JP3423827B2 - ポリエチレンナフタレート成形体の蛍光防止方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はポリエチレンナフタ
レート製透明容器等の成形体の蛍光抑制方法に関し、更
に詳しくは、紫外線の照射により蛍光を発するポリエチ
レンナフタレート成型体の表面に被覆層を付与すること
により、該成形体からの蛍光を抑制する方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】ポリエチレンナフタレートに代表される
ポリアルキレンナフタレートは近年、その優れた性能を
生かして様々な用途に使用されてきている。例えば、ポ
リエチレンナフタレートは高強度高弾性率のフィルムと
して、各種オーディオテープ、ビデオテープに利用され
ている。ところが、ポリエチレンナフタレートは紫外線
の照射により青白い蛍光を発することが従来から知られ
ている。このために、食品包装や飲料用ボトルといった
用途に適用する場合には外観上の難点が指摘されてい
る。このようなポリアルキレンナフタレートの蛍光につ
いては、例えば、Journal of Polymer Science: Polyme
r Letters Edition, Vol.17,227-232(1979)において、
ポリ（１、２−エチレン−２、６−ナフタレンジカルボ
キシレート）フィルムの蛍光について研究がされてお
り、その蛍光の発光種が、ナフタレートのエキシマーか
ら由来するという内容のことが記載されている。

【０００３】かかるポリエチレンナフタレートの蛍光
は、米国特許第５３１０８５７号明細書において、芳香
族ケトンを比較的少量共重合することにより効率的に蛍
光を抑制できることが報告されている。しかしながら、
この方法は共重合成分である芳香族ケトンをポリマーの
他の構成成分と共に反応させるため、ポリマー製造時に
ポリマー銘柄の切り替えが必要になるという問題、芳香
族ケトンが特殊なものとなるため高価になるという問
題、また、芳香族ケトンの反応性が低いために高重合度
のポリマーを得にくいため、かかるポリマーの成形体の
機械的物性が不十分となるという問題がある。

【０００４】他方、ポリエステルやポリカーボネート等
の樹脂成型品の表面上に保護被覆層を設けることによっ
て、成型品の硬度向上や耐光性の向上を計ろうとする技
術内容のものも数多く開示されている。例えば、特公昭
６０―５３７０号公報においては、耐摩耗性シリコーン
被覆ポリカーボネート物品に関して、熱硬化アクリル重
合体を含有する接着促進プライマー層中に紫外線吸収性
化合物を含有させることにより、耐光性を向上させる技
術内容の記載がなされている。特開昭５８―１７９２３
号公報においてはポリカーボネート系樹脂成型品の表面
処理法に関して、ポリアクリレート系樹脂、紫外線吸収
剤、有機溶剤、及びコロイド状シリカからなる上塗り剤
を塗付した後熱硬化させる表面処理方法について開示さ
れている。特開平２―１５０４３１号公報においてはプ
ラスチック表面にメタクリレート系樹脂とベンゾトリア
ゾール系紫外線吸収剤からなるプライマー層を設けた
後、シリカ系熱硬化性樹脂とベンゾフェノン系紫外線吸
収剤とからなる表面被覆層を設ける技術内容についての
記載がある。特開平２―３８１２８号公報においてはポ
リエチレンテレフタレート成形品の表面保護法に関し
て、表面コート層に紫外線吸収剤を必要に応じて添加し
てもよい旨の記載がある。特公平５―８６９７３号公報
においては、ポリエステル製透明基材の表面に設けた被
覆層中に紫外線吸収剤を添加するという技術内容のこと
が記載されている。さらに特公平６―３７２１２号公報
においては、透明樹脂を紫外線から保護するためにシリ
コーン系の表面被覆層に紫外線吸収剤を混合する方法に
ついての記載がある。

【０００５】しかし、こうした表面被覆層を設けること
により紫外光の透過を抑制する方法は、容器の内容物、
あるいは被覆された樹脂が紫外線によって劣化するのを
防止する方法であり、さらに、こうした方法をポリエチ
レンナフタレート成形体へ適用することの可否について
の記載はない。しかも、上述のような被覆層によって主
として遮断されるべき紫外光領域とポリエチレンナフタ
レートが最も蛍光を強く発する紫外光領域は異なってい
るのである。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、紫外
光が当たっても蛍光を発して外観の低下を引き起こすこ
とのないポリエチレンナフタレートからなる透明容器等
の成形体の蛍光抑制方法を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者らはかかる問題
点に鑑み、鋭意検討した結果、ベンゾトリアゾール系化
合物、シアノアクリレート系化合物、ベンゾフェノン系
化合物およびベンゾオキサジノン系化合物からなる群よ
り選ばれる少なくとも一種の化合物を含有する被覆層
を、ポリエチレンナフタレート成形体の表面に形成する
ことにより、かかる成形体から生じる青白い蛍光を弱め
られることを見い出し、本発明に到達したものである。

【０００８】すなわち本発明は、エチレン−２，６−ナ
フタレート繰り返し単位から主としてなるポリエチレン
ナフタレートの成形体表面に、ベンゾトリアゾール系化
合物、シアノアクリレート系化合物、ベンゾフェノン系
化合物およびベンゾオキサジノン系化合物からなる群よ
り選ばれる少なくとも一種の化合物を含有する被覆層を
形成することを特徴とするポリエチレンナフタレート成
形体の蛍光防止方法によって達成することができる。

【０００９】

【発明の実施の形態】本発明で用いられるポリエチレン
ナフタレートは、エチレン−２，６−ナフタレート繰り
返し単位から主としてなるが、それ以外にも以下に示す
ような成分を２０モル％を超えない範囲で共重合成分と
して含んでいても良い。かかる共重合の酸成分として
は、例えばテレフタル酸、イソフタル酸、２，７−ナフ
タレンジカルボン酸、フェニルインダンジカルボン酸等
の芳香族ジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸等の脂
肪族ジカルボン酸があげられる。

【００１０】また、該共重合のジオール成分としては、
１，３−プロピレングリコール、１，４−ブチレングリ
コール、１，６−ヘキサメチレングリコール、１，４−
シクロヘキサンジメタノール等の脂肪族のジオールがあ
げられる。かかる共重合成分の共重合量は好ましくは１
０モル％以下である。

【００１１】また、本発明で対象とするポリエチレンナ
フタレートは、ポリエチレンナフタレートを少なくとも
５０重量％以下、好ましくは少なくとも４０重量％で含
有するかぎり、ポリエチレンナフタレート以外の他のポ
リマー、例えばポリエチレンテレフタレート等のポリエ
ステルとの組成物の形態にあってもよい。

【００１２】ポリエチレンナフタレートは、フェノール
１，１，２，２―テトラクロロエタン混合溶媒（重量比
６０／４０）中３５℃で測定した固有粘度が、好ましく
は少くとも０．３ｄｌ／ｇ、より好ましくは少くとも
０．４ｇ／ｄｌ、さらに好ましくは少くとも０．５ｄｅ
／ｇである。固有粘度が０．３ｄｅ／ｇより小さい場合
には、成型品によっては強度が不充分な場合がある。

【００１３】本発明によれば、上記ポリエチレンナフタ
レートからなる成形体を被覆する層は、ベンゾトリアゾ
ール系化合物、シアノアクリレート系化合物、ベンゾフ
ェノン系化合物、およびベンゾオキサジノン系化合物か
らなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物を含有す
ることにより、ポリエチレンナフタレートに由来する蛍
光を抑制することができる。

【００１４】ここで、ベンゾトリアゾール系の化合物と
しては、例えば２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−
イル）−４，６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチ
ル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２
−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチ
ル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２
−イル）−４−メチルフェノール、２−（２Ｈ−ベンゾ
トリアゾール−２−イル）−４，６−ジ−ｔ−ブチルフ
ェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イ
ル）−４，６−ジ−ｔ−アミルフェノール、２−（２Ｈ
−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−ｔ−ブチルフ
ェノール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル
−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾ
ール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−
ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール等を
例示することができる。

【００１５】シアノアクリレート系化合物としては、例
えばエチル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレ
ート、２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフ
ェニルアクリレート等があげられる。

【００１６】ベンゾフェノン系化合物としては、例えば
２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２−
ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２′−
ジヒドロキシ−４，４′−ジメトキシベンゾフェノン、
２，２′，４，４′−テトラヒドロキシベンゾフェノ
ン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロ
キシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸等
をあげることができる。

【００１７】ベンゾオキサジノン系化合物としては、例
えば２−ｐ−ニトロフェニル−３，１−ベンゾオキサジ
ン−４−オン、２−（ｐ−ベンゾイルフェニル）−３，
１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−（２−ナフチ
ル）−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２，２′
−ｐ−フェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４
−オン）、２，２′−（２，６−ナフチレン）ビス
（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）等を例示する
ことができる。

【００１８】これらの内、３７５ｎｍで大きな吸収強度
を有すること、各種溶媒への溶解性が良好であることか
ら、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−
４，６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェ
ノールといったベンゾトリアゾール系化合物が好まし
い。

【００１９】これらの化合物は１種単独であるいは２種
以上一緒に併用することができる。

【００２０】上記化合物を含有する被覆層は、ポリエチ
レンナフタレートを成形体としたのち、その表面上に形
成されるかあるいは成形体としてその表面上に形成され
る。

【００２１】成形体としたのち、その表面に被覆層を形
成するには例えば、前記の如き化合物の少くとも１種と
被覆用樹脂とを溶媒に溶解した溶液を準備し、これを成
形体に塗布し、乾燥し、次いで好ましくは熱処理する方
法が有利に採用される。

【００２２】こうした樹脂溶媒の塗布の方法としては、
例えば、浸漬法、流し塗り法、スプレー法、スピンコー
ト法、はけ塗り法、ロール法、カーテンフロー法などが
挙げられる。これらの内、浸漬法、流し塗り法、スプレ
ー法が好ましく採用される。

【００２３】上記被覆用組成物としては、溶媒に可溶の
熱可塑性樹脂、または原料のモノマーが溶媒に可溶であ
る熱あるいは紫外線硬化性樹脂が、被覆層を形成する際
成形性の点で好ましい。これらとしては例えばポリエス
テル系樹脂、シリコン系樹脂、アクリル系樹脂等を挙げ
ることができる。この中で、ポリエステル系樹脂等の熱
可塑性樹脂、およびシリコン系樹脂等の熱硬化性樹脂
が、成形性の面から好ましい。

【００２４】該ポリエステル系樹脂としては、好ましい
ものとして、例えばイソフタル酸、テレフタル酸、アジ
ピン酸を酸成分とし、エチレングリコール、ネオペンチ
レングリコール等のグリコールをジオール成分とした非
晶性のポリエステルをあげることができる。

【００２５】上記被覆層がプライマー層とその上層のハ
ードコート層とからなる二層である場合には、プライマ
ー層として上記ポリエステル系樹脂を用い、ハードコー
ト層として熱硬化性のシリコン系樹脂を用いることが好
ましい。また、アクリル系樹脂を用いる場合は、上記熱
可塑性のアクリル系樹脂をプライマー層に用い、熱また
は紫外線硬化性のアクリル系樹脂をハードコート層に用
いることが好ましい。

【００２６】被覆層の厚みは０．５〜３０μｍが好まし
い。

【００２７】一般にこうした被覆層の厚みはその被覆層
の使用目的によってより好ましい厚みが異なる。例えば
２層以上の被覆層を有する場合で下層（プライマー層）
が上記化合物を含有する場合には、膜厚は０．５〜１０
μｍがより好ましい。０．５μｍより薄い場合には接着
性が低下し易く、また、十分な蛍光抑制硬化を発現する
ことが困難となる。１０μｍより厚い場合には皮膜が白
濁したりクラックが生じたりすることがあるため好まし
くない。この場合、膜厚は特に好ましくは１〜５μｍで
ある。

【００２８】また、同様に２層以上の被覆層を有する場
合で、上層（ハードコート層）が上記化合物を含有する
場合、あるいは被覆層が単層（ハードコート層）からな
る場合には、膜厚はより好ましくは、１〜３０μｍであ
る。１μｍより薄いとハードコート層としての機能が不
十分となりやすく、３０μｍより厚いとクラックが発生
しやすくなるためである。この場合、膜厚は特に好まし
くは３〜１５μｍである。

【００２９】本発明では、上記被覆層は一層の場合か、
プライマー層とハードコート層とからなる二層の場合が
好ましい。二層の場合には、上記化合物はプライマー
層、ハードコート層どちらに含有していてもよいが、プ
ライマー層に含有すると、かかる化合物が成形体の表面
にしみ出すのを防ぐことができ、また成形性の点からも
好ましい。

【００３０】成形体をしたのち、その表面に被覆層を形
成する別法は、上記化合物を含有するフイルムを別に準
備し、これを成形体に積層する方法である。かかるフイ
ルムのためのポリマーとしては、例えばポリエチレンテ
レフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリカーボネー
ト、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、アクリルポリマー
等の熱可塑性樹脂が好ましく用いられる。これらのう
ち、ポリエチレンテフレタレートのホモポリマーおよび
イソフタル酸成分共重合ポリマーが耐熱性に優れるため
好ましい。

【００３１】上記化合物を含有するフイルムはかかる化
合物を含有する上記の如きポリマーを溶融成形すること
により製造されることが多く、そのため使用する化合物
としては耐熱性の優れたベンゾオキサジノン系化合物が
好ましい。

【００３２】上記の如きフイルムの膜厚は１０μｍ以下
が好ましく、５μｍ以下がより好ましい。膜厚が大きす
ぎると、成形体上に積層することが困難となる。

【００３３】さらに、成形体を成形しつつ、その表面上
に被覆層を形成する方法としては、成形体を成形しつ
つ、その表面上に共押出出しにより上記化合物を含有す
る被覆層を形成する方法を好ましい方法として挙げるこ
とができる。この場合の好ましい化合物および被覆層を
形成するための好ましいポリマーとしては、積層法にて
前記したものと同じものを挙げることができる。この場
合の被覆層の好ましい厚みも１０μｍ以下、より好まし
い厚みは５μｍ以下である。

【００３４】被覆層は、前記したその形成方法の如何に
かかわらず、これを形成するポリマー１００重量部当
り、好ましくは上記化合物を０．１〜３０重量部、より
好ましくは０．１〜２０重量部、さらにより好ましくは
０．１〜１０重量部、さらにより好ましくは０．５〜８
重量部が含有する。３０重量部を越えると該化合物が被
覆層からブリードアウトし易く、また０．１重量％より
少ないと該化合物を使用したことによる効果の発現が小
さい。

【００３５】なお、上述の如き化合物を含有する被覆層
は、本発明の目的を達成することができる範囲内で、以
下に示す環状イミノエステル及び／又はキノキサリン類
を含有してもよい。

【００３６】かかる環状イミノエステルは、下記式（I
I）

【００３７】

【化１】

【００３８】（ここで、Ｘ¹ は上記式に表われている２
本の結合手が１位、２位の位置関係にある、２価の芳香
族基であり、ｎは１、２又は３であり、そしてＲ¹ はヘ
テロ原子を含有していてもよいｎ価の芳香族炭化水素基
であるか、あるいはｎ＝２のとき直接結合であってもよ
い。）で表される。

【００３９】上記式（II）で表わされる環状イミノエス
テルの具体例としては、例えば下記の化合物を挙げるこ
とができる。ｎ＝１の場合の化合物 （１０１） ２―（１―又は２―ナフチル）―３，１―
ベンゾオキサジン―４―オン、（１０３） ２―（４―
ビフェニル）―３，１―ベンゾオキサジン―４―オン、
（１０５） ２―ｐ―ニトロフェニル―３，１―ベンゾ
オキサジン―４―オン、（１０７） ２―ｍ―ニトロフ
ェニル―３，１―ベンゾオキサジン―４―オン、（１０
９） ２―ｐ―ベンゾイルフェニル―３，１―ベンゾオ
キサジン―４―オン、（１１１） ２―ｐ―メトキシフ
ェニル―３，１―ベンゾオキサジン―４―オン、（１１
３） ２―ｏ―メトキシフェニル―３，１―ベンゾオキ
サジン―４―オン、（１１５） ２―ｐ―（又はｍ―）
フタルイミドフェニル―３，１―ベンゾオキサジン―４
―オン、（１１７） Ｎ―（３，１―ベンゾオキサジン
―４―オン―２―イル）フェニルフタルイミド、（１１
９） Ｎ―ベンゾイル―４―（３，１―ベンゾオキサジ
ン―４―オン―２―イル）アニリン、（１２１） Ｎ―
ベンゾイル―Ｎ―メチル―４―（３，１―ベンゾオキサ
ジン―４―オン―２―イル）アニリン、（１２３） ２
―［ｐ―（Ｎ―フェニル―Ｎ―メチルカルバモイル）フ
ェニル］―３，１―ベンゾオキサジン―４―オン、

【００４０】ｎ＝２の場合の化合物 （２０１） ２，２′―ビス（３，１―ベンゾオキサジ
ン―４―オン）、（２０３） ２，２′―ｐ―フェニレ
ンビス（３，１―ベンゾオキサジン―４―オン）、（２
０５） ２，２′―ｐ―フェニレンビス（６―アセトキ
シ―３，１―ベンゾオキサジン―４―オン）、

【００４１】

【化２】

【００４２】（２０７） ２，２′―ｐ―フェニレンビ
ス（６―オクチルカルボニルオキシ―３，１―ベンゾオ
キサジン―４―オン）、（２０９） ２，２′―ｐ―フ
ェニレンビス（７―クロロ―３，１―ベンゾオキサジン
―４―オン）、（２１１） ２，２′―ｐ―フェニレン
ビス（６―クロロ―３，１―ベンゾオキサジン―４―オ
ン）、（２１３） ２，２′―ｐ―フェニレンビス（６
―メチル―３，１―ベンゾオキサジン―４―オン）、
（２１５） ２，２′―ｐ―フェニレンビス（５―メチ
ル―３，１―ベンゾオキサジン―４―オン）、（２１
７） ２，２′―（４，４′―ジフェニレン）ビス
（３，１―ベンゾオキサジン―４―オン）、（２１９）
２，２′―（２，６又は１，５―ナフタレン）ビス
（３，１―ベンゾオキサジン―４―オン）、（２２１）
２，２′―（２―メチル―ｐ―フェニレン）ビス
（３，１―ベンゾオキサジン―４―オン）、（２２３）
２，２′―（２―ニトロ―ｐ―フェニレン）ビス
（３，１―ベンゾオキサジン―４―オン）、（２２５）
２，２′―（２―クロロ―ｐ―フェニレン）ビス
（３，１―ベンゾオキサジン―４―オン）、（２２７）
Ｎ―ｐ―（３，１―ベンゾオキサジン―４―オン―２
―イル）フェニル―４―（３，１―ベンゾオキサジン―
４―オン―２―イル）フタルイミド、（２２９） Ｎ―
ｐ―（３，１―ベンゾオキサジン―４―オン―２―イ
ル）ベンゾイル―４―（３，１―ベンゾオキサジン―４
―オン―２―イル）アニリン、

【００４３】ｎ＝３の場合の化合物 （３０１） １，３，５―トリ（３，１―ベンゾオキサ
ジン―４―オン―２―イル）ナフタレン、（３０２）
２，４，６―トリ（３，１―ベンゾオキサジン―４―オ
ン―２―イル）ナフタレン、

【００４４】また、本発明において用いることができる
キノキサリン類は、下記式（III）

【００４５】

【化３】

【００４６】（ここで、Ｒ² は水素原子、ハロゲン原
子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のア
ルコキシ基、炭素数２〜２０のアルキルオキシカルボニ
ル基、または炭素数２〜２０のアシル基であり、Ｒ³ は
炭素数１〜６のアルキル基、またはハロゲン原子であ
り、そしてｍは０、１、２、３または４である。）で表
わされる。

【００４７】上記式（III）の具体的化合物としては例
えば、（４０１） ２，３―ジフェニルキノキサリン、
（４０３） ２，３―ビス（４―メトキシカルボニルフ
ェニル）キノキサリン、（４０５） ２，３―ビス（４
―エトキシカルボニルフェニル）キノキサリン、（４０
７） ２，３―ビス（４―メトキシフェニル）キノキサ
リン、（４０９） ２，３―ビス（４―アセトキシフェ
ニル）キノキサリン、（４１１） ２，３―ビス（４―
クロロフェニル）キノキサリン等のフェニルキノキサリ
ン類を例示できる。これらのうち、２，３―ジフェニル
キノキサリン、２，３―ビス（４―メトキシカルボニ
ル）キノキサリンが好ましい。

【００４８】上記環状イミノエステルおよびキノキサリ
ン類は３４０〜４００ｎｍの紫外線波長域において、下
記式（IV）で表される吸収強度Ｅが２００を超える該波
長域部分を有する化合物であることが好ましい。ここで
吸収強度Ｅは、下記式（IV）

【００４９】

【数１】

【００５０】（ここで、Ａは１，１，２，２―テトラク
ロロエタン中、濃度ｃ（ｇ／１００ｍｌ）、光路長ｌｃ
ｍで測定した際の吸光度である。）で定義される。ここ
で、吸収強度Ｅが２００を超えるとは、上記環状イミノ
エステルやキノキサリン類の吸収強度が、３４０〜４０
０ｎｍの波長領域の一部または全部において２００を超
えることをいう。かかる吸収強度が２００を超えない場
合には、被覆層を形成するポリマ−への添加による蛍光
抑制効果が十分でない。添加する上記化合物の吸収強度
はより好ましくは３００以上である。

【００５１】環状イミノエステルおよびキノキサリン類
は、それぞれ単独であるいは２種以上任意の組合せで使
用することができる。

【００５２】本発明で用いられるベンゾトリアゾ−ル系
化合物、シアノアクリレ−ト系化合物、ベンゾフェノン
系化合物およびベンゾオキサジノン系化合物からなる群
より選ばれる少なくとも１種の化合物、あるいは前記環
状イミノエステル、キノキサリン類は、本発明の目的を
達成することができる範囲内で、または用途において
は、ポリエチレンナフタレ−ト１００重量部に対し０．
０１〜５重量部の割合で混合してもよい。ポリエチレン
ナフタレ−トに混合することにより、ポリエチレンナフ
タレ−トからの蛍光発光の抑制効果が増大され好ましい
場合がある。

【００５３】本発明によれば、紫外光波長３７５ｎｍに
おいて下記式（１）

【００５４】

【数２】 透過率（％）＝（Ｉ／Ｉ₀ ）×１００ （１） （ここでＩ、Ｉ₀はそれぞれポリエチレンナフタレート
に波長３７５ｎｍの光を照射したときの透過光強度およ
び入射光強度である。）で定義される透過率が８０
（％）以下を示すように、ポリエチレンナフタレートの
成形体の外側に被覆層を設けることにより、ポリエチレ
ンナフタレートに由来する蛍光の強度をより効果的に減
少させることができる。ポリエチレンナフタレートの繰
り返し単位は３５０ｎｍ近傍において紫外光の吸収極大
を有するので、このことからは３５０ｎｍ付近の吸収を
抑えれば蛍光強度を抑制するのに効果があると思われが
ちである。ところが実際は、驚くべきことにポリエチレ
ンナフタレートの繰り返し単位がほとんど吸収を持たな
い３７５ｎｍ近傍の紫外光を照射した際の蛍光の発光強
度がもっとも高くなっている。理由についての詳細はわ
からないが、紫外光の吸収強度があまりに大きな領域で
はほとんどの紫外光がポリエチレンナフタレートの極め
て表層の部分で吸収されて内部まで紫外光が届かないの
に対し、吸収強度が弱い領域はかえってポリエチレンナ
フタレートの内部にまで紫外光が到達することが原因の
一つとして考えられる。

【００５５】以上の理由から、本発明では３７５ｎｍの
紫外光の透過率において少なくとも８０％以下となるよ
うに化合物を含有する被覆層を設けることが好ましい。
こうした場合に、３７５ｎｍで紫外線を照射した場合の
蛍光強度は、このような被覆層を設けていない場合の８
０％以下となり、蛍光の抑制効果が十分発現されるよう
になる。３７５ｎｍにおける紫外光の透過率は当然、低
いほどその蛍光の抑制効果は顕著であり、透過率は好ま
しくは６０％以下、より好ましくは４０％以下、さらに
より好ましくは２０％以下であり、２０％以下とした場
合にはほとんど蛍光が発されているとは感じられない程
度になる。

【００５６】

【発明の効果】本発明によれば、紫外線の照射により蛍
光を発するポリエチレンナフタレートの成形体表面に、
被覆層を形成することにより、かかるポリエチレンナフ
タレートに由来する蛍光を効果的に抑制することができ
る。これによって美観の損なわれることのないポリエチ
レンナフタレート成形体を提供することが可能である。

【００５７】かかるポリエチレンナフタレート成形体
は、透明性が良好であり、耐熱性、剛性、加工性、取り
扱い性、衛生性、再利用性などに優れ、ボトル等の容
器、フィルム、シート等の各種成形体として利用するこ
とができる。

【００５８】

【実施例】以下実施例を挙げて本発明を説明するが、本
発明は実施例にのみ限定されるものではない。実施例中
「部」は「重量部」を表すものとする。実施例において
ポリマーの固有粘度はフェノール／テトラクロロエタン
混合溶媒（重量比６０／４０）中３５℃での値である。

【００５９】［参考例］固有粘度０．７１のポリ（１，
２−エチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレー
ト）（以下ＰＥＮと省略する）のボトル型成型品の側面
の比較的平らな部分を切り出し、蛍光強度を測定した。
その強度（Ｆ₀ ）を基準に、各実施例における蛍光相対
強度を下記式（２）にて算出した。

【００６０】蛍光の相対強度は、日立製作所（株）製Ｆ
−２０００日立蛍光分光光度計を用いて、波長３７５ｎ
ｍ（バンドパス１０ｎｍ）の紫外光で励起し、４００〜
５５０ｎｍ（バンドパス１０ｎｍ）の可視光領域に渡っ
て積算し、発光量の相対比較により評価した。その際、
実施例での機械定数を含む発光強度Ｆ、参考例の発光強
度Ｆ₀ とし、参考例での発光強度を１００％として次式
（２）により算出した。

【００６１】

【数３】 発光強度（％）＝（Ｆ／Ｆ₀ ）×１００ （２）

【００６２】［実施例１］飽和ポリエステル樹脂（東洋
紡績（株）社製 バイロン−１０３）５０部、２−（２
Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ビス
（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール（チバ
ガイギー社製 チヌビン２３４）１部をメチルエチルケ
トン２００部に溶解した溶液を作製した。これを、参考
例と同様のＰＥＮのボトル型成型品に対して、スプレー
法により表面に塗布し、９０℃で２時間熱処理したもの
を作製した。参考例と同じ位置でサンプルを切り出し被
覆層の厚みを測定したところ平均膜厚９μｍの被覆層が
形成されていることがわかった。このサンプルによる蛍
光相対強度を上記式（２）により算出した。結果を表１
に示す。

【００６３】［実施例２］実施例１において、チヌビン
２３４を２．５部用いた以外は同様にして蛍光相対強度
を測定した。結果を表１に示す。

【００６４】［実施例３］実施例１において、チヌビン
２３４の代わりに２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２
−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチ
ル）フェノール（Aldrich Chemical Company, inc.
製）２．５部を用いた以外は同様にして蛍光相対強度を
測定した。結果を表１に示す。

【００６５】［実施例４］飽和ポリエステル樹脂（東洋
紡績（株）社製 バイロン−１０３）５０部、２−（２
Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ビス
（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール（チバ
ガイギー社製 チヌビン２３４）１．５部をメチルエチ
ルケトン２００部に溶解した溶液を作製した。これを、
参考例と同様のＰＥＮのボトル型成型品に対して、スプ
レー法により表面に塗布し、９０℃で２時間熱処理した
ものを作製した。参考例と同じ位置でサンプルを切り出
し被覆層の厚みを測定したところ平均膜厚５μｍの被覆
層が形成されていることがわかった。

【００６６】さらに、この被覆層の上に、シリコーンワ
ニス（東芝シリコーン株式会社製トスガード５１０）を
さらにスプレーコートし、４５℃で２０分セッティング
した後、９０℃で２時間加熱硬化させた。このハードコ
ート層の平均膜厚は９μｍであった。このサンプルによ
る蛍光相対強度を上記式（２）により算出した。結果を
表１に示す。

【００６７】［実施例５］実施例４において、チヌビン
２３４を２．５部用いた以外は同様にして蛍光相対強度
を測定した。結果を表１に示す。

【００６８】［比較例１］実施例４において、チヌビン
２３４を用いない以外は同様にして蛍光相対強度を測定
した。結果を表１に示す。

【００６９】

【表１】

【００７０】［実施例６、７及び比較例２］固有粘度
０．６４のポリエチレンテレフタレート（以下、ＰＥＴ
と略記する。）１００部に対して、２，２′―ｐ―フェ
ニレンビス（３，１―ベンゾオキサジン―４―オン）の
所定量をドライブレンドし、３０ｍｍφ同方向回転２軸
エクストルーダー（池貝鉄工（株）製ＰＣＭ３０）を用
いて、ポリマー温度２８０℃、平均滞留時間約１０分の
条件下で溶融混練した。

【００７１】固有粘度０．７１のポリエチレン―２，６
―ナフタレート（以下、ＰＥＮと略記する。）および上
記のＰＥＴ混合物をそれぞれ２層共押し出しラミネート
フイルム製膜用の２つのエクストルーダーにそれぞれ供
給し、ＰＥＮは２９０℃、ＰＥＴは２８０℃として共押
し出し用のスリットより溶融押し出しした。共押し出し
によるフイルムを、ＰＥＮ側を内側としてキャスティン
グドラムにより引き取り、積層フイルムを製造した。こ
の際、ポリマーのフィード量及びフイルムの引き取り速
度を変えることにより、ＰＥＮ層の厚みが２００μｍ、
ＰＥＴ層の厚みが５０μｍとなるようにした。得られた
積層フイルムを１２０℃で３．２×３．２倍の同時２軸
延伸を行い、ＰＥＴ側から蛍光強度の測定を実施した。

【００７２】結果を表２に示すが、ここで蛍光相対強度
はＰＥＮ単独フィルム（比較例２）の蛍光強度に対する
相対強度である。

【００７３】

【表２】

【００７４】以上の結果から、ポリエチレンナフタレー
ト成形体の表面を本発明の被覆層を設けることにより、
ポリエチレンナフタレートに由来する蛍光を大幅に減少
することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平７−287344（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−281357（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−208955（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C08J 7/04 - 7/06 B32B 27/00 - 27/42

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 エチレン−２，６−ナフタレート繰り返
   し単位から主としてなるポリエチレンナフタレートの成
   形体表面に、ベンゾトリアゾール系化合物、シアノアク
   リレート系化合物、ベンゾフェノン系化合物およびベン
   ゾオキサジノン系化合物からなる群より選ばれる少なく
   とも一種の化合物を含有する被覆層を形成することを特
   徴とするポリエチレンナフタレート成形体（ただしハロ
   ゲン化銀感光材料を除く）の蛍光防止方法。
2. 【請求項２】 被覆層を構成する樹脂がポリエステル系
   樹脂から主としてなる請求項１記載のポリエチレンナフ
   タレート成形体の蛍光防止方法。
3. 【請求項３】 被覆層が、プライマー層とハードコート
   層とからなる請求項１記載のポリエチレンナフタレート
   成形体の蛍光防止方法。
4. 【請求項４】 被覆層が化合物を、被覆層を形成するポ
   リマ−１００重量部あたり０．１〜３０重量部で含有す
   る請求項１〜３のいずれかに記載のポリエチレンナフタ
   レート成形体の蛍光防止方法。
5. 【請求項５】 エチレン−２，６−ナフタレート繰り返
   し単位から主としてなるポリエチレンナフタレートの容
   器表面に、ベンゾトリアゾール系化合物、シアノアクリ
   レート系化合物、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾ
   オキサジノン系化合物からなる群より選ばれる少なくと
   も一種の化合物を含有する被覆層を形成することを特徴
   とするポリエチレンナフタレート容器の蛍光防止方法。