JP2003002863A - 安息香酸類の製造方法および新規化合物 - Google Patents
安息香酸類の製造方法および新規化合物Info
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Abstract
を有する化合物およびその原料である安息香酸の工業的
に有利な製造方法を提供する。 【解決手段】一般式II (Xはカルボン酸またはカルボン酸の金属塩を表す。)
の化合物と、一般式III R−MgY (III) (R はC1−C6アルキル基、C3−C6シクロアルキル
基、置換されてもよいフェニルもしくはベンジル基を表
す。)の化合物を反応させ、一般式I (Rは前記と同じ意味を表す。) の安息香酸誘導体を製造する方法および該化合物から誘
導されるシアノメチルチアゾール類。
Description
造中間体として有用な、特定の置換基を有する安息香酸
の製造方法および新規化合物に関する。
ては、ドイツ特許公報 DE3,328,494号およ
び国際公開公報WO97/34893号に、2−F−6
−Me−安息香酸の製造方法が記載されている。前者は
アミノ基をジアゾ化してフッ素に変える方法であり、工
業的合成法としては好ましくない 又後者は、カルボン酸を一旦オキサゾリン環として保護
した後、メチルグリニヤール溶液を用いてフッ素をメチ
ル基に変えた後、又オキサゾリン環を開環して目的のカ
ルボン酸を得るという手間のかかる方法を用いている。
(1964)には、2−フェニル置換安息香酸の製造方
法が記載されているが、前記国際公開公報WO97/3
4893号と同様の方法である。
の製造中間体として有用な式(I)
キル基、置換されてもよいフェニル基または置換されて
もよいベンジル基を表す。)で表される化合物の工業的
に有利な製造方法を提供することを目的とする。
す。)で表される化合物と、式(III) R−MgY (III) (式中、R はC1−C6アルキル基、C3−C6シクロア
ルキル基、置換されてもよいフェニル基または置換され
てもよいベンジル基を表す。)で表される化合物を反応
させることを特徴とする 式(I)
合物の製造方法、および式(I')ならびに式(IV)
ルキル基または、置換されてもよいベンジル基を表し、
R”はC2−C6アルキル基、C3−C6シクロアルキル
基、置換されてもよいフェニル基または置換されてもよ
いベンジル基を表す。)で表される化合物である。
る2、6−ジフルオロ安息香酸もしくは安息香酸金属塩
と、前記式(III)で表されるグリニヤー試薬との反応
は、溶媒中0℃からその溶媒の沸点までの温度、好まし
くは室温からその溶媒の沸点までの温度で行われる。溶
媒としてはTHF,ジエチルエーテル等のエーテル類、
ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素、ヘキサン、リ
グロイン等の炭化水素が用いられる。加える式(III)
の化合物は式(II)の化合物に対して1〜5倍モル好ま
しくは、1〜3倍モルを用いる。また反応は触媒を用い
なくとも進行するが、好ましくは1,3−ビス(ジフェ
ニルホスフィノ)プロパンニッケル(II)クロリド等の
触媒を用いて反応を加速することができる。
がR’である前記式(I’)で表される化合物は文献未
記載の新規化合物である。更に、本発明の化合物は、例
えば下記反応式に示す方法に従って、式(IV)で表され
る化合物を経て、式( V )で表される殺虫・殺ダニと
して有用な化合物を製造することができる。
を有することは、例えば国際特許公報 WO11/17
174号に記載されている。
安息香酸の製造 四つ口フラスコ中に、2,6−ジフルオロ安息香酸0.
5g、THF10mlを仕込み、攪拌下1,3−ビス
(ジフェニルホスフィノ)プロパンニッケル(II)クロ
リド0.03gを加えた。2.0Mイソプロピルマグネ
シウムクロライドTHF溶液4.7mlを、内温が約3
0℃を超えないよう時々氷浴で冷却しながら、約30分
で滴下した。その後さらに室温で12時間攪拌した後氷
水中にあけ、10%硫酸水溶液を加えてPH1とし酢酸
エチルで抽出、飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで
乾燥、ろ過後減圧濃縮し、目的物0.58gを得た。1 H NMR(CDCl3):δ1.27−1.30(6
H,d),3.21−3.35(1H,m),6.93
−7.52(3H,m)
香酸の製造 四つ口フラスコ中に、2,6−ジフルオロ安息香酸4.
0g、THF80mlを仕込み、攪拌下1,3−ビス
(ジフェニルホスフィノ)プロパンニッケル(II)クロ
リド0.2gを加えた。3.0Mエチルマグネシウムク
ロライドのエーテル溶液25mlを、内温が約30℃を
超えないよう時々氷浴で冷却しながら、約30分で滴下
した。その後さらに室温で12時間攪拌した後氷水中に
あけ、10%硫酸水溶液を加えてPH1とし酢酸エチル
で抽出、飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥、
ろ過後減圧濃縮、酢酸エチル:ヘキサン=1:1の混合
溶媒を用いてカラムクロマト分離し、目的物1.0gを
得た。1H NMR(CDCl3):δ1.23−1.3
0(3H,t),2.78−2.90(2H,m),
6.94−7.43(3H,m)
息香酸の製造 四つ口フラスコ中に、2,6−ジフルオロ安息香酸1.
0g、THF20mlを仕込み、攪拌下1,3−ビス
(ジフェニルホスフィノ)プロパンニッケル(II)クロ
リド0.05gを加えた。1.0Mベンジルマグネシウ
ムクロライドのエーテル溶液20mlを、内温が約30
℃を超えないよう時々氷浴で冷却しながら、約30分で
滴下した。その後さらに室温で12時間攪拌した後氷水
中にあけ、10%硫酸水溶液を加えてPH1とし酢酸エ
チルで抽出、これを1N−苛性ソーダ水溶液20mlで
抽出し、10%硫酸水溶液を加えてPH1とし酢酸エチ
ルで抽出、飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾
燥、ろ過後減圧濃縮、酢酸エチル:ヘキサン=1:1の
混合溶媒を用いてカラムクロマト分離し、目的物0.6
gを得た。1 H NMR(CDCl3):δ4.23(2H,s),
7.0−8.17(8H,m)
ソプロピルフェニル)チアゾール−2−イルアセトニト
リルの製造 2−フルオロ−6−イソプロピル安息香酸6.4gを塩
化メチレン30mlに溶かし、オギザリルクロライド
4.9g、ジメチルホルムアミド1滴を加え、一夜放置
した。減圧濃縮し、あらかじめマロン酸エチル6.1
g、ベンゼン60mlにマグネシウムエトキシド4.4
gを加え攪拌下40〜50℃に2時間加熱したところに
5分間で滴下した。室温で一夜攪拌した後、水60ml
を加え、さらに10%硫酸を加えてPH1として酢酸エ
チルで抽出した後、減圧濃縮した。これに酢酸40m
l、水4ml、濃硫酸4mlを加え攪拌下、2時間加熱
還流した。減圧濃縮し、水60mlを加え酢酸エチルで
抽出し、飽和重曹水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥、
ろ過後減圧濃縮、酢酸エチル:ヘキサン=1:4の混合
溶媒を用いてカラムクロマト分離し、2’−フルオロ−
6’−イソプロピルアセトフェノン4gを得た。これを
クロロホルム20mlに溶かし、氷冷し10℃で攪拌
下、臭素3.6gを加えた。氷浴をはずしさらに2時間
攪拌した後水を加え分液、飽和重曹水で洗浄、硫酸マグ
ネシウムで乾燥、ろ過後減圧濃縮した。これをエチルア
ルコール20mlに溶かし、2−シアノチオアセトアミ
ド2.2gを加え、攪拌下5時間50℃に加熱した。さ
らに1時間加熱還流した後減圧濃縮、水20mlを添加
し、酢酸エチルで抽出、水洗後、飽和食塩水で洗浄、硫
酸マグネシウムで乾燥、ろ過後減圧濃縮、酢酸エチル:
ヘキサン=1:4の混合溶媒を用いてカラムクロマト分
離し、目的物1.4gを得た。1H NMR(CDC
l3):δ1.16−1.20(6H,d),2.87
−3.01(1H,m),4.20(2H,S),6.
90−7.41(4H,m)
−イソプロピルフェニル)−2−チアゾリル)−3−ヒ
ドロキシ−2’−トリフルオロメチル−桂皮酸ニトリル
の製造 4−(2−フルオロ−6−イソプロピルフェニル)チア
ゾール−2−イルアセトニトリル0.69gをTHF
1.5ml、ベンゼン6mlに溶解し、Mg(OEt)
2 0.6gを加え60℃で2時間攪拌した。次いで、
この溶液に2−トリフルオロメチル安息香酸クロライド
0.69gを加え室温で一晩攪拌した。反応液を氷水に
注加し、希硫酸で酸性としたのち酢酸エチルで抽出、水
洗、飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥、ろ過
後減圧濃縮、酢酸エチル:ヘキサン=1:4の混合溶媒
を用いてカラムクロマト分離し、目的物0.86gを得
た。1 H NMR(CDCl3):δ1.25−1.29(6
H,d),2.87−2.95(1H,m),7.02
−7.78(8H,m)
フルオロフェニル)−2−チアゾリル)−3−ヒドロキ
シ−2’−トリフルオロメチル−桂皮酸ニトリルの製造 2−ブロモ−2’−エチル−6’− フルオロアセトフ
ェノン0.56gをエチルアルコールに溶解し、2−
(2−トリフルオロメチルベンゾイル)−2−シアノチ
オアセトアミド0.62gを加え室温で1時間攪拌し
た。さらにトリエチルアミン0.23gを加え一夜攪拌
した。減圧濃縮し水を加えた後、希硫酸水溶液を加えて
酸性とし、酢酸エチルで抽出、水洗後、飽和食塩水で洗
浄、硫酸マグネシウムで乾燥、ろ過後減圧濃縮、酢酸エ
チル:ヘキサン=1:2の混合溶媒を用いてカラムクロ
マト分離し、目的物0.2gを得た。1 H NMR(CDCl3):δ1.17−1.26(3
H,t),2.58−2.70(2H,q),6.96
(1H,s),7.00−7.77(7H,m)
造した。 2−(4−(2−エチル−6−フルオロフェニル)−2
−チアゾリル)−3−ヒドロキシ−2’−メチル−桂皮
酸ニトリル1 H NMR(CDCl3):δ1.17−1.25(3
H,t),2.41(3H,s),2.60−2.72
(2H,q),7.01−7.54(8H,m) 2−(4−(2−ベンジル−6−フルオロフェニル)−
2−チアゾリル)−3−ヒドロキシ−2’−トリフルオ
ロメチル−桂皮酸ニトリル1 H NMR(CDCl3):δ4.04(2H,s),
6.68(1H,s),6.90−7.80(12H,
m)
で入手し易い前記式(II)で表される化合物を用いて、
農薬、医薬等の有用な合成中間体である式(I)の化合
物および式(IV)の化合物を、工業的に有利に製造でき
る。
Claims (3)
- 【請求項1】式(II) 【化1】 (式中、Xはカルボン酸またはカルボン酸の金属塩を表
す。)で表される化合物と、式(III) R−MgY (III) (式中、R はC1−C6アルキル基、C3−C6シクロア
ルキル基、置換されてもよいフェニル基または置換され
てもよいベンジル基を表す。)で表される化合物を反応
させることを特徴とする式(I) 【化2】 (式中、Rは前記と同じ意味を表す。)で表される化合
物の製造方法。 - 【請求項2】 式(I') 【化3】 (式中、R’はC2−C6アルキル基、C3−C6シクロア
ルキル基または、置換されてもよいベンジル基を表
す。)で表される化合物。 - 【請求項3】式(IV) 【化4】 (式中、R”はC2−C6アルキル基、C3−C6シクロア
ルキル基、置換されてもよいフェニル基または置換され
てもよいベンジル基を表す。)で表される化合物。
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---|---|---|---|
JP2001190616A JP2003002863A (ja) | 2001-06-25 | 2001-06-25 | 安息香酸類の製造方法および新規化合物 |
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JP (1) | JP2003002863A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007500724A (ja) * | 2003-07-30 | 2007-01-18 | アボット・ラボラトリーズ | 置換されたチアゾールの製造方法 |
JP2013519715A (ja) * | 2010-02-19 | 2013-05-30 | センター ナショナル デ ラ リシェルシェ サイエンティフィック | 少なくとも1つの電子求引性基を有する芳香族カルボン酸誘導体の芳香族求核置換による目的の化学化合物の調製方法 |
WO2013085686A1 (en) * | 2011-12-05 | 2013-06-13 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method for preparing 2,6-difluoroacetophenones |
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WO2000015596A1 (fr) * | 1998-09-14 | 2000-03-23 | Otsuka Pharmaceutical Co., Ltd. | Procede de preparation d'acides benzoiques fluores |
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JP2000506884A (ja) * | 1996-03-20 | 2000-06-06 | アストラ・フアーマシユウテイカルズ・リミテツド | 医薬的に有用な化合物 |
-
2001
- 2001-06-25 JP JP2001190616A patent/JP2003002863A/ja active Pending
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