力（Ｈｃ）は、粒子サイズ（板径・板厚）、含有元
素の種類と量、元素の置換サイト、粒子生成反応条件等
により制御できる。 【００３２】六方晶フェライト粒子の飽和磁化（σｓ）
は４０〜８０Ａ・ｍ²／ｋｇ（ｅｍｕ／ｇ）であることが
好ましい。飽和磁化（σｓ）は高い方が好ましいが、微
粒子になるほど小さくなる傾向がある。飽和磁化（σ
ｓ）の改良のため、マグネトプランバイトフェライトに
スピネルフェライトを複合することや、含有元素の種類
と添加量の選択等がよく知られている。またＷ型六方晶
フェライトを用いることも可能である。磁性体を分散す
る際に磁性体粒子表面を分散媒、ポリマーに合った物質
で処理することも行われている。表面処理剤としては、
無機化合物及び有機化合物が使用される。主な化合物と
してはＳｉ、Ａｌ、Ｐ等の酸化物又は水酸化物、各種シ
ランカップリング剤、各種チタンカップリング剤が代表
例である。添加量は磁性体の質量に対して０．１〜１０
質量％とすることが適当である。磁性体のｐＨも分散に
重要である。通常４〜１２程度で分散媒、ポリマーによ
り最適値があるが、媒体の化学的安定性、保存性から６
〜１１程度が選択される。磁性体に含まれる水も分散に
影響する。分散媒、ポリマーにより最適値があるが通常
０．０１〜２．０％が選ばれる。 【００３３】強磁性六方晶フェライト粉末の製法として
は、酸化バリウム・酸化鉄・鉄を置換する金属酸化物と
ガラス形成物質として酸化ホウ素等を所望のフェライト
組成になるように混合した後溶融し、急冷して非晶質体
とし、次いで再加熱処理した後、洗浄・粉砕してバリウ
ムフェライト結晶粉体を得ガラス結晶化法；バリウムフ
ェライト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成物
を除去した後１００以上で液相加熱した後洗浄・乾燥・
粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得る水熱反応
法；バリウムフェライト組成金属塩溶液をアルカリで中
和し、副生成物を除去した後乾燥し１１００以下で処理
し、粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得る共沈法
等があるが、本発明は製法を選ばない。強磁性六方晶フ
ェライト粉末は、必要に応じ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐ又はこれ
らの酸化物などで表面処理を施してもかまわない。その
量は強磁性粉末に対し０．１〜１０％とすることが適当
であり、表面処理を施すと脂肪酸などの潤滑剤の吸着が
１００ｍｇ／ｍ²以下になり好ましい。強磁性粉末には
可溶性のＮａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓｒなどの無機イオ
ンを含む場合がある。これらは本質的に無い方が好まし
いが、２００ｐｐｍ以下であれば特に特性に影響を与え
ることは少ない。 【００３４】＜強磁性金属粉末＞また、本発明の磁気記
録媒体の磁性層に使用される強磁性金属粉末は、高密度
磁気記録特性に優れていることが知られている。強磁性
金属粉末を用いることにより、優れた電磁変換特性を有
する磁気記録媒体を得ることができる。本発明の磁気記
録媒体の磁性層に使用される強磁性金属粉末の平均長軸
長は２０〜１００ｎｍであり、３０〜９０ｎｍであるこ
とが好ましく、４０〜８０ｎｍであることがさらに好ま
しい。強磁性金属粉末の平均長軸長が２０ｎｍ未満で
は、熱揺らぎにより磁気特性が低下し、また、平均長軸
長が１００ｎｍを超えると、ノイズが高く、良好なＣ／
Ｎ（Ｓ／Ｎ）を得ることが困難となる。 【００３５】強磁性金属粉末の平均長軸径は、透過型電
子顕微鏡写真で強磁性金属粉末を撮影し、その写真から
強磁性金属粉末の短軸径と長軸径とを直接読みとる方法
と画像解析装置カールツァイス社製ＩＢＡＳＳＩで透過
型電子顕微鏡写真トレースし読みとる方法を併用して測
定した値の平均値から求めることができる。本発明の磁
気記録媒体における磁性層に用いられる強磁性金属粉末
としては、Ｆｅを主成分とするもの（合金も含む）であ
れば、特に限定されないが、α−Ｆｅを主成分とする強
磁性合金粉末が好ましい。これらの強磁性合金粉末には
所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｃａ、Ｔｉ、
Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、
Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐ
ｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、
Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂなどの原子を含んでもかまわな
い。Ａｌ、Ｓｉ、Ｃａ、Ｙ、Ｂａ、Ｌａ、Ｎｄ、Ｃｏ、
Ｎｉ、Ｂの少なくとも１つがα−Ｆｅ以外に含まれるも
のが好ましく、特に、Ｃｏ、Ａｌ、Ｙが含まれるものが
好ましい。さらに具体的には、ＣｏがＦｅに対して１０
〜４０原子％、Ａｌが２〜２０原子％、Ｙが１〜１５原
子％含まれるものが好ましい。 【００３６】上記強磁性金属粉末には後述する分散剤、
潤滑剤、界面活性剤、帯電防止剤などで分散前にあらか
じめ処理を行ってもかまわない。また、強磁性金属粉末
は、少量の水、水酸化物又は酸化物を含むものであって
もよい。強磁性金属粉末の含水率は０．０１〜２％とす
るのが好ましい。結合剤の種類によって強磁性金属粉末
の含水率は最適化するのが好ましい。強磁性金属粉末の
ｐＨは、用いる結合剤との組合せにより最適化すること
が好ましい。その範囲は通常、６〜１２であるが、好ま
しくは７〜１１である。また強磁性粉末には可溶性のＮ
ａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓｒ、ＮＨ₄、ＳＯ₄、Ｃｌ、Ｎ
Ｏ₂、ＮＯ₃などの無機イオンを含む場合がある。これら
は、本質的に無い方が好ましい。各イオンの総和が３０
０ｐｐｍ以下程度であれば、特性には影響しない。ま
た、本発明に用いられる強磁性金属粉末は空孔が少ない
ほうが好ましくその値は２０容量％以下、さらに好まし
くは５容量％以下である。 【００３７】強磁性金属粉末の結晶子サイズは８〜２０
ｎｍであることが好ましく、１０〜１８ｎｍであること
がより好ましく、１２〜１６ｎｍであることがさらに好
ましい。この結晶子サイズは、Ｘ線回折装置（理学電機
製 ＲＩＮＴ２０００シリーズ）を使用し、線源ＣｕＫ
α１、管電圧５０ｋＶ、管電流３００ｍＡの条件で回折
ピークの半値幅からＳｃｈｅｒｒｅｒ法により求めた平
均値である。強磁性金属粉末のＢＥＴ法による比表面積
（Ｓ_BET）は、３０ｍ²／ｇ以上５０ｍ ²／ｇ未満である
ことが好ましく、３８〜４８ｍ²／ｇであることがさら
に好ましい。この範囲であれば良好な表面性と低いノイ
ズの両立が可能となる。強磁性金属粉末のｐＨは、用い
る結合剤との組合せにより最適化することが好ましい。
その範囲は４〜１２であるが、好ましくは７〜１０であ
る。強磁性金属粉末は必要に応じ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐ又は
これらの酸化物などで表面処理を施してもかまわない。
その量は強磁性金属粉末に対し０．１〜１０％とするこ
とが適当であり、表面処理を施すと脂肪酸などの潤滑剤
の吸着が１００ｍｇ／ｍ²以下になり好ましい。 【００３８】また強磁性金属粉末の形状については、先
に示した粒子サイズについての特性を満足すれば針状、
粒状、米粒状又は板状いずれでもかまわないが、特に針
状の強磁性粉末を使用することが好ましい。針状強磁性
金属粉末の場合、針状比は４〜１２であることが好まし
く、さらに好ましくは５〜１２である。強磁性金属粉末
の抗磁力（Ｈｃ）は、好ましくは１５９．２〜２３８．
８ｋＡ／ｍ（２０００〜３０００Ｏｅ）であり、さらに
好ましくは１６７．２〜２３０．８ｋＡ／ｍ（２１００
〜２９００Ｏｅ）である。また、飽和磁束密度は、好ま
しくは１５０〜３００Ｔ・ｍ（１５００〜３０００Ｇ）
であり、さらに好ましくは１６０〜２９０Ｔ・ｍ（１６
００〜２９００Ｇ）である。また飽和磁化（σｓ）は、
好ましくは１４０〜１７０Ａ・ｍ²／ｋｇ（１４０〜１７
０ｅｍｕ／ｇ）であり、さらに好ましくは１４５〜１６
０Ａ・ｍ²／ｋｇ（１４５〜１６０ｅｍｕ／ｇ）である。 【００３９】強磁性金属粉末自体のＳＦＤ（switching
field distribution）は小さい方が好ましく、０．８以
下であることが好ましい。ＳＦＤが０．８以下であれ
ば、電磁変換特性が良好で、出力が高く、また磁化反転
がシャープでピークシフトが小さくなり、高密度デジタ
ル磁気記録に好適である。Ｈｃ分布を小さくするために
は、強磁性金属粉末においてはゲータイトの粒度分布を
良くする、単分散αＦｅ ₂Ｏ₃を使用する、粒子間の焼結
を防止するなどの方法がある。 【００４０】強磁性金属粉末は、公知の製造方法により
得られたものを用いることができ、下記の方法を挙げる
ことができる。焼結防止処理を行った含水酸化鉄、酸化
鉄を水素などの還元性気体で還元してＦｅ又はＦｅ−Ｃ
ｏ粒子などを得る方法；複合有機酸塩（主としてシュウ
酸塩）と水素などの還元性気体で還元する方法；金属カ
ルボニル化合物を熱分解する方法；強磁性金属の水溶液
に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン酸塩あるいはヒド
ラジンなどの還元剤を添加して還元する方法；金属を低
圧の不活性気体中で蒸発させて微粉末を得る方法などで
ある。このようにして得られた強磁性金属粉末には、公
知の徐酸化処理を施すことが好ましい。含水酸化鉄、酸
化鉄を水素などの還元性気体で還元し、酸素含有ガスと
不活性ガスの分圧、温度、時間を制御して表面に酸化皮
膜を形成する方法が、減磁量が少なく好ましい。 【００４１】[非磁性層]本発明の磁気記録媒体は、非磁
性支持体上、上記磁性層の下層に、結合剤及び非磁性粉
末を含む非磁性層を有する。非磁性層に使用できる非磁
性粉体は、無機物質でも有機物質でもよい。また、カー
ボンブラック等も使用できる。無機物質としては、例え
ば金属、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒
化物、金属炭化物、金属硫化物などが挙げられる。 【００４２】具体的には二酸化チタン等のチタン酸化
物、酸化セリウム、酸化スズ、酸化タングステン、Ｚｎ
Ｏ、ＺｒＯ₂、ＳｉＯ₂、Ｃｒ₂Ｏ₃、α化率９０〜１００
％のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、α−
酸化鉄、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、チタンカ
ーバイト、酸化マグネシウム、窒化ホウ素、２硫化モリ
ブデン、酸化銅、ＭｇＣＯ₃、ＣａＣＯ₃、ＢａＣＯ₃、
ＳｒＣＯ₃、ＢａＳＯ₄、炭化珪素、炭化チタンなどが単
独又は２種類以上を組み合わせて使用される。好ましい
ものは、α−酸化鉄、酸化チタンである。 【００４３】非磁性粉体の形状は、針状、球状、多面体
状、板状のいずれでもあってもよい。非磁性粉末の結晶
子サイズ は、４ｎｍ〜１μｍであることが好ましく、
４０〜１００ｎｍであることがさらに好ましい。結晶子
サイズが４ｎｍ〜１μｍの範囲であれば、分散が困難に
なることもなく、また好適な表面粗さを有するため好ま
しい。これら非磁性粉末の平均粒径は、５ｎｍ〜２μｍ
であることが好ましいが、必要に応じて平均粒径の異な
る非磁性粉末を組み合わせたり、単独の非磁性粉末でも
粒径分布を広くしたりして同様の効果をもたせることも
できる。とりわけ好ましい非磁性粉末の平均粒径は、１
０〜２００ｎｍである。５ｎｍ〜２μｍの範囲であれ
ば、分散も良好で、かつ好適な表面粗さを有するため好
ましい。 【００４４】非磁性粉末の比表面積は、１〜１００ｍ²
／ｇであることが好ましく、より好ましくは５〜７０ｍ
²／ｇであり、さらに好ましくは１０〜６５ｍ²／ｇであ
る。比表面積が１〜１００ｍ²／ｇの範囲内にあれば、
好適な表面粗さを有し、かつ、所望の結合剤量で分散で
きるため好ましい。ジブチルフタレート（ＤＢＰ）を用
いた吸油量は、５〜１００ｍｌ／１００ｇであることが
好ましく、より好ましくは１０〜８０ｍｌ／１００ｇ、
さらに好ましくは２０〜６０ｍｌ／１００ｇである。比
重は１〜１２であることが好ましく、より好ましくは３
〜６である。タップ密度は０．０５〜２ｇ／ｍｌである
ことが好ましく、より好ましくは０．２〜１．５ｇ／ｍ
ｌである。タップ密度が０．０５〜２ｇ／ｍｌの範囲で
あれば、飛散する粒子が少なく操作が容易であり、また
装置にも固着しにくくなる傾向がある。非磁性粉末のｐ
Ｈは２〜１１であることが好ましいが、ｐＨは６〜９の
間が特に好ましい。ｐＨが２〜１１の範囲にあれば、高
温、高湿下又は脂肪酸の遊離により摩擦係数が大きくな
ることはない。非磁性粉末の含水率は、０．１〜５質量
％であることが好ましく、より好ましくは０．２〜３質
量％、さらに好ましくは０．３〜１．５質量％である。
含水量が０．１〜５質量％の範囲であれば、分散も良好
で、分散後の塗料粘度も安定するため好ましい。強熱減
量は、２０質量％以下であることが好ましく、強熱減量
が小さいものが好ましい。 【００４５】また、非磁性粉体が無機粉体である場合に
は、モース硬度が４〜１０のものが好ましい。モース硬
度が４〜１０の範囲であれば耐久性を確保することがで
きる。非磁性粉体のステアリン酸吸着量は、１〜２０μ
ｍｏｌ／ｍ²であることが好ましく、さらに好ましくは
２〜１５μｍｏｌ／ｍ²である。非磁性粉体の２５℃で
の水への湿潤熱は、２００〜６００ｅｒｇ／ｃｍ
²（２．０×１０^-5〜６．０×１０^-5Ｊ／ｃｍ²）の範囲
にあることが好ましい。また、この湿潤熱の範囲にある
溶媒を使用することができる。１００〜４００℃での表
面の水分子の量は１〜１０個／１００Åであることが適
当である。水中での等電点のｐＨは、３〜９の間にある
ことが好ましい。これらの非磁性粉末の表面にはＡｌ₂
Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、ＳｎＯ₂、Ｓｂ
₂Ｏ₃、ＺｎＯで表面処理することが好ましい。特に分散
性に好ましいのはＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ
₂であるが、さらに好ましくは、Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、Ｚ
ｒＯ₂である。これらは組み合わせて使用してもよい
し、単独で用いることもできる。また、目的に応じて共
沈させた表面処理層を用いてもよいし、先ずアルミナで
処理した後にその表層をシリカで処理する方法、または
その逆の方法を採ることもできる。また、表面処理層は
目的に応じて多孔質層にしても構わないが、均質で密で
ある方が一般には好ましい。 【００４６】本発明において、非磁性層に用いられる非
磁性粉末の具体的な例としては、例えば、昭和電工製ナ
ノタイト、住友化学製ＨＩＴ−１００、ＺＡ−Ｇ１、戸
田工業社製ＤＰＮ−２５０、ＤＰＮ−２５０ＢＸ、ＤＰ
Ｎ−２４５、ＤＰＮ−２７０ＢＸ、ＤＰＢ−５５０Ｂ
Ｘ、ＤＰＮ−５５０ＲＸ 石原産業製酸化チタンＴＴＯ
−５１Ｂ、ＴＴＯ−５５Ａ、ＴＴＯ−５５Ｂ、ＴＴＯ−
５５Ｃ、ＴＴＯ−５５Ｓ、ＴＴＯ−５５Ｄ、ＳＮ−１０
０、ＭＪ−７、α−酸化鉄Ｅ２７０、Ｅ２７１、Ｅ３０
０、チタン工業製ＳＴＴ−４Ｄ、ＳＴＴ−３０Ｄ、ＳＴ
Ｔ−３０、ＳＴＴ−６５Ｃ、テイカ製ＭＴ−１００Ｓ、
ＭＴ−１００Ｔ、ＭＴ−１５０Ｗ、ＭＴ−５００Ｂ、Ｔ
−６００Ｂ、Ｔ−１００Ｆ、Ｔ−５００ＨＤなどが挙げ
られる。堺化学製ＦＩＮＥＸ−２５、ＢＦ−１、ＢＦ−
１０、ＢＦ−２０、ＳＴ−Ｍ、同和鉱業製ＤＥＦＩＣ−
Ｙ、ＤＥＦＩＣ−Ｒ、日本アエロジル製ＡＳ２ＢＭ、Ｔ
ｉＯ２Ｐ２５、宇部興産製１００Ａ、５００Ａ、チタン
工業製Ｙ−ＬＯＰ及びそれを焼成したものが挙げられ
る。特に好ましい非磁性粉体は二酸化チタンとα−酸化
鉄である。 【００４７】また非磁性層には目的に応じて有機質粉末
を添加することもできる。このような有機質粉末として
は、例えば、アクリルスチレン系樹脂粉末、ベンゾグア
ナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、フタロシアニン
系顔料が挙げられるが、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポ
リエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイ
ミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレン樹脂も使用するこ
とができる。 【００４８】[結合剤]本発明において、磁性層及び非磁
性層に用いられる結合剤としては、従来公知の熱可塑性
樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物を用
いることができる。熱可塑性樹脂としては、例えば、塩
化ビニル、酢酸ビニル、ビニルアルコール、マレイン
酸、アクリル酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデ
ン、アクリロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸エ
ステル、スチレン、ブタジエン、エチレン、ビニルブチ
ラール、ビニルアセタール、ビニルエーテル等を構成単
位として含む重合体又は共重合体、ポリウレタン樹脂、
各種ゴム系樹脂を挙げることができる。 【００４９】また、熱硬化性樹脂又は反応型樹脂として
は、例えば、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレ
タン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹
脂、アクリル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリ
コーン樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル
樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエス
テルポリオールとポリイソシアネートの混合物、ポリウ
レタンとポリイソシアネートの混合物等を挙げることが
できる。熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂及び反応型樹脂に
ついては、いずれも朝倉書店発行の「プラスチックハン
ドブック」に詳細に記載されている。また、電子線硬化
型樹脂を磁性層に使用すると、塗膜強度が向上し耐久性
が改善されるだけでなく、表面が平滑され電磁変換特性
もさらに向上する。 【００５０】以上の樹脂は単独又はこれらを組み合わせ
た態様で使用することができる。中でもポリウレタン樹
脂を使用することが好ましく、さらには水素化ビスフェ
ノールＡ、水素化ビスフェノールＡのポリプロピレンオ
キサイド付加物などの環状構造体と、アルキレンオキサ
イド鎖を有する分子量５００〜５０００のポリオール
と、鎖延長剤として環状構造を有する分子量２００〜５
００のポリオールと、有機ジイソシアネートとを反応さ
せ、かつ親水性極性基を導入したポリウレタン樹脂、又
はコハク酸、アジピン酸、セバシン酸などの脂肪族二塩
基酸と、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオー
ル、２−エチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオー
ル、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール等の
アルキル分岐側鎖を有する環状構造を持たない脂肪族ジ
オールからなるポリエステルポリオールと、鎖延長剤と
して２−エチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオー
ル、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール等の
炭素数が３以上の分岐アルキル側鎖をもつ脂肪族ジオー
ルと、有機ジイソシアネート化合物とを反応させ、かつ
親水性極性基を導入したポリウレタン樹脂、又はダイマ
ージオール等の環状構造体と、長鎖アルキル鎖を有する
ポリオール化合物と、有機ジイソシアネートとを反応さ
せ、かつ親水性極性基を導入したポリウレタン樹脂を使
用することが好ましい。 【００５１】本発明で使用可能なポリイソシアネートと
しては、例えば、トリレンジイソシアネート、４−４'
−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレン
ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフ
チレン−１，５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジ
イソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフ
ェニルメタントリイソシアネート等のイソシアネート
類、また、これらのイソシアネート類とポリアルコール
との生成物、また、イソシアネート類の縮合によって生
成したポリイソシアネート等を挙げることができる。こ
れらのイソシアネート類の市販されている商品名として
は、日本ポリウレタン社製コロネートＬ、コロネートＨ
Ｌ、コロネート２０３０、コロネート２０３１、ミリオ
ネートＭＲミリオネートＭＴＬ、武田薬品社製タケネー
トＤ−１０２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ
−２００、タケネートＤ−２０２、住友バイエル社製デ
スモジュールＬ，デスモジュールＩＬ、デスモジュール
ＮデスモジュールＨＬ等がありこれらを単独又は硬化反
応性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組み合わせ
で各層とも用いることができる。 【００５２】本発明で使用される極性基含有ポリウレタ
ン系樹脂の平均分子量は、５，０００〜１００，０００
であることが好ましく、さらには１０，０００〜５０，
０００であることが好ましい。平均分子量が５，０００
以上であれば、得られる磁性塗膜が脆い等といった物理
的強度の低下もなく、磁気記録媒体の耐久性に影響を与
えることはないため好ましい。また、分子量が１００，
０００以下であれば、溶剤への溶解性が低下することも
ないため、分散性も良好である。また、所定濃度におけ
る塗料粘度も高くなることはないので、作業性が良好で
取り扱いも容易となる。上記ポリウレタン系樹脂に含ま
れる極性基としては、例えば、−ＣＯＯＭ、−ＳＯ
₃Ｍ、−ＯＳＯ₃Ｍ、−Ｐ＝Ｏ(ＯＭ)₂、−Ｏ−Ｐ＝Ｏ(Ｏ
Ｍ)₂（以上につき、Ｍは水素原子又はアルカリ金属塩
基）、−ＯＨ、−ＮＲ₂、−Ｎ⁺Ｒ₃（Ｒは炭化水素
基）、エポキシ基、−ＳＨ、−ＣＮなどが挙げられ、こ
れらの極性基の少なくとも１つ以上を共重合又は付加反
応で導入したものを用いることができる。また、この極
性基含有ポリウレタン系樹脂がＯＨ基を有する場合、分
岐ＯＨ基を有することが硬化性、耐久性の面から好まし
く、１分子当たり２〜４０個の分岐ＯＨ基を有すること
が好ましく、１分子当たり３〜２０個有することがさら
に好ましい。また、このような極性基の量は１０^-1〜１
０^-8モル／ｇであり、好ましくは１０^-2〜１０^-6モル／
ｇである。 【００５３】結合剤の具体例としては、例えば、ユニオ
ンカーバイト社製ＶＡＧＨ、ＶＹＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡ
ＧＦ、ＶＡＧＤ、ＶＲＯＨ、ＶＹＥＳ、ＶＹＮＣ、ＶＭ
ＣＣ、ＸＹＨＬ、ＸＹＳＧ、ＰＫＨＨ、ＰＫＨＪ、ＰＫ
ＨＣ、ＰＫＦＥ、日信化学工業社製ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰ
Ｒ−ＴＡ５、ＭＰＲ−ＴＡＬ、ＭＰＲ−ＴＳＮ、ＭＰＲ
−ＴＭＦ、ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰＲ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡ
Ｏ、電気化学社製１０００Ｗ、ＤＸ８０、ＤＸ８１、Ｄ
Ｘ８２、ＤＸ８３、１００ＦＤ、日本ゼオン社製ＭＲ−
１０４、ＭＲ−１０５、ＭＲ１１０、ＭＲ１００、ＭＲ
５５５、４００Ｘ−１１０Ａ、日本ポリウレタン社製ニ
ッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２３０４、大日本
インキ社製パンデックスＴ−５１０５、Ｔ−Ｒ３０８
０、Ｔ−５２０１、バーノックＤ−４００、Ｄ−２１０
−８０、クリスボン６１０９、７２０９、東洋紡社製バ
イロンＵＲ８２００、ＵＲ８３００、ＵＲ−８７００、
ＲＶ５３０、ＲＶ２８０、大日精化社製ダイフェラミン
４０２０、５０２０、５１００、５３００、９０２０、
９０２２、７０２０、三菱化成社製ＭＸ５００４、三洋
化成社製サンプレンＳＰ−１５０、旭化成社製サランＦ
３１０、Ｆ２１０などを挙げることができる。 【００５４】本発明において、磁性層又は非磁性層に用
いられる結合剤の添加量は、強磁性粉末（強磁性金属粉
末又は強磁性六方晶フェライト粉末）又は非磁性粉末の
質量に対して５〜５０質量％の範囲であることが好まし
く、より好ましくは１０〜３０質量％の範囲である。ポ
リウレタン樹脂合を用いる場合は２〜２０質量％、ポリ
イソシアネートは２〜２０質量％の範囲でこれらを組み
合わせて用いることが好ましいが、例えば、微量の脱塩
素によりヘッド腐食が起こる場合には、ポリウレタンの
み又はポリウレタンとイソシアネートのみを使用するこ
とも可能である。その他の樹脂として塩化ビニル系樹脂
を用いる場合には５〜３０質量％の範囲であることが好
ましい。本発明において、ポリウレタンを用いる場合は
ガラス転移温度が−５０〜１５０℃、好ましくは０〜１
００℃、破断伸びが１００〜２０００％、破断応力は
０．４９〜９８ＭＰａ（０．０５〜１０ｋｇ／ｍ
ｍ²）、降伏点は０．４９〜９８ＭＰａ（０．０５〜１
０ｋｇ／ｍｍ²）であることが好ましい。 【００５５】本発明の磁気記録媒体は、非磁性層及び少
なくとも一層の磁性層とからなる。したがって、結合剤
量、結合剤中に占める塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン
樹脂、ポリイソシアネート、あるいはそれ以外の樹脂
量、磁性層を形成する各樹脂の分子量、極性基量、ある
いは先に述べた樹脂の物理特性などを必要に応じ非磁性
層、各磁性層とで変えることはもちろん可能であり、む
しろ各層で最適化すべきであり、多層磁性層に関する公
知技術を適用できる。例えば、各層で結合剤量を変更す
る場合、磁性層表面の擦傷を減らすためには磁性層の結
合剤量を増量することが有効であり、ヘッドに対するヘ
ッドタッチを良好にするためには、非磁性層の結合剤量
を多くして柔軟性を持たせることができる。 【００５６】[その他添加剤]本発明において、磁性層又
は非磁性層には、必要に応じて添加剤を加えることがで
きる。添加剤としては、研磨剤、潤滑剤、分散剤・分散
助剤、防黴剤、帯電防止剤、酸化防止剤、溶剤、カーボ
ンブラックなどを挙げることができる。これら添加剤と
しては、例えば、二硫化モリブデン、二硫化タングステ
ン、グラファイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコー
ンオイル、極性基を持つシリコーン、脂肪酸変性シリコ
ーン、フッ素含有シリコーン、フッ素含有アルコール、
フッ素含有エステル、ポリオレフィン、ポリグリコー
ル、ポリフェニルエーテル、フェニルホスホン酸等の芳
香族環含有有機ホスホン酸及びそのアルカリ金属塩、オ
クチルホスホン酸等のアルキルホスホン酸及びそのアル
カリ金属塩、リン酸フェニル等の芳香族リン酸エステル
及びそのアルカリ金属塩、リン酸オクチル等のリン酸ア
ルキルエステル及びそのアルカリ金属塩、アルキルスル
ホン酸エステル及びそのアルカリ金属塩、フッ素含有ア
ルキル硫酸エステル及びそのアルカリ金属塩、ラウリン
酸等の炭素数１０〜２４の不飽和結合を含んでも分岐し
ていても良い一塩基性脂肪酸及びこれらの金属塩、又は
ステアリン酸ブチル等の炭素数１０〜２４の不飽和結合
を含んでも分岐していてもよく、一塩基性脂肪酸と炭素
数２〜２２の不飽和結合を含んでも分岐していてもよ
く、１〜６価アルコール、炭素数１２〜２２の不飽和結
合を含んでも分岐していてもよく、またアルコキシアル
コール又はアルキレンオキサイド重合物のモノアルキル
エーテルのいずれか一つとからなるモノ脂肪酸エステ
ル、ジ脂肪酸エステル又は多価脂肪酸エステル、炭素数
２〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪族アミ
ンなどが使用できる。また、上記炭化水素基以外にもニ
トロ基およびＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、ＣＦ₃、ＣＣｌ₃、ＣＢｒ
₃等の含ハロゲン炭化水素等炭化水素基以外の基が置換
したアルキル基、アリール基、アラルキル基を持つもの
でもよい。また、アルキレンオキサイド系、グリセリン
系、グリシドール系、アルキルフエノールエチレンオキ
サイド付加体等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エ
ステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン
誘導体、複素環類、ホスホニウム又はスルホニウム類等
のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルホン酸、硫
酸エステル基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤、ア
ミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫
酸又はリン酸エステル類、アルキルベタイン型等の両性
界面活性剤等も使用できる。これらの界面活性剤につい
ては、「界面活性剤便覧」（産業図書株式会社発行）に
詳細に記載されている。これら添加剤は必ずしも純粋で
はなく主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解
物、酸化物等の不純分が含まれても構わない。これらの
不純分は３０質量％以下が好ましく、さらに好ましくは
１０質量％以下である。 【００５７】これらの添加物の具体例としては、例え
ば、日本油脂社製：ＮＡＡ−１０２、ヒマシ油硬化脂肪
酸、ＮＡＡ−４２、カチオンＳＡ、ナイミーンＬ−２０
１、ノニオンＥ−２０８、アノンＢＦ、アノンＬＧ、竹
本油脂社製：ＦＡＬ−２０５、ＦＡＬ−１２３、新日本
理化社製：エヌジエルブＯＬ、信越化学社製：ＴＡ−
３、ライオンアーマー社製：アーマイドＰ、ライオン社
製：デュオミンＴＤＯ、日清製油社製：ＢＡ−４１Ｇ、
三洋化成社製：プロフアン２０１２Ｅ、ニューポールＰ
Ｅ６１、イオネットＭＳ−４００等が挙げられる。 【００５８】また、本発明において、磁性層及び非磁性
層には、カーボンブラックを混合し表面電気抵抗を下げ
ると共に、所望のマイクロビッカース硬度を得ることが
できる。マイクロビッカース硬度は、通常２５〜６０ｋ
ｇ／ｍｍ²（０．２５〜０．５９ＧＰａ）、好ましくは
ヘッド当りを調整するために、３０〜５０ｋｇ／ｍｍ ²
（０．２９〜０．４９ＧＰａ）であり、薄膜硬度計（日
本電気製ＨＭＡ−４００）を用いて、稜角８０度、先端
半径０．１μｍのダイヤモンド製三角錐針を圧子先端に
用いて測定することができる。磁性層および非磁性層で
使用可能なカーボンブラックとしては、ゴム用ファーネ
ス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブ
ラック等を挙げることができる。比表面積は５〜５００
ｍ²／ｇ、ＤＢＰ吸油量は１０〜４００ｍｌ／１００
ｇ、粒子径は５〜３００ｎｍ、ｐＨは２〜１０、含水率
は０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／ｍｌで
あることが好ましい。 【００５９】本発明において、磁性層及び非磁性層に用
いることができるカーボンブラックの具体的な例として
は、キャボット社製ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２００
０、１３００、１０００、９００、９０５、８００、７
００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、旭カーボン社製＃８
０、＃６０、＃５５、＃５０、＃３５、三菱化成工業社
製＃３０５０Ｂ、＃３１５０Ｂ、＃３２５０Ｂ、＃３７
５０Ｂ、＃３９５０Ｂ、＃２４００Ｂ、＃２３００、＃
１０００、＃９７０Ｂ、＃９５０、＃９００、＃８５０
Ｂ、＃６５０Ｂ、＃３０、＃４０、＃１０Ｂ、ＭＡ−６
００、コロンビアカーボン社製ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ Ｓ
Ｃ、ＲＡＶＥＮ８８００、８０００、７０００、５７５
０、５２５０、３５００、２１００、２０００、１８０
０、１５００、１２５５、１２５０、１５０、５０、４
０、１５、ＲＡＶＥＮ−ＭＴ−Ｐ、アクゾー社製ケッチ
ェンブラックＥＣなどが挙げられる。 【００６０】カーボンブラックを分散剤などで表面処理
したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部
をグラファイト化したものを使用したりしてもかまわな
い。また、カーボンブラックを磁性塗布液又は非磁性塗
布液に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかま
わない。これらのカーボンブラックは単独又は組み合わ
せで使用することができる。カーボンブラックを使用す
る場合、磁性体の質量に対して０．１〜３０質量％で用
いることが好ましい。カーボンブラックは磁性層の帯電
防止、摩擦係数低減、遮光性付与、膜強度向上などの働
きがあり、これらは用いるカーボンブラックにより異な
る。したがって本発明で使用されるこれらのカーボンブ
ラックは、磁性層及び非磁性層でその種類、量、組み合
わせを変え、粒子サイズ、吸油量、電導度、ｐＨなどの
先に示した諸特性を基に目的に応じて使い分けることは
もちろん可能であり、むしろ各層で最適化すべきもので
ある。本発明の磁性層で使用できるカーボンブラック
は、例えば「カーボンブラック便覧」カーボンブラック
協会編、を参考にすることができる。 【００６１】本発明で用いられる有機溶剤は公知のもの
が使用できる。本発明で用いられる有機溶媒は、任意の
比率でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イ
ソホロン、テトラヒドロフラン、等のケトン類、メタノ
ール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソブ
チルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルシク
ロヘキサノールなどのアルコール類、酢酸メチル、酢酸
ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチ
ル、酢酸グリコール等のエステル類、グリコールジメチ
ルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサ
ンなどのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエン、
キシレン、クレゾール、クロルベンゼンなどの芳香族炭
化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロライド、
四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、
ジクロルベンゼン等の塩素化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド、ヘキサン等を使用することができ
る。これら有機溶媒は必ずしも１００％純粋ではなく、
主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸
化物、水分等の不純分が含まれてもかまわない。これら
の不純分は３０％以下が好ましく、さらに好ましくは１
０％以下である。本発明で用いる有機溶媒は磁性層と非
磁性層でその種類は同じであることが好ましい。その添
加量は変えてもかまわない。非磁性層に表面張力の高い
溶媒（シクロヘキサノン、ジオキサンなど）を用い塗布
の安定性を上げる、具体的には上層溶剤組成の算術平均
値が非磁性層溶剤組成の算術平均値を下回らないことが
肝要である。分散性を向上させるためにはある程度極性
が強い方が好ましく、溶剤組成の内、誘電率が１５以上
の溶剤が５０％以上含まれることが好ましい。また、溶
解パラメータは８〜１１であることが好ましい。 【００６２】本発明で使用されるこれらの分散剤、潤滑
剤、界面活性剤は、磁性層と非磁性層とでその種類、量
を必要に応じて使い分けることができる。例えば、無論
ここに示した例のみに限られるものではないが、分散剤
は極性基で吸着又は結合する性質を有しており、磁性層
では主に強磁性粉末の表面に、また非磁性層では主に非
磁性粉末の表面に前記の極性基で吸着又は結合し、一度
吸着した有機リン化合物は、金属又は金属化合物等の表
面から脱着し難いと推察される。したがって、本発明の
強磁性粉末（強磁性金属粉末及び強磁性六方晶フェライ
ト粉末）表面又は非磁性粉末表面は、アルキル基、芳香
族基等で被覆されたような状態になるので、該強磁性粉
末又は非磁性粉末の結合剤樹脂成分に対する親和性が向
上し、さらに強磁性粉末あるいは非磁性粉末の分散安定
性も改善される。また、潤滑剤としては遊離の状態で存
在するため非磁性層、磁性層で融点の異なる脂肪酸を用
い、表面へのにじみ出しを制御する、沸点や極性の異な
るエステル類を用い表面へのにじみ出しを制御する、界
面活性剤量を調節することで塗布の安定性を向上させ
る、潤滑剤の添加量を非磁性層で多くして潤滑効果を向
上させるなどが考えられる。また本発明で用いられる添
加剤のすべて又はその一部は、磁性層又は非磁性層用の
塗布液の製造時のいずれの工程で添加してもよい。例え
ば、混練工程前に強磁性粉末と混合する場合、強磁性粉
末と結合剤と溶剤による混練工程で添加する場合、分散
工程で添加する場合、分散後に添加する場合、塗布直前
に添加する場合などがある。 【００６３】[バックコート層、下塗層]一般に、コンピ
ュータデータ記録用の磁気テープは、ビデオテープ、オ
ーディオテープに比較して繰り返し走行性が強く要求さ
れる。このような高い走行耐久性を維持させるために、
非磁性支持体の非磁性層及び磁性層が設けられた面とは
反対の面にバックコート層を設けることもできる。バッ
クコート層用塗料は、研磨剤、帯電防止剤などの粒子成
分と結合剤とを有機溶媒に分散させる。粒状成分として
各種の無機顔料やカーボンブラックを使用することがで
きる。また、結合剤としては、例えばニトロセルロー
ス、フェノキシ樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン
等の樹脂を単独又はこれらを混合して使用することがで
きる。 【００６４】本発明の非磁性支持体には、磁性塗布液及
びバックコート層塗布液の塗布面に非磁性支持体と磁性
層および／又は非磁性下層、バックコート層との接着力
向上並びに磁性層、バックコート層表面の平滑化のため
下塗層を設けてもよい。下塗り層としては例えば、ポリ
エステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹
脂、ポリウレタン樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニリ
デン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、
メラミン樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹
脂、デンプン、変性デンプン化合物、アルギン酸化合
物、カゼイン、ゼラチン、プルラン、デキストラン、キ
チン、キトサン、ゴムラッテクス、アラビアゴム、フノ
リ、天然ガム、デキストリン、変性セルロース樹脂、ポ
リビニルアルコール系樹脂、ポリエチレンオキサイド、
ポリアクリル酸系樹脂、ポリビニルピロリドン、ポリエ
チレンイミン、ポリビニルエーテル、ポリマレイン酸共
重合体、ポリアクリルアミド、アルキド樹脂などの溶剤
可溶性物質が挙げられる。 【００６５】下塗り層は、厚さが０．０１〜３．０μｍ
であれば特に制限はないが、その厚さは、好ましくは
０．０５〜２．０μｍであり、さらに好ましくは０．１
〜１．５μｍである。上記下塗り層で使用される樹脂の
ガラス転移温度については、３０〜１２０℃であること
が好ましく、４０〜８０℃であることがより好ましい。
０℃以上であれば端面でのブロッキングを生じることも
なく、また、１２０℃以下であれば平滑化層内の内部応
力を緩和することができ、かつ、密着力にも優れてい
る。 【００６６】[層構成]本発明の磁気記録媒体は、非磁性
支持体の少なくとも一方の面に、少なくとも２層の塗
膜、すなわち、非磁性層とこの非磁性層上に磁性層とが
設けられており、前記の磁性層は必要に応じて二層以上
の層としてもよい。また、非磁性支持体の反対側の面に
は、必要に応じてバックコート層が設けられる。また、
本発明の磁気記録媒体は、磁性層上に潤滑剤塗膜や磁性
層保護用の各種塗膜などを必要に応じて設けてもよい。
また、非磁性支持体と非磁性層との間には、塗膜と非磁
性支持体との接着性の向上等を目的として、下塗り層
（易接着層）を設けることもできる。 【００６７】本発明の磁気記録媒体は、非磁性層及び磁
性層とを非磁性支持体の一方の面に有すればよいが、両
面に設けることもできる。非磁性層（下層）と磁性層
（上層）とは、下層を塗布後、下層が湿潤状態のうち
（Ｗ／Ｗ）でも、乾燥した後（Ｗ／Ｄ）にでも上層磁性
層を設けることができる。生産得率の点から同時、又は
逐次湿潤塗布が好ましいが、ディスク状の場合は乾燥後
塗布でも充分使用できる。本発明の重層構成で同時、又
は逐次湿潤塗布（Ｗ／Ｗ）では上層／下層が同時に形成
できるため、カレンダー工程などの表面処理工程を有効
に活用でき、超薄層でも上層磁性層の表面粗さを良化で
きる。 【００６８】本発明の磁気記録媒体の厚み構成は、非磁
性支持体の好ましい厚みが３〜８０μｍである。コンピ
ュータテープの場合、非磁性支持体は、３．５〜７．５
μｍ、好ましくは３〜７μｍの範囲の厚さのものを使用
することができる。また、非磁性支持体と非磁性層又は
磁性層の間に下塗り層を設けた場合、下塗り層の厚み
は、０．０１〜０．８μｍであることが好ましく、より
好ましくは０．０２〜０．６μｍである。また、非磁性
支持体の非磁性層及び磁性層が設けられた面とは反対側
の面に設けられたバックコート層の厚みは、０．１〜
１．０μｍであることが好ましく、より好ましくは０．
２〜０．８μｍである。 【００６９】磁性層の厚みは、用いる磁気ヘッドの飽和
磁化量やヘッドギャップ長、記録信号の帯域により最適
化されるものであるが、一般には１０〜１００ｎｍであ
り、好ましくは２０〜８０ｎｍであり、さらに好ましく
は３０〜８０ｎｍである。また、磁性層の厚み変動率は
±５０％以内であることが好ましく、さらに好ましくは
±４０％以内である。磁性層は少なくとも一層あればよ
く、磁性層を異なる磁気特性を有する２層以上に分離し
てもかまわず、公知の重層磁性層に関する構成が適用で
きる。 【００７０】本発明の非磁性層の厚みは、０．０２〜
３．０μｍであることが好ましく、０．０５〜２．５μ
ｍであることがより好ましく、０．１〜２．０μｍであ
ることがさらに好ましい。なお、本発明の磁気記録媒体
の非磁性層は、実質的に非磁性であればその効果を発揮
するものであり、例えば不純物として、あるいは意図的
に少量の磁性体を含んでいても、本発明の効果を示すも
のであり、本発明の磁気記録媒体と実質的に同一の構成
とみなすことができる。なお、実質的に同一とは、非磁
性層の残留磁束密度が１０Ｔ・ｍ（１００Ｇ）以下又は
抗磁力が７．９６ｋＡ／ｍ（１００ Ｏｅ）以下である
ことを示し、好ましくは残留磁束密度と抗磁力を持たな
いことを意味する。 【００７１】[物理特性]本発明の磁気記録媒体の磁性層
の飽和磁束密度は１００〜３００Ｔ・ｍ（１０００〜３
０００Ｇ）であることが好ましい。また磁性層の抗磁力
（Ｈｒ）は、１４３．３〜３１８．４ｋＡ／ｍ（１８０
０〜４０００ Ｏｅ）であることが好ましく、より好ま
しくは１５９．２〜２７８．６ｋＡ／ｍ（２０００〜３
５００ Ｏｅ）である。抗磁力の分布は狭い方が好まし
く、ＳＦＤ及びＳＦＤｒは０．６以下、さらに好ましく
は０．２以下である。 【００７２】本発明の磁気記録媒体のヘッドに対する摩
擦係数は、温度−１０〜４０℃、湿度０〜９５％の範囲
において０．５以下であることが好ましく、より好まし
くは０．３以下である。また、表面固有抵抗は、好まし
くは磁性面１０⁴〜１０¹²Ω／ｓｑ、帯電位は−５００
Ｖ〜＋５００Ｖ以内であることが好ましい。磁性層の
０．５％伸びでの弾性率は、面内各方向で好ましくは
０．９８〜１９．６ＧＰａ（１００〜２０００ｋｇ／ｍ
ｍ²）、破断強度は、好ましくは９８〜６８６ＭＰａ
（１０〜７０ｋｇ／ｍｍ²）、磁気記録媒体の弾性率
は、面内各方向で好ましくは０．９８〜１４．７ＧＰａ
（１００〜１５００ｋｇ／ｍｍ²）、残留のびは、好ま
しくは０．５％以下、１００℃以下のあらゆる温度での
熱収縮率は、好ましくは１％以下、さらに好ましくは
０．５％以下、最も好ましくは０．１％以下であること
が好ましい。 【００７３】磁性層のガラス転移温度（１１０Ｈｚで測
定した動的粘弾性測定の損失弾性率の極大点）は５０〜
１８０℃であることが好ましく、非磁性層のそれは０〜
１８０℃であることが好ましい。損失弾性率は１×１０
⁷〜８×１０⁸Ｐａ（１×１０ ⁸〜８×１０⁹ｄｙｎｅ／ｃ
ｍ²）の範囲にあることが好ましく、損失正接は０．２
以下であることが好ましい。損失正接が大きすぎると粘
着故障が発生しやすい。これらの熱特性や機械特性は媒
体の面内各方向において１０％以内でほぼ等しいことが
好ましい。 【００７４】磁性層中に含まれる残留溶媒は好ましくは
１００ｍｇ／ｍ²以下、さらに好ましくは１０ｍｇ／ｍ²
以下である。塗布層が有する空隙率は非磁性層、磁性層
とも好ましくは３０容量％以下、さらに好ましくは２０
容量％以下である。空隙率は高出力を果たすためには小
さい方が好ましいが、目的によってはある値を確保した
方が良い場合がある。例えば、繰り返し用途が重視され
るディスク媒体では空隙率が大きい方が走行耐久性は好
ましいことが多い。 【００７５】磁性層の最大高さＳＲ_maxは、０．５μｍ
以下、十点平均粗さＳＲｚは０．３μｍ以下、中心面山
高さＳＲｐは０．３μｍ以下、中心面谷深さＳＲｖは
０．３μｍ以下、中心面面積率ＳＳｒは２０〜８０％、
平均波長Ｓλａは５〜３００μｍであることが好まし
い。これらは支持体のフィラーによる表面性のコントロ
ールやカレンダ処理のロール表面形状などで容易にコン
トロールすることができる。カールは±３ｍｍ以内とす
ることが好ましい。 【００７６】本発明の磁気記録媒体における非磁性層と
磁性層と間では、目的に応じ非磁性層と磁性層でこれら
の物理特性を変えることができる。例えば、磁性層の弾
性率を高くし走行耐久性を向上させると同時に非磁性層
の弾性率を磁性層より低くして磁気記録媒体のヘッドへ
の当りを良くすることができる。 【００７７】[製造方法]本発明の磁気記録媒体の磁性塗
布液及び非磁性塗布液を製造する工程は、少なくとも混
練工程、分散工程、及びこれらの工程の前後に必要に応
じて設けた混合工程からなる。個々の工程はそれぞれ２
段階以上に分かれていてもかまわない。本発明で用いら
れる六方晶フェライト強磁性粉体又は強磁性金属粉末、
非磁性粉体、ベンゼンスルホン酸誘導体、π電子共役系
の導電性高分子、結合剤、カーボンブラック、研磨材、
帯電防止剤、潤滑剤、溶剤などすべての原料はどの工程
の最初又は途中で添加してもかまわない。また、個々の
原料を２つ以上の工程で分割して添加してもかまわな
い。例えば、ポリウレタンを混練工程、分散工程、分散
後の粘度調整のための混合工程で分割して投入してもよ
い。本発明の目的を達成するためには、従来の公知の製
造技術を一部の工程として用いることができる。混練工
程ではオープンニーダ、連続ニーダ、加圧ニーダ、エク
ストルーダなど強い混練力をもつものを使用することが
好ましい。ニーダを用いる場合は磁性粉末又は非磁性粉
末と結合剤のすべて又はその一部（但し、全結合剤の３
０％以上が好ましい）を磁性体１００質量部に対し１５
〜５００質量部の範囲で混練処理される。これらの混練
処理の詳細については特開平１−１０６３３８号公報、
特開平１−７９２７４号公報に記載されている。また、
磁性層塗布液及び非磁性層塗布液を分散させるには、ガ
ラスビーズを用いることができる。このようなガラスビ
ーズは、高比重の分散メディアであるジルコニアビー
ズ、チタニアビーズ、スチールビーズが好適である。こ
れら分散メディアの粒径と充填率は最適化して用いられ
る。分散機は公知のものを使用することができる。 【００７８】本発明の磁気記録媒体の製造方法では、例
えば、走行下にある非磁性支持体の表面に磁性塗布液を
所定の膜厚となるように塗布して磁性層を形成すること
ができる。ここで複数の磁性層塗布液を逐次又は同時に
重層塗布してもよく、非磁性層塗布液と磁性層塗布液と
を逐次又は同時に重層塗布してもよい。上記磁性塗布液
又は非磁性層塗布液を塗布する塗布機としては、エアー
ドクターコート、ブレードコート、ロッドコート、押出
しコート、エアナイフコート、スクイズコート、含浸コ
ート、リバースロールコート、トランスファーロールコ
ート、グラビヤコート、キスコート、キャストコート、
スプレイコート、スピンコート等が利用できる。これら
については例えば（株）総合技術センター発行の「最新
コーティング技術」（昭和５８年５月３１日）を参考に
できる。 【００７９】磁性層塗布液の塗布層は、磁気テープの場
合、磁性層塗布液の塗布層中に含まれる強磁性粉末にコ
バルト磁石やソレノイドを用いて長手方向に磁場配向処
理を施す。ディスクの場合、配向装置を用いず無配向で
も十分に等方的な配向性が得られることもあるが、コバ
ルト磁石を斜めに交互に配置すること、ソレノイドで交
流磁場を印加するなど公知のランダム配向装置を用いる
ことが好ましい。等方的な配向とは強磁性金属粉末の場
合、一般的には面内２次元ランダムが好ましいが、垂直
成分をもたせて３次元ランダムとすることもできる。六
方晶フェライトの場合は一般的に面内及び垂直方向の３
次元ランダムになりやすいが、面内２次元ランダムとす
ることも可能である。また異極対向磁石など公知の方法
を用い、垂直配向とすることで円周方向に等方的な磁気
特性を付与することもできる。特に高密度記録を行う場
合は垂直配向が好ましい。また、スピンコートを用いて
円周配向することもできる。 【００８０】乾燥風の温度、風量、塗布速度を制御する
ことで塗膜の乾燥位置を制御できる様にすることが好ま
しく、塗布速度は２０ｍ／分〜１０００ｍ／分、乾燥風
の温度は６０℃以上が好ましい、また磁石ゾーンに入る
前に適度の予備乾燥を行うこともできる。乾燥された
後、塗布層に表面平滑化処理を施す。表面平滑化処理に
は、例えばスーパーカレンダーロールなどが利用され
る。表面平滑化処理を行うことにより、乾燥時の溶剤の
除去によって生じた空孔が消滅し磁性層中の強磁性粉末
の充填率が向上するので、電磁変換特性の高い磁気記録
媒体を得ることができる。カレンダ処理ロールとしては
エポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド
等の耐熱性プラスチックロールを使用する。また金属ロ
ールで処理することもできる。本発明の磁気記録媒体
は、表面の中心面平均粗さが、カットオフ値０．２５ｍ
ｍにおいて０．１〜４ｎｍ、好ましくは１〜３ｎｍの範
囲という極めて優れた平滑性を有する表面であることが
好ましい。その方法として、例えば上述したように特定
の強磁性粉末と結合剤とを選んで形成した磁性層を上記
カレンダ処理を施すことにより行われる。カレンダ処理
条件としては、カレンダーロールの温度が６０〜１００
℃の範囲、好ましくは７０〜１００℃の範囲、特に好ま
しくは８０〜１００℃の範囲、圧力が１００〜５００ｋ
ｇ／ｃｍの範囲、好ましくは２００〜４５０ｋｇ／ｃｍ
の範囲、特に好ましくは３００〜４００ｋｇ／ｃｍの範
囲の条件で作動させることによって行われることが好ま
しい。 【００８１】熱収縮率低減手段として、低テンションで
ハンドリングしながらウエッブ状で熱処理する方法と、
バルク又はカセットに組み込んだ状態などテープが積層
した形態で熱処理する方法（サーモ処理法）があり、両
者を利用できる。高出力と低ノイズの磁気記録媒体を供
給する観点からはサーモ処理法が好ましい。得られた磁
気記録媒体は、裁断機などを使用して所望の大きさに裁
断して使用することができる。 【００８２】 【実施例】以下に本発明を実施例によりさらに具体的に
説明する。なお、ここに示す成分、割合、操作、順序等
は、本発明の精神から逸脱しない範囲で変更し得るもの
であり、下記の実施例に制限されるべきものではない。
また、実施例中の「部」特に示さない限り質量部を示
す。 （調製例１）モンモリロナイト（クニミネ工業（株）製
クニピアＧ）４ｇを２００ｍｌの水に分散させ、これに
ｎ−ドデシルトリメチルアンモニウムクロリド２．５ｇ
を加え、室温で１時間攪拌した。これを水で充分洗浄し
ながらメンブレンフィルターを用いて吸引濾過し、１０
０℃で２４時間真空乾燥し、有機アンモニウム塩で被覆
したモンモリロナイト（フィラーＡ）を得た。別に、脱
水したＮ−メチルピロリドンに、９０モル％に相当する
２−クロルパラフェニレンジアミンと１０モル％に相当
する４、４'−ジアミノジフェニルエ−テルとを溶解さ
せた。これに上記有機化合物で被覆したモンモリロナイ
トを得られる芳香族ポリアミドに対し３重量％になるよ
うに分散させた。これに９８．５モル％に相当する２−
クロルテレフタル酸クロリドを滴下し、２時間撹拌によ
り重合後、炭酸リチウムで中和を行い、ポリマー濃度が
１１重量％の芳香族ポリアミドの溶液を得た。この溶液
を押出機で口金に供給し、表面が鏡面状のステンレス製
ベルトに流延した。この流延されたポリマー溶液を最初
１６０℃、次いで１８０℃の熱風でそれぞれ１分間ずつ
加熱して溶媒を蒸発させ、剥離後、フィルムの長手方向
に１．１５倍延伸を行った。次に、水槽内へフィルムを
２分間通して残存溶媒と中和で生じた無機塩の水抽出を
行った。この後テンター内で、温度２８０℃、風速５ｍ
／秒の熱風下に、フィルムの幅方向に１．４５倍延伸と
熱処理を行った。こうして総厚み６μｍの芳香族ポリア
ミドフィルム（アラミド−Ａ）を得た。 【００８３】（調製例２）テレフタル酸１モルに対して
エチレングリコールを１．６モルの割合で仕込み、さら
に有機化合物で被覆した上記フィラーＡを理論生成ポリ
マー量１００重量部に対して３重量部となるように仕込
んだ。２５５℃で２時間反応を行い、ビスヒドロキシエ
チルテレフタレートを主成分とするオリゴマーを生成し
た。その後、触媒として三酸化アンチモンをテレフタル
酸のモル数に対して１００ｐｐｍ添加し、減圧下、２７
５℃で４時間反応を行い、取り出し口から溶融ポリマー
を排出し、これを冷却してカットしペレットとした。こ
のペレットを８０℃で１０時間乾燥後、押出機に投入
し、２７０℃で加熱溶融した後、Ｔダイのダイオリフィ
スからシート状に押し出し、表面温度１０℃の冷却ドラ
ムに巻きつけて冷却し、厚さ６００ｍの未延伸フィルム
を調製した。次に、未延伸フィルムを延伸温度９０℃で
縦方向に３倍ロール延伸した後、テンターで横方向に
３．３倍延伸し、次いで５％の弛緩率で、２３０℃で熱
処理し、厚さ６０μｍのポリエチレンテレフタレートフ
ィルム（ＰＥＴ−Ａ）を得た。 【００８４】 （実施例１）磁性層塗布液の調製 強磁性針状金属粉末 １００部 組成：Ｆｅ／Ｃｏ／Ａｌ／Ｙ＝６８／２０／７／５ 表面処理剤：Ａｌ₂Ｏ₃、Ｙ₂Ｏ₃ 抗磁力（Ｈｃ）：１９９ｋＡ／ｍ（２５００ Ｏｅ） 結晶子サイズ：１３０Å 長軸径：６５ｎｍ 針状比：６ ＢＥＴ比表面積：４６ｍ²／ｇ 飽和磁化（σｓ）：１５０Ａ・ｍ²／ｋｇ（１５０ｅｍｕ／ｇ） ポリウレタン樹脂 １２部 分岐側鎖含有ポリエステルポリオール／ジフェニルメタンジイソシアネー ト系、親水性極性基：−ＳＯ₃Ｎａ＝７０ｅｑ／ｔｏｎ含有 フェニルホスホン酸 ３部 α−Ａｌ₂Ｏ₃（粒子サイズ０．１５μｍ） ２部 カーボンブラック（粒子サイズ ２０ｎｍ） ２部 シクロヘキサノン １１０部 メチルエチルケトン １００部 トルエン １００部 ブチルステアレート ２部 ステアリン酸 １部 【００８５】非磁性層塗布液の調製 非磁性無機質粉体 ８５部 α−酸化鉄 表面処理剤：Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂ 長軸径：０．１５μｍ タップ密度：０．８ｇ／ｍｌ 針状比：７ ＢＥＴ比表面積：５２ｍ²／ｇ ｐＨ８ ＤＢＰ吸油量：３３ｇ／１００ｇ カーボンブラック ２０部 ＤＢＰ吸油量：１２０ｍｌ／１００ｇ ｐＨ：８ ＢＥＴ比表面積：２５０ｍ²／ｇ 揮発分：１．５％ ポリウレタン樹脂 １２部 分岐側鎖含有ホ゜リエステルホ゜リオール/シ゛フェニルメタンシ゛イソシアネート系、 親水性極性基：−ＳＯ₃Ｎａ＝７０ｅｑ／ｔｏｎ含有 アクリル樹脂 ６部 ベンジルメタクリレート／ダイアセトンアクリルアミド系、 親水性極性基：−ＳＯ₃Ｎａ＝６０ｅｑ／ｔｏｎ含有 フェニルホスホン酸 ３部 α−Ａｌ₂Ｏ₃（平均粒径０．２μｍ） １部 シクロヘキサノン １４０部 メチルエチルケトン １７０部 ブチルステアレート ２部 ステアリン酸 １部 【００８６】上記磁性層塗布液の組成物及び非磁性層塗
布液の組成物のそれぞれについて、各成分をオープンニ
ーダで６０分間混練した後、サンドミルで１２０分間分
散した。得られた分散液に３官能性低分子量ポリイソシ
アネート化合物（日本ポリウレタン製コロネート３０４
１）を６部加え、更に２０分間撹拌混合した後、１μｍ
の平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、磁性層
塗布液及び非磁性層塗布液を調製した。さらに上記非磁
性層塗布液を乾燥後の厚さが１．８μｍになるように塗
布し、次いでその直後に上記磁性層塗布液を乾燥後の厚
さが０．２μｍになるように、調製例１で作成した芳香
族ポリアミド支持体（アラミド−Ａ）上に同時重層塗布
した。このとき、両層がまだ湿潤状態にあるうちに３０
０Ｔ・ｍ（３０００ガウス）の磁石で磁場配向を行い、
さらに乾燥した後に金属ロールのみから構成される７段
のカレンダで速度１００ｍ／ｍｉｎ、線圧３００ｋｇ／
ｃｍ、温度９０℃で表面平滑化処理を行った後、７０℃
で４８時間加熱処理を行い、１／２インチ幅にスリット
し磁気テープを作成した。 【００８７】（実施例２〜４）非磁性支持体調製時に添
加する粘土化合物の種類を表１に示した通りに変更した
以外は、実施例１と同様の方法で磁気テープを作製し
た。 【００８８】（比較例１、２）非磁性支持体調製時に添
加するフィラーの種類又は磁性体のサイズを表１に示し
た通りに変更した以外は、実施例１と同様の方法で磁気
テープを作製した。 【００８９】 （実施例５）磁性層塗布液の調製 強磁性板状六方晶フェライト粉末 １００部 組成（モル比）：Ｂａ／Ｆｅ／Ｃｏ／Ｚｎ＝１／１１／０．２／０．８ 抗磁力（Ｈｃ）：１９５ｋＡ／ｍ（２４５０ Ｏｅ） 板径：２６ｎｍ 板状比：３ ＢＥＴ比表面積：５０ｍ²／ｇ 飽和磁化（σｓ）：６０Ａ・ｍ²／ｋｇ（６０ｅｍｕ／ｇ） ポリウレタン樹脂 １２部 分岐側鎖含有ポリエステルポリオール／ジフェニルメタンジイソシアネー ト系、親水性極性基：−ＳＯ₃Ｎａ＝７０ｅｑ／ｔｏｎ含有 フェニルホスホン酸 ３部 α−Ａｌ₂Ｏ₃（粒子サイズ０．１５μｍ） ２部 カーボンブラック（粒子サイズ ２０ｎｍ） ２部 シクロヘキサノン １１０部 メチルエチルケトン １００部 トルエン １００部 ブチルステアレート ２部 ステアリン酸 １部 【００９０】上記磁性層塗布液の各成分を実施例１と同
様の方法により調製し、磁性層塗布液を得た。さらに実
施例１と同様の非磁性層塗布液を、乾燥後の厚さが１．
８μｍになるように塗布し、次いでその直後に上記磁性
層塗布液を乾燥後の厚さが０．２μｍになるように、調
製例１で作製したポリエチレンテレフタレート支持体
（ＰＥＴ−Ａ）上に同時重層塗布した。このとき、両層
がまだ湿潤状態にあるうちに周波数５０Ｈｚ、磁場強度
２５Ｔ・ｍ（２５０ガウス）及び周波数５０Ｈｚ、１２
Ｔ・ｍ（１２０ガウス）の２つの磁場強度交流磁場発生
装置の中を通過させランダム配向処理を行い、乾燥した
後、７段のカレンダで温度９０℃、線圧３００ｋｇ／ｃ
ｍで処理を行い、７０℃で４８時間加熱処理をし、３．
７インチに打ち抜き表面研磨処理施した後、ライナーが
内側に設置済の３．７インチのＺｉｐ−ｄｉｓｋカート
リッジに入れ、所定の機構部品を付加し、３．７インチ
フレキシブルディスクを得た。 【００９１】（実施例６〜８）非磁性支持体調製時に添
加する粘土化合物の種類を表２に示した通りに変更した
以外は、実施例５と同様の方法で磁気ディスクを作製し
た。 【００９２】（比較例３、４）非磁性支持体調製時に添
加するフィラーの種類又は磁性体のサイズを表２に示し
た通りに変更した以外は、実施例５と同様の方法で磁気
ディスクを作製した。 【００９３】エラーレート（初期、高湿高温下）の測定 記録信号を２３℃、５０％ＲＨにおいて磁気テープでは
８−１０変換ＰＲ１等化方式、フレキシブルディスクで
は(２，７)ＲＬＬ変調方式で記録し、２３℃，５０％Ｒ
Ｈ、５０℃，８０％ＲＨの各環境下で各々測定した。 【００９４】 【表１】 【００９５】 【表２】【００９６】評価結果 有機物で処理した粘土化合物を非磁性支持体に含み、か
つ平均長軸長が２０〜１００ｎｍの範囲の強磁性金属粉
末を磁性層に含む実施例１〜４の磁気テープは、いずれ
もエラーレートが低かった。また、温湿度条件の変化に
よるエラーレートの差が小さかった。これは、非磁性支
持体の温湿度条件による膨張係数の変動が小さいことに
よるものと考えられる。また、実施例１〜４の磁気テー
プは、いずれも高温高湿下でのエラーレート上昇が少な
く、優れた走行耐久性を有していた。それに対し、有機
物で処理した粘土化合物の代わりにコロイダルシリカを
非磁性支持体に含む比較例１、磁性層に含まれる強磁性
金属粉末の平均長軸長が本発明の範囲を超える１２０ｎ
ｍである比較例２は、いずれも、エラーレートが高かっ
た。特に、比較例１の磁気テープは、温湿度条件の変化
によるエラーレートの差が大きかった。これは、非磁性
支持体の温湿度条件の変化による膨張係数の変動が大き
いことによるものと考えられる。 【００９７】有機物で処理した粘土化合物を非磁性支持
体に含み、かつ平均板径が５〜４０ｎｍの範囲の強磁性
六方晶フェライト粉末を磁性層に含む実施例５〜８のフ
レキシブルディスクは、いずれもエラーレートが低かっ
た。また、温湿度条件の変化によるエラーレートの差が
小さかった。これは、上記実施例１〜４と同様に、非磁
性支持体の温湿度条件による膨張係数の変動が小さいこ
とによるものと考えられる。また、実施例５〜８のフレ
キシブルディスクは、いずれも高温高湿下でのエラーレ
ート上昇が少なく、優れた走行耐久性を有していた。そ
れに対し、有機物で処理した粘土化合物の代わりにコロ
イダルシリカを非磁性支持体に含む比較例３、磁性層に
含まれる強磁性六方晶フェライト粉末の平均板径が本発
明の範囲を超える５０ｎｍである比較例４は、いずれ
も、エラーレートが高かった。特に、比較例３のフレキ
シブルディスクは、温湿度条件の変化によるエラーレー
トの差が大きかった。これは、非磁性支持体の温湿度条
件の変化による膨張係数の変動が大きいことによるもの
と考えられる。 【００９８】 【発明の効果】本発明により、ノイズが低下し、ひいて
はＣ／Ｎが優れることにより安定して低いエラーレート
が得られる磁気記録媒体を得ることができる。特に、本
発明の磁気記録媒体は、磁性層に含まれる強磁性粉末の
粒子サイズが小さいため、高密度化（高充填化）を図る
ことができる。更に、記録時と再生時の温湿度膨張係数
の差が小さいためＭＲ（磁気抵抗）ヘッドを組み合わせ
た記録再生システムに好適である上、高密度記録領域に
おいても、高いＣ／Ｎ及び低エラーレートを維持でき、
かつ優れた走行耐久性を有する。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 【請求項１】非磁性支持体上の少なくとも一方の面に、
   非磁性粉末及び結合剤を含む非磁性層と強磁性粉末及び
   結合剤を含む磁性層をこの順に有する磁気記録媒体であ
   って、 前記非磁性支持体は、有機物で被覆された粘土化合物を
   含み、 前記強磁性粉末は、平均板径５〜４０ｎｍの強磁性六方
   晶フェライト粉末又は平均長軸長２０〜１００ｎｍの強
   磁性金属粉末であることを特徴とする磁気記録媒体。