JP2003007734A - 粘性材料塗布装置および粘性材料塗布方法 - Google Patents

粘性材料塗布装置および粘性材料塗布方法

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JP2003007734A JP2001190977A JP2001190977A JP2003007734A JP 2003007734 A JP2003007734 A JP 2003007734A JP 2001190977 A JP2001190977 A JP 2001190977A JP 2001190977 A JP2001190977 A JP 2001190977A JP 2003007734 A JP2003007734 A JP 2003007734A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 画像認識に要する時間を短縮して効率のよい
塗布状態検査を行うことができるとともに、品種切り替
え時の手間を削減することができる粘性材料塗布装置お
よび粘性材料塗布方法を提供することを目的とする。 【解決手段】 描画塗布によって基板にペーストを塗布
する粘性材料塗布装置において、ボンディング対象のチ
ップサイズに応じて生成された塗布パターンに基づい
て、ディスペンサ6の塗布ノズルを移動する移動手段の
X、Y、Z各軸の動作パターンおよびペーストの塗布状
態を検査する第1の検査ユニット9による塗布状態検査
において用いられる検査情報を設定する。動作パターン
に基づいて塗布を行った後には検査情報に基づいて塗布
状態検査を行う。これにより、画像認識に要する時間を
短縮して効率のよい塗布状態検査を行うことができると
ともに、品種切り換え時の手間を削減することができ
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、リードフレームや
基板などのワーク上に半導体チップをボンディングする
ための粘性材料を塗布する粘性材料塗布装置および粘性
材料塗布方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体装置製造のダイボンディング工程
では、リードフレームなどのワークに半導体チップを接
着するための粘性材料であるボンディングペースト(以
下、単に「ペースト」と略称する。)が塗布される。こ
の塗布方法の一つとして、塗布ノズルを塗布エリア内で
所定の塗布パターンにしたがって移動させながらペース
トを吐出することにより塗布を行う描画塗布が知られて
いる。
【0003】良好なボンディング品質を確保するために
は、ペーストが塗布エリア内で均一に塗布されているこ
とが求められることから、描画塗布後にはペーストが正
しい形状で塗布されているか否かを判定するための塗布
状態検査が行われる。この塗布状態検査は従来より画像
認識によって行われ、塗布後に撮像して得られた画像上
で塗布パターンを構成する塗布線の幅を求めることによ
って行われていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の塗布状態検査においては、半導体チップのサイズや形
状によっては、塗布パターンを構成する塗布線の組み合
わせが複雑になることから幅検出対象数が増大して画像
認識に要する時間が遅延し、塗布状態検査の効率が低下
するとともに、半導体チップによって異なる塗布パター
ン毎に、上述の塗布状態検査に用いられる塗布幅や幅検
出位置などの検査パラメータをその都度設定して入力す
る必要があり、品種切り替えに伴う作業に時間を要する
という問題点があった。
【0005】そこで本発明は、画像認識に要する時間を
短縮して効率のよい塗布状態検査を行うことができると
ともに、品種切り替え時の手間を削減することができる
粘性材料塗布装置および粘性材料塗布方法を提供するこ
とを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の粘性材料
塗布装置は、塗布ノズルから粘性材料を吐出させながら
この塗布ノズルをワークに対して所定の塗布パターンに
従って移動させることによって前記ワークに粘性材料を
塗布する粘性材料塗布装置であって、前記塗布ノズルを
ワークに対して相対的に移動させる移動手段と、前記塗
布パターンを生成する塗布パターン生成手段と、生成さ
れた塗布パターンに基づいて前記移動手段の動作パター
ンを設定する動作パターン設定手段と、設定された動作
パターンに基づいて前記移動手段を駆動する駆動手段
と、前記動作パターンに基づいて塗布ノズルから粘性材
料を吐出する吐出手段と、粘性材料が塗布されたワーク
を撮像して得られた画像に基づき粘性材料の塗布状態を
検査する検査手段と、この塗布状態の検査において用い
られる検査情報を前記塗布パターンに基づいて設定する
検査情報設定手段とを備えた。
【0007】請求項2記載の粘性材料塗布装置は、請求
項1記載の粘性材料塗布装置であって、前記検査情報
は、前記塗布パターンを構成する塗布線の中心線に平行
であってこの中心線からそれぞれ第1の距離および第1
の距離よりも遠い第2の距離だけ隔てた第1の検査ライ
ンおよび第2の検査ラインを含む。
【0008】請求項3記載の粘性材料塗布装置は、請求
項1記載の粘性材料塗布装置であって、前記塗布パター
ン生成手段は、ワークにボンディングされる半導体チッ
プのサイズに基づいて塗布パターンを生成する。
【0009】請求項4記載の粘性材料塗布装置は、請求
項1記載の粘性材料塗布装置であって、前記駆動手段
は、前記塗布ノズルを移動させる移動テーブルのX軸、
Y軸、Z軸をそれぞれ駆動する。
【0010】請求項5記載の粘性材料塗布装置は、請求
項2記載の粘性材料塗布装置であって、前記検査情報設
定手段は、前記塗布パターンを構成する塗布線における
塗布ノズルの折り返し点から外側へそれぞれ第3の距離
およびこの第3の距離よりも遠い第4の距離だけ隔てた
第1の検査ポイントおよび第2の検査ポイントをそれぞ
れ設定する。
【0011】請求項6記載の粘性材料塗布方法は、塗布
ノズルから粘性材料を吐出させながらこの塗布ノズルを
ワークに対して所定の塗布パターンに従って移動させる
ことによってワークに粘性材料を塗布する粘性材料塗布
方法であって、前記塗布パターンを生成する工程と、生
成された塗布パターンに基づいて塗布ノズルを移動する
移動手段の動作パターンを設定する工程と、粘性材料が
塗布されたワークを撮像して得られた画像に基づき粘性
材料の塗布状態を検査する塗布状態検査において用いら
れる検査情報を前記塗布パターンに基づいて設定する工
程と、前記塗布ノズルから粘性材料を吐出するとともに
塗布ノズルを前記動作パターンにしたがってワークに対
して相対的に移動させて粘性材料をワークに塗布する工
程と、粘性材料が塗布されたワークを撮像して画像を取
り込む工程と、前記第1の検査ラインおよび第2の検査
ライン上の輝度分布より前記粘性材料の塗布状態を判定
する工程とを含む。
【0012】請求項7記載の粘性材料塗布方法は、請求
項6記載の粘性材料塗布方法であって、前記検査情報
は、前記塗布パターンを構成する塗布線の中心線に平行
であってこの中心線からそれぞれ第1の距離および第1
の距離よりも遠い第2の距離だけ隔てた第1の検査ライ
ンおよび第2の検査ラインを含む。
【0013】請求項8記載の粘性材料塗布方法は、請求
項6記載の粘性材料塗布方法であって、前記塗布パター
ン生成において、ワークにボンディングされる半導体チ
ップのサイズに基づいて塗布パターンを生成する。
【0014】請求項9記載の粘性材料塗布方法は、請求
項6記載の粘性材料塗布方法であって、前記塗布ノズル
の移動は、前記塗布ノズルを移動させる移動テーブルの
X軸、Y軸、Z軸をそれぞれ駆動することによって行わ
れる。
【0015】請求項10記載の粘性材料塗布方法は、請
求項7記載の粘性材料塗布方法であって、前記検査情報
設定において、前記塗布パターンを構成する塗布線にお
ける塗布ノズルの折り返し点から外側へそれぞれ第3の
距離およびこの第3の距離よりも遠い第4の距離だけ隔
てた第1の検査ポイントおよび第2の検査ポイントをそ
れぞれ設定し、塗布状態の判定において、第1の検査ポ
イントおよび第2の検査ポイントの輝度より塗布状態の
判定を行う。
【0016】本発明によれば、生成された塗布パターン
に基づいて、塗布ノズルを移動する移動手段の動作パタ
ーンおよび粘性材料の塗布状態を検査する塗布状態検査
において用いられる検査情報を設定し、動作パターンに
基づいて塗布を行った後には検査情報に基づいて塗布状
態検査を行うことにより、画像認識に要する時間を短縮
して効率のよい塗布状態検査を行うことができるととも
に、品種切り換え時の手間を削減することができる。
【0017】
【発明の実施の形態】次に本発明の実施の形態を図面を
参照して説明する。図1は本発明の一実施の形態のダイ
ボンディング装置の機能ブロック図、図2は本発明の一
実施の形態のダイボンディング装置の塗布状態検査ユニ
ットの構成を示すブロック図、図3は本発明の一実施の
形態のダイボンディング装置の制御部およびペースト塗
布機構の構成を示すブロック図、図4は本発明の一実施
の形態のダイボンディング装置の塗布状態検査ユニット
の機能ブロック図、図5は本発明の一実施の形態の塗布
状態検査方法を説明する画像図である。
【0018】まず図1を参照してダイボンディング装置
の機能について説明する。図1において、1はコンベア
などの基板搬送機構であり、基板搬送機構1はワークで
ある基板2を以下に説明するペースト塗布部4およびボ
ンディング部5に搬送する。ペースト塗布部4(粘性材
料塗布装置)には、ディスペンサ6を備えたペースト塗
布機構7が配設されており、ペースト塗布機構7を駆動
することにより、ディスペンサ6によって粘性材料であ
るペースト3が基板2に塗布される。
【0019】ペースト塗布機構7は、ディスペンサ6の
塗布ノズル6aをX,Y,Zの3方向に移動させる移動
テーブル(図示せず)を備えており、塗布ノズル6aか
らペースト3を吐出させながらこの塗布ノズル6aを基
板2に対して所定の塗布パターンに従って移動させるこ
とによって基板2にペースト3を塗布する。したがっ
て、ペースト塗布機構7の移動テーブルは、塗布ノズル
6aを基板2に対して相対的に移動させる移動手段とな
っている。
【0020】基板2に塗布された状態のペースト3は第
1のカメラ8によって撮像され、この撮像によって得ら
れた画像データを第1の検査ユニット9によって検査処
理することにより、塗布状態の検査が行われる。したが
って第1のカメラ8および第1の検査ユニット9は、ペ
ースト3が塗布された基板2を撮像して得られた画像に
基づきペースト3の塗布状態を検査する検査手段となっ
ている。
【0021】ペースト3塗布後の基板2は、ボンディン
グ部5に搬送される。ボンディング部5には搭載ヘッド
11を備えたチップ搭載機構12が配設されており、チ
ップ搭載機構12を駆動することにより、搭載ヘッド1
1により半導体チップ10(以下、単に「チップ10」
と略称する。)が、基板2のペースト3上に搭載され
る。ペースト3上に搭載されたチップ10は、第2のカ
メラ13によって撮像され、この撮像で得られた画像デ
ータを第2の検査ユニット14によって検査処理するこ
とにより、ボンディング状態の検査が行われる。
【0022】次に制御系について説明する。基板搬送機
構1、ペースト塗布機構7、第1の検査ユニット9、チ
ップ搭載機構12および第2の検査ユニット14は、制
御部15によって制御される。制御部15は検査結果記
憶部16を内蔵しており、第1の検査ユニット9および
第2の検査ユニット14による検査結果は、検査結果記
憶部16に記憶される。報知部17は、ブザーやシグナ
ルタワーなどの報知装置であり、異常警報などの各種の
報知を行う。表示部18はディスプレイ装置であり、操
作入力時の画面や検査結果の画面表示を行う。外部デー
タ読み・書き装置19は、外部ディスクドライブであ
り、フレキシブルディスクなどに記憶されたデータの読
み取りおよびデータの書き込みを行う。操作・入力部2
0は、キーボードやマウスなどの入力手段であり制御コ
マンドの入力やデータ入力を行う。
【0023】次に図2、図3を参照して、ペースト塗布
部4において行われるボンディング状態検査の処理機能
について説明する。図2において、第1のカメラ8の下
方には、照明ユニット21が設けられており、照明ユニ
ット21は光源部21aおよびハーフミラー21bを備
えている。光源部21aを点灯することにより照射され
た照明光は、ハーフミラー21bによって下方に反射さ
れ、基板2に塗布されたペースト3を上方から照射す
る。そしてこの反射光が、ハーフミラー21bを透過し
て第1のカメラ8に入射することにより、同軸落射照明
によるペースト3の撮像が行われる。そしてこの撮像に
より、図5に示すような画像が得られ、この画像データ
は第1の検査ユニット9に送られる。
【0024】次に第1の検査ユニット9(塗布状態検査
ユニット)について説明する。第1の検査ユニット9
は、A/D変換部9a、画像記憶部9b、演算部9c、
データ記憶部9d、プログラム記憶部9e、インターフ
ェース9fを備えており、画像記憶部9b、演算部9
c、データ記憶部9d、プログラム記憶部9e、インタ
ーフェース9fは相互に接続され各部間での信号授受が
可能となっている。
【0025】A/D変換部9aは第1のカメラ8によっ
て取得された画像データをA/D変換する。A/D変換
されたデジタルの画像データは、画像記憶部9bに記憶
される。演算部9cは、取得された画像データを画像処
理することにより、基板2に塗布されたペースト3の塗
布状態検査処理のための演算処理を行う。データ記憶部
9dは、塗布状態検査に用いられる検査情報や判定条件
などの各種データを記憶する。プログラム記憶部9e
は、塗布状態検査のための各種処理に必要なプログラム
を記憶する。インターフェース9fは、制御部15との
間でのデータ授受を行う。
【0026】次に図3を参照して、制御部15およびペ
ースト塗布機構7の構成について説明する。図3におい
て、制御部15は、塗布パターン演算処理部15a、動
作パターン演算処理部15b、検査情報演算処理部15
cを備えており、制御部15に内蔵された記憶装置に
は、チップサイズ情報15dおよび検査パラメータ15
eが記憶されている。塗布パターン演算処理部15a
は、チップサイズ情報15dに基づいて、当該チップ1
0のボンディングに先立って塗布されるペースト3の塗
布パターンを演算する。塗布パターン演算処理部15a
は、塗布パターンを生成する塗布パターン生成手段とな
っている。
【0027】ここで塗布パターンについて説明する。塗
布パターンは、塗布ノズル6aからペースト3を吐出さ
せながら基板2に対して移動させる際の描画形状や描画
速度、塗布ノズル6aからペースト3を吐出させるタイ
ミングなどを決定する基本パターンである。例えば、図
5に示すようなパターンでペースト塗布を行う場合に
は、描画形状としてクロス形状パターンが設定され、こ
のクロス形状パターンで塗布ノズル6aを移動させて描
画塗布を行う場合の、移動テーブルのX,Y,Z各駆動
軸の速度パターンが決定される。そしてこの速度パター
ンとともに、ディスペンサ6の吐出バルブ開閉のタイミ
ングを示す吐出パターンが決定される。
【0028】描画形状は、ペースト3を単に点状に塗布
する最も単純なパターンから、複数の塗布線を組み合わ
せた複雑なパターンまで、各種のバリエーションが予め
設定されている。塗布パターンの生成の際には、これら
のバリエーションの中からボンディング対象のチップサ
イズに応じて、適切なパターンが選択されるようになっ
ている。
【0029】塗布パターン演算処理部15aによって演
算された塗布パターンは、動作パターン演算処理部15
bにおくられる。動作パターン演算処理部15bは、こ
の塗布パターンに基づいて、ペースト塗布機構7に対し
て出力される駆動指令データ(速度パターン、吐出パタ
ーン)を生成する。動作パターン演算処理部15bは、
生成された塗布パターンに基づいて前記移動手段の動作
パターンを設定する動作パターン設定手段となってい
る。
【0030】ペースト塗布機構7は、ノズル移動機構の
X軸モータ7e、Y軸モータ7f、Z軸モータ7gをそ
れぞれ駆動するX軸駆動部7a、Y軸駆動部7b、Z軸
駆動部7cおよびディスペンサ6を駆動するディスペン
サ駆動部7dを備えている。X軸駆動部7a、Y軸駆動
部7b、Z軸駆動部7cは、設定された動作パターンに
基づいて、塗布ノズルを移動させる移動テーブルを駆動
する駆動手段となっている。
【0031】前述の駆動指令データとして、X軸駆動部
7a、Y軸駆動部7b、Z軸駆動部7cに対しては、各
軸の動作速度のパターンを示す速度パターンが、またデ
ィスペンサ駆動部7dに対しては、ペースト吐出ポンプ
の吐出量や吐出バルブの動作タイミングを示す吐出パタ
ーンが出力される。ディスペンサ駆動部7dおよびディ
スペンサ6は、動作パターンに基づいて塗布ノズル6a
から粘性材料を吐出する吐出手段となっている。
【0032】また塗布パターンは検査情報演算処理部1
5cにも送られる。検査情報演算処理部15cは、この
塗布パターンに基づいて第1の検査ユニット9に対して
出力される検査情報を生成するための演算を行う。した
がって、検査情報演算処理部15cは、塗布パターンに
基づいて検査情報を設定する検査情報設定手段となって
いる。
【0033】ここで塗布状態検査およびこの塗布状態検
査に用いられる検査情報について、図5を参照して説明
する。図5は、前述のようにクロス形状の塗布パターン
に基づいて描画塗布されたペースト3を撮像した画像を
示しており、この塗布パターンは、互いに交差する2つ
の塗布線によって構成される。描画塗布に際しては、塗
布ノズル6aは中心線Lに沿って移動し、塗布線の折り
返し点TPに到達したならば、塗布ノズル6aの移動が
折り返される。
【0034】塗布状態検査においては、塗布パターンを
構成する各塗布線がかすれやはみ出しを生じることなく
正しい塗布幅で塗布されているか否かが検査される。こ
の検査を画像上で行うため、基板2に塗布されたペース
ト3を撮像した画像上には、以下に説明する2種類の検
査ラインおよび2種類の検査ポイントが設定される。そ
してこれらの検査ラインおよび検査ポイントの輝度測定
結果に基づいて、ペースト3の塗布状態を検査する。
【0035】検査ラインについて説明する。各塗布線の
中心線Lに平行して、中心線Lからそれぞれ第1の距離
D1および第1の距離D1よりも遠い第2の距離D2だ
け隔てた第1の検査ラインIL1および第2の検査ライ
ンIL2が設定される。ここで第1の距離D1は塗布線
の正規塗布幅Bの半幅B/2よりも小さく、また第2の
距離D2は半幅B/2よりも大きくなるように設定さ
れ、それぞれ塗布幅の下限許容値および上限許容値に対
応している。
【0036】検査ポイントについて説明する。塗布線の
端部に設定された折り返し点TPから外側へ第3の距離
D3およびこの第3の距離D3よりも遠い第4の距離D
4だけ隔てた位置には、第1の検査ポイントP1および
第2の検査ポイントP2が設定される。ここで第3の距
離D3は塗布線の端部における塗布代Eよりも小さく、
また第4の距離D4は塗布代Eよりも大きくなるように
設定され、それぞれ塗布代Eの下限許容値および上限許
容値に対応している。塗布代Eとして、前述の半幅B/
2の値をそのまま用いてもよい。
【0037】上記D1、D2、D3、D4のデータは、
塗布幅Bや塗布代Eに基づいて予め設定され、検査パラ
メータ15eとして制御部15に記憶されている。検査
情報演算処理部15cは、この検査パラメータ15eと
塗布パターン演算処理部15aによって演算された塗布
パターンに基づいて、前述の第1の検査ラインIL1、
第2の検査ラインIL2および第1の検査ポイントP
1、第2の検査ポイントP2を含む検査情報を設定する
ための演算を行う。設定された検査情報は、第1の検査
ユニット9に送られ、データ記憶部9dに記憶される。
【0038】図4は、第1の検査ユニット9によって行
われる処理機能を示している。図4に示す各部の処理機
能は、プログラム記憶部9eに記憶された処理プログラ
ムを演算部9cによって実行することにより実現され
る。まず画像記憶部9bに記憶された画像データは、前
処理部22によって二値化、多値化などの画像処理が行
われ、ペースト3を撮像した範囲のみが抽出される(図
5参照)。
【0039】輝度分布検出処理部23は、データ記憶部
9dに記憶された検査情報25に基づいて設定される第
1の検査ラインIL1および第2の検査ラインIL2に
沿った輝度分布の検出、及び第1の検査ポイントP1お
よび第2の検査ポイントP2の輝度の検出を行う。判定
処理部24は、これらの輝度検出結果をデータ記憶部9
dに記憶された判定条件と比較することにより、塗布線
に沿って塗布されたペースト3の塗布状態が適正である
か否かを判定する。
【0040】すなわち、第1の検査ラインIL1上にお
いて、検出された輝度がペースト3に相当する輝度であ
る場合には当該検出点にはペースト3が塗布されている
と判断される。そして第1の検査ラインIL1に沿った
輝度分布により、塗布線の各位置において、ペーストの
かすれ、すなわちペースト塗布幅の下限許容値が確保さ
れているか否かを判断することができる。同様に、第2
の検査ラインIL2に沿った輝度分布により、ペースト
のはみ出し、すなわちペーストが塗布幅の上限許容値を
超えてはみ出しているか否かを判断することができる。
更に、塗布線の各端部に設定された第1の検査ポイント
P1、第2の検査ポイントP2の輝度により、各端部に
おいて下限許容値を下回らずかつ上限許容値を超えない
適正な塗布代Eが確保されているか否かを判断すること
ができる。
【0041】このダイボンディング装置は上記のように
構成されており、以下このダイボンディング装置におけ
るペースト塗布および塗布状態検査について説明する。
【0042】先ずペースト塗布の実行に先立って、塗布
パターンが生成される。この塗布パターンの生成は、ボ
ンディングされるチップ10のサイズを示すチップサイ
ズ情報15dに基づいて、塗布パターン演算処理部15
aによって行われる。そして、生成された塗布パターン
に基づいて、塗布ノズル6aを移動する移動テーブルの
動作パターンが、動作パターン演算処理部15bによっ
て設定される。これとともに、塗布パターンに基づい
て、前述の検査ライン、検査ポイントを含む検査情報
が、検査情報演算処理部15cによって設定される。
【0043】この後塗布動作が実行され、ペースト塗布
部4において塗布ノズル6aからペースト3を吐出する
とともに、塗布ノズル6aを動作パターンにしたがって
基板2に対して相対的に移動させ、ペースト3を基板2
に塗布する。ペースト塗布後には、ペースト3が塗布さ
れた基板2は第1のカメラ8によって撮像され、ペース
ト3の画像が取り込まれる。そして、取り込まれた画像
データは、第1の検査ユニット9によって検査処理さ
れ、第1の検査ラインIL1および第2の検査ラインI
L2上の輝度分布および第1の検査ポイントP1および
第2の検査ポイントP2の輝度により、ペースト3の塗
布状態を判定する。この判定条件26は、以下の(1)
〜(4)を全て満足した場合正常とする。
【0044】(1)第1の検査ラインIL1の画素のう
ち、ペースト3の輝度を有する画素の割合が A%以上
(90≦A≦100) (2)第2の検査ラインIL2の画素のうち、ペースト
3の輝度を有する画素の割合が B%以下 (0≦B≦
10) (3)全ての第1の検査ポイントP1の輝度が、ペース
ト3の輝度である。
【0045】(4)全ての第2の検査ポイントP2の輝
度が、ペースト3の輝度ではない。
【0046】(なお、この半定条件26は、あくまでも
一例に過ぎない) この後、塗布後の基板2はボンディング部5に搬送さ
れ、塗布状態が正常と判断されたペースト3上には、チ
ップ10がボンディングされる。
【0047】上記説明したように、本実施の形態に示す
粘性材料塗布においては、塗布後の塗布状態検査を、取
り込んだ画像上において予め設定された検査ライン上の
輝度分布、検査ポイントの輝度を検出することによって
行うようにしたものである。これにより、各塗布線の塗
布幅を画像上で計測することによって塗布状態を検査し
ていた従来の方法と比較して、画像認識に要する時間を
大幅に短縮することができ、塗布線の塗布幅、かすれな
どの塗布状態を効率よく検査することができる。
【0048】また、ボンディング対象のチップサイズに
応じて自動的に塗布パターンを生成し、この塗布パター
ンに応じて検査ライン及び検査ポイントの設定を自動的
に設定するようにしていることから、品種切り替えごと
に塗布状態検査に必要な検査情報をその都度設定・入力
する必要がなく、品種切り替え時の手間を削減すること
ができる。
【0049】
【発明の効果】本発明によれば、生成された塗布パター
ンに基づいて、塗布ノズルを移動する移動手段の動作パ
ターンおよび粘性材料の塗布状態を検査する塗布状態検
査において用いられる検査情報を設定し、動作パターン
に基づいて塗布を行った後には検査情報に基づいて塗布
状態検査を行うようにしたので、画像認識に要する時間
を短縮して効率のよい塗布状態検査を行うことができる
とともに、品種切り換え時の手間を削減することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態のダイボンディング装置
の機能ブロック図
【図2】本発明の一実施の形態のダイボンディング装置
の塗布状態検査ユニットの構成を示すブロック図
【図3】本発明の一実施の形態のダイボンディング装置
の制御部およびペースト塗布機構の構成を示すブロック
【図4】本発明の一実施の形態のダイボンディング装置
の塗布状態検査ユニットの機能ブロック図
【図5】本発明の一実施の形態の塗布状態検査方法を説
明する画像図
【符号の説明】
2 基板 3 ペースト 4 ペースト塗布部 5 ボンディング部 6 ディスペンサ 6a 塗布ノズル 7 ペースト塗布機構 8 第1のカメラ 9 第1の検査ユニット 15 制御部 15a 塗布パターン演算処理部 15b 動作パターン演算処理部 15c 検査情報演算処理部 IL1 第1の検査ライン IL2 第2の検査ライン L 中心線 P1 第1の検査ポイント P2 第2の検査ポイント
フロントページの続き Fターム(参考) 4D075 AC07 AC08 AC88 CA47 DA06 DC22 EA14 EA35 4F041 AA06 AB01 5F047 AA17 BB11 FA22 FA77

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】塗布ノズルから粘性材料を吐出させながら
    この塗布ノズルをワークに対して所定の塗布パターンに
    従って移動させることによって前記ワークに粘性材料を
    塗布する粘性材料塗布装置であって、前記塗布ノズルを
    ワークに対して相対的に移動させる移動手段と、前記塗
    布パターンを生成する塗布パターン生成手段と、生成さ
    れた塗布パターンに基づいて前記移動手段の動作パター
    ンを設定する動作パターン設定手段と、設定された動作
    パターンに基づいて前記移動手段を駆動する駆動手段
    と、前記動作パターンに基づいて塗布ノズルから粘性材
    料を吐出する吐出手段と、粘性材料が塗布されたワーク
    を撮像して得られた画像に基づき粘性材料の塗布状態を
    検査する検査手段と、この塗布状態の検査において用い
    られる検査情報を前記塗布パターンに基づいて設定する
    検査情報設定手段とを備えたことを特徴とする粘性材料
    塗布装置。
  2. 【請求項2】前記検査情報は、前記塗布パターンを構成
    する塗布線の中心線に平行であってこの中心線からそれ
    ぞれ第1の距離および第1の距離よりも遠い第2の距離
    だけ隔てた第1の検査ラインおよび第2の検査ラインを
    含むことを特徴とする請求項1記載の粘性材料塗布装
    置。
  3. 【請求項3】前記塗布パターン生成手段は、ワークにボ
    ンディングされる半導体チップのサイズに基づいて塗布
    パターンを生成することを特徴とする請求項1記載の粘
    性材料塗布装置。
  4. 【請求項4】前記駆動手段は、前記塗布ノズルを移動さ
    せる移動テーブルのX軸、Y軸、Z軸をそれぞれ駆動す
    ることを特徴とする請求項1記載の粘性材料塗布装置。
  5. 【請求項5】前記検査情報設定手段は、前記塗布パター
    ンを構成する塗布線における塗布ノズルの折り返し点か
    ら外側へそれぞれ第3の距離およびこの第3の距離より
    も遠い第4の距離だけ隔てた第1の検査ポイントおよび
    第2の検査ポイントをそれぞれ設定することを特徴とす
    る請求項2記載の粘性材料塗布装置。
  6. 【請求項6】塗布ノズルから粘性材料を吐出させながら
    この塗布ノズルをワークに対して所定の塗布パターンに
    従って移動させることによってワークに粘性材料を塗布
    する粘性材料塗布方法であって、前記塗布パターンを生
    成する工程と、生成された塗布パターンに基づいて塗布
    ノズルを移動する移動手段の動作パターンを設定する工
    程と、粘性材料が塗布されたワークを撮像して得られた
    画像に基づき粘性材料の塗布状態を検査する塗布状態検
    査において用いられる検査情報を前記塗布パターンに基
    づいて設定する工程と、前記塗布ノズルから粘性材料を
    吐出するとともに塗布ノズルを前記動作パターンにした
    がってワークに対して相対的に移動させて粘性材料をワ
    ークに塗布する工程と、粘性材料が塗布されたワークを
    撮像して画像を取り込む工程と、前記第1の検査ライン
    および第2の検査ライン上の輝度分布より前記粘性材料
    の塗布状態を判定する工程とを含むことを特徴とする粘
    性材料塗布方法。
  7. 【請求項7】前記検査情報は、前記塗布パターンを構成
    する塗布線の中心線に平行であってこの中心線からそれ
    ぞれ第1の距離および第1の距離よりも遠い第2の距離
    だけ隔てた第1の検査ラインおよび第2の検査ラインを
    含むことを特徴とする請求項6記載の粘性材料塗布方
    法。
  8. 【請求項8】前記塗布パターン生成において、ワークに
    ボンディングされる半導体チップのサイズに基づいて塗
    布パターンを生成することを特徴とする請求項6記載の
    粘性材料塗布方法。
  9. 【請求項9】前記塗布ノズルの移動は、前記塗布ノズル
    を移動させる移動テーブルのX軸、Y軸、Z軸をそれぞ
    れ駆動することによって行われることを特徴とする請求
    項6記載の粘性材料塗布方法。
  10. 【請求項10】前記検査情報設定において、前記塗布パ
    ターンを構成する塗布線における塗布ノズルの折り返し
    点から外側へそれぞれ第3の距離およびこの第3の距離
    よりも遠い第4の距離だけ隔てた第1の検査ポイントお
    よび第2の検査ポイントをそれぞれ設定し、塗布状態の
    判定において、第1の検査ポイントおよび第2の検査ポ
    イントの輝度より塗布状態の判定を行うことを特徴とす
    る請求項7記載の粘性材料塗布方法。
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