JP4677761B2 - Epoxy resin composition and semiconductor device - Google Patents
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Description
本発明は、ハロゲン系難燃剤、アンチモン化合物を含まず、難燃性、高温保管性、耐湿信頼性に優れた半導体封止用エポキシ樹脂組成物、及び半導体装置に関するものである。 The present invention relates to an epoxy resin composition for semiconductor encapsulation and a semiconductor device which do not contain a halogen-based flame retardant and an antimony compound and are excellent in flame retardancy, high-temperature storage stability and moisture resistance reliability.
従来、ダイオード、トランジスタ、集積回路等の電子部品は、主にエポキシ樹脂組成物で封止されている。これらのエポキシ樹脂組成物中には、難燃性を付与するために、通常、ハロゲン系難燃剤、及びアンチモン化合物が配合されている。ところが、環境・衛生の点からハロゲン系難燃剤、及びアンチモン化合物を使用しないで、難燃性に優れたエポキシ樹脂組成物の開発が要求されている。
また、ハロゲン系難燃剤及びアンチモン化合物を含むエポキシ樹脂組成物で封止された半導体装置を高温下で保管した場合、これらの難燃剤成分から熱分解したハロゲン化物が遊離し、半導体素子の接合部を腐食し、半導体装置の信頼性を損なうことが知られており、難燃剤としてハロゲン系難燃剤とアンチモン化合物を使用しなくても難燃グレードがＵＬ−９４のＶ−０を達成できるエポキシ樹脂組成物が要求されている。
このように、半導体装置を高温下（例えば、１８５℃等）に保管した後の半導体素子の接合部（ボンディングパッド部）の耐腐食性のことを高温保管特性といい、この高温保管特性を改善する手法としては、五酸化二アンチモンを使用する方法（例えば、特許文献１参照。）や、酸化アンチモンと有機ホスフィンとを組み合わせる方法（例えば、特許文献２参照。）等が提案され、効果が確認されているが、最近の半導体装置に対する高温保管特性の高い要求レベルに対して、エポキシ樹脂組成物の種類によっては不満足なものもある。
ハロゲン系難燃剤、及びアンチモン化合物に代わる難燃剤として水酸化アルミニウムを添加する方法（例えば、特許文献３、４参照。）が提案されており、水酸化アルミニウムの添加により難燃性を維持し、高温保管特性も改善できる。しかし水酸化アルミニウムの工業的製法はバイヤー法とよばれる水酸化ナトリウム水溶液中での析出法であり、水酸化アルミニウム中のＮａ２Ｏ含有量が極めて低い高純度水酸化アルミニウムを得ることが困難であるという欠点がある。Ｎａ２Ｏ含有量が多い水酸化アルミニウムを半導体封止樹脂に用いた場合には、水酸化アルミニウムから溶出するナトリウムイオンが原因となって硬化物の電気的特性を低下させ、半導体装置の耐湿信頼性を劣化させるために、Ｎａ２Ｏ量の少ない水酸化アルミニウムが望まれている。
即ち、難燃性を維持し、ハロゲン系難燃剤、及びアンチモン化合物を使用しない高温保管特性、耐湿信頼性に優れたエポキシ樹脂組成物が求められている。
Conventionally, electronic components such as diodes, transistors, and integrated circuits are mainly sealed with an epoxy resin composition. These epoxy resin compositions usually contain a halogen-based flame retardant and an antimony compound in order to impart flame retardancy. However, development of an epoxy resin composition excellent in flame retardancy is required without using halogen-based flame retardants and antimony compounds from the viewpoint of environment and hygiene.
In addition, when a semiconductor device sealed with an epoxy resin composition containing a halogen-based flame retardant and an antimony compound is stored at a high temperature, the thermally decomposed halide is liberated from these flame retardant components, and the junction of the semiconductor element Epoxy resin which is known to corrode the semiconductor device and impair the reliability of the semiconductor device, and can achieve V-0 of UL-94 flame retardant without using halogenated flame retardant and antimony compound as flame retardant There is a need for a composition.
In this way, the corrosion resistance of the semiconductor element junction (bonding pad) after storing the semiconductor device at a high temperature (for example, 185 ° C.) is called the high temperature storage characteristic, and this high temperature storage characteristic is improved. As a technique to do this, a method using diantimony pentoxide (for example, refer to Patent Document 1), a method of combining antimony oxide and an organic phosphine (for example, refer to Patent Document 2), etc. have been proposed, and the effect has been confirmed. However, there are some types of epoxy resin compositions that are unsatisfactory for the required level of high-temperature storage characteristics for recent semiconductor devices.
Methods of adding aluminum hydroxide as a flame retardant in place of halogen-based flame retardants and antimony compounds have been proposed (see, for example, Patent Documents 3 and 4), maintaining flame retardancy by adding aluminum hydroxide, High temperature storage characteristics can also be improved. However, the industrial production method of aluminum hydroxide is a precipitation method in a sodium hydroxide aqueous solution called the Bayer method, and it is difficult to obtain high-purity aluminum hydroxide having a very low Na 2 O content in aluminum hydroxide. There is a drawback of being. When aluminum hydroxide with a high Na 2 O content is used as a semiconductor sealing resin, the electrical properties of the cured product are deteriorated due to sodium ions eluted from the aluminum hydroxide, and the moisture resistance reliability of the semiconductor device is reduced. In order to deteriorate the properties, aluminum hydroxide having a small amount of Na 2 O is desired.
That is, there is a need for an epoxy resin composition that maintains flame retardancy and is excellent in high-temperature storage characteristics and moisture resistance reliability that does not use a halogen flame retardant and an antimony compound.
本発明は、ハロゲン系難燃剤、及びアンチモン化合物を含まず、難燃性、高温保管特性、及び耐湿信頼性に優れた半導体封止用エポキシ樹脂組成物、及びこれを用いて半導体素子を封止してなる半導体装置を提供するものである。 The present invention includes an epoxy resin composition for semiconductor encapsulation that does not contain a halogen-based flame retardant and an antimony compound and is excellent in flame retardancy, high-temperature storage characteristics, and moisture resistance reliability, and a semiconductor element is encapsulated using the same A semiconductor device is provided.
本発明は、
［１］ （Ａ）エポキシ樹脂、（Ｂ）フェノール樹脂、（Ｃ）硬化促進剤、（Ｄ）水酸化アルミニウム、（Ｅ）前記水酸化アルミニウムを除く無機充填材を必須成分とし、水酸化アルミニウムが水中放電法によって製造された水酸化アルミニウムである半導体封止用エポキシ樹脂組成物であって、前記水酸化アルミニウム中のＮａ２Ｏ量は０．０００４重量％以下であり、前記水酸化アルミニウムの平均粒径が１〜２０μｍであり、最大粒径が７５μｍ以下であり、前記水酸化アルミニウムが全エポキシ樹脂組成物中に１〜２０重量％含まれ、全エポキシ樹脂組成物中に含まれる臭素原子及びアンチモン原子がともに０．１重量％未満である半導体封止用エポキシ樹脂組成物、
［２］ 前記水酸化アルミニウムがカップリング剤によって表面処理されたものを含む第［１］項記載の半導体封止用エポキシ樹脂組成物、
［３］ 第［１］又は［２]項に記載の半導体封止用エポキシ樹脂組成物を用いて半導体素子を封止してなることを特徴とする半導体装置、
である。
The present invention
[1] (A) an epoxy resin, (B) a phenol resin, (C) a curing accelerator, (D) aluminum hydroxide, (E) an inorganic filler excluding the aluminum hydroxide as an essential component, An epoxy resin composition for semiconductor encapsulation, which is aluminum hydroxide produced by an underwater discharge method, wherein the amount of Na 2 O in the aluminum hydroxide is 0.0004% by weight or less, and the average of the aluminum hydroxide The particle size is 1 to 20 μm, the maximum particle size is 75 μm or less, the aluminum hydroxide is contained in 1 to 20% by weight in all epoxy resin compositions, bromine atoms contained in all epoxy resin compositions and the epoxy resin composition for semiconductor encapsulation is antimony atom Ru der both less than 0.1 wt%,
[2] The epoxy resin composition for semiconductor encapsulation according to item [1], including the aluminum hydroxide surface-treated with a coupling agent,
[ 3 ] A semiconductor device comprising a semiconductor element sealed using the epoxy resin composition for semiconductor sealing according to [1] or [2 ],
It is.
本発明に従うと、ハロゲン系難燃剤、及びアンチモン化合物を含まず、難燃性に優れた半導体封止用エポキシ樹脂組成物が得られ、これを用いた半導体装置は高温保管特性、及び耐湿信頼性に優れる。 According to the present invention, an epoxy resin composition for semiconductor encapsulation that does not contain a halogen-based flame retardant and an antimony compound and is excellent in flame retardancy is obtained, and a semiconductor device using the same has high-temperature storage characteristics and moisture resistance reliability. Excellent.
本発明は、水酸化アルミニウムを必須成分として含み、水酸化アルミニウムが水中放電法によって製造された水酸化アルミニウムであることにより、ハロゲン系難燃剤、及びアンチモン化合物を含まずに難燃性に優れ、かつ高温保管特性、及び耐湿信頼性に優れる半導体装置が得られる半導体封止用エポキシ樹脂組成物を提供するものである。
以下、本発明について詳細に説明する。
The present invention contains aluminum hydroxide as an essential component, and the aluminum hydroxide is an aluminum hydroxide produced by an underwater discharge method, so that it has excellent flame retardancy without containing a halogen-based flame retardant and an antimony compound, In addition, the present invention provides an epoxy resin composition for encapsulating a semiconductor that provides a semiconductor device having excellent high-temperature storage characteristics and moisture resistance reliability.
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
本発明に用いるエポキシ樹脂としては、１分子内にエポキシ基を２個以上有するモノマー、オリゴマー、ポリマー全般を言い、その分子量、分子構造を特に限定するものではないが、例えば、ビフェニル型エポキシ樹脂、ビスフェノール型エポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、アルキル変性トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、ナフトール型エポキシ樹脂、トリアジン核含有エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン変性フェノール型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂（フェニレン骨格、ビフェニレン骨格等を有する）等が挙げられ、これらは単独でも２種類以上併用して用いても差し支えない。 The epoxy resin used in the present invention refers to monomers, oligomers, and polymers in general having two or more epoxy groups in one molecule, and the molecular weight and molecular structure thereof are not particularly limited. For example, biphenyl type epoxy resins, Bisphenol type epoxy resin, stilbene type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, triphenolmethane type epoxy resin, alkyl-modified triphenolmethane type epoxy resin, naphthol type epoxy resin, triazine nucleus-containing epoxy resin, di Examples thereof include a cyclopentadiene-modified phenol type epoxy resin, a phenol aralkyl type epoxy resin (having a phenylene skeleton, a biphenylene skeleton, etc.), and these may be used alone or in combination of two or more.
本発明に用いるフェノール樹脂としては、１分子内にフェノール性水酸基を２個以上有するモノマー、オリゴマー、ポリマー全般を言い、その分子量、分子構造を特に限定するものではないが、例えば、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ジシクロペンタジエン変性フェノール樹脂、テルペン変性フェノール樹脂、トリフェノールメタン型樹脂、フェノールアラルキル樹脂（フェニレン骨格、ビフェニレン骨格等を有する）、ナフトールアラルキル樹脂（フェニレン骨格、ビフェニレン骨格等を有する）等が挙げられ、これらは単独でも２種類以上併用して用いても差し支えない。これらの内では特に、フェノールノボラック樹脂、ジシクロペンタジエン変性フェノール樹脂、フェノールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂、テルペン変性フェノール樹脂等が好ましい。
エポキシ樹脂とフェノール樹脂の配合量としては、全エポキシ樹脂のエポキシ基数と全フェノール樹脂のフェノール性水酸基数の比で０．８〜１．３が好ましい。
The phenol resin used in the present invention refers to monomers, oligomers, and polymers generally having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule, and its molecular weight and molecular structure are not particularly limited. For example, phenol novolak resin, Cresol novolak resin, dicyclopentadiene modified phenol resin, terpene modified phenol resin, triphenolmethane type resin, phenol aralkyl resin (having phenylene skeleton, biphenylene skeleton, etc.), naphthol aralkyl resin (having phenylene skeleton, biphenylene skeleton, etc.), etc. These may be used alone or in combination of two or more. Of these, phenol novolak resins, dicyclopentadiene-modified phenol resins, phenol aralkyl resins, naphthol aralkyl resins, terpene-modified phenol resins and the like are particularly preferable.
As a compounding quantity of an epoxy resin and a phenol resin, 0.8-1.3 are preferable by ratio of the number of epoxy groups of all the epoxy resins, and the number of phenolic hydroxyl groups of all the phenol resins.
本発明に用いる硬化促進剤としては、エポキシ基とフェノール性水酸基との硬化反応を促進させるものであればよく、一般に封止材料に使用するものを用いることができる。例えば、１，８−ジアザビシクロ（５，４，０）ウンデセン−７、トリフェニルホスフィン、２−メチルイミダゾール、テトラフェニルホスホニウム・テトラフェニルボレート等が挙げられ、これらは単独でも２種類以上併用して用いても差し支えない。 As a hardening accelerator used for this invention, what is necessary is just to accelerate the hardening reaction of an epoxy group and a phenolic hydroxyl group, and what is generally used for a sealing material can be used. For example, 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-7, triphenylphosphine, 2-methylimidazole, tetraphenylphosphonium / tetraphenylborate, etc. may be mentioned, and these may be used alone or in combination of two or more. There is no problem.
本発明に用いる水酸化アルミニウムは難燃剤として作用し、その難燃機構としては、燃焼時に水酸化アルミニウムが脱水分解を開始し、吸熱することによって燃焼反応を阻害するものである。また、硬化した樹脂成分の炭化を促進することが知られており、硬化物表面に酸素を遮断する難燃層を形成すると考えられる。
本発明に用いる水酸化アルミニウムは、水中放電法によって製造された水酸化アルミニウムであることを必須とする。水中放電法は、アルミニウムペレットを敷き詰めた純水中で火花放電する方法で、このときアルミニウム表面から微粉末が剥離すると共に水の電気分解でＯＨラジカルが生じ、これらが反応することにより水酸化アルミニウムが得られる。水酸化アルミニウムの一般製法であるバイヤー法と異なり、製造プロセスにナトリウムを含む物質を使用しないので、出発原料に高純度アルミニウムを使用するとＮａ２Ｏが極めて少ない高純度水酸化アルミニウムを得ることができる。水中放電法によって得られた高純度水酸化アルミニウムはＮａ２Ｏの含有量が極めて低いので水酸化アルミニウムから溶出するナトリウムイオンの量が極めて少なく、ナトリウムイオンによる半導体回路の腐食が起こりにくいため、半導体装置の耐湿信頼性を向上することができる。水酸化アルミニウム中Ｎａ２Ｏ量は０．１重量％以下が好ましく、さらに好ましくは０．０５重量％以下である。
水酸化アルミニウムの全Ｎａ２Ｏ量は以下の方法で求めることができる。水酸化アルミニウムを希硫酸で加熱溶解し、得られた溶液からＪＩＳ Ｈ１９０１−１９７７準拠の炎光光度法によりナトリウム量を測定し、Ｎａ２Ｏ換算する。
Aluminum hydroxide used in the present invention acts as a flame retardant, and its flame retardant mechanism is that aluminum hydroxide starts dehydration and decomposition during combustion and absorbs heat, thereby inhibiting the combustion reaction. It is also known to promote carbonization of the cured resin component, and is considered to form a flame retardant layer that blocks oxygen on the surface of the cured product.
The aluminum hydroxide used in the present invention must be aluminum hydroxide produced by an underwater discharge method. The underwater discharge method is a method of spark discharge in pure water covered with aluminum pellets. At this time, fine powder is peeled off from the aluminum surface and OH radicals are generated by electrolysis of water, and these react to react with aluminum hydroxide. Is obtained. Unlike the Bayer method, which is a general method for producing aluminum hydroxide, a substance containing sodium is not used in the production process. Therefore, when high-purity aluminum is used as a starting material, high-purity aluminum hydroxide with very little Na 2 O can be obtained. . The high-purity aluminum hydroxide obtained by the underwater discharge method has a very low Na 2 O content, so the amount of sodium ions eluted from the aluminum hydroxide is extremely small, and the semiconductor circuit is not easily corroded by sodium ions. The moisture resistance reliability of the apparatus can be improved. The amount of Na 2 O in aluminum hydroxide is preferably 0.1% by weight or less, more preferably 0.05% by weight or less.
The total amount of Na 2 O in aluminum hydroxide can be determined by the following method. Aluminum hydroxide is dissolved by heating with dilute sulfuric acid, and the amount of sodium is measured from the obtained solution by a flame photometric method according to JIS H1901-1977, and converted to Na 2 O.
水酸化アルミニウムの平均粒径としては、１〜２０μｍが好ましく、より好ましくは１〜１５μｍである。また最大粒径としては７５μｍ以下が好ましい。平均粒径が下限値を下回ると、エポキシ樹脂組成物の溶融粘度が高くなり流動性が著しく低下する、また上限値を超えると、比表面積が小さくなり、難燃性が不足する可能性がある。
水酸化アルミニウムの含有量としては、全エポキシ樹脂組成物中に１〜２０重量％が好ましく、更に好ましくは１〜１５重量％である。下限値を下回ると難燃性が不足し、上限値を越えると流動性や硬化性等の成形性、耐半田クラック性が低下する可能性がある。
As an average particle diameter of aluminum hydroxide, 1-20 micrometers is preferable, More preferably, it is 1-15 micrometers. The maximum particle size is preferably 75 μm or less. When the average particle size is below the lower limit, the melt viscosity of the epoxy resin composition is increased and the fluidity is remarkably lowered. When the average particle size is exceeded, the specific surface area is decreased and the flame retardancy may be insufficient. .
As content of aluminum hydroxide, 1 to 20 weight% is preferable in all the epoxy resin compositions, More preferably, it is 1 to 15 weight%. If the lower limit is not reached, the flame retardancy is insufficient, and if the upper limit is exceeded, moldability such as fluidity and curability and solder crack resistance may be lowered.
本発明では、水酸化アルミニウムがカップリング剤によって表面処理されたものを含んでいてもよい。カップリング剤により表面処理された水酸化アルミニウムを用いると、機械強度の高いエポキシ樹脂組成物の硬化物を得ることが可能となる。カップリング剤は水酸化アルミニウムとエポキシ樹脂との界面の結合を強固にし、エポキシ樹脂組成物の硬化物の機械強度を向上させるものである。
本発明に用いるカップリング剤は、特に限定するものではないが、アミノ基、エポキシ基を含むシランカップリング剤が好ましい。アミノ基を有するシランカップリング剤はエポキシ樹脂と反応することにより、エポキシ基を含むシランカップリング剤は硬化剤であるフェノール樹脂と反応することにより機械強度向上への寄与が大きい。代表的なシランカップリング剤としては、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランが挙げられるがこれらに限定されるものではない。これらのシランカップリング剤は、単独でも混合して用いてもよい。
In the present invention, aluminum hydroxide whose surface is treated with a coupling agent may be included. When aluminum hydroxide surface-treated with a coupling agent is used, a cured product of an epoxy resin composition having high mechanical strength can be obtained. The coupling agent strengthens the bond at the interface between aluminum hydroxide and the epoxy resin, and improves the mechanical strength of the cured product of the epoxy resin composition.
The coupling agent used in the present invention is not particularly limited, but a silane coupling agent containing an amino group or an epoxy group is preferable. A silane coupling agent having an amino group reacts with an epoxy resin, and a silane coupling agent containing an epoxy group greatly contributes to an improvement in mechanical strength by reacting with a phenol resin as a curing agent. Typical silane coupling agents include γ-aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, and γ-glycidoxy. Although propyltrimethoxysilane is mentioned, it is not limited to these. These silane coupling agents may be used alone or in combination.
本発明に用いる前記水酸化アルミニウムを除く無機充填材としては、一般に封止材料に使用されているものを使用することができる。例えば、溶融シリカ、結晶シリカ、タルク、アルミナ、窒化珪素等が挙げられ、これらは単独でも２種類以上併用して用いても差し支えない。特に、溶融シリカが好ましい。
無機充填材の含有量としては、成形性と耐半田クラック性のバランスから、全エポキシ樹脂組成物中に６０〜９５重量％が好ましく、更に好ましくは７０〜９０重量％である。下限値を下回ると吸水率の上昇に伴い耐半田クラック性が低下し、上限値を越えるとワイヤースィープ及びパッドシフト等の問題が生じる可能性がある。
As the inorganic filler excluding the aluminum hydroxide used in the present invention, those generally used for sealing materials can be used. Examples thereof include fused silica, crystalline silica, talc, alumina, silicon nitride and the like, and these may be used alone or in combination of two or more. In particular, fused silica is preferable.
The content of the inorganic filler is preferably 60 to 95% by weight, more preferably 70 to 90% by weight, based on the balance between moldability and solder crack resistance, in the total epoxy resin composition. If the lower limit is not reached, solder crack resistance decreases with an increase in water absorption, and if it exceeds the upper limit, problems such as wire sweep and pad shift may occur.
水酸化アルミニウムと無機充填材との合計量としては、成形性と耐半田クラック性のバランスから、全エポキシ樹脂組成物中に６０〜９５重量％が好ましい。下限値を下回ると吸水率の上昇に伴う耐半田クラック性が低下し、上限値を越えるとワイヤースィープ及びパッドシフト等の成形性の問題が生じる可能性がある。 The total amount of aluminum hydroxide and inorganic filler is preferably 60 to 95% by weight in the total epoxy resin composition from the balance between moldability and solder crack resistance. If the lower limit is not reached, the solder crack resistance accompanying the increase in water absorption decreases, and if the upper limit is exceeded, moldability problems such as wire sweep and pad shift may occur.
本発明のエポキシ樹脂組成物は、（Ａ）〜（Ｅ）成分の他、必要に応じて臭素化エポキシ樹脂、酸化アンチモン等の難燃剤を含有することは差し支えないが、半導体装置の１５０〜２００℃の高温下での電気特性の安定性が要求される用途では、臭素原子、アンチモン原子の含有量が、ともに全エポキシ樹脂組成物中に０．０１重量％未満であることが好ましく、完全に含まれない方がより好ましい。臭素原子、アンチモン原子のいずれかが上限値を超えると、高温下に放置したときに半導体装置の抵抗値が時間と共に増大し、最終的には半導体素子の金線が断線する不良が発生する可能性がある。また、環境保護の観点からも、臭素原子、アンチモン原子の含有量がともに０．１重量％未満で、極力含有されていないことが望ましい。 The epoxy resin composition of the present invention may contain flame retardants such as brominated epoxy resin and antimony oxide as needed, in addition to the components (A) to (E), but 150 to 200 of the semiconductor device. In applications that require stability of electrical properties at a high temperature of ° C., it is preferable that the content of bromine atoms and antimony atoms are both less than 0.01% by weight in the total epoxy resin composition. More preferably not included. If either the bromine atom or the antimony atom exceeds the upper limit, the resistance value of the semiconductor device increases with time when left at high temperatures, and eventually a defect may occur in which the gold wire of the semiconductor element is disconnected. There is sex. Also, from the viewpoint of environmental protection, it is desirable that the content of bromine atoms and antimony atoms is less than 0.1% by weight and is not contained as much as possible.
本発明のエポキシ樹脂組成物は、（Ａ）〜（Ｅ）成分を必須成分とするが、これ以外に必要に応じてカーボンブラック等の着色剤、天然ワックス、合成ワックス等の離型剤、及びシリコーンオイル、ゴム等の低応力添加剤等の種々の添加剤を適宜配合しても差し支えない。
また、本発明のエポキシ樹脂組成物は、（Ａ）〜（Ｅ）成分、及びその他の添加剤等をミキサー等を用いて充分に均一に混合した後、更に熱ロール又はニーダー等で溶融混練し、冷却後粉砕して得られる。
本発明のエポキシ樹脂組成物を用いて、半導体素子等の各種の電子部品を封止し、半導体装置を製造するには、トランスファーモールド、コンプレッションモールド、インジェクションモールド等の従来からの成形方法で硬化成形すればよい。
The epoxy resin composition of the present invention has components (A) to (E) as essential components, but in addition to this, a colorant such as carbon black, a release agent such as natural wax and synthetic wax, and the like, and Various additives such as low stress additives such as silicone oil and rubber may be appropriately blended.
In addition, the epoxy resin composition of the present invention, after sufficiently uniformly mixing the components (A) to (E) and other additives using a mixer or the like, is further melt-kneaded with a hot roll or a kneader. It is obtained by pulverizing after cooling.
The epoxy resin composition of the present invention is used to encapsulate various electronic components such as semiconductor elements, and to manufacture semiconductor devices by conventional molding methods such as transfer molding, compression molding, and injection molding. do it.
以下に本発明の実施例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。配合割合は重量部とする。
なお、実施例、及び比較例で用いたエポキシ樹脂、フェノール樹脂の略号及び構造、水酸化アルミニウムの内容を以下にまとめて示す。
Examples of the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto. The blending ratio is parts by weight.
In addition, the abbreviations and structures of epoxy resins and phenol resins used in Examples and Comparative Examples, and the contents of aluminum hydroxide are collectively shown below.
エポキシ樹脂（Ｅ−１）：オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂
（日本化薬（株）製、ＥＯＣＮ１０２０、軟化点５５℃、エポキシ当量１９６）
エポキシ樹脂（Ｅ−２）：ビフェニル型エポキシ樹脂
（ジャパンエポキシレジン（株）製、ＹＸ−４０００、エポキシ当量１９０、融点１０５℃）
フェノール樹脂（Ｈ−１）：フェノールノボラック樹脂
（住友ベークライト（株）製、ＰＲ−ＨＦ−３軟化点８０℃、水酸基当量１０４
フェノール樹脂（Ｈ−２）：フェノールビフェニルアラルキル型フェノール樹脂
（明和化成（株）製、ＭＥＨ−７８５１ＳＳ、水酸基当量２０３、軟化点６６℃）
Epoxy resin (E-1): Orthocresol novolak type epoxy resin (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., EOCN1020, softening point 55 ° C., epoxy equivalent 196)
Epoxy resin (E-2): biphenyl type epoxy resin (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., YX-4000, epoxy equivalent 190, melting point 105 ° C.)
Phenol resin (H-1): Phenol novolak resin (manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd., PR-HF-3 softening point 80 ° C., hydroxyl group equivalent 104)
Phenol resin (H-2): Phenol biphenyl aralkyl type phenol resin (Maywa Kasei Co., Ltd., MEH-7851SS, hydroxyl group equivalent 203, softening point 66 ° C.)
水酸化アルミニウム１：水中放電法によって製造された水酸化アルミニウム、全Ｎａ２Ｏ含有量０．０００４重量％、平均粒径１．３５μｍ、最大粒径２５μｍの水酸化アルミニウム。
水酸化アルミニウム２：水中放電法によって製造された水酸化アルミニウム、全Ｎａ２Ｏ含有量０．０００２重量％、平均粒径１．３５μｍ、最大粒径２０μｍの水酸化アルミニウム。
水酸化アルミニウム３：水酸化アルミニウム１をγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランで表面処理した水酸化アルミニウム。表面処理に使用したγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの量は該水酸化アルミニウムの１重量％である。
水酸化アルミニウム４：水酸化アルミニウム２をγ−アミノプロピルトリエトキシシランで表面処理した水酸化アルミニウム。表面処理に使用したγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの量は該水酸化アルミニウムの１重量％である。
水酸化アルミニウム５：バイヤー法によって製造された水酸化アルミニウム、全Ｎａ２Ｏ含有量０．３５重量％、平均粒径４．３μｍ、最大粒径３０μｍの水酸化アルミニウム。
水酸化アルミニウム６：バイヤー法によって製造された水酸化アルミニウム、全Ｎａ２Ｏ含有量０．４０重量％、平均粒径１．８μｍ、最大粒径１４μｍの水酸化アルミニウム。
Aluminum hydroxide 1: Aluminum hydroxide produced by an underwater discharge method, aluminum hydroxide having a total Na 2 O content of 0.0004% by weight, an average particle size of 1.35 μm, and a maximum particle size of 25 μm.
Aluminum hydroxide 2: Aluminum hydroxide produced by an underwater discharge method, aluminum hydroxide having a total Na 2 O content of 0.0002% by weight, an average particle size of 1.35 μm, and a maximum particle size of 20 μm.
Aluminum hydroxide 3: Aluminum hydroxide obtained by surface-treating aluminum hydroxide 1 with γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane. The amount of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane used for the surface treatment is 1% by weight of the aluminum hydroxide.
Aluminum hydroxide 4: Aluminum hydroxide obtained by surface-treating aluminum hydroxide 2 with γ-aminopropyltriethoxysilane. The amount of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane used for the surface treatment is 1% by weight of the aluminum hydroxide.
Aluminum hydroxide 5: Aluminum hydroxide produced by the Bayer method, aluminum hydroxide having a total Na 2 O content of 0.35% by weight, an average particle size of 4.3 μm, and a maximum particle size of 30 μm.
Aluminum hydroxide 6: Aluminum hydroxide produced by the Bayer method, aluminum hydroxide having a total Na 2 O content of 0.40% by weight, an average particle size of 1.8 μm, and a maximum particle size of 14 μm.
実施例１
エポキシ樹脂（Ｅ−１） １１．６１重量％
フェノール樹脂（Ｈ−１） ５．５４重量％
トリフェニルホスフィン（以下、ＴＰＰという） ０．２５重量％
水酸化アルミニウム１ ８．００重量％
溶融球状シリカ（平均粒径２６．５μｍ） ７２．５０重量％
γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（以下、エポキシシランという）
０．７０重量％
カルナバワックス ０．４０重量％
カーボンブラック ０．３０重量％
を常温でミキサーを用いて混合し、７０〜１００℃でロール混練し、冷却後粉砕してエポキシ樹脂組成物を得た。得られたエポキシ樹脂組成物を以下の方法で評価した。結果を表１に示す。
Example 1
Epoxy resin (E-1) 11.61% by weight
Phenolic resin (H-1) 5.54% by weight
Triphenylphosphine (hereinafter referred to as TPP) 0.25% by weight
Aluminum hydroxide 1 8.00% by weight
Fused spherical silica (average particle size 26.5 μm) 72.50 wt%
γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane (hereinafter referred to as epoxysilane)
0.70% by weight
Carnauba wax 0.40% by weight
Carbon black 0.30% by weight
Were mixed using a mixer at room temperature, roll kneaded at 70 to 100 ° C., cooled and pulverized to obtain an epoxy resin composition. The obtained epoxy resin composition was evaluated by the following methods. The results are shown in Table 1.
評価方法
臭素原子、アンチモン原子含有量：圧力５．９ＭＰａで直径４０ｍｍ、厚さ５〜７ｍｍに圧縮成形し、得られた成形品を蛍光Ｘ線分析装置を用いて、全エポキシ樹脂組成物中の臭素原子、アンチモン原子の含有量を定量した。単位は重量％。
Evaluation method Content of bromine atom and antimony atom: compression molding to a diameter of 40 mm and a thickness of 5 to 7 mm at a pressure of 5.9 MPa, and using the obtained molded product, a fluorescent X-ray analyzer was used. The content of bromine atom and antimony atom was quantified. The unit is% by weight.
スパイラルフロー：ＥＭＭＩ−１−６６に準じたスパイラルフロー測定用金型を用いて、金型温度１７５℃、圧力６．９ＭＰａ、硬化時間１２０秒で測定した。単位はｃｍ。 Spiral flow: Measured using a spiral flow measurement mold according to EMMI-1-66 at a mold temperature of 175 ° C., a pressure of 6.9 MPa, and a curing time of 120 seconds. The unit is cm.
難燃性：低圧トランスファー成形機を用いて、成形温度１７５℃、圧力６．９ＭＰａ、硬化時間１２０秒で試験片（１２７ｍｍ×１２．７ｍｍ×３．２ｍｍ）を成形し、アフターベークとして１７５℃、８時間処理した後、ＵＬ−９４垂直法に準じて難燃性の判定をした。 Flame retardancy: Using a low-pressure transfer molding machine, a test piece (127 mm × 12.7 mm × 3.2 mm) was molded at a molding temperature of 175 ° C., a pressure of 6.9 MPa, and a curing time of 120 seconds. After the treatment for 8 hours, the flame retardancy was determined according to the UL-94 vertical method.
熱時強度：低圧トランスファー成形機を用いて、成形温度１７５℃、圧力６．９ＭＰａ、硬化時間１２０秒で試験片（８０ｍｍ×１０ｍｍ×４ｍｍ）を成形し、アフターベークとして１７５℃、８時間処理した後、２４０℃での曲げ強度をＪＩＳ Ｋ ６９１１に準じて測定した。単位はＮ／ｍｍ２。 Strength during heating: Using a low-pressure transfer molding machine, a test piece (80 mm × 10 mm × 4 mm) was molded at a molding temperature of 175 ° C., a pressure of 6.9 MPa, and a curing time of 120 seconds, and treated as an afterbake at 175 ° C. for 8 hours. Thereafter, the bending strength at 240 ° C. was measured according to JIS K 6911. The unit is N / mm 2 .
高温保管特性：低圧トランスファー成形機を用いて、成形温度１７５℃、圧力６．９ＭＰａ、硬化時間１２０秒で１６ｐＤＩＰ（チップサイズ３．０ｍｍ×３．５ｍｍ）を成形し、アフターベークとして１７５℃、８時間処理した後、高温保管試験（１８５℃、１０００時間）を行い、配線間の電気抵抗値が初期値に対し２０％増加したパッケージを不良と判定した。１５個のパッケージ中の不良個数を示す。 High-temperature storage characteristics: Using a low-pressure transfer molding machine, 16 pDIP (chip size: 3.0 mm × 3.5 mm) was molded at a molding temperature of 175 ° C., a pressure of 6.9 MPa, and a curing time of 120 seconds. After the time treatment, a high temperature storage test (185 ° C., 1000 hours) was performed, and a package in which the electrical resistance value between the wirings increased by 20% with respect to the initial value was determined to be defective. The number of defects in 15 packages is shown.
耐湿信頼性：低圧トランスファー成形機を用いて、金型温度１７５℃、注入圧力９．８ＭＰａ、硬化時間１２０秒で１６ｐＤＩＰ（チップサイズ３．０ｍｍ×３．５ｍｍ）を成形し、ポストキュアとして１７５℃で８時間処理した後、プレッシャークッカー試験（１２５℃、圧力２．２×１０５Ｐａ、５００時間）を行い、回路のオープン不良を測定した。１５個のパッケージ中の不良個数を示す。 Moisture resistance reliability: Using a low-pressure transfer molding machine, a mold temperature of 175 ° C., an injection pressure of 9.8 MPa, a curing time of 120 seconds was molded into 16 pDIP (chip size: 3.0 mm × 3.5 mm), and post cure was 175 ° C. Then, a pressure cooker test (125 ° C., pressure 2.2 × 10 5 Pa, 500 hours) was performed to measure the open circuit failure. The number of defects in 15 packages is shown.
実施例２〜６、比較例１〜４
表１の配合に従い、実施例１と同様にしてエポキシ樹脂組成物を得、実施例１と同様にして評価した。結果を表１に示す。
実施例１以外で用いた成分について、以下に示す。
臭素化エポキシ樹脂：臭素化ビスフェノール型エポキシ樹脂（軟化点６１℃、エポキシ当量３５９）
三酸化アンチモン
Examples 2-6, Comparative Examples 1-4
According to the composition of Table 1, an epoxy resin composition was obtained in the same manner as in Example 1 and evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.
The components used in other than Example 1 are shown below.
Brominated epoxy resin: Brominated bisphenol type epoxy resin (softening point 61 ° C., epoxy equivalent 359)
Antimony trioxide
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