JP2003003042A - Epoxy resin composition and semiconductor device - Google Patents

Epoxy resin composition and semiconductor device

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JP2003003042A
JP2003003042A JP2001188245A JP2001188245A JP2003003042A JP 2003003042 A JP2003003042 A JP 2003003042A JP 2001188245 A JP2001188245 A JP 2001188245A JP 2001188245 A JP2001188245 A JP 2001188245A JP 2003003042 A JP2003003042 A JP 2003003042A
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JP
Japan
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epoxy resin
resin composition
weight
total
mold
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JP2001188245A
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Japanese (ja)
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Kenji Samejima
賢至 鮫島
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Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an epoxy resin composition for sealing a full-mold type power-transistor having properties for improving wet-corrosion resistance of an aluminum-wire and for decreasing the stain of a mold. SOLUTION: The epoxy resin composition for sealing a full-mold type power- transistor comprises (A) an epoxy resin, (B) a phenol resin, (C) a crystal silica, (D) an accelerator and (E) aluminum stearate and other release agents, as essential components. The epoxy resin composition contains 0.30-0.50 wt.% of a total formulated amount of aluminum stearate and other release agents in a total epoxy resin composition, aluminum stearate being 0.01-0.20 wt.% of the total epoxy resin composition, and 75-83 wt.% of a crystalline silica in the total epoxy resin composition.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は耐湿性、成形性に優
れた特性を有するフルモールド型パワートランジスタ封
止用エポキシ樹脂組成物に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a full-mold type epoxy resin composition for encapsulating a power transistor having excellent moisture resistance and moldability.

【0002】[0002]

【従来の技術】フルモールド型パワートランジスタ素子
は、絶縁のため金属製の放熱板全体を樹脂組成物でフル
モールドするタイプで、放熱板を被覆している樹脂組成
物の硬化物に熱伝導性が要求されるため、無機充填材に
は熱伝導性に優れた結晶シリカを用い、エポキシ樹脂と
フェノール樹脂の組み合わせによるエポキシ樹脂組成物
で封止されている。このエポキシ樹脂組成物中には、通
常離型剤として天然系ワックスや合成ワックスが使用さ
れている。一方パワートランジスタ素子は大電流を流す
ため、直径が50〜200μmのアルミワイヤーをリー
ドピンとの電気的接合に使用している。このアルミワイ
ヤーは金線に比べ水分、不純物により腐食されやすいと
いう問題があり、プレッシャークッカー試験条件下でア
ルミワイヤーの腐食による素子不良や成形工程において
連続成形後の金型汚れが発生したりして、現状のエポキ
シ樹脂組成物では十分満足されているとは言えず、アル
ミワイヤーの腐食防止及び成形時の金型汚れの少ないエ
ポキシ樹脂組成物が求められている。
2. Description of the Related Art A full-mold type power transistor element is a type in which the entire metal heat sink is fully molded with a resin composition for insulation, and the cured product of the resin composition coating the heat sink has thermal conductivity. Therefore, crystalline silica having excellent thermal conductivity is used as the inorganic filler, and the inorganic filler is sealed with an epoxy resin composition that is a combination of an epoxy resin and a phenol resin. In this epoxy resin composition, a natural wax or a synthetic wax is usually used as a release agent. On the other hand, since the power transistor element allows a large current to flow, an aluminum wire having a diameter of 50 to 200 μm is used for electrical connection with the lead pin. This aluminum wire has a problem that it is more likely to be corroded by moisture and impurities than a gold wire.Therefore, element failure due to corrosion of the aluminum wire under the pressure cooker test conditions and mold contamination after continuous molding in the molding process may occur. However, it cannot be said that the current epoxy resin composition is sufficiently satisfactory, and there is a demand for an epoxy resin composition which prevents corrosion of aluminum wires and has less mold stains during molding.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、この様な問
題に対して、アルミワイヤーの腐食防止及び成形時の金
型汚れの少ない特性を有するフルモールド型パワートラ
ンジスタ封止用エポキシ樹脂組成物を提供するものであ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention addresses these problems by providing a full-mold type epoxy resin composition for encapsulating a power transistor, which has the characteristics of preventing corrosion of aluminum wires and less of mold contamination during molding. Is provided.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明は、(A)エポキ
シ樹脂、(B)フェノール樹脂、(C)結晶シリカ、
(D)硬化促進剤及び(E)ステアリン酸アルミニウム
及び他の離型剤を必須成分とするエポキシ樹脂組成物で
あって、ステアリン酸アルミニウム及び他の離型剤の総
配合量が全エポキシ樹脂組成物中0.30〜0.50重
量%、かつステアリン酸アルミニウムが全エポキシ樹脂
組成物中0.01〜0.20重量%で、結晶シリカが全
エポキシ樹脂組成物中75〜83重量%であることを特
徴とするパワートランジスタ封止用エポキシ樹脂組成物
及び半導体装置である。
The present invention provides (A) epoxy resin, (B) phenol resin, (C) crystalline silica,
An epoxy resin composition comprising (D) a curing accelerator and (E) aluminum stearate and another release agent as essential components, wherein the total amount of aluminum stearate and the other release agent is the total epoxy resin composition. 0.30 to 0.50% by weight, aluminum stearate is 0.01 to 0.20% by weight in the total epoxy resin composition, and crystalline silica is 75 to 83% by weight in the total epoxy resin composition. An epoxy resin composition for encapsulating a power transistor and a semiconductor device characterized by the above.

【0005】[0005]

【発明の実施の形態】本発明に用いられるエポキシ樹脂
は、1分子中にエポキシ基を2個以上有するモノマー、
オリゴマー、ポリマー全般を言い、例えばビフェニル型
エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン変性フェノール型
エポキシ樹脂、ビスフェノール型エポキシ樹脂、スチル
ベン型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ
樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、トリフェ
ノールメタン型エポキシ化合物、アルキル変性トリフェ
ノールメタン型エポキシ樹脂及びトリアジン核含有エポ
キシ樹脂等が挙げられ、これらは単独でも混合して用い
ても差し支えない。樹脂粘度は充填材配合量が増加する
に従いより低粘度のものが選ばれる。本発明においては
通常成形性と信頼性のバランスでクレゾールノボラック
型エポキシ樹脂が好ましい。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The epoxy resin used in the present invention is a monomer having two or more epoxy groups in one molecule,
Oligomer or polymer in general, for example, biphenyl type epoxy resin, dicyclopentadiene modified phenol type epoxy resin, bisphenol type epoxy resin, stilbene type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, triphenol methane type epoxy compound Examples thereof include alkyl-modified triphenol methane type epoxy resin and triazine nucleus-containing epoxy resin, and these may be used alone or in combination. The resin viscosity is selected to be lower as the filler content increases. In the present invention, a cresol novolac type epoxy resin is usually preferred in terms of balance between moldability and reliability.

【0006】本発明に用いられるフェノール樹脂とは、
例えばフェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラッ
ク樹脂、ジシクロペンタジエン変性フェノール樹脂、フ
ェノールアラルキル(フェニレン或いはジフェニレン骨
格を有する)樹脂、テルペン変性フェノール樹脂、トリ
フェノールメタン化合物等が挙げられ、特にフェノール
ノボラック樹脂が好ましく、これらは単独でも混合して
用いても差し支えない。樹脂粘度は充填材配合量が増加
するに従いより低粘度のものが選ばれる。
The phenolic resin used in the present invention is
For example, phenol novolac resin, cresol novolac resin, dicyclopentadiene modified phenol resin, phenol aralkyl (having a phenylene or diphenylene skeleton) resin, terpene modified phenol resin, triphenol methane compound and the like are mentioned, and phenol novolac resin is particularly preferable. These may be used alone or in combination. The resin viscosity is selected to be lower as the filler content increases.

【0007】本発明に用いられるステアリン酸アルミニ
ウムは、離型剤としても作用するものであり、その融点
は特に限定しないが、含まれる不純物等を考慮すると1
00〜125℃程度のものが好ましく、配合量としては
全エポキシ樹脂組成物中0.01〜0.20重量%が好
ましく、0.01重量%未満では耐湿性、即ちアルミワ
イヤーの腐食防止の効果が望めず、0.20重量%を越
えると硬化が遅くなり成形性に問題が生じる。
The aluminum stearate used in the present invention also acts as a mold release agent, and its melting point is not particularly limited, but it is 1 when considering impurities contained therein.
It is preferably about 0 to 125 ° C., and the compounding amount is preferably 0.01 to 0.20% by weight in the total epoxy resin composition, and less than 0.01% by weight is moisture resistance, that is, an effect of preventing corrosion of aluminum wire However, if it exceeds 0.20% by weight, the curing will be delayed and the moldability will be deteriorated.

【0008】本発明での離型剤の総配合量と耐湿性の向
上、即ちアルミワイヤーの腐食防止の関係は、アルミワ
イヤーを用いたパワートランジスタ素子のみに見いださ
れた現象であり、金線を用いたSOP、DIP等の半導
体素子では耐湿性向上効果は見いだされなかった。ステ
アリン酸アルミニウムと他の離型剤の総配合量は、全エ
ポキシ樹脂組成物中0.30〜0.50重量%が必要
で、0.30重量%未満だと離型性に問題があり、0.
50重量%を越えると金型汚れの問題が発生し好ましく
ない。本発明での他の離型剤とは、従来この技術分野で
用いられているカルナバワックス、エステルワックス、
脂肪酸ワックス、脂肪酸アミドワックス、ポリエチレン
ワックス、ステアリン酸亜鉛ワックス等があるが、これ
らは単独でも混合して用いても差し支えない。ステアリ
ン酸アルミニウムが、全エポキシ樹脂組成物中0.01
〜0.20重量%で、ステアリン酸アルミニウムを含む
離型剤の総配合量が0.30〜0.50重量%の範囲内
ならば金型汚れが極めて少ないことが見いだされた。
In the present invention, the relationship between the total amount of the release agent and the improvement of the moisture resistance, that is, the corrosion prevention of the aluminum wire, is a phenomenon found only in the power transistor element using the aluminum wire. No effect of improving the moisture resistance was found in the used semiconductor elements such as SOP and DIP. The total blending amount of aluminum stearate and other release agent is required to be 0.30 to 0.50% by weight in the total epoxy resin composition, and if less than 0.30% by weight, there is a problem in releasability. 0.
If it exceeds 50% by weight, the problem of mold fouling occurs, which is not preferable. Other release agents in the present invention include carnauba wax, ester wax, which have been conventionally used in this technical field.
There are fatty acid wax, fatty acid amide wax, polyethylene wax, zinc stearate wax and the like, but these may be used alone or in combination. Aluminum stearate is 0.01% in the total epoxy resin composition.
It was found that when the total amount of the release agent containing aluminum stearate was 0.30 to 0.50% by weight, the amount of mold stain was extremely small.

【0009】本発明に用いられる結晶シリカは、全エポ
キシ樹脂組成物中75〜83重量%が必須で、75重量
%未満ではパワートランジスタ素子の熱放散性が低くな
り、フルモールド型パワートランジスタには適さなくな
り、83重量%を越えるとエポキシ樹脂組成物の成形時
の粘度が上昇し流動性に劣るため好ましくない。結晶シ
リカの平均粒径としては10〜30μm、最大粒径70
〜150μmが好ましい。又必要によっては、一般に半
導体封止用材料に用いられている溶融破砕シリカ、溶融
球状シリカ、アルミナ、窒化アルミ、窒化珪素等を配合
してもよい。
The crystalline silica used in the present invention is required to be 75 to 83% by weight in the total epoxy resin composition, and if it is less than 75% by weight, the heat dissipation of the power transistor element becomes low, so that it is not suitable for a full mold type power transistor. When it becomes unsuitable and exceeds 83% by weight, the viscosity of the epoxy resin composition at the time of molding increases and the flowability is deteriorated, which is not preferable. The average particle size of crystalline silica is 10 to 30 μm, and the maximum particle size is 70.
˜150 μm is preferred. If necessary, fused crushed silica, fused spherical silica, alumina, aluminum nitride, silicon nitride and the like which are generally used for semiconductor encapsulation materials may be added.

【0010】本発明に用いられる硬化促進剤は、2−メ
チルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フ
ェニル−4−メチルイミダゾール、2−ウンデシルイミ
ダゾール、1,2−ジメチルイミダゾール、2−エチル
−4−メチルイミダソール、1−ベンジル−2−フェニ
ルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾー
ル等のイミダゾール化合物、1,8−ジアザビシクロ
(5,4,0)ウンデセン−7等のアミン系化合物、テ
トラフェニルホスホニウムのボレート塩、トリフェニル
ホスフィン等のリン化合物等が挙げられ、これらは単独
でも混合して用いても差し支えない。
The curing accelerator used in the present invention is 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2-undecylimidazole, 1,2-dimethylimidazole, 2-ethyl-4. -Imidazole compounds such as methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, amine compounds such as 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-7, tetra Examples thereof include phenylphosphonium borate salts and phosphorus compounds such as triphenylphosphine, and these may be used alone or in combination.

【0011】本発明のエポキシ樹脂組成物は、(A)〜
(E)成分を必須成分とするが、これ以外にも必要に応
じてシランカップリング剤に代表される各種カップリン
グ剤、カーボンブラックに代表される着色剤、天然ワッ
クス及び合成ワックス等の離型剤、ブロム化エポキシ樹
脂や三酸化アンチモン等の難燃剤、シリコーンオイル、
シリコーンゴム、合成ゴム等の低応力添加剤、不純物イ
オンの低減を図るイオン捕捉剤を適宜配合しても差し支
えない。成形材料化するには、加熱ニーダーや熱ロール
により全成分を加熱混練し、続いて冷却、粉砕すること
で得ることができる。
The epoxy resin composition of the present invention comprises (A)-
The component (E) is an essential component, but in addition to this, various coupling agents typified by silane coupling agents, colorants typified by carbon black, and mold release of natural wax and synthetic wax Agent, brominated epoxy resin, flame retardant such as antimony trioxide, silicone oil,
A low stress additive such as silicone rubber or synthetic rubber, and an ion trapping agent for reducing impurity ions may be appropriately blended. In order to obtain a molding material, all components can be heated and kneaded with a heating kneader or a heating roll, followed by cooling and pulverizing.

【0012】[0012]

【実施例】以下本発明を実施例で具体的に説明する。 実施例1 オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当量200,軟化点6 0℃) 15.0重量部 フェノールノボラック樹脂(水酸基当量105、軟化点80℃) 8.60重量部 結晶シリカ(平均粒径25μm、最大粒径150μm) 130.00重量部 1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7(以下、DBUという ) 0.30重量部 シランカップリング剤 0.40重量部 ステアリン酸アルミニウム 0.20重量部 カルナバワックス 0.35重量部 カーボンブラック 0.60重量部 ブロム化エポキシ樹脂 2.00重量部 三酸化二アンチモン 1.60重量部 上記各成分をミキサーにより混合した後、バレル温度1
00℃で、ニーダー、ロール等で加熱混練し、更に冷却
後粉砕してエポキシ樹脂組成物とした。このエポキシ樹
脂組成物を用いて特性を評価した。評価結果を表1に示
す。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples. Example 1 Orthocresol novolac type epoxy resin (epoxy equivalent 200, softening point 60 ° C.) 15.0 parts by weight Phenol novolac resin (hydroxyl group equivalent 105, softening point 80 ° C.) 8.60 parts by weight Crystalline silica (average particle size 25 μm) , Maximum particle size 150 μm) 130.00 parts by weight 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-7 (hereinafter referred to as DBU) 0.30 parts by weight Silane coupling agent 0.40 parts by weight Aluminum stearate 0 20 parts by weight Carnauba wax 0.35 parts by weight Carbon black 0.60 parts by weight Brominated epoxy resin 2.00 parts by weight Antimony trioxide 1.60 parts by weight After mixing the above components with a mixer, the barrel temperature 1
The mixture was heated and kneaded with a kneader, a roll or the like at 00 ° C., further cooled and pulverized to obtain an epoxy resin composition. The characteristics were evaluated using this epoxy resin composition. The evaluation results are shown in Table 1.

【0013】評価方法 スパイラルフロー:EMMI−1−66に準じたスパイ
ラルフロー測定用金型を用いて、金型温度175℃、注
入圧力70kg/cm2、硬化時間2分で測定した。 ゲル化時間:175℃の熱板上に成形材料を2g乗せ、
スパチュラを用いて約25mm角の大きさに広げて熱板
にこすりつけた後、成形材料が硬化して熱板より剥がれ
る時間。 熱伝導率:直径50mm、高さ50mmの円柱状テスト
ピースを成形温度170℃、注入圧力70kg/cm2
で成形し、プローブ法で熱伝導率を測定した。 耐湿信頼性:模擬素子を半田ペーストを用いてTO−2
20フレームに搭載し、アルミワイヤーでワイヤーボン
ドしたフルモールド型TO−220パッケージを、成形
温度175℃、注入圧力70kg/cm2で成形し、1
75℃で4時間後硬化後、125℃、相対湿度100%
のPCT釜中で200時間放置し、パッケージを熱硝酸
法で開封しアルミワイヤーの腐食程度を観察した。腐食
のあったパッケージの個数で比較判定した。アルミワイ
ヤー腐食発生数で表した。 金型汚れ:フルモールド型TO−220パッケージを成
形温度175℃、注入圧力70kg/cm2で300シ
ョット連続成形し、金型の汚れを観察した。
Evaluation method Spiral flow: Using a spiral flow measuring mold according to EMMI-1-66, the mold temperature was 175 ° C., the injection pressure was 70 kg / cm 2 , and the curing time was 2 minutes. Gelation time: put 2 g of molding material on a hot plate at 175 ° C.,
A time period in which the molding material is hardened and peeled off from the hot plate after being spread to a size of about 25 mm square with a spatula and rubbed on the hot plate. Thermal conductivity: A cylindrical test piece having a diameter of 50 mm and a height of 50 mm is molded at a temperature of 170 ° C. and an injection pressure of 70 kg / cm 2.
Was molded, and the thermal conductivity was measured by the probe method. Moisture resistance reliability: TO-2 using simulated paste with solder paste
A full-mold type TO-220 package mounted on 20 frames and wire-bonded with aluminum wires was molded at a molding temperature of 175 ° C and an injection pressure of 70 kg / cm 2 , and
After curing at 75 ℃ for 4 hours, 125 ℃, relative humidity 100%
It was left in the PCT kettle for 200 hours, the package was opened by the hot nitric acid method, and the degree of corrosion of the aluminum wire was observed. The number of packages with corrosion was compared and judged. It is represented by the number of aluminum wire corrosion occurrences. Mold stain: A full mold type TO-220 package was continuously molded for 300 shots at a molding temperature of 175 ° C. and an injection pressure of 70 kg / cm 2 , and the mold stain was observed.

【0014】実施例2〜4、比較例1〜6 実施例1と同様にエポキシ樹脂組成物を作成し同様に評
価した。結果を表1に示す。なお実施例2、比較例5に
用いた溶融球状シリカは、平均粒径15μm、最大粒径
150μmである。
Examples 2 to 4 and Comparative Examples 1 to 6 Epoxy resin compositions were prepared in the same manner as in Example 1 and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 1. The fused spherical silica used in Example 2 and Comparative Example 5 has an average particle size of 15 μm and a maximum particle size of 150 μm.

【0015】[0015]

【表1】 [Table 1]

【0016】[0016]

【発明の効果】本発明に従うと、アルミワイヤーの耐湿
腐食性を向上させ、かつ金型汚れの少ない特性を有する
フルモールド型パワートランジスタ封止用エポキシ樹脂
組成物を得ることができる。
According to the present invention, it is possible to obtain a full mold type epoxy resin composition for encapsulating a power transistor, which has characteristics of improving the moisture corrosion resistance of an aluminum wire and having little mold stain.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 23/29 H01L 23/30 R 23/31 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) H01L 23/29 H01L 23/30 R 23/31

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】(A)エポキシ樹脂、(B)フェノール樹
脂、(C)結晶シリカ、(D)硬化促進剤、(E)ステ
アリン酸アルミニウム及び他の離型剤を必須成分とする
エポキシ樹脂組成物であって、ステアリン酸アルミニウ
ム及び他の離型剤の総配合量が全エポキシ樹脂組成物中
0.30〜0.50重量%、かつステアリン酸アルミニ
ウムが全エポキシ樹脂組成物中0.01〜0.20重量
%で、結晶シリカが全エポキシ樹脂組成物中75〜83
重量%であることを特徴とするパワートランジスタ封止
用エポキシ樹脂組成物。
1. An epoxy resin composition containing (A) epoxy resin, (B) phenol resin, (C) crystalline silica, (D) curing accelerator, (E) aluminum stearate and other mold release agents as essential components. The total amount of aluminum stearate and other mold release agent is 0.30 to 0.50% by weight in the total epoxy resin composition, and aluminum stearate is 0.01 to 0.5% in the total epoxy resin composition. 0.20% by weight of crystalline silica is 75 to 83 in the total epoxy resin composition.
An epoxy resin composition for encapsulating a power transistor, wherein the epoxy resin composition is in a weight percentage.
【請求項2】請求項1記載のエポキシ樹脂組成物を用い
て半導体素子を封止してなることを特徴とする半導体装
置。
2. A semiconductor device obtained by encapsulating a semiconductor element using the epoxy resin composition according to claim 1.
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US11037863B2 (en) 2017-11-08 2021-06-15 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor device

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008088249A (en) * 2006-09-29 2008-04-17 Nippon Shokubai Co Ltd Resin composition and method for producing the same
US11037863B2 (en) 2017-11-08 2021-06-15 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor device
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