JP2003010837A - 現像廃液の濃縮装置及び濃縮方法 - Google Patents
現像廃液の濃縮装置及び濃縮方法Info
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Abstract
回避して良好な濃縮効率を確保できる現像廃液の濃縮技
術を提供する。 【解決手段】レジストの現像廃液の濃縮装置において、
加熱伝達管を備える蒸発室と、加熱伝達管に対して前記
現像廃液を循環供給する現像廃液供給手段と、前記加熱
伝達管に加熱源を供給する加熱手段と、前記加熱伝達管
の前記現像廃液供給部位に対して前記レジストの剥離廃
液を供給する剥離廃液供給手段、とを備えるようにす
る。
Description
製造時におけるフォトリソグラフィー工程で発生する現
像廃液の濃縮技術に関し、詳しくは、高い濃縮倍率を達
成することができ、効率的な廃液処理が可能となる濃縮
技術に関する。
晶モジュールの作製におけるフォトリソグラフィー工程
では、レジスト樹脂の現像工程でレジストを含む現像液
が廃液として生じる。この現像廃液には、現像液成分、
水の他、レジスト樹脂成分を含んでいる。現像廃液は、
通常、蒸発濃縮装置によって低沸点成分(主として水)
を蒸発分離して濃縮して減容後、処理されている。蒸発
濃縮装置としては、濃縮しようとする液を加熱伝達管の
表面に接触させる形式のものが多く用いられている。か
かる形式の濃縮装置には、加熱伝達管の内面に液を接触
させて蒸発させるものと同じく加熱伝達管の外面に液を
接触させて蒸発させるものとがある。
濃縮する形式の蒸発濃縮装置を例示する。この蒸発濃縮
装置は、蒸発室と、蒸発室内に水平状に多数本配設され
た加熱伝達管と、加熱管内に加熱源としての水蒸気を供
給し循環させるエゼクターと、加熱伝達管内及び蒸発室
内の水蒸気及び凝縮水を回収し冷却して凝縮して排出す
る凝縮器とを備えている。そして、濃縮しようと現像廃
液を蒸発室上部から加熱伝達管に対して落下させる循環
ポンプを備えている。この濃縮装置においては、図4に
示すように、加熱伝達管に対して現像廃液が落下され、
加熱伝達管の外面で揮発成分が蒸発する。
率を例えば20倍以上に高倍率化しようとすると、長期
間の運転が必要となるとともに、加熱伝達管に対して落
下する濃縮中の液の濃度や粘度が高くなってくる。この
ような状況下では、加熱伝達管に対する抗付着性能が低
下してきており、スケール(付着物)が形成される場合
もありうる。一旦、付着物が形成されると、加熱伝達管
による伝熱係数は低下し、濃縮能力の低下を引き起こ
し、濃縮効率は著しく低下することになる。なお、この
ような付着物の形成は、加熱伝達管の内表面で蒸発濃縮
させる方式についても同様に発生しうる。そこで、本発
明では、濃縮倍率にかかわらず付着物の形成を効果的に
回避して良好な濃縮効率を確保できる現像廃液の濃縮技
術を提供することを目的とする。
課題を解決するべく検討したところ、加熱伝達管表面に
おけるスケールはレジスト樹脂が主体であることから、
かかるスケールを防止するには、フォトリソグラフィー
工程においてレジスト樹脂の剥離に用いた剥離廃液を加
熱伝達管表面に供給することにより、付着物を剥離ある
いは溶解して、スケールを解消しあるいは回避できるこ
とを見出し、本発明を完成した。すなわち、本発明は以
下の濃縮装置を提供する。
であって、加熱伝達管を備える蒸発室と、加熱伝達管に
対して前記現像廃液を循環供給する現像廃液供給手段
と、前記加熱伝達管に加熱源を供給する加熱手段と、前
記加熱伝達管の前記現像廃液供給部位に対して前記レジ
ストを含む剥離廃液を供給する剥離廃液供給手段、とを
備える、現像廃液の濃縮装置。 (2)前記加熱伝達管は、前記蒸発室内に略水平状に複
数本配置されており、前記現像廃液循環供給手段は、前
記現像廃液を前記加熱伝達管の上方から加熱伝達管の外
表面に対して付与するようになっている、(1)記載の
現像廃液の濃縮装置。 (3)前記蒸発室は真空吸引されるようになっている、
(1)又は(2)記載の現像廃液の濃縮装置。 (4)前記蒸発室内で生成した蒸発画分の一部は、加熱
伝達管の加熱源として使用されるようになっている、
(1)〜(3)のいずれかに記載の現像廃液の濃縮装
置。
る。 (5)レジストを含む現像廃液の濃縮方法であって、蒸
発室に備えられる加熱伝達管に対して現像廃液を循環供
給して蒸発濃縮するのに際して、前記加熱伝達管の前記
現像廃液の供給部位に前記レジストを含む剥離廃液を連
続的および/または断続的に供給することを特徴とす
る、現像廃液の濃縮方法。 (6)レジストを含む現像廃液の濃縮方法であって、蒸
発室に備えられる加熱伝達管に対して現像廃液を循環供
給して蒸発濃縮するのに際して、前記現像廃液の濃縮能
力を監視し、濃縮能力の低下を検出したときに、前記加
熱伝達管の前記現像廃液の供給部位に前記レジストを含
む剥離廃液を供給することを特徴とする、現像廃液の濃
縮方法。
(外表面および/または内表面)における付着物の形成
が有効に回避ないしあるいは解消される。また、剥離廃
液も有効利用しつつ同時に濃縮減容化することができ
る。
て詳細に説明する。本発明の濃縮装置及び濃縮方法、レ
ジストを含む現像廃液の廃液処理装置及び処理方法の少
なくとも一部を構成するものである。したがって、本発
明は、当該濃縮装置及び濃縮方法を含むレジストを含む
現像廃液の処理装置及び処理方法を包含している。ま
た、レジストを含む現像廃液は、半導体製造、液晶モジ
ュールの製造の他、各種製品の微細加工時にレジストを
利用した場合に排出されるレジストの現像廃液を包含す
る。
伝達管とを備える従来の蒸発濃縮装置に適用することが
できる。すなわち、加熱伝達管の設置方式として、水平
管式、直立管式のいずれにも適用することができ、前者
において、薄膜式、液浸式等の管内蒸気供給形式及び管
外蒸気供給形式のいずれにも適用できる。特に、薄膜式
の蒸発濃縮装置に好ましく適用できる。直立管式として
は、内部加熱式と外部加熱式のいずれにも適用すること
ができる。前者における標準型及びバスケット型のいず
れにも適用でき、後者における自然循環式、非循環式、
流下膜式のいずれにも適用することができる。なお、こ
れらの濃縮装置の分類については、「化学装置・機器の
基礎知識」(オーム社、1991年5月15日発行)の
p.58〜p.61に具体的に記載されている。なお、
レジストを含む剥離廃液には、レジストの剥離に用いた
剥離液成分の他、水、およびレジスト樹脂成分を含有し
ている。
液の濃縮装置ないし方法について図1に基づいて説明す
る。図1には、本発明の濃縮装置ないし方法を含むレジ
ストを含む現像廃液の処理システム全体の概略が示され
ている。図2には、本システムの詳細が記載されてい
る。本形態の濃縮装置2は、水平管式で管内蒸気供給形
式であり、なかでも薄膜式の蒸発濃縮装置である。
すように、蒸発室4と、現像廃液循環供給手段6と、加
熱手段22と、剥離廃液供給手段32とを備えている。
また、図2に示すように、濃縮装置2は、蒸発室4内に
加熱伝達管5と、その外部に現像廃液供給手段6を備え
ている。
熱伝達管5が、略水平状に複数本配置されている。加熱
伝達管5は、多段状に備えられており、下段側の加熱伝
達管5から順にその内部に加熱源である水蒸気が供給さ
れるようになっている。加熱源は、加熱流体であればよ
く特に限定しないが、通常は、水蒸気を用いる。水蒸気
を加熱源とする場合、装置2の外部に設置された水蒸気
源に蒸発室4に連絡される管路を接続する構成で足りる
が、必要に応じて、エゼクター27等の蒸気圧縮装置を
用いることができる。エゼクター27は、蒸発室4内の
蒸発画分(水蒸気)の一部を取り込んで圧縮し、加熱源
として利用することができるようになっている。本形態
においては、加熱伝達管5に加熱源を供給する加熱手段
22としては、水蒸気源24と、それに連結されるエゼ
クター27と、エゼクター27から蒸発室4を連絡する
管路28とから構成されている。
留部4aとなっている。この貯留部4aは、外部からレ
ジストを含む現像廃液が導入される部位でもある。レジ
ストを含む現像廃液は、工程からそのままあるいは一旦
貯留された後、蒸発室4へ導入される。本形態において
は、現像廃液の導入手段12として、貯留槽14とこの
貯留槽14から貯留部4aに連結される管路16とを備
えている。管路16には必要に応じて導入量や導入時間
を調整するための開閉バルブを備えるようにすることも
できる。
の一部でもある。循環供給手段6は、加熱伝達管5に対
して現像廃液を循環供給できるような構成であればよ
い。好ましくは、かかる手段6は、循環用のポンプ7
と、貯留部4aから蒸発室4の外方を循環して蒸発室4
の上方に現像廃液を導入する管路8と、現像廃液を加熱
伝達管5に対して供給する供給手段9とを備えている。
供給手段9は、加熱伝達管5に対して現像廃液を散布で
きる散布手段を備えていることが好ましい。散布手段と
しては、例えば、多数個のノズルの他、多孔管や多孔体
とすることができる。
を備えている。剥離廃液供給手段32は、直接に蒸発室
4に対して直接設けられていてもよいし、循環供給手段
6の一部(管路8あるいは供給手段9)に接続して、循
環供給手段6の管路8や供給手段8を利用する構成とす
ることもできる。剥離廃液は、剥離工程からそのまま管
路のみを介して蒸発室4あるいは循環供給手段6に接続
されていてもよいが、好ましくは、剥離廃液の貯留槽3
4から管路36を介して蒸発室4あるいは循環供給手段
6に接続されるようになっている。また、好ましくは、
剥離廃液の導入量、タイミング、期間をコントロールで
きるような開閉バルブ38が管路36に備えられてい
る。
は、蒸発室4で最終的に濃縮を終えた濃縮液を貯留部4
aから排出するための管路61と濃縮液槽62とを備え
ることができる。
真空吸引手段42を備えていることが好ましい。真空吸
引手段42は、蒸発室4内の蒸発画分を回収する目的の
他、蒸発室4内を減圧状態として蒸発濃縮に好ましい雰
囲気をつくることができる。真空吸引手段42は、凝縮
手段52の一部として備えることができる。
回収し、冷却して凝縮させ、液体として系外へ排出する
ことができるようになっている。凝縮手段52は、真空
吸引手段42の吸引力により蒸発室4から凝縮手段52
への蒸発画分を搬送する管路53を有している。また、
凝縮室52aには、冷却水が導入される冷却配管等の冷
却手段を備えている。凝縮室52aの下方には凝縮した
液体(水分)の貯留部を有することができる。この貯留
部には、蒸発室4の加熱伝達管5内部で凝縮した水分が
管路54を介して導入されるようにすることができる。
この貯留部には、凝縮液を排出するポンプを備えるよう
にすることができる。
ける濃縮工程について説明する。まず、蒸発室4内の加
熱伝達管5に、加熱手段22を介して熱源である水蒸気
を導入する。また、真空吸引手段42を含む凝縮手段5
2も作動させて、蒸発室4内を真空吸引する。次いで、
フォトリソグラフィー工程で発生したレジストを含む現
像廃液を、現像廃液貯留槽62及び管路61を介して蒸
発室4の貯留部4aに導入する。所定量が貯留部4a導
入後、循環用ポンプ7を駆動させて管路8及び供給手段
9を介して、蒸発室4の加熱伝達管5の上方からその外
表面に供給する。
剥離廃液供給手段32を介して、濃縮しようとするレジ
スト樹脂成分の剥離に用いた剥離廃液を、循環供給手段
6に導入する。これにより、現像廃液と剥離廃液とは、
管路8ないし供給手段9において混合されて、混液とし
て加熱伝達管5に対して供給されることになる。この状
態では、現像廃液の循環供給を継続することにより、同
時に、剥離廃液も循環されて、加熱伝達管5の現像廃液
の供給部位に剥離廃液も供給されることになる。
り、蒸発室4内を流下する現像廃液の濃縮液の濃度が高
くなっても、現像廃液中にはそのレジストの剥離液を同
時に含有しているために、加熱伝達管5の外表面にレジ
スト樹脂成分が付着することがない。すなわち、レジス
ト樹脂成分が析出しても加熱伝達管5の外表面に付着す
ることが回避されるし、析出自体も抑制されるからであ
る。加熱伝達管5の外表面に、付着物が生成されないこ
とにより、熱効率が確保され、同時に濃縮能力も確保さ
れる。これにより、スケールの発生を回避して容易に高
倍率に濃縮することができるようになる。また、同時
に、レジスト剥離工程で発生するレジストを含む剥離廃
液を処理できるため、レジスト関連廃液処理を効率的に
実施することができる。
循環供給手段6に導入するようにして、連続的に加熱伝
達管の現像廃液供給部位に対して供給するようにした
が、剥離廃液の供給は、断続的に行うこともできる。断
続的に供給する場合には、一定間隔をおいて規則的に供
給することもできる。また、必要に応じて供給するよう
にすることもできる。剥離廃液の供給の開始及び停止
は、剥離廃液供給手段32に設けた開閉バルブ38を開
閉制御することによって行うことができる。
縮能力の低下を検出したときに、剥離廃液を供給するよ
うにすることもできる。濃縮装置の濃縮能力は、例え
ば、凝縮手段52において得られる時間あたりの蒸発画
分の量、あるいは、貯留部4aの設定された液面位を満
たすように現像廃液導入手段により貯留部4aに導入さ
れる現像廃液の時間当たりの流量等から検出することが
できる。例えば、検出された濃縮能力が予め設定された
値を下回ったときに、剥離廃液の供給を開始するように
してもよい。また、濃縮能力が回復したときには、剥離
廃液の供給を停止するようにすることもできる。このよ
うな剥離廃液の供給制御により、必要時において剥離廃
液を供給してスケール発生を回避しあるいは解消するこ
とができる。
液供給手段32を循環供給手段6に接続する構成とした
がこれに限定するものではない。加熱伝達管の現像廃液
供給部位に対して供給できれば他の部位に接続してもよ
い。例えば、循環供給手段6とは別個に、現像廃液導入
手段12の貯留槽14あるいは管路16に剥離液導入手
段32を接続することもできる。また、蒸発室4の貯留
部4aに接続することもできる。さらに、蒸発室4の加
熱伝達管5に対して、現像廃液の循環供給手段6とは全
く独立して、別個に、蒸発室4の上方に接続する管路と
供給手段(散布手段を含む)とを備える構成とすること
もできる。
気型、かつ薄膜式の濃縮装置を例に挙げて説明したが、
本発明の濃縮装置は本形態に限定するものではなく、他
の各形態の管状加熱方式の蒸発濃縮装置に適用すること
ができる。
付着物の形成を効果的に回避あるいは解消して良好な濃
縮効率を確保できる現像廃液の濃縮技術を提供できる。
ある。
ある。
加熱伝達管との接触状態を示す図である。
Claims (6)
- 【請求項1】レジストを含む現像廃液の濃縮装置であっ
て、 加熱伝達管を備える蒸発室と、 加熱伝達管に対して前記現像廃液を循環供給する現像廃
液供給手段と、 前記加熱伝達管に加熱源を供給する加熱手段と、 前記加熱伝達管の前記現像廃液供給部位に対して前記レ
ジストを含む剥離廃液を供給する剥離廃液供給手段、と
を備える、現像廃液の濃縮装置。 - 【請求項2】前記加熱伝達管は、前記蒸発室内に略水平
状に複数本配置されており、前記現像廃液循環供給手段
は、前記現像廃液を前記加熱伝達管の上方から加熱伝達
管の外表面に対して付与するようになっている、請求項
1記載の現像廃液の濃縮装置。 - 【請求項3】前記蒸発室は真空吸引されるようになって
いる、請求項1又は2記載の現像廃液の濃縮装置。 - 【請求項4】前記蒸発室内で生成した蒸発画分の一部
は、加熱伝達管の加熱源として使用されるようになって
いる、請求項1〜3のいずれかに記載の現像廃液の濃縮
装置。 - 【請求項5】レジストを含む現像廃液の濃縮方法であっ
て、蒸発室に備えられる加熱伝達管に対して現像廃液を
循環供給して蒸発濃縮するのに際して、前記加熱伝達管
の前記現像廃液の供給部位に前記レジストを含む剥離廃
液を連続的および/または断続的に供給することを特徴
とする、現像廃液の濃縮方法。 - 【請求項6】レジストを含む現像廃液の濃縮方法であっ
て、蒸発室に備えられる加熱伝達管に対して現像廃液を
循環供給して蒸発濃縮するのに際して、前記現像廃液の
濃縮能力を監視し、濃縮能力の低下を検出したときに、
前記加熱伝達管の前記現像廃液の供給部位に前記レジス
トを含む剥離廃液を供給することを特徴とする、現像廃
液の濃縮方法。
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JP2001202757A JP4360765B2 (ja) | 2001-07-03 | 2001-07-03 | 現像廃液の濃縮装置及び濃縮方法 |
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JP2006346577A (ja) * | 2005-06-16 | 2006-12-28 | Miura Co Ltd | 高機能水生成システム |
JP2012161731A (ja) * | 2011-02-07 | 2012-08-30 | Okawara Mfg Co Ltd | 遠心式薄膜真空蒸発装置が具えられた濃縮装置並びにその運転方法 |
JP2013198870A (ja) * | 2012-03-26 | 2013-10-03 | Kurita Water Ind Ltd | 蒸発濃縮装置および蒸発濃縮装置の洗浄方法 |
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- 2001-07-03 JP JP2001202757A patent/JP4360765B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JP2006346577A (ja) * | 2005-06-16 | 2006-12-28 | Miura Co Ltd | 高機能水生成システム |
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JP2012161731A (ja) * | 2011-02-07 | 2012-08-30 | Okawara Mfg Co Ltd | 遠心式薄膜真空蒸発装置が具えられた濃縮装置並びにその運転方法 |
JP2013198870A (ja) * | 2012-03-26 | 2013-10-03 | Kurita Water Ind Ltd | 蒸発濃縮装置および蒸発濃縮装置の洗浄方法 |
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