JP2003004991A - 光送受信モジュールとその製造方法 - Google Patents

光送受信モジュールとその製造方法

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JP2003004991A
JP2003004991A JP2001191738A JP2001191738A JP2003004991A JP 2003004991 A JP2003004991 A JP 2003004991A JP 2001191738 A JP2001191738 A JP 2001191738A JP 2001191738 A JP2001191738 A JP 2001191738A JP 2003004991 A JP2003004991 A JP 2003004991A
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optical
light
light receiving
optical fiber
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Hitomaro Togo
仁麿 東郷
Hiroaki Asano
弘明 浅野
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 複雑なプロセスが必要とする光導波路が不要
であり、かつ、小型で低価格な光送受信モジュールを提
供する。 【解決手段】 光ファイバコア15の途中を斜めに横切
るようにスリット16が形成され、スリットには波長選
択性フィルタ2が挿入されて固定され、受光素子5が波
長選択性フィルタに光結合される。発光素子7は光ファ
イバコアの先端面で光結合される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光ファイバ通信に
利用される光送受信モジュールとその製造方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】近年、メタリックケーブルに代わって高
速大容量の情報を低損失で伝送できる光ファイバ通信が
注目され、光デバイスの低価格化と高速化と共に高機能
化がますます求められている。一例として1本の光ファ
イバを用いて、上りと下りの光双方向伝送を異なる波長
λ1、λ2で実現する光通信方式の開発などが進められ
ているが、本方式の光モジュールには、発光素子と受光
素子と波長分離と合波機能部品などを集積化する技術が
必要である。
【0003】以下に、従来の光双方向モジュールの代表
例について説明する。従来は、受信波長λ1の信号を送
信波長λ2と分離するために、光導波路とWDM(波長
多重)フィルタを組合せた構造が一般的である。図13
は特開平11−68705号公報に記載されている、光
導波路を用いたWDM光双方向モジュールの従来構造を
示す。Si基板103上には光導波路102(102
a、102b、102c)がWDMフィルタ107を中
心としてスター状に形成され、光導波路102a、10
2b、102cの各一端に対してそれぞれ発光素子10
5、受光素子106、光ファイバ101を、入出射光を
光結合できるように2次元の高精度な位置合わせ(アラ
インメント)により実装する。発光素子105と受光素
子106の位置合わせは、Si基板上103にあらかじ
め高精度に形成したアライメントマーカ108を用いて
行うのが一般的である。
【0004】発光素子105の波長λ2の出力光は、光
導波路102aを介して伝送されてWDMフィルタ10
7で反射された後、光導波路102cを通って光ファイ
バ101へと導入される。ここで、光ファイバ101の
コアと光導波路102cの各先端面を光学的に結合でき
るように、光導波路102cの位置に対してSi基板1
03上に高精度にV形状の溝を加工しておき、V溝に沿
って光ファイバ101を位置合わせして固定するという
方法が一般的である。一方、光ファイバ101から伝送
されてきた波長λ1の光信号は、光導波路102cを介
して伝送されてWDMフィルタ107を透過し、光導波
路102bを介して受光素子106で受光する。受光素
子106はチップの側面方向から光入射することで受光
できる構造を有している。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記、従来例は以下の
問題を有していた。光導波路102を有する従来例は、
Si基板103上にV溝や位置合わせ用マーカ108だ
けでなく光導波路102を高精度に形成するための複雑
なプロセスが必要な上、Si基板103上に光導波路1
02a、102b、102cをWDMフィルタ107を
中心としてスター状に形成するので、Si基板103の
サイズが大きくなり、Si基板103自体の低価格化が
困難であるとともに、モジュールの小型化が困難であっ
た。
【0006】また、受光素子106は、光導波路102
bからの光をチップの素子側面に入射する構造であるの
で、光導波路102bと受光素子106の位置合わせを
するために1〜2μm程度の高精度の実装が必要とな
る。また、受光素子106や発光素子105などをSi
基板103上に効率的に実装するには、高温半田リフロ
ープロセスなどが必要のため、光学系の固定には耐熱性
に優れた樹脂を採用するとともに、リフロー実装を可能
とするため、高価なフェルール付きのモジュール構造に
する必要があった。
【0007】本発明は上記従来例の課題を解決するもの
で、複雑なプロセス及び大きな面積を必要とする光導波
路を不要にして小型で低価格な光送受信モジュールを提
供することを目的とする。本発明はまた、製造工程を簡
略化することができる光送受信モジュールの製造方法を
提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の光送受信モジュ
ールは上記目的を達成するために、光ファイバ芯線の途
中に前記光ファイバのコアを横切る斜めスリットを形成
し、前記スリットにフィルタ又はハーフミラーを挿入し
て受光素子及び発光素子の一方を光結合するとともに、
前記光ファイバコアの先端面に前記受光素子及び発光素
子の他方を光結合するように構成した(請求項1)。こ
の構成により、光導波路を必要とせずに1本の光ファイ
バで光送受信可能なモジュールを実現できる。また、光
ファイバ先端部及び斜め光入出射部にそれぞれ受光素子
及び発光素子の一方、他方を配置することにより、光フ
ァイバをV溝に沿って位置合わせして固定するだけで容
易にファイバ結合が実現できる。
【0009】また、本発明の光送受信モジュールは、前
記斜めスリットに第1の波長の光を反射して第1の波長
と異なる第2の波長の光を透過させる波長選択性フィル
タを挿入し、前記光ファイバを介して伝送されてきた第
1の波長の光信号を前記波長選択性フィルタにより反射
して前記受光素子により受光するととともに、前記光フ
ァイバコアの先端面に第2の波長で発振する前記発光素
子を光結合する構成とした(請求項2)。この構成によ
り、光導波路を必要とせずに1本の光ファイバで光送受
信可能なモジュールを実現できる。また、光ファイバ先
端部及び斜め光入出射部にそれぞれ発光素子、受光素子
を配置することにより、光ファイバをV溝に沿って位置
合わせして固定するだけで容易に高い光結合効率を得る
ことができる。
【0010】また、本発明の光送受信モジュールは、前
記光ファイバの少なくとも前記スリットが形成された部
分が第1の基板に形成された溝に埋め込まれている構成
とした(請求項3)。この構成により、光ファイバコア
に対して斜めに形成するスリットの加工時にファイバが
折れてしまうことを防ぐことができる。
【0011】また、本発明の光送受信モジュールは、前
記光ファイバの先端面までが前記第1の基板に形成され
た溝と、前記発光素子が実装された第2の基板のV溝に
より挟むように埋め込まれており、前記第1及び第2の
基板の各溝の深さが前記光ファイバ芯線の半径より小さ
い構成とした(請求項4)。この構成により、光ファイ
バの固定強度を上げることができ、また、固定強度をあ
げるために必要とするファイバ押さえ部品が不要とな
る。
【0012】また、本発明の光送受信モジュールは、前
記第2の基板が前記発光素子の光を吸収又は反射する材
料であり、かつ前記受光素子の受光部に前記発光素子の
光が直接入射しないように前記第2の基板の厚さ又はV
溝長さが形成されている構成とした(請求項5)。この
構成により、発光素子の出力光が受光素子に漏れ込むこ
とを防止することができ、送受信間の光アイソレーショ
ンを改善することができる。
【0013】また、本発明の光送受信モジュールは、前
記第1の基板が紫外線を透過させる材料であり、前記第
1の基板と前記受光素子及び第2の基板との間に紫外線
硬化樹脂を充填して紫外線を前記第1の基板を介して前
記樹脂に照射することにより硬化・固定する構成とした
(請求項6)。この構成により、光結合効率を劣化する
ことなくファイバ埋め込み基板を強固に固定することが
できる。
【0014】また、本発明の光送受信モジュールは、前
記発光素子が端面出射型であって前記発光素子が実装さ
れた第2の基板が第3の基板上に実装されるとともに、
前記受光素子がPN電極を有する電極面と反対側の面か
ら光を入射させる裏面入射型構造であって前記第3の基
板にフリップチップ実装されている構成とした(請求項
7)。この構成により、高周波特性に優れた光受信回路
を含む光送受信モジュールが実現できる。また、上記従
来例の受光素子は、素子側面から光入射する導波路タイ
プの構造であったため、1〜2μm程度の高精度の実装
が必要であったが、裏面入射構造の受光素子の受光径は
通常50〜100μmであり、光ファイバとの結合は、
発光素子に比べて高精度な位置合わせは必要としないた
め、受光素子及びSi基板の電気回路基板上の実装が容
易となる。
【0015】また、本発明の光送受信モジュールは、前
記受光素子の受光部が前記光ファイバの光軸方向と直交
する2次元平面において異方性を持つ形状を有する構成
とした(請求項8)。この構成により、斜めスリット内
のフィルタ又はハーフミラーで反射した信号光の形状が
ファイバ光軸方向と直交する2次元平面に広がった楕円
であっても、効率よく受光素子に受光させることができ
る。
【0016】また、本発明の光送受信モジュールは、セ
ラミックの前記第3の基板上に回路パターンと位置合わ
せされて同時に形成された位置調整用マーカを基準とし
て、前記第2の基板と前記受光素子を前記第3の基板上
に位置合わせして実装する構成とした(請求項9)。こ
の構成により、電気回路基板の高周波特性が改善するこ
とができると同時に、位置調整マーカを精度よく形成す
るための工程を追加する必要がなく、放熱性にも優れた
モジュールを実現することができる。
【0017】また、本発明の光送受信モジュールは、前
記第3の基板の光送信回路と光受信回路のグランドパタ
ーンが分離されているとともに、前記光受信回路の周囲
を囲む上面グランドパターンと下面グランドパターンを
複数のスルーホールで電気的に接続した構成とした(請
求項10)。この構成により、受光回路部の電気的シー
ルド効果を改善することができる。
【0018】また、本発明の光送受信モジュールは、前
記第3の基板の上面に形成されたグランド線と信号線が
ビアホールを通って前記第3の基板の下面のパターンに
接続されており、さらに前記第3の基板を半田を介して
第4の基板上に実装した構成とした(請求項11)。こ
の構成により、モジュール制御用の第4の基板上の他の
素子と同時にセラミックの第3の基板を半田リフロー実
装することができるとともに、第3、第4の基板の間は
ボンディングワイヤやリード線を必要としないことか
ら、高周波特性に優れている。
【0019】また、本発明の光送受信モジュールの製造
方法は、光送受信モジュールを作成した後に、送受信信
号光を透過しない樹脂で少なくとも前記受光素子の上部
を覆うようにポッティングする構成とした(請求項1
2)。この構成により、発光素子の出力光が受光素子に
漏れこむことを防止することができるので、送受信間の
光アイソレーションを改善することができる。
【0020】また、本発明の光送受信モジュールの製造
方法は、光送受信モジュールを作成した後に、前記光フ
ァイバの他端に光コネクタを光結合する構成とした(請
求項13)。この構成により、光ファイバはV溝に固定
するだけの無調整の簡略化された工程のため、モジュー
ル実装したのちに光ファイバ固定が可能であり、モジュ
ール実装工程が簡略化されるとともに、高価な耐熱性樹
脂やフェルールが不要となる。
【0021】また、本発明の光送受信モジュールの製造
方法は、前記第1の基板より大きな主基板上に複数のフ
ァイバ埋め込み用溝と切断用の溝を交互にかつ平行に同
一のダイシング工程で形成するステップと、前記複数の
ファイバ埋め込み用溝のそれぞれに光ファイバを埋め込
んで固定するステップと、前記複数のファイバ埋め込み
用溝にそれぞれ埋め込まれた複数の光ファイバに同時に
前記斜めスリットを形成するステップと、前記斜めスリ
ットに前記フィルタ又はハーフミラーを挿入するステッ
プと、前記複数の光ファイバの先端面と前記主基板の先
端面を同時に切断するステップと、前記切断用の溝を切
断して複数の前記第1の基板を作成するステップとを、
有するようにした(請求項14)。上記製造方法によ
り、斜め光入出射機能を有する複数のファイバ埋め込み
基板を一括で製造することができ、製造効率が向上す
る。また、ファイバ端面切断工程をスリット加工工程と
同一のプロセスで実施でき、製造工程が簡略化される。
さらに複数の光ファイバの先端面と前記主基板の先端面
を同時に切断するので、製造工程が簡略化される。
【0022】また、本発明の光送受信モジュールの製造
方法は、前記複数の光ファイバの先端面と前記主基板の
先端面を同時に切断するステップが、少なくとも2本の
光ファイバの他方の端面から光を入射して前記斜めスリ
ットによる散乱光を基準位置として所定の距離の前記複
数の光ファイバの先端面と前記主基板の先端面を同時に
切断するステップを有するようにした(請求項15)。
上記製造方法により、スリット位置からファイバ先端面
までの距離の精度が向上する。
【0023】また、本発明の光送受信モジュールの製造
方法は、前記斜めスリットを形成するステップ及び前記
斜めスリットに前記フィルタ又はハーフミラーを挿入す
るステップが、前記光ファイバが埋め込まれた主基板の
上にダミー基板を重ねて前記ダミー基板側からダイシン
グソーを用いて前記ダミー基板側を分割するとともに前
記斜めスリットを形成するステップと、分割されたダミ
ー基板の一方を取り去るステップと、残ったダミー基板
の分割面をガイド面として前記フィルタ又はハーフミラ
ーを前記スリットに挿入するステップとを、有するよう
にした(請求項16)。上記製造方法により、フィルタ
又はハーフミラーをスリットに挿入しやすくなり、製造
効率が向上する。
【0024】
【発明の実施の形態】(実施の形態1)以下、図面を参
照して本発明の実施の形態について説明する。図1は本
発明の実施の形態1における波長多重光送受信モジュー
ルを示す構成図、図2は図1のファイバ埋め込み基板を
示す側面図及び正面図、図3は発光素子と受光素子の光
結合部を示す拡大断面図である。
【0025】図1において、セラミック基板9上には、
光ファイバ芯線(以下単に光ファイバという)1内のコ
ア15を介して伝送されてきた波長λ1の光信号を光フ
ァイバコア15の途中で受信するための受光素子5(及
びプリアンプ6)が実装されている。セラミック基板9
上にはまた、V溝付きのSi基板(以下単にSi基板と
いう)4が実装され、Si基板4上には、光ファイバコ
ア15の先端面に波長λ2の光信号を送信するための発
光素子7(及びそのモニタ用受光素子8)が実装されて
いる。受光素子5と発光素子7(及びモニタ用受光素子
8)は、光ファイバ1に沿って直線上に配置されてい
る。
【0026】図2(a)はファイバ埋め込み基板3の左
側面を示し、図2(b)は正面図を示している。光ファ
イバ1は図2に詳しく示すように、ガラスや樹脂などの
紫外線(UV)を透過するファイバ埋め込み基板3に形
成された溝14に埋め込まれて固定されるとともに、光
ファイバコア15の途中を斜めに横切るようにダイシン
グソーを用いてスリット16が形成され、スリット16
には波長選択性フィルタ2が挿入されて固定されてい
る。スリット16と、光ファイバ1の平坦に加工された
先端面との間の距離Aは、受光素子5と発光素子7の間
の距離に相当するあらかじめ定められた距離になるよう
に加工されている。
【0027】ここで、発光素子7及びモニタ用受光素子
8は、後述するV溝が形成されたSi基板4上に形成さ
れた位置調整用マーカ13a、13bを用いてSi基板
4上に高精度に位置合わせして実装する。また、受光素
子5は裏面入射型であり、セラミック基板9上に形成さ
れたアライメントマーカ12a、12bを利用してセラ
ミック基板9上に高精度に位置合わせしてフリップチッ
プ実装する。同時に、プリアンプ6もセラミック基板9
上にフリップチップ実装することで受光素子5との距離
を短くすることができ、良好な高周波特性が得られる。
【0028】図3は発光素子7と受光素子5の光結合部
の拡大断面図である。発光素子7の光結合部は従来のV
溝を利用した光結合方法と同様であり、Si基板4に高
精度に加工されたV溝に光ファイバ1を挿入して固定す
る。発光素子7は端面出射型のレーザであり、出射光が
光ファイバコア15に光導入できるように、あらかじめ
V溝の深さ及び位置が形成されている。
【0029】受光素子5は受光径が50〜100μmの
裏面入射型の構造を有する。受光素子5はファイバ埋め
込み基板3の波長選択性フィルタ2の真下に配置され、
波長選択性フィルタ2で反射された波長λ1の光信号を
受光する。受光素子5と発光素子7の出射端面との距離
が図2に示す距離Aと等しくなるように設計されている
ので、光ファイバ1をV溝に沿って固定するだけで、無
調整で発光素子7及び受光素子5の光結合が同時に行わ
れる構造となっている。
【0030】なお、図3に示すようにセラミック基板9
に対して、受光素子5は半田バンプ17を介して、Si
基板4は接着剤18を介して実装される。また、図1に
示すように光ファイバ1のSi基板4に対する固定はフ
ァイバ固定補強部品11により補強され、また、Si基
板4上の発光素子7及びモニタ用受光素子8は、ボンデ
ィングワイヤ10を介してセラミック基板9の導電パタ
ーンに電気的に接続される。
【0031】(実施の形態2)次に図4〜図7を参照し
て本発明の実施の形態2について説明する。図4は実施
の形態2における光送受信モジュールの構成図である。
受光素子5、発光素子7、Si基板4と光学系の基本構
成は上記実施の形態1と同様であるので、異なる点のみ
について詳しく説明する。図5は図4のファイバ埋め込
み基板3aの正面図であり、先端の光ファイバ被覆19
が除去された光ファイバ1はその先端までファイバ埋め
込み基板3aに埋め込まれている。また、光ファイバ被
覆19は一部がファイバ埋め込み基板3aに埋め込まれ
ている。
【0032】図6はSi基板4とファイバ埋め込み基板
3aの各V溝部の側面図である。ファイバ埋め込み基板
3a及びSi基板4の各V溝は、光ファイバ1の半分以
上が下部、上部にそれぞれ露出するように浅く加工す
る。これにより、Si基板4とファイバ埋め込み基板3
aを、光ファイバ1を挟んで重ね合わせることができ、
実施の形態1のファイバ固定補強部品11が不要とな
る。ファイバ埋め込み基板3aと受光素子5の隙間は出
来るだけ狭くなるように、Si基板4の高さを設計して
おき、その隙間全体に光ファイバ1と屈折率が等しいU
V(紫外線)硬化樹脂20を充填し、UV光をファイバ
埋め込み基板3aを介してUV硬化樹脂20に照射して
硬化させることにより、ファイバ埋め込み基板3aを固
定する。実施の形態1よりも固定強度が向上するととも
に、光ファイバ1と空気層での反射損失が低減できる。
また、光ファイバ1の光ファイバ被覆19とファイバ埋
め込み基板3aが重なる部分を接着剤を用いて固定する
ことにより、光ファイバ1の固定部の根元の強度が向上
する。
【0033】図7は受光素子5の受光部21の構造図を
示す。波長選択性フィルタ2で反射した光が受光素子5
に対して垂直入射すると反射戻り光が発生するため、斜
め方向から入射させることが望ましい。また、光ファイ
バ1からの出射光はファイバ光軸と直交する面において
楕円形状をしているので、受光素子5の受光部21の形
状を、素子容量が大きくなりすぎない程度に、出射光の
ビームと同様の楕円に近い形状で受光部面積を広げるこ
とによって効率よく受光することができる。
【0034】図8は本発明の実施の形態における光送受
信モジュールとその光送受信モジュールをモジュール制
御樹脂基板24上に実装する方法を説明するための構成
図である。セラミック基板9上に形成した光送受信モジ
ュールの構成は、実施の形態2と同様である。光ファイ
バ1の他端には光コネクタ26が結合され、いわゆるピ
グテール構造を有している。ファイバピグテールは耐熱
性が低いため、半田リフロー工程に耐えられないため、
光素子が実装されているセラミック基板9をモジュール
制御基板(樹脂基板)24に実装した後に、光コネクタ
26を光ファイバ1に対して結合を行う。これにより、
モジュール実装に半田リフロー実装を適用することがで
き、生産効率が向上する。
【0035】セラミック基板9上のパターンはビアホー
ル22を通して裏面パッドに電気的に接続されており、
チップサイズパッケージ(CSP)などと同様の半田接
合方法で、半田23を介してモジュール制御樹脂基板2
4上の基板パターン25上に電気的固定が可能である。
なお、上記実施の形態1や2で説明したように光ファイ
バ結合は、V溝に無調整で容易に固定することができ
る。
【0036】図9は本発明の実施の形態2における光受
信回路周辺の構成図であり、図9(a)は側面図、図9
(b)は平面図である。受光素子5とプリアンプ6の周
囲を囲うように、光送信回路とは独立したグランドパタ
ーン26aをセラミック基板9上に形成する。さらにグ
ランドパターン26aは複数のビアホール22を通って
裏面グランドパターン(不図示)に接続する。これよ
り、光受信回路の近くに配置されている光送信回路から
の電気的なクロストークを改善することができる。ま
た、受信回路部の上を光を透過しない樹脂(光遮蔽用樹
脂)27で覆うことにより、送信光が受光素子5に漏れ
こむことを防止して光クロストークが改善される。
【0037】図10は本発明の実施の形態2における受
光素子5とV溝付きSi基板4の正面図を示す。発光素
子7の出射光28が図示されているように、Si基板4
の端で遮られるように、受光素子5を近づけて実装す
る。これにより、光のクロストークが改善される。
【0038】(製造方法)図11(1)〜(4)は本発
明の実施の形態2におけるファイバ埋め込み基板3aの
製造方法を示す工程概略図である。まず、図11(1)
に示すように、複数のファイバ埋め込み基板3aを構成
する主基板にダイシングで等間隔にファイバ埋め込み用
溝3−1と基板分割用溝3−2を交互に形成し、次に図
11(2)に示すようにファイバ埋め込み用溝3−1に
光ファイバ1を固定する。
【0039】次いで図11(3)に示すようにダイシン
グソーによりスリット16及び光ファイバ1の先端面切
断の加工を行い、スリット16に波長選択性フィルタ2
を挿入して固定する。次いで図11(4)に示すように
基板分割溝3−2を切断して複数のファイバ埋め込み基
板3aを作成する。これにより、複数のファイバ埋め込
み基板3aを一括で製造できる。分割溝3−2とファイ
バ埋め込み溝3−1、さらにスリット16と光ファイバ
1の先端面の加工を同一のダイシングプロセスで実現で
き、製造工程が簡略化されている。
【0040】次に、図11(3)に示す工程においてス
リット16の位置と光ファイバ1の先端面の距離Aを精
度よく加工する方法を説明する。スリット加工をした後
に、2本の光ファイバ1へ外から光を注入すると光ファ
イバコア15とスリット加工面に接している部分の2箇
所で光散乱する。この2つの散乱光を基準位置として光
ファイバ1の先端面を切断することによって、スリット
16から所定の距離Aの位置に精度よく垂直な光ファイ
バ1の先端面を形成することができる。
【0041】図12(1)〜(3)は本発明の実施の形
態2におけるスリット16に波長選択性フィルタ2を挿
入する製造工程を示す。まず、図12(1)に示すよう
に、ファイバ埋め込み基板3aにダミー基板29を重ね
た状態で、ダミー基板29側からファイバ埋め込み基板
3aの内部まで斜めにそれぞれスリット30、16の加
工を行う。次に図12(2)に示すように、スリット加
工により分割されたダミー基板29の片側を除去したの
ち、ダミー基板29の斜面をガイド面として波長選択性
フィルタ2をスリット16に挿入した後、固定を行う。
ダミー基板29を利用することで、膜厚の薄い波長選択
性フィルタ2を効率よくスリット16に挿入することが
できる。
【0042】上記の実施の形態では、2波長を透過、分
波する波長多重モジュールを実現するために、スリット
16に波長選択性フィルタ2を挿入した構成について説
明したが、波長選択性フィルタ2の代わりにハーフミラ
ーを挿入することにより、1波長を透過、反射する光送
受信モジュールにも適用することができる。
【0043】
【発明の効果】以上説明したように請求項1に記載の発
明によれば、光導波路を必要とせずに1本の光ファイバ
で光送受信可能なモジュールを実現できる。また、光フ
ァイバ先端部及び斜め光入出射部にそれぞれ受光素子及
び発光素子の一方、他方を配置することにより、光ファ
イバをV溝に沿って位置合わせして固定するだけで容易
にファイバ結合が実現できる。請求項2に記載の発明に
よれば、光導波路を必要とせずに1本の光ファイバで光
送受信可能なモジュールを実現できる。また、光ファイ
バ先端部及び斜め光入出射部にそれぞれ発光素子、受光
素子を配置することにより、光ファイバをV溝に沿って
位置合わせして固定するだけで容易に高い光結合効率を
得ることができる。請求項3に記載の発明によれば、光
ファイバコアに対して斜めに形成するスリットの加工時
にファイバが折れてしまうことを防ぐことができる。請
求項4に記載の発明によれば、光ファイバの固定強度を
上げることができ、また、固定強度をあげるために必要
とするファイバ押さえ部品が不要となる。請求項5に記
載の発明によれば、発光素子の出力光が受光素子に漏れ
こむことを防止することができ、送受信間の光アイソレ
ーションを改善することができる。請求項6に記載の発
明によれば、光結合効率を劣化することなくファイバ埋
め込み基板を強固に固定することができる。請求項7に
記載の発明によれば、高周波特性に優れた光受信回路を
含む光送受信モジュールが実現できる。また、受光素子
と光ファイバとの光結合は、発光素子に比べて高精度な
位置合わせは必要としないため、受光素子及びSi基板
の電気回路基板上の実装が容易となる。請求項8に記載
の発明によれば、斜めスリット内のフィルタ又はハーフ
ミラーで反射した信号光の形状がファイバ光軸方向と直
交する2次元平面に広がった楕円であっても、効率よく
受光素子に受光させることができる。請求項9に記載の
発明によれば、電気回路基板の高周波特性が改善するこ
とができると同時に、位置調整マーカを精度よく形成す
るための工程を追加する必要がなく、放熱性にも優れた
モジュールを実現することができる。請求項10に記載
の発明によれば、受光回路部の電気的シールド効果を改
善することができる。請求項11に記載の発明によれ
ば、モジュール制御用の第4の基板上の他の素子と同時
にセラミックの第3の基板を半田リフロー実装すること
ができるとともに、第3、第4の基板の間はボンディン
グワイヤやリード線を必要としないことから、高周波特
性に優れている。請求項12に記載の発明によれば、発
光素子の出力光が受光素子に漏れこむことを防止するこ
とができるので、送受信間の光アイソレーションを改善
することができる。請求項13に記載の発明によれば、
光ファイバはV溝に固定するだけの無調整の簡略化され
た工程のため、モジュール実装したのちに光ファイバ固
定が可能であり、モジュール実装工程が簡略化されると
ともに、高価な耐熱性樹脂やフェルールが不要となる。
請求項14に記載の発明によれば、斜め光入出射機能を
有する複数のファイバ埋め込み基板を一括で製造するこ
とができ、製造効率が向上する。また、ファイバ端面切
断工程をスリット加工工程と同一のプロセスで実施で
き、製造工程が簡略化される。さらに複数の光ファイバ
の先端面と主基板の先端面を同時に切断するので、製造
工程が簡略化される。請求項15に記載の発明によれ
ば、スリット位置からファイバ先端面までの距離の精度
が向上する。請求項16に記載の発明によれば、フィル
タ又はハーフミラーをスリットに挿入しやすくなり、製
造効率が向上する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態1における波長多重光送受
信モジュールを示す構成図
【図2】図1の実施の形態1におけるファイバ埋め込み
基板を示す図 (a)側面図 (b)正面図
【図3】図1の実施の形態1における発光素子と受光素
子の光結合部を示す拡大正面図
【図4】本発明の実施の形態2における波長多重光送受
信モジュールを示す構成図
【図5】図4の光学系を示す拡大正面図
【図6】図4の光ファイバの固定部を示す側面図
【図7】図4の受光素子の周辺を示す図 (a)正面図 (b)平面図
【図8】本発明の光送受信モジュールを樹脂基板に実装
した場合の概略構成を示す正面図
【図9】図4の受光素子の周辺を示す図 (a)側面図 (b)平面図
【図10】本発明の実施の形態2におけるSi基板の構
成を示す正面図
【図11】本発明の実施の形態2におけるファイバ埋め
込み基板の製造方法を示す工程図 (1)溝のダイシング工程 (2)ファイバ固定工程 (3)スリット加工工程(4)切断工程
【図12】本発明の実施の形態2におけるフィルタ挿入
方法を示す工程図 (1)スリット形成工程 (2)スリット挿入工程 (3)スリット固定工程
【図13】従来の光送受信モジュールの概略構成を示す
斜視図
【符号の説明】
1 光ファイバ芯線 2 波長選択性フィルタ 3、3a ファイバ埋め込み基板 4 V溝付きSi基板 5 受光素子 6 プリアンプ 7 発光素子 8 モニタ用受光素子 9 セラミック基板 10 ボンディングワイヤ 11 ファイバ固定補強部品 12 位置調整用マーカ 13 V溝基板上位置調整用マーカ 14 ファイバ埋め込み溝 15 光ファイバコア 16、30 スリット 17 半田バンプ 18 接着剤 19 光ファイバ被覆 20 UV(紫外線)硬化樹脂 21 受光部 22 ビアホール 23 半田 24 モジュール制御樹脂基板 25 基板パターン 26 光コネクタ 27 光遮蔽用樹脂 28 発光素子出力光 29 ダミー基板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05K 7/00 Fターム(参考) 2H037 AA01 BA02 BA11 CA37 DA04 DA06 DA12 4E352 AA08 AA17 BB04 BB10 CC54 DR19 DR34 GG12 GG17 GG20 5F073 AB15 AB28 AB30 BA02 FA13 FA23 FA27 5F088 AA01 BA15 BA16 BB01 JA03 JA10 JA13 JA14 5K002 AA05 AA07 BA00 BA04 BA21 FA01

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光ファイバ芯線の途中に前記光ファイバ
    のコアを横切る斜めスリットを形成し、前記スリットに
    フィルタ又はハーフミラーを挿入して受光素子及び発光
    素子の一方を光結合するとともに、前記光ファイバコア
    の先端面に前記受光素子及び発光素子の他方を光結合す
    るように構成した光送受信モジュール。
  2. 【請求項2】 前記斜めスリットに第1の波長の光を反
    射して第1の波長と異なる第2の波長の光を透過させる
    波長選択性フィルタを挿入し、前記光ファイバを介して
    伝送されてきた第1の波長の光信号を前記波長選択性フ
    ィルタにより反射して前記受光素子により受光するとと
    ともに、前記光ファイバコアの先端面に第2の波長で発
    振する前記発光素子を光結合した請求項1に記載の光送
    受信モジュール。
  3. 【請求項3】 前記光ファイバの少なくとも前記スリッ
    トが形成された部分が第1の基板に形成された溝に埋め
    込まれている請求項1又は2に記載の光送受信モジュー
    ル。
  4. 【請求項4】 前記光ファイバの先端面までが前記第1
    の基板に形成された溝と、前記発光素子が実装された第
    2の基板のV溝により挟むように埋め込まれており、前
    記第1及び第2の基板の各溝の深さが前記光ファイバ芯
    線の半径より小さい請求項1から3のいずれか1つに記
    載の光送受信モジュール。
  5. 【請求項5】 前記第2の基板が前記発光素子の光を吸
    収又は反射する材料であり、かつ前記受光素子の受光部
    に前記発光素子の光が直接入射しないように前記第2の
    基板の厚さ又はV溝長さが形成されている請求項4に記
    載の光送受信モジュール。
  6. 【請求項6】 前記第1の基板が紫外線を透過させる材
    料であり、前記第1の基板と前記受光素子及び第2の基
    板との間に紫外線硬化樹脂を充填して紫外線を前記第1
    の基板を介して前記樹脂に照射することにより硬化・固
    定する請求項4又は5に記載の光送受信モジュール。
  7. 【請求項7】 前記発光素子が端面出射型であって前記
    発光素子が実装された第2の基板が第3の基板上に実装
    されるとともに、前記受光素子がPN電極を有する電極
    面と反対側の面から光を入射させる裏面入射型構造であ
    って前記第3の基板にフリップチップ実装されている請
    求項1から6のいずれか1つに記載の光送受信モジュー
    ル。
  8. 【請求項8】 前記受光素子の受光部が前記光ファイバ
    の光軸方向と直交する2次元平面において異方性を持つ
    形状を有する請求項1から7のいずれか1つに記載の光
    送受信モジュール。
  9. 【請求項9】 セラミックの前記第3の基板上に回路パ
    ターンと位置合わせされて同時に形成された位置調整用
    マーカを基準として、前記第2の基板と前記受光素子を
    前記第3の基板上に位置合わせして実装する請求項7又
    は8に記載の光送受信モジュール。
  10. 【請求項10】 前記第3の基板の光送信回路と光受信
    回路のグランドパターンが分離されているとともに、前
    記光受信回路の周囲を囲む上面グランドパターンと下面
    グランドパターンを複数のスルーホールで電気的に接続
    した請求項7から9のいずれか1つに記載の光送受信モ
    ジュール。
  11. 【請求項11】 前記第3の基板の上面に形成されたグ
    ランド線と信号線がビアホールを通って前記第3の基板
    の下面のパターンに接続されており、さらに前記第3の
    基板を半田を介して第4の基板上に実装した請求項7か
    ら10のいずれか1つに記載の光送受信モジュール。
  12. 【請求項12】 請求項1から11のいずれか1つに記
    載の光送受信モジュールを作成した後に、送受信信号光
    を透過させない樹脂で少なくとも前記受光素子の上部を
    覆うようにポッティングする光送受信モジュールの製造
    方法。
  13. 【請求項13】 請求項1から12のいずれか1つに記
    載の光送受信モジュールを作成した後に、前記光ファイ
    バの他端に光コネクタを光結合する光送受信モジュール
    の製造方法。
  14. 【請求項14】 請求項1から13のいずれか1つに記
    載の光送受信モジュールを製造する方法であって、前記
    第1の基板より大きな主基板上に複数のファイバ埋め込
    み用溝と切断用の溝を交互にかつ平行に同一のダイシン
    グ工程で形成するステップと、前記複数のファイバ埋め
    込み用溝のそれぞれに光ファイバを埋め込んで固定する
    ステップと、前記複数のファイバ埋め込み用溝にそれぞ
    れ埋め込まれた複数の光ファイバに同時に前記斜めスリ
    ットを形成するステップと、前記斜めスリットに前記フ
    ィルタ又はハーフミラーを挿入するステップと、前記複
    数の光ファイバの先端面と前記主基板の先端面を同時に
    切断するステップと、前記切断用の溝を切断して複数の
    前記第1の基板を作成するステップとを、有する光送受
    信モジュールの製造方法。
  15. 【請求項15】 前記複数の光ファイバの先端面と前記
    主基板の先端面を同時に切断するステップは、少なくと
    も2本の光ファイバの他方の端面から光を入射して前記
    斜めスリットによる散乱光を基準位置として所定の距離
    の前記複数の光ファイバの先端面と前記主基板の先端面
    を同時に切断するステップを有する請求項14に記載の
    光送受信モジュールの製造方法。
  16. 【請求項16】 前記斜めスリットを形成するステップ
    及び前記斜めスリットに前記フィルタ又はハーフミラー
    を挿入するステップは、前記光ファイバが埋め込まれた
    主基板の上にダミー基板を重ねて前記ダミー基板側から
    ダイシングソーを用いて前記ダミー基板側を分割すると
    ともに前記斜めスリットを形成するステップと、分割さ
    れた前記ダミー基板の一方を取り去るステップと、残っ
    た前記ダミー基板の分割面をガイド面として前記フィル
    タ又はハーフミラーを前記スリットに挿入するステップ
    とを、有する請求項14又は15に記載の光送受信モジ
    ュールの製造方法。
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