JP2002542087A5

JP2002542087A5 -

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Publication number: JP2002542087A5
Application number: JP2000613645A
Authority: JP
Filing date: 2000-04-18
Publication date: 2007-05-24

Description

【特許請求の範囲】
【請求項１】（ａ）２，２，４，４−テトラメチル−１，３−シクロブタンジオールベースのポリカーボネート並びにベンゾトリアゾール、二量体ベンゾトリアゾール、トリアジン、ベンゾキサジノン及びジフェノールシアノアクリレートからなる群から選ばれた紫外線吸収化合物を含む紫外線保護層並びに
（ｂ）紫外線放射への曝露の際に劣化するポリマーを含む支持体層
を含んでなる紫外線安定化構造物。
【請求項２】２，２，４，４−テトラメチル−１，３−シクロブタンジオールベースのポリカーボネートが１００モル％の炭酸残基の酸成分及び少なくとも７０モル％の２，２，４，４−テトラメチル−１，３−シクロブタンジオールのジオール成分を含む請求項１に記載の構造物。
【請求項３】２，２，４，４−テトラメチル−１，３−シクロブタンジオールベースのポリカーボネートが１００モル％の炭酸残基の酸成分及び少なくとも８０モル％の２，２，４，４−テトラメチル−１，３−シクロブタンジオールのジオール成分を含む請求項１に記載の構造物。
【請求項４】ジオール成分が３０モル％以下の少なくとも４個の炭素原子を含有する変性グリコールを更に含む請求項２に記載の構造物。
【請求項５】変性グリコールがシクロ脂肪族グリコールである請求項４に記載の構造物。
【請求項６】変性グリコールが１，４−シクロヘキサンジメタノール及び２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオールから選ばれる請求項４に記載の構造物。
【請求項７】変性グリコールが１，４−シクロヘキサンジメタノールであり、そして２，２，４，４−テトラメチル−１，３−シクロブタンジオール及び１，４−シクロブタンジオールが２，２，４，４−テトラメチル−１，３−シクロブタンジオールベースのポリカーボネートの製造に於いて４０〜８０％のそれらのシス異性体で使用される請求項４に記載の構造物。
【請求項８】ベンゾトリアゾールが少なくともメチル基を含有するフェノール性残基を含む請求項１に記載の構造物。
【請求項９】ベンゾトリアゾールがメチル基よりも高級のアルキル基を含有するフェノール性残基を含む請求項１に記載の構造物。
【請求項１０】ベンゾトリアゾール化合物が一般化学構造：
【化１】

（式中、Ｘはアルキル基、アリール基又はハロゲンであり、Ｒ₁ 及びＲ₂ は水素又は炭素数１〜２０のアルキル若しくはアリール基である）
を有する請求項１に記載の構造物。
【請求項１１】ベンゾトリアゾール化合物が一般化学構造：
【化２】

（式中、Ｘはアルキル基、アリール基又はハロゲンであり、Ｒ₁ 及びＲ₂ は炭素数１〜２０のアルキル又はアリール基である）
を有する請求項１に記載の構造物。
【請求項１２】二量体ベンゾトリアゾールが２個のベンゾトリアゾール分子のフェノール環の間に−ＣＨ₂ −結合を有する請求項１に記載の構造物。
【請求項１３】トリアジンが、トリアジン環の全ての３個の炭素原子上で３個以下のフェノール基によって置換されており、残りの炭素原子上で、フェノール性ヒドロキシル基を含有しないアリール基によって置換されている請求項１に記載の構造物。
【請求項１４】トリアジン化合物が一般化学構造：
【化３】

（式中、Ｒ₁ 及びＲ₂ は水素、アルキル基又はアリール基であり、Ｒ₃ はアルキル又はアリール基である）
を有する請求項１に記載の構造物。
【請求項１５】ベンゾキサジノンが２個のベンゾキサジノン環の間に芳香族環を有する請求項１に記載の構造物。
【請求項１６】ベンゾキサジノン環がアルキル又はハロゲン置換基によって置換されている請求項１５に記載の構造物。
【請求項１７】ベンゾキサジノン化合物が一般化学構造：
【化４】

（式中、Ｘ₁ 及びＸ₂ は水素、アルキル、アリール、ヘテロアリール、ハロ、アルコキシ、アリールオキシ、ヒドロキシ、カルボキシ、エステル及びニトロからなる群から選ばれる）
を有する請求項１に記載の構造物。
【請求項１８】ジフェニルシアノアクリレート化合物が一般化学構造：
【化５】

（式中、Ｒは炭素数１〜２０のアルキル又はアリール基であり、Ｒ’は炭素数１〜２０のアルキル基である）
を有する請求項１に記載の構造物。
【請求項１９】Ｒがカルボメトキシ、ヒドロキシ、酸基又はエステル基からなる群から選ばれた官能基を含む請求項１８に記載の構造物。
【請求項２０】支持体層のポリマーがポリエステル、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニルポリマー又はコポリマー、塩素化ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルホン、ナイロン、エチレンプロピレンゴム、エチレンプロピレンジエンゴム及びセルロース性物質から選ばれる請求項１に記載の構造物。
【請求項２１】支持体層のポリマーがポリエステル、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニルポリマー又はコポリマー、塩素化ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリエーテルイミド及びポリエーテルスルホンから選ばれる請求項１に記載の構造物。
【請求項２２】支持体層のポリマーがポリエステル又はポリカーボネートから選ばれる請求項１に記載の構造物。
【請求項２３】紫外線吸収化合物が、紫外線保護層中に、紫外線吸収化合物及び２，２，４，４−テトラメチル−１，３−シクロブタンジオールベースのポリカーボネートの合計重量％基準で０．２５〜５重量％存在する請求項１に記載の構造物。
【請求項２４】紫外線吸収化合物が、紫外線保護層中に、損傷紫外領域内の光の少なくとも９９％を吸収するのに十分な量で存在する請求項１に記載の構造物。
【請求項２５】紫外線保護層が０．５ミル（１２ミクロン）〜２０ミル（５００ミクロン）の厚さを有する請求項１に記載の構造物。
【請求項２６】紫外線保護層が０．５ミル（１２ミクロン）〜５ミル（１２５ミクロン）の厚さを有する請求項１に記載の構造物。
【請求項２７】紫外線保護層が１．０ミル（２５ミクロン）〜３ミル（７５ミクロン）の厚さを有する請求項１に記載の構造物。