JP3490558B2 - ポリアルキレンナフタレン―２，６―ジカルボキシレートの蛍光発生を防止する方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はポリアルキレンナフ
タレン―２，６―ジカルボキシレートの蛍光発生を防止
する方法に関する。さらに詳しくは、特定波長領域の光
を吸収する環状イミノエステルまたはキノキサリン類を
ポリアルキレンナフタレン―２，６―ジカルボキシレー
トに含有せしめることにより蛍光発生を防止する方法に
関する。

【０００２】

【従来の技術】ポリアルキレンナフタレートは近年その
優れた性能を生かして様々な用途に使用されてきてい
る。例えば、ポリエチレンナフタレートは高強度高弾性
率のフイルムとして、各種オーディオテープ、ビデオテ
ープに利用されている。ポリブチレンナフタレートも各
種樹脂用途への利用がなされている。ところが、ポリア
ルキレンナフタレートは紫外線の照射を受けると青白い
蛍光を発するという望ましからざる性質を有しているこ
とが従来から知られている。このために、食品包装や飲
料用ボトルといった用途へは外観上の難点が指摘されて
いる。このようなポリアルキレンナフタレートの蛍光に
ついては、例えば、Journal of Polymer Science：Poly
mer Letters Edition, Vol. １７，２２７−２３２（１
９７９）において、ポリ（１，２―エチレン―２，６―
ナフタレンジカルボキシレート）フイルムの蛍光につい
て研究がされており、その蛍光の発光種はナフタレート
のエキシマーに由来するという内容のことが記載されて
いる。

【０００３】かかるポリアルキレンナフタレートの蛍光
は、米国特許第５３１０８５７号明細書において、芳香
族ケトンを比較的少量共重合することにより、効率的に
蛍光を抑制できることが報告されている。しかしなが
ら、この方法では共重合成分である芳香族ケトンをポリ
マーの他の構成成分と共に反応させるため、ポリマー製
造時にポリマーの銘柄の切り替えが必要になるという問
題、芳香族ケトンが特殊なものとなるためポリマーが高
価になるという問題、また芳香族ケトンの反応性が低い
ために高重合度のポリマーを得にくいという問題があ
る。

【０００４】特開昭５９―１２９５２号公報には、環状
イミノエステルを分子中に有する化合物を各種の樹脂に
対して混合することにより、樹脂を紫外線から保護する
方法が記載されている。この方法は、各種の樹脂を紫外
線から保護するする方法としては優れている。しかしな
がら、同公報には、ポリアルキレンナフタレートのよう
な蛍光を発するポリマーの蛍光発生を抑制する方法につ
いて全く記載はない。

【０００５】また、フェニルキノキサリン類について
は、例えば、ハロゲン原子を分子内に有する高分子重合
体への安定剤としての利用が、米国特許第３３２５４４
６号明細書に記載されているが、ポリマーの蛍光防止に
ついては何ら開示されていない。

【０００６】他方、ポリエステルやポリカーボネート等
の樹脂成型品の表面上に保護被覆層を設けることによっ
て、成型品の硬度向上や耐光性の向上を計ろうとする技
術内容のものも数多く開示されている。例えば、特公昭
６０―５３７０号公報においては、耐摩耗性シリコーン
被覆ポリカーボネート物品に関して、熱硬化アクリル重
合体を含有する接着促進プライマー層中に紫外線吸収性
化合物を含有させることにより、耐光性を向上させる技
術内容の記載がなされている。特開昭５８―１７９２３
号公報においてはポリカーボネート系樹脂成型品の表面
処理法に関して、ポリアクリレート系樹脂、紫外線吸収
剤、有機溶剤、及びコロイド状シリカからなる上塗り剤
を塗付した後熱硬化させる表面処理方法について開示さ
れている。特開平２―１５０４３１号公報においてはプ
ラスチック表面にメタクリレート系樹脂とベンゾトリア
ゾール系紫外線吸収剤からなるプライマー層を設けた
後、シリカ系熱硬化性樹脂とベンゾフェノン系紫外線吸
収剤とからなる表面被覆層を設ける技術内容についての
記載がある。特開平２―３８１２８号公報においてはポ
リエチレンテレフタレート成形品の表面保護法に関し
て、表面コート層に紫外線吸収剤を必要に応じて添加し
てもよい旨の記載がある。特公平５―８６９７３号公報
においては、ポリエステル製透明基材の表面に設けた被
覆層中に紫外線吸収剤を添加するという技術内容のこと
が記載されている。さらに特公平６―３７２１２号公報
においては、透明樹脂を紫外線から保護するためにシリ
コーン系の表面被覆層に紫外線吸収剤を混合する方法に
ついての記載がある。

【０００７】しかし、こうした表面被覆層を設けること
により紫外光の透過を抑制する方法は、容器の内容物、
あるいは被覆された樹脂が紫外線によって劣化するのを
防止する方法であり、さらに、こうした方法をポリエチ
レンナフタレート成形体へ適用することの可否について
の記載はない。しかも、上述のような被覆層によって主
として遮断されるべき紫外光領域とポリエチレンナフタ
レートが最も蛍光を強く発する紫外光領域は異なってい
るのである。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的はポリア
ルキレンナフタレン―２，６―ジカルボキシレートの蛍
光発生を抑制する方法を提供することにある。

【０００９】本発明の他の目的はポリアルキレンナフタ
レン―２，６―ジカルボキシレートが紫外線照射により
エキシマーに変換するのを抑制することによって、ポリ
アルキレンナフタレン―２，６―ジカルボキシレートが
蛍光を発生するのを抑制する方法を提供することにあ
る。

【００１０】本発明のさらに他の目的は、３４０〜４０
０ｎｍの紫外線波長域において吸収強度が２００を超え
ることによって特徴づけられる環状イミノエステルまた
はキノキサリン類を含有せしめることによって、ポリア
ルキレンナフタレン―２，６―ジカルボキシレートが紫
外線照射により蛍光発生するのを防止する方法を提供す
ることにある。

【００１１】本発明のさらに他の目的は、上記本発明方
法により得られる、蛍光発生が防止されたポリアルキレ
ンナフタレン―２，６―ジカルボキシレートの表面上
に、さらに、特定の紫外線吸収剤を含む被覆層を設ける
ことにより、ポリアルキレンナフタレン―２，６―ジカ
ルボキシレートが蛍光発生するのを一層効果的に且つ有
利に防止する方法を提供することにある。

【００１２】本発明のさらに他の目的は、紫外光が当た
っても蛍光を発して外観の低下を引き起こすことのな
い、各種包装材、飲料ボトル、各種容器、チューブ、フ
イルム、カバー、ケースといった用途に適するポリアル
キレンナフタレン―２，６―ジカルボキシレート樹脂組
成物を工業的に有利に製造する方法を提供することにあ
る。

【００１３】本発明のさらに他の目的および利点は以下
の説明から明らかになろう。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、本発明
の上記目的は、第１に、（１）下記式（Ｉ）

【００１５】

【化９】

【００１６】（ここで、Ｒは炭素数２〜６のアルキレン
基である。）で表わされる繰返し単位が全繰返し単位の
少くとも８０モル％を占めるポリアルキレンナフタレン
―２，６―ジカルボキシレート１００重量部、および
（２）下記式（II）

【００１７】

【化１０】

【００１８】（ここで、Ｘ¹ は上記式に表われている２
本の結合手が１位、２位の位置関係にある、２価の芳香
族基であり、ｎは１、２又は３であり、そしてＲ¹ はヘ
テロ原子を含有していてもよいｎ価の芳香族炭化水素基
であるか、あるいはｎ＝２のとき直接結合であってもよ
い。）で表される環状イミノエステル、および下記式
（III ）

【００１９】

【化１１】

【００２０】（ここで、Ｒ² は水素原子、ハロゲン原
子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のア
ルコキシ基、炭素数２〜２０のアルキルオキシカルボニ
ル基、または炭素数２〜２０のアシル基であり、Ｒ³ は
炭素数１〜６のアルキル基またはハロゲン原子であり、
そしてｍは０、１、２、３または４である。）で表わさ
れるキノキサリン類であって、且つ３４０〜４００ｎｍ
の紫外線波長域において下記式（IV）

【００２１】

【数３】

【００２２】（ここで、Ａは１，１，２，２―テトラク
ロロエタン中、濃度ｃ（ｇ／１００ｍｌ）、光路長ｌ
（ｃｍ）で測定したときの吸光度である。）で定義され
る吸収強度が２００を超える化合物群から選ばれる少く
とも１種０．０１〜５重量部、を混合して、ポリアルキ
レンナフタレン―２，６―ジカルボキシレートの基底状
態にある分子が紫外線の照射によりエキシマーに変化す
るのを抑制する、ことを特徴とするポリアルキレンナフ
タレン―２，６―ジカルボキシレートの蛍光発生を防止
する方法によって達成される。

【００２３】

【発明の実施の形態】本発明において用いられるポリア
ルキレンナフタレン―２，６―ジカルボキシレートは、
下記式（Ｉ）

【００２４】

【化１２】

【００２５】（ここで、Ｒは炭素数２〜６のアルキレン
基である。）で表わされる繰返し単位が全繰返し単位の
少くとも８０モル％を占めるものである。

【００２６】上記（Ｉ）において、Ｒは炭素数２〜６の
アルキレン基である。かかるアルキレン基としては、例
えばエチレン基、１，４―ブチレン基、１，３―（２，
２―ジメチル）プロピレン基、１，６―ヘキシレン基等
を挙げることができる。

【００２７】ポリアルキレンナフタレン―２，６―ジカ
ルボキシレートとしては、例えばポリ（１，２―エチレ
ンナフタレン―２，６―ジカルボキシレート）、ポリ
（１，４―ブチレンナフタレン―２，６―ジカルボキシ
レート）、ポリ（１，３―（２，２―ジメチル）プロピ
レンナフタレン―２，６―ジカルボキシレート）、ポリ
（１，６―ヘキシレンナフタレン―２，６―ジカルボキ
シレート）等を挙げることができる。

【００２８】かかるポリアルキレンナフタレン―２，６
―ジカルボキシレートのうち、（１，２―エチレンナフ
タレン―２，６―ジカルボキシレート）を好ましいもの
として挙げることができる。

【００２９】このようなポリアルキレンナフタレン―
２，６―ジカルボキシレートは、上記式（Ｉ）で表わさ
れる繰返し単位を少くとも８０モル％含有するならば、
その他の繰返し単位を含有していてもよい。２０モル％
以下、好ましくは１０モル％以下で含有され得る他の繰
返し単位を構成するジカルボン酸成分およびジオール成
分としては、例えばテレフタル酸、イソフタル酸、２，
７―ナフタレンジカルボン酸、フェニルインダンジカル
ボン酸等の芳香族ジカルボン酸、アジピン酸、セバシン
酸等の脂肪族ジカルボン酸；１，３―プロピレングリコ
ール、１，４―ブチレングリコール、ネオペンチレング
リコール、１，６―ヘキサメチレングリコール、１，４
―シクロヘキサンジメタノール等の脂肪族ジオール等の
ジオールがあげられる。

【００３０】また、本発明で対象とするポリアルキレン
ナフタレン―２，６―ジカルボキシレートは、ポリアル
キレンナフタレン―２，６―ジカルボキシレートを少な
くとも５０重量％以下、好ましくは少なくとも４０重量
％で含有するかぎり、ポリアルキレンナフタレン―２，
６―ジカルボキシレート以外の他のポリマー、例えばポ
リエチレンテレフタレート等のポリエステルとの組成物
の形態にあってもよい。

【００３１】ポリアルキレンナフタレン―２，６―ジカ
ルボキシレートは、フェノール１，１，２，２―テトラ
クロロエタン混合溶媒（重量比６０／４０）中３５℃で
測定した固有粘度が、好ましくは少くとも０．３ｄｌ／
ｇ、より好ましくは少くとも０．４ｇ／ｄｌ、さらに好
ましくは少くとも０．５ｄｅ／ｇである。固有粘度が
０．３ｄｅ／ｇより小さい場合には、成型品によっては
強度が不充分な場合がある。

【００３２】本発明のおいて、ポリアルキレンナフタレ
ン―２，６―ジカルボキシレートに混合するために用い
られる化合物は、環状イミノエステルおよびキノキサリ
ン類である。

【００３３】用いられる環状イミノエステルは、下記式
（II）

【００３４】

【化１３】 （ここで、Ｘ¹ は上記式に表われている２本の結合手が
１位、２位の位置関係にある、２価の芳香族基であり、
ｎは１、２又は３であり、そしてＲ¹ はヘテロ原子を含
有していてもよいｎ価の芳香族炭化水素基であるか、あ
るいはｎ＝２のとき直接結合であってもよい。）で表さ
れる。

【００３５】上記式（II）において、Ｘ¹ を表わす２価
の芳香族としては、例えば１，２―フェニレン、１，２
―ナフチレン、２，３―ナフチレン、下記式（ａ）

【００３６】

【化１４】

【００３７】（ここで、Ｙは―Ｏ―，―ＣＯ―，―Ｓ
―，―ＳＯ₂ ―，―ＣＨ₂ ―，―（ＣＨ ₂ ）₂ ―又は―
Ｃ（ＣＨ₃ ）₂ ―である。］で表わされる基および下記
式（ｂ）

【００３８】

【化１５】

【００３９】（ここで、Ｙの定義は上記に同じである）
で表わされる基を挙げることができる。これらのうち、
特に１，２―フェニレンが好ましい。

【００４０】上記例示の２価の芳香族基は、例えば炭素
数１〜１０のアルキル例えばメチル、エチル、プロピ
ル、ヘキシル、デシル等；炭素数６〜１２のアリール例
えばフェニル、ナフチル等；炭素数５〜１２のシクロア
ルキル例えばシクロペンチル、シクロヘキシル等；炭素
数８〜２０のアラルキル例えばフェニルエチル；炭素数
１〜１０のアルコキシ例えばメトキシ、エトキシ、デシ
ルオキシ等；ニトロ；ハロゲン例えば塩素、臭素等；炭
素数２〜１０のアシル例えばアセチル、プロピオニル、
ベンゾイル、デカノイル等；炭素数２〜２０のアシルオ
キシ、例えばアセトキシ、プロピルカルボニルオキシ、
オクチルカルボニルオキシ等などの置換基で置換されて
いてもよい。

【００４１】また、ｎは１、２又は３である。ｎのこの
値に応じて、Ｒ¹ は１価、２価又は３価の芳香族炭化水
素基である。または直接結合である（ｎ＝２のとき）。

【００４２】１価の炭化水素基（ｎ＝１の場合）として
は、第一に、例えばフェニル、ナフチル、ビフェニル等
の炭素数６〜１２の未置換芳香族基を挙げることができ
る。

【００４３】又、上記１価の炭化水素残基としては、第
二に、例えば下記式（ｃ）

【００４４】

【化１６】

【００４５】（ここで、Ｒ⁴ はフェニレン又はナフチレ
ンである。）で表わされる基、下記式（ｄ）

【００４６】

【化１７】

【００４７】（ここで、Ｒ⁵ は炭素数１〜１０のアルキ
ル基、フェニル基又はナフチル基である。）で表わされ
る基、下記式（ｅ）

【００４８】

【化１８】

【００４９】（ここで、Ｒ⁴ およびＲ⁵ の定義は上記に
同じであり、Ｒ⁶ は水素原子又はＲ⁵に定義された基の
いずれかである。）で表わされる基、下記式（ｆ）

【００５０】

【化１９】

【００５１】（ここで、Ｒ⁴ およびＲ⁶ の定義は上記に
同じであり、Ｒ⁷ は水素原子又はＲ⁵に定義された基の
いずれかである。）で表わされる置換された脂肪族基又
は芳香族基を挙げることができる。

【００５２】また、上記１価の炭化水素基としては、第
三に、上記未置換の芳香族基が例えば上記Ｘ¹ を表わす
芳香族基の置換基として例示したと同じ置換基で置換さ
れているものを挙げることができる。それ故、かかる置
換基で置換された場合の例としては、例えばトリル、メ
チルナフチル、ニトロフェニル、ニトロナフチル、クロ
ロフェニル、ベンゾイルフェニル、アセチルフェニル又
はアセチルナフチル等を挙げることができる。

【００５３】１価の炭化水素基としては、上記式
（ｃ）、（ｄ）、（ｅ）又は（ｆ）で表わされる基、す
なわち置換された芳香族基、特にそのうち置換された芳
香族基が好ましい。

【００５４】２価の炭化水素基（ｎ＝２の場合）として
は、第１に、例えばフェニレン、ナフチレン、ｐ，ｐ′
―ビフェニレン等を炭素数６〜１２の未置換の芳香族基
をあげることができる。

【００５５】又、上記２価の炭化水素基としては、第２
に、例えば下記式（ｇ）

【００５６】

【化２０】

【００５７】（ここで、Ｒ⁸ はＲ⁴ に定義された基のい
ずれかである。）で表わされる基、又は下記式（ｈ）

【００５８】

【化２１】

【００５９】（ここで、Ｒ⁸ の定義は上記に同じであ
り、Ｒ⁹ はＲ⁴ に定義された基のいずれであり、そして
Ｒ¹⁰はＲ⁶ に定義された基のいずれかである。）で表わ
される置換された脂肪族基又は芳香族基を挙げることが
できる。

【００６０】また、上記２価の炭化水素基としては、第
３に、上記未置換の２価の芳香族基が、例えば上記Ｘ¹
を表わす芳香族基の置換基として例示したと同じ置換基
で置換されているものを挙げることができる。

【００６１】ｎが２の場合には、Ｒ¹ としては、これら
のうち直接結合又は上記第１〜第３の群の未置換又は置
換された２価の芳香族炭化水素基が好ましい。就中、２
本の結合手が最も離れた位置から出ている第１又は第３
の群の未置換の又は置換された芳香族炭化水素基が好ま
しく、とりわけｐ―フェニレン、ｐ，ｐ′―ビフェニレ
ン又は２，６―ナフチレンが好ましい。

【００６２】３価の炭化水素基（ｎ＝３の場合）として
は、例えば炭素数６〜１２の芳香族基を挙げることがで
きる。

【００６３】かかる芳香族基としては、例えば

【００６４】

【化２２】

【００６５】等を挙げることができる。

【００６６】かかる芳香族基は、上記１価の芳香族基の
置換基として例示したと同じ置換基で置換されていても
よい。

【００６７】本発明において用いられる上記式（II）で
表わされる環状イミノエステルの具体例としては、例え
ば下記の化合物を挙げることができる。

【００６８】ｎ＝１の場合の化合物 （１０１） ２―（１―又は２―ナフチル）―３，１―
ベンゾオキサジン―４―オン、（１０３） ２―（４―
ビフェニル）―３，１―ベンゾオキサジン―４―オン、
（１０５） ２―ｐ―ニトロフェニル―３，１―ベンゾ
オキサジン―４―オン、（１０７） ２―ｍ―ニトロフ
ェニル―３，１―ベンゾオキサジン―４―オン、（１０
９） ２―ｐ―ベンゾイルフェニル―３，１―ベンゾオ
キサジン―４―オン、（１１１） ２―ｐ―メトキシフ
ェニル―３，１―ベンゾオキサジン―４―オン、（１１
３） ２―ｏ―メトキシフェニル―３，１―ベンゾオキ
サジン―４―オン、（１１５） ２―ｐ―（又はｍ―）
フタルイミドフェニル―３，１―ベンゾオキサジン―４
―オン、（１１７） Ｎ―（３，１―ベンゾオキサジン
―４―オン―２―イル）フェニルフタルイミド、（１１
９） Ｎ―ベンゾイル―４―（３，１―ベンゾオキサジ
ン―４―オン―２―イル）アニリン、（１２１） Ｎ―
ベンゾイル―Ｎ―メチル―４―（３，１―ベンゾオキサ
ジン―４―オン―２―イル）アニリン、（１２３） ２
―［ｐ―（Ｎ―フェニル―Ｎ―メチルカルバモイル）フ
ェニル］―３，１―ベンゾオキサジン―４―オン、

【００６９】ｎ＝２の場合の化合物 （２０１） ２，２′―ビス（３，１―ベンゾオキサジ
ン―４―オン）、（２０３） ２，２′―ｐ―フェニレ
ンビス（３，１―ベンゾオキサジン―４―オン）、（２
０５） ２，２′―ｐ―フェニレンビス（６―アセトキ
シ―３，１―ベンゾオキサジン―４―オン）、

【００７０】

【化２３】

【００７１】（２０７） ２，２′―ｐ―フェニレンビ
ス（６―オクチルカルボニルオキシ―３，１―ベンゾオ
キサジン―４―オン）、（２０９） ２，２′―ｐ―フ
ェニレンビス（７―クロロ―３，１―ベンゾオキサジン
―４―オン）、（２１１） ２，２′―ｐ―フェニレン
ビス（６―クロロ―３，１―ベンゾオキサジン―４―オ
ン）、（２１３） ２，２′―ｐ―フェニレンビス（６
―メチル―３，１―ベンゾオキサジン―４―オン）、
（２１５） ２，２′―ｐ―フェニレンビス（５―メチ
ル―３，１―ベンゾオキサジン―４―オン）、（２１
７） ２，２′―（４，４′―ジフェニレン）ビス
（３，１―ベンゾオキサジン―４―オン）、（２１９）
２，２′―（２，６又は１，５―ナフタレン）ビス
（３，１―ベンゾオキサジン―４―オン）、（２２１）
２，２′―（２―メチル―ｐ―フェニレン）ビス
（３，１―ベンゾオキサジン―４―オン）、（２２３）
２，２′―（２―ニトロ―ｐ―フェニレン）ビス
（３，１―ベンゾオキサジン―４―オン）、（２２５）
２，２′―（２―クロロ―ｐ―フェニレン）ビス
（３，１―ベンゾオキサジン―４―オン）、（２２７）
Ｎ―ｐ―（３，１―ベンゾオキサジン―４―オン―２
―イル）フェニル―４―（３，１―ベンゾオキサジン―
４―オン―２―イル）フタルイミド、（２２９） Ｎ―
ｐ―（３，１―ベンゾオキサジン―４―オン―２―イ
ル）ベンゾイル―４―（３，１―ベンゾオキサジン―４
―オン―２―イル）アニリン、

【００７２】ｎ＝３の場合の化合物 （３０１） １，３，５―トリ（３，１―ベンゾオキサ
ジン―４―オン―２―イル）ナフタレン、（３０２）
２，４，６―トリ（３，１―ベンゾオキサジン―４―オ
ン―２―イル）ナフタレン、上記例示化合物のうち、好
ましくはｎ＝２の場合の化合物、より好ましくは下記式
（II）−１

【００７３】

【化２４】

【００７４】（ここで、Ｘ¹¹は２価の芳香族炭化水素残
基でありそしてＲ¹¹およびＲ¹²は互いに独立に水素原
子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜１２のア
リール基、炭素数５〜１２のシクロアルキル基、炭素数
８〜２０のアラルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ
基、炭素数２〜１０のアシル基、炭素数２〜２０のアシ
ルオキシ基、ニトロ基又はハロゲン原子である）で表わ
される化合物が有利に用いられる。

【００７５】上記（II）−１中のＸ¹¹の２価の芳香族炭
化水素基としては、フェニレン、ジフェニレン、ナフチ
レン等を例示できる。

【００７６】また、Ｒ¹¹およびＲ¹²を定義する上記各基
や原子としては、式（II）のＸ¹ の２価の芳香族基を置
換する置換基として例示したものと同じものを挙げるこ
とができる。

【００７７】式（II）−１の化合物としては、就中２，
２′―ｐ―フェニレンビス（３，１―ベンゾオキサジン
―４―オン）、２，２′―（４，４′―ジフェニレン）
ビス（３，１―ベンゾオキサジン―４―オン）および
２，２′―（２，６―ナフタレン）ビス（３，１―ベン
ゾオキサジン―４―オン）が好ましい。

【００７８】また、本発明において用いることができる
キノキサリン類は、下記式（III ）

【００７９】

【化２５】

【００８０】（ここで、Ｒ² は水素原子、ハロゲン原
子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のア
ルコキシ基、炭素数２〜２０のアルキルオキシカルボニ
ル基、または炭素数２〜２０のアシル基であり、Ｒ³ は
炭素数１〜６のアルキル基、またはハロゲン原子であ
り、そしてｍは０、１、２、３または４である。）で表
わされる。

【００８１】上記式（III ）において、Ｒ² が表わすハ
ロゲン原子、炭素数１〜２０のアルキル基および炭素数
１〜２０のアルコキシ基としては、上記式（II）につい
て２価の芳香族基の置換基として例示したものと同じも
のを例示することができる。炭素数２〜２０のアルキル
オキシカルボニル基としては例えばメトキシカルボニ
ル、エトキシカルボニルの如き炭素数１〜１９のアルコ
キシ基を持つアルコキシカルボニル基を挙げることがで
きる。また炭素数２〜２０のアシル基としては例えばア
セチル、プロピオニルの如き炭素数１〜１９のアルキル
基を持つアシル基を挙げることができる。

【００８２】またＲ³ が表わす炭素数１〜６のアルキル
基およびハロゲン原子としても前述したものと同じもの
を例示することができる。

【００８３】上記式（III ）の具体的化合物としては例
えば、（４０１） ２，３―ジフェニルキノキサリン、
（４０３） ２，３―ビス（４―メトキシカルボニルフ
ェニル）キノキサリン、（４０５） ２，３―ビス（４
―エトキシカルボニルフェニル）キノキサリン、（４０
７） ２，３―ビス（４―メトキシフェニル）キノキサ
リン、（４０９） ２，３―ビス（４―アセトキシフェ
ニル）キノキサリン、（４１１） ２，３―ビス（４―
クロロフェニル）キノキサリン等のフェニルキノキサリ
ン類を例示できる。これらのうち、２，３―ジフェニル
キノキサリン、２，３―ビス（４―メトキシカルボニ
ル）キノキサリンが好ましい。

【００８４】本発明において用いられる上記環状イミノ
エステルおよびキノキサリン類は３４０〜４００ｎｍの
紫外線波長域において、下記式（IV）で表される吸収強
度Ｅが２００を超える該波長域部分を有する化合物であ
る必要がある。ここで吸収強度Ｅは、下記式（IV）

【００８５】

【数４】

【００８６】（ここで、Ａは１，１，２，２―テトラク
ロロエタン中、濃度ｃ（ｇ／１００ｍｌ）、光路長ｌｃ
ｍで測定した際の吸光度である。）で定義される。ここ
で、吸収強度Ｅが２００を超えるとは、上記環状イミノ
エステルやキノキサリン類の吸収強度が、３４０〜４０
０ｎｍの波長領域の一部または全部において２００を超
えることをいう。かかる吸収強度が２００を超えない場
合には、ポリアルキレンナフタレン―２，６―ジカルボ
キシレートへの添加による蛍光抑制効果が十分でない。
ポリアルキレンナフタレン―２，６―ジカルボキシレー
トに添加する上記化合物の吸収強度はより好ましくは３
００以上である。

【００８７】本発明において、環状イミノエステルおよ
び／またはキノキサリン類は、ポリアルキレンナフタレ
ン―２，６―ジカルボキシレートが１００重量部に対
し、０．０１〜５重量部混合される。環状イミノエステ
ルおよび／またはキノキサリン類がこの割合で混合され
ると、ポリアルキレンナフタレン―２，６―ジカルボキ
シレートの基底状態にある分子（ナフタレン環）が紫外
線の照射を受けたとき、励起状態（エキシマー）に変化
するのを有効に防止することができる。そして、かかる
化合物の添加量が０．０１重量部より少ないとポリアル
キレンナフタレン―２，６―ジカルボキシレートからの
蛍光の防止効果が十分でなく、５重量部を超える場合に
は、ポリアルキレンナフタレン―２，６―ジカルボキシ
レートの本来の物性低下や添加剤の昇華等を招き好まし
くない。かかる添加量は好ましくは０．１〜４重量部で
あり、更に好ましくは０．５〜３重量部である。

【００８８】環状イミノエステルおよびキノキサリン類
は、それぞれ単独であるいは２種以上任意の組合せで使
用することができる。

【００８９】これらの化合物とポリアルキレンナフタレ
ン―２，６―ジカルボキシレートの混合方法としては、
２軸エクストルーダーにより混合方法が好ましく用いら
れる。混合温度は、ポリアルキレンナフタレン―２，６
―ジカルボキシレートの融点以上であることが必要であ
り、３００℃以下が好ましい。かかるポリマーの融点以
下では実質的に混合は不可能であり、３００℃を越える
とかかるポリマーの分解を引き起こしやすいからであ
る。例えばポリ（１，２―エチレンナフタレン―２，６
―ジカルボキシレート）では２８０〜２９０℃が好まし
い。

【００９０】本発明によれば、かくして、ポリアルキレ
ンナフタレン―２，６―ジカルボキシレートの蛍光発生
を有利に防止することができる。

【００９１】本発明者のさらなる研究によれば、本発明
の上記方法で得られたポリアルキレンナフタレン―２，
６―ジカルボキシレート組成物をさらにある種の紫外線
吸収剤により処理することにより、ポリアルキレンナフ
タレン―２，６―ジカルボキシレートの蛍光発生をより
効率的に且つ効果的に防止できることが明らかにされ
た。

【００９２】それ故、本発明によれば、さらに、（１）
前記式（Ｉ）で表わされる繰返し単位が全繰返し単位の
少くとも８０モル％を占めるポリアルキレンナフタレン
―２，６―ジカルボキシレート１００重量部、および
（２）前記式（II）で表される環状イミノエステル、お
よび下記式（III ）で表わされるキノキサリン類であっ
て、且つ３４０〜４００ｎｍの紫外線波長域において下
記式（IV）で定義される吸光光度が２００を超える化合
物群から選ばれる少くとも１種０．０１〜５重量部を混
合して、ポリアルキレンナフタレン―２，６―ジカルボ
キシレートの基底状態にある分子が紫外線の照射により
エキシマーに変化するのを抑制し、次いで得られた組成
物を成形体としたのち、あるいは成形体に成形しつつ、
その表面にベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノ
ン系化合物およびベンゾオキサジノン系化合物よりなる
群から選ばれた少くとも１種の紫外線吸収剤を含有する
被覆層を形成する、ことを特徴とする、ポリアルキレン
ナフタレン―２，６―ジカルボキシレート成形体の蛍光
発生を防止する方法が同様に提供される。

【００９３】この方法において、上記ポリアルキレンナ
フタレン―２，６―ジカルボキシレート１００重量部
に、吸収強度が２００以上の上記化合物０．０１〜５重
量部を混合して組成物を得る工程は前述した本発明方法
の説明から充分に理解されよう。

【００９４】この方法は、かくしてして得られた組成物
を成形体としたのちあるいは成形体に成形しつつ、その
表面上に特定の紫外線吸収剤を含有する被覆層を形成す
るものである。

【００９５】上記紫外線吸収剤としては、ベンゾトリア
ゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾ
オキサジノン系化合物が用いられる。

【００９６】ベンゾトリアゾール系の化合物としては、
例えば２―（２Ｈ―ベンゾトリアゾール―２―イル）―
４，６―ビス（１―メチル―１―フェニルエチル）フェ
ノール、２―（２Ｈ―ベンゾトリアゾール―２―イル）
―４―（１，１，３，３―テトラメチルブチル）フェノ
ール、２―（２Ｈ―ベンゾトリアゾール―２―イル）―
４―メチルフェノール、２―（２Ｈ―ベンゾトリアゾー
ル―２―イル）―４，６―ジ―ｔ―ブチルフェノール、
２―（２Ｈ―ベンゾトリアゾール―２―イル）―４，６
―ジ―ｔ―アミルフェノール、２―（２Ｈ―ベンゾトリ
アゾール―２―イル）―４―ｔ―ブチルフェノール、２
―（２′―ヒドロキシ―３′―ｔ―ブチル―５′―メチ
ルフェニル）―５―クロロベンゾトリアゾール、２―
（２′―ヒドロキシ―３′，５′―ジ―ｔ―ブチルフェ
ニル）―５―クロロベンゾトリアゾール等を挙げること
ができる。

【００９７】ベンゾフェノン系化合物としては、例えば
２―ヒドロキシ―４―オクトキシベンゾフェノン、２―
ヒドロキシ―４―メトキシベンゾフェノン、２，２′―
ジヒドロキシ―４，４′―ジメトキシベンゾフェノン、
２，２′，４，４′―テトラヒドロキシベンゾフェノ
ン、２，４―ジヒドロキシベンゾフェノン、２―ヒドロ
キシ―４―メトキシベンゾフェノン―５―スルホン酸等
を挙げることができる。

【００９８】ベンゾオキサジノン系化合物としては、例
えば２―ｐ―ニトロフェニル―３，１―ベンゾオキサジ
ン―４―オン、２―（ｐ―ベンゾイルフェニル）―３，
１―ベンゾオキサジン―４―オン、２―（２―ナフチ
ル）―３，１―ベンゾオキサジン―４―オン、２，２′
―ｐ―フェニレンビス（３，１―ベンゾオキサジン―４
―オン）、２，２′―（２，６―ナフチレン）ビス
（３，１―ベンゾオキサジン―４―オン）等を挙げるこ
とができる。

【００９９】これらの内、３７５ｎｍで大きな吸収強度
を有すること、各種溶媒への溶解性が良好であることか
ら、２―（２Ｈ―ベンゾトリアゾール―２―イル）―
４，６―ビス（１―メチル―１―フェニルエチル）フェ
ノールといったベンゾトリアゾール系化合物が好まし
い。

【０１００】これらの紫外線吸収剤は１種単独であるい
は２種以上一緒に併用することができる。

【０１０１】紫外線吸収剤を含有する被覆層は、先の工
程で得られた組成物を成形体としたのち、その表面上に
形成されるかあるいは成形体としてその表面上に形成さ
れる。

【０１０２】成形体としたのち、その表面に被覆層を形
成するには例えば、前記の如き紫外線吸収剤の少くとも
１種と被覆用樹脂とを溶媒に溶解した溶液を準備し、こ
れを成形体に塗布し、乾燥し、次いで好ましくは熱処理
する方法が有利に採用される。

【０１０３】こうした樹脂溶媒の塗布の方法としては、
例えば、浸漬法、流し塗り法、スプレー法、スピンコー
ト法、はけ塗り法、ロール法、カーテンフロー法などが
挙げられる。これらの内、浸漬法、流し塗り法、スプレ
ー法が好ましく採用される。

【０１０４】上記被覆用組成物としては、溶媒に可溶の
熱可塑性樹脂、または原料のモノマーが溶媒に可溶であ
る熱あるいは紫外線硬化性樹脂が、被覆層を形成する際
成形性の点で好ましい。これらとしては例えばポリエス
テル系樹脂、シリコン系樹脂、アクリル系樹脂等を挙げ
ることができる。この中で、ポリエステル系樹脂等の熱
可塑性樹脂、およびシリコン系樹脂等の熱硬化性樹脂
が、成形性の面から好ましい。

【０１０５】該ポリエステル系樹脂としては、好ましい
ものとして、例えばイソフタル酸、テレフタル酸、アジ
ピン酸を酸成分とし、エチレングリコール、ネオペンチ
レングリコール等のグリコールをジオール成分とした非
晶性のポリエステルをあげることができる。

【０１０６】上記被覆層がプライマー層とその上層のハ
ードコート層とからなる二層である場合には、プライマ
ー層として上記ポリエステル系樹脂を用い、ハードコー
ト層として熱硬化性のシリコン系樹脂を用いることが好
ましい。また、アクリル系樹脂を用いる場合は、上記熱
可塑性のアクリル系樹脂をプライマー層に用い、熱また
は紫外線硬化性のアクリル系樹脂をハードコート層に用
いることが好ましい。

【０１０７】被覆層の厚みは０．５〜３０μｍが好まし
い。

【０１０８】一般にこうした被覆層の厚みはその被覆層
の使用目的によってより好ましい厚みが異なる。例えば
２層以上の被覆層を有する場合で下層（プライマー層）
が紫外線吸収剤を含有する場合には、膜厚は０．５〜１
０μｍがより好ましい。０．５μｍより薄い場合には接
着性が低下し易く、また、十分な蛍光抑制硬化を発現す
ることが困難となる。１０μｍより厚い場合には皮膜が
白濁したりクラックが生じたりすることがあるため好ま
しくない。この場合、膜厚は特に好ましくは１〜５μｍ
である。

【０１０９】また、同様に２層以上の被覆層を有する場
合で、上層（ハードコート層）が紫外線吸収剤を含有す
る場合、あるいは被覆層が単層（ハードコート層）から
なる場合には、膜厚はより好ましくは、１〜３０μｍで
ある。１μｍより薄いとハードコート層としての機能が
不十分となりやすく、３０μｍより厚いとクラックが発
生しやすくなるためである。この場合、膜厚は特に好ま
しくは３〜１５μｍである。

【０１１０】成形体をしたのち、その表面に被覆層を形
成する別法は、紫外線吸収剤を含有するフイルムを別に
準備し、これを成形体に積層する方法である。かかるフ
イルムのためのポリマーとしては、例えばポリエステル
テレフタレート、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、
ポリスチレン、アクリルポリマー等の熱可塑性樹脂が好
ましく用いられる。これらのうち、ポリエチレンテフレ
タレートのホモポリマーおよびイソフタル酸成分共重合
ポリマーが耐熱性に優れるため好ましい。

【０１１１】紫外線吸収剤を含有するフイルムは紫外線
吸収剤を含有する上記の如きポリマーを溶融成形するこ
とにより製造されることが多く、そのため使用する紫外
線吸収剤としては耐熱性の優れたベンゾオキサジノン系
化合物が好ましい。

【０１１２】上記の如きフイルムの膜厚は１０μｍ以下
が好ましく、５μｍ以下がより好ましい。膜厚が大きす
ぎると、成形体上に積層することが困難となる。

【０１１３】さらに、成形体を成形しつつ、その表面上
に被覆層を形成する方法としては、成形体を成形しつ
つ、その表面上に共押出出しにより紫外線吸収剤を含有
する被覆層を形成する方法を好ましい方法として挙げる
ことができる。この場合の好ましい紫外線吸収剤および
被覆層を形成するための好ましいポリマーとしては、積
層法にて前記したものと同じものを挙げることができ
る。この場合の被覆層の好ましい厚みも１０μｍ以下、
より好ましい厚みは５μｍ以下である。

【０１１４】被覆層は、前記したその形成方法の如何に
かかわらず、これを形成するポリマー１００重量部当
り、好ましくは紫外線吸収剤を０．１〜１０重量部、よ
り好ましくは０．５〜８重量部が含有する。１０重量部
を越えると紫外線吸収剤が被覆層からブリードアウトし
易く、また０．１重量％より少ないと紫外線吸収剤を使
用したことによる効果の発現が小さい。

【０１１５】上述の如き紫外線吸収剤を含有する被覆層
は紫外光波長３７５ｎｍにおいて、下記式（Ｖ）

【０１１６】

【数５】透過率（％）＝（Ｉ／Ｉ₀ ）×１００ （ここでＩ：透過光強度、Ｉ₀ ：入射光強度）で定義さ
れる透過率が８０（％）以下を示すことが好ましい。

【０１１７】ポリエチレンナフタレン―２，６―カルボ
キシレートの繰返し単位は、３５０ｎｍ近傍において紫
外光の吸収極大を有するので、このことから３５０ｎｍ
での吸収を抑制すると蛍光強度を抑制するのに効果があ
ると思われがちである。ところが実際は、驚くべきこと
にポリエチレンナフタレン―２，６―ジカルボキシレー
トの繰り返し単位がほとんど吸収を持たない３７５ｍｍ
近傍の紫外光での蛍光の発光強度がもっとも高くなって
いる。理由についての詳細はわからないが、紫外光の吸
収強度があまりに大きな領域ではほとんどの紫外光がポ
リエチレンナフタレン―２，６―ジカルボキシレートの
極めて表層の部分で吸収されて内部まで紫外光が届かな
いのに対し、吸収強度が弱い領域はかえってポリエチレ
ンナフタレン―２，６―カルボキシレートの内部にまで
紫外光が到達することが原因の一つとして考えられる。

【０１１８】以上の理由から、本発明では３７５ｎｍの
紫外光の透過率において少なくとも８０％以下となるよ
うな紫外線吸収剤を含有する被覆層を設けることが好ま
しい。こうした場合に、３７５ｎｍで紫外光を照射した
場合の蛍光強度は、こうした被覆層を設けていない場合
の８０％以下となり、樹脂組成物中に混合されていた環
状イミノエステル及び／またはキノキサリン類の蛍光抑
制効果と相まって、非常に優れた蛍光抑制効果を発揮す
る。３７５ｎｍにおける紫外光の透過率は当然、低いほ
どその蛍光の抑制効果は顕著であり、透過率は好ましく
は６０％以下、さらに好ましくは４０％以下である。

【０１１９】以上に述べた表面被覆層は、成形体表面に
おいて紫外光を抑制することにより蛍光抑制するのに対
し、樹脂組成物中に混合されている環状イミノエステル
及び／またはキノキサリン類は、ポリアルキレンナフタ
レン―２，６―ジカルボキシレートが紫外光を吸収した
後に生ずる励起種を失活させることにより、蛍光の抑制
を行う。このように、樹脂中に含有された化合物と表面
被覆層とは、蛍光の抑制に対して、違った機構で作用す
るため、相乗的に蛍光抑制効果を発揮する。

【０１２０】

【実施例】以下実施例を挙げて本発明を説明するが、本
発明は実施例にのみ限定されるものではない。実施例中
「部」は「重量部」を表すものとする。実施例において
ポリマーの固有粘度はフェノール／１，１，２，２―テ
トラクロロエタン混合溶媒（重量比６０／４０）中３５
℃での値である。また、環状イミノエステル、キノキサ
リン類の吸収強度

【０１２１】

【数６】

【０１２２】は、溶媒としてテトラクロロエタンを用
い、濃度５×１０^-4ｇ／１００ｍｌ、光路長１ｃｍと
し、日立製作所（株）製 Ｆ―２０００日立蛍光分光光
度計を用いて吸光度を測定し、前記式（VI）により算出
した。

【０１２３】［実施例１］固有粘度０．７１のポリ
（１，２―エチレン―ナフタレン―２，６―ジカルボキ
シレート）（以下ＰＥＮと略記する。）１００部に対
し、化合物（２０３）１重量部を、３０ｍｍφ同方向回
転２軸エクストルーダー（池貝鉄工（株）製、ＰＣＭ３
０）を用いて、ポリマー温度２９０℃、平均滞留時間約
２０分の条件下で溶融混練したのち、平均膜厚０．２ｍ
ｍのフイルムを得た。このフイルムの発光強度（Ｉ）か
ら下記式により算出した蛍光相対強度（％）を表１に示
した。

【０１２４】また、固有粘度０．７１のＰＥＮから上記
と同じ条件で平均膜厚０．２ｍｍのＰＥＮフイルムを得
た。

【０１２５】得られたＰＥＮフイルムの蛍光の発光強度
（Ｉ₀ ）を基準に、実施例１および以下の各実施例にお
ける蛍光相対強度を下記式に算出した。

【０１２６】蛍光の相対強度は、日立製作所（株）製Ｆ
―２０００日立蛍光分光光度計を用いて、励起波長３５
０ｎｍ（バンドパス１０ｎｍ）、蛍光の発光領域４００
〜６００ｎｍ（バンドパス１０ｎｍ）における蛍光発光
量の相対比較により決定した。

【０１２７】

【数７】蛍光相対強度（％）＝（Ｉ／Ｉ₀ ）×１００

【０１２８】［実施例２〜１３及び比較例１］実施例１
において、表１に記載のポリマー組成、化合物およびそ
の含有量を適宜変えて用いた他は実施例１と同様に行っ
た。その結果も表１に含めて示した。

【０１２９】なお、実施例２〜６および比較例１では蛍
光の相対強度は実施例１と全く同様にして求めた。

【０１３０】一方、実施例７〜１３では蛍光の発光領域
を４００〜５５０ｎｍに変え、その他は実施例１と同様
にして求めた。

【０１３１】

【表１】

【０１３２】注）ＰＥＮ：ポリエチレンナフタレン―
２，６―ジカルボキシレート ＰＥＮ＋５モル％ＴＡ：５モル％のテレフタル酸共重合
ＰＥＮ ＰＥＮ＋５モル％ＣＨ：５モル％の１，４―シクロヘキ
サンジメタノール共重合ＰＥＮ Ｚ：２―メチル―３，１―ベンゾオキサジン―４―オン

【０１３３】［実施例１４］固有粘度０．７１のＰＥＮ
１００部に対し、化合物（２０３）１重量部の割合で、
３０ｍｍφ同方向回転２軸エクストルーダー（池貝鉄工
（株）製、ＰＣＭ３０）を用いて、ポリマー温度２９０
℃、平均滞留時間約１５分の条件下で溶融混練したの
ち、ブロー成形によりボトル型に成形した。次に、飽和
ポリエステル樹脂（東洋紡績（株）社製 バイロン―１
０３）５０部、２―（２Ｈ―ベンゾトリアゾール―２―
イル）―４，６―ビス（１―メチル―１―フェニルエチ
ル）フェノール（チバガイギー社製 チヌビン２３４）
３部をメチルエチルケトン２００部に溶解した溶液を作
製し、これを、ボトル型成型品に対してスプレー法によ
り表面に塗布し、９０℃で２時間熱処理したものを作製
した。下記標準サンプルと同じ位置でサンプルを切り出
し被覆層の厚みを測定したところ平均膜厚３μｍの被覆
層が形成されていることがわかった。このサンプルの蛍
光強度（Ｉ）を測定した。結果を表２に示す。

【０１３４】標準サンプルは固有粘度０．７１のＰＥＮ
のボトル型成形品の側面の比較的平らな部分を切り出
し、蛍光強度（Ｉ₀ ）を測定した。

【０１３５】蛍光の発光相対強度は、日立製作所（株）
製Ｆ―２０００日立蛍光分光光度計を用いて、励起波長
３７５ｎｍ（バンドパス１０ｎｍ）、蛍光の発光領域４
００〜５５０ｎｍ（バンドパス１０ｎｍ）における発光
量の相対比較により実施した。

【０１３６】

【数８】 蛍光発光相対強度（％）＝（Ｉ／Ｉ₀ ）×１００

【０１３７】［実施例１５〜１８］実施例１４におい
て、ＰＥＮ層に含有する化合物およびその含有量、並び
にコーティング層に含有する紫外線吸収剤およびその含
有量を表２に記載されているように適宜変えて、その他
は同様に行った。

【０１３８】なお、実施例１６および１７はコーティン
グ層の上にさらに被覆層（ハードコート層）を設けたも
のである。結果を表２に示した。蛍光相対強度は実施例
１４と全く同様にして求めた。

【０１３９】

【表２】

【０１４０】注）ポリエステル：飽和ポリエステル樹脂
（東洋紡績（株）「バイロン１０３」） シリコーンワニス：東芝シリコーン（株）「トスガード
５１０」 Ｊ：チヌビン２３４ Ｋ：２，２′，４，４′―テトラヒドロキシベンゾフェ
ノン

【０１４１】［実施例１９〜２１および比較例２］実施
例１４において、ＰＥＮ層に含有する化合物およびその
含有量、並びにコーティング層に含有する紫外線吸収剤
およびその含有量を表３に記載されているように適宜変
えて、その他は同様に行った。結果を表３に示した。

【０１４２】蛍光相対強度は日立製作所（株）製 Ｆ―
２０００日立蛍光分光光度計を用いて、励起波長３００
〜４００ｎｍ（バンドパス１０ｎｍ）、蛍光の発光領域
４３０ｎｍ（バンドパス１０ｎｍ）における発光量の相
対比較により実施した。

【０１４３】

【数９】蛍光相対強度（％）＝（Ｉ／Ｉ₀ ）×１００

【０１４４】

【表３】

【０１４５】注）ポリエステル：「バイロン１０３」 Ｊ：チヌビン２３４

【０１４６】［実施例２２および比較例３］ （１）固有粘度０．７１のＰＥＮおよび固有粘度０．６
４のポリエチレンテレフタレート（以下ＰＥＴと略称す
る）をそれぞれ２層共押し出しラミネートフイルム製膜
用の２つのエクストルーダーにそれぞれ供給し、ＰＥＮ
は２９０℃、ＰＥＴは２８０℃として共押し出し用のス
リットより溶融押し出しした。共押し出しによるフイル
ムを、ＰＥＮ側を内側として、キャスティングドラムに
より引き取り、積層フイルムを製造した。この際、ポリ
マーのフィード量及びフイルムの引き取り速度を変える
ことにより、ＰＥＮ層の厚みが２００μｍ、ＰＥＴ層の
厚みが３０μｍとなるようにした。そうして得られたフ
イルムを１２０℃で３．２×３．２倍の同時延伸を行
い、ＰＥＴ側から蛍光強度の測定を行った。その強度を
Ｉ₀ とした。

【０１４７】（２）固有粘度０．７１のＰＥＮ、及び固
有粘度の０．６４のポリエチレンテレフタレート（以下
ＰＥＴと省略する）それぞれ１００部に対して、化合物
（２０３）１重量部の割合で、３０ｍｍφ同方向回転２
軸エクストルーダー（池貝鉄工（株）製、ＰＣＭ３０）
により、ＰＥＮは２９０℃で、ＰＥＴは２８０℃でそれ
ぞれ平均滞留時間約１５分の条件下で溶融混合した。こ
うして得られたそれぞれの混合物を２層共押し出しラミ
ネートフイルム製膜用の２つのエクストルーダーにそれ
ぞれ供給し、ＰＥＮは２９０℃、ＰＥＴは２８０℃とし
て共押し出し用のスリットより溶融押出しした。上記
（１）と同様にして、ＰＥＮとＰＥＴの積層フイルムを
作成し、上記（１）と同様に蛍光強度の測定を行った。
このサンプルによる蛍光強度Ｉを上記（１）の蛍光強度
を用いて蛍光相対強度を求めた。結果を表４に示した。

【０１４８】また、比較のため、実施例２２において、
ＰＥＮには化合物（２０３）を練り込まない以外は、実
施例２２と同様にして積層フイルムを作成し、蛍光相対
強度を測定した。結果を表４に併記する。

【０１４９】なお蛍光の相対強度は実施例７〜１３と同
様にして求めた。

【０１５０】

【表４】

【０１５１】

【発明の効果】本発明によれば、ポリアルキレンナフタ
レン―２，６―ジカルボキシレートに、環状イミノエス
テルおよびキノキサリン類であって、かつ特定の波長領
域における吸収強度の大きい特定の化合物を少量混合す
ることにより、物性の低下を引き起こすことなく、ポリ
アルキレンナフタレン―２，６―ジカルボキシレートが
紫外照射により蛍光発生するのを大幅に抑制することが
できる。

【０１５２】さらに、該化合物を含有するポリアルキレ
ンナフタレン―２，６―ジカルボキシレート成形体の表
面上に特定の紫外線吸収剤を含む被覆層を設けることに
より、かかる蛍光発生を一層効率的かつ効果的に防止す
ることかができる。したがって外観上の問題を解消する
ことができ、ポリアルキレンナフタレン―２，６―ジカ
ルボキシレートの優れた性能を生かした樹脂材料を提供
することができる。かかる材料は、各種包装材、飲料ボ
トル、各種容器、チューブ、フイルム、カバー、ケース
等の成型品として有用である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C08L 67/00 - 67/02

Claims (11)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （１）下記式（Ｉ） 【化１】 （ここで、Ｒは炭素数２〜６のアルキレン基である。）
   で表わされる繰返し単位が全繰返し単位の少くとも８０
   モル％を占めるポリアルキレンナフタレン―２，６―ジ
   カルボキシレート１００重量部および、（２）下記式
   （II） 【化２】 （ここで、Ｘ¹ は上記式に表われている２本の結合手が
   １位、２位の位置関係にある２価の芳香族基であり、ｎ
   は１、２又は３であり、そしてＲ¹ はヘテロ原子を含有
   していてもよいｎ価の芳香族炭化水素基であるか、ある
   いはｎ＝２のとき直接結合であってもよい。）で表され
   る環状イミノエステル、および下記式（III ） 【化３】 （ここで、Ｒ² は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜
   ２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭
   素数２〜２０のアルキルオキシカルボニル基、または炭
   素数２〜２０のアシル基であり、Ｒ³ は炭素数１〜６の
   アルキル基またはハロゲン原子であり、そしてｍは０、
   １、２、３または４である。）で表わされるキノキサリ
   ン類であって、且つ３４０〜４００ｎｍの紫外線波長域
   において下記式（IV） 【数１】 （ここで、Ａは１，１，２，２―テトラクロロエタン
   中、濃度ｃ（ｇ／１００ｍｌ）、光路長ｌ（ｃｍ）で測
   定したときの吸光度である。）で定義される吸収強度が
   ２００を超える化合物群から選ばれる少くとも１種０．
   ０１〜５重量部、を混合して、ポリアルキレンナフタレ
   ン―２，６―ジカルボキシレートの基底状態にある分子
   が紫外線の照射によりエキシマーに変化するのを抑制す
   る、ことを特徴とするポリアルキレンナフタレン―２，
   ６―ジカルボキシレートの蛍光発生を防止する方法。
2. 【請求項２】 環状イミノエステルが下記式（II）−１ 【化４】 （ここで、Ｘ¹¹は２価の芳香族炭化水素基であり、そし
   てＲ¹¹およびＲ¹²は互いに独立に水素原子、炭素数１〜
   １０のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素
   数５〜１２のシクロアルキル基、炭素数８〜２０のアラ
   ルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数２〜
   １０のアシル基、炭素数２〜２０のアシルオキシ基、ニ
   トロ基又はハロゲン原子である。）で表わされる請求項
   １記載の方法。
3. 【請求項３】 環状イミノエステルが、２，２′―ビス
   （３，１―ベンゾオキサジン―４―オン）、２，２′―
   ｐ―フェニレンビス（３，１―ベンゾオキサジン―４―
   オン）、２，２′―ｐ―フェニレンビス（６―アセトキ
   シ―３，１―ベンゾオキサジン―４―オン）、２，２′
   ―ｐ―フェニレンビス（６―オクチルカルボニルオキシ
   ―３，１―ベンゾオキサジン―４―オン）、２，２′―
   ｐ―フェニレンビス（７―クロロ―３，１―ベンゾオキ
   サジン―４―オン）、２，２′―ｐ―フェニレンビス
   （６―クロロ―３，１―ベンゾオキサジン―４―オ
   ン）、２，２′―ｐ―フェニレンビス（６―メチル―
   ３，１―ベンゾオキサジン―４―オン）および２，２′
   ―ｐ―フェニレンビス（５―メチル―３，１―ベンゾオ
   キサジン―４―オン）よりなる群から選ばれる請求項１
   記載の方法。
4. 【請求項４】 キノキサリン類が２，３―ジフェニルキ
   ノキサリン、２，３―ビス（４―メトキシカルボニルフ
   ェニル）キノキサリン、２，３―ビス（４―エトキシカ
   ルボニルフェニル）キノキサリン、２，３―ビス（４―
   メトキシフェニル）キノキサリン、２，３―ビス（４―
   アセトキシフェニル）キノキサリンおよび２，３―ビス
   （４―クロロフェニル）キノキサリンよりなる群から選
   ばれる請求項１記載の方法。
5. 【請求項５】 環状イミノエステルおよび／またはキノ
   キサリン類を、ポリアルキレンナフタレン―２，６―ジ
   カルボキシレート１００重量部当り０．１〜４重量部混
   合する請求項１〜４のいずれかに記載の方法。
6. 【請求項６】 （１）下記式（Ｉ） 【化５】 （ここで、Ｒは炭素数２〜６のアルキレン基である）で
   表わされる繰返し単位が全繰返し単位の少くとも８０モ
   ル％を占めるポリアルキレンナフタレン―２，６―ジカ
   ルボキシレート１００重量部、および（２）下記式（I
   I） 【化６】 （ここで、Ｘ¹ は上記式に表われている２本の結合手が
   １位、２位の位置関係にある２価の芳香族基であり、ｎ
   は１、２又は３であり、そしてＲ¹ はヘテロ原子を含有
   していてもよいｎ価の芳香族炭化水素基であるか、ある
   いはｎ＝２のとき直接結合であってもよい。）で表され
   る環状イミノエステル、および下記式（III ） 【化７】 （ここで、Ｒ² は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜
   ２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭
   素数２〜２０のアルキルオキシカルボニル基、または炭
   素数２〜２０のアルキルカルボニル基であり、Ｒ³ は炭
   素数１〜６のアルキル基、またはハロゲン原子であり、
   そしてｍは０、１、２、３または４である。）で表わさ
   れるキノキサリン類であって、且つ３４０〜４００ｎｍ
   の紫外線波長域において下記式（IV） 【数２】 （ここで、Ａは１，１，２，２―テトラクロロエタン
   中、濃度ｃ（ｇ／１００ｍｌ）、光路長ｌ（ｃｍ）で測
   定したときの吸光度である。）で定義される吸収強度が
   ２００を超える化合物群から選ばれる少くとも１種０．
   ０１〜５重量部、を混合して、ポリアルキレンナフタレ
   ン―２，６―ジカルボキシレートの基底状態にある分子
   が紫外線の照射によりエキシマーに変化するのを抑制
   し、次いで得られた組成物を成形体としたのちあるいは
   成形体に成形しつつ、その表面上にベンゾトリアゾール
   系化合物、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾオキサ
   ジノン系化合物よりなる群から選ばれた少くとも１種の
   紫外線吸収剤を含有する被覆層を形成する、ことを特徴
   とするポリアルキレンナフタレン―２，６―ジカルボキ
   シレート成形体の蛍光発生を防止する方法。
7. 【請求項７】 環状イミノエステルが下記式（II）−１ 【化８】 （ここで、Ｘ¹¹は２価の芳香族炭化水素基であり、そし
   てＲ¹¹およびＲ¹²は互いに独立に水素原子、炭素数１〜
   １０のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素
   数５〜１２のシクロアルキル基、炭素数８〜２０のアラ
   ルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数２〜
   １０のアシル基、炭素数２〜２０のアシルオキシ基、ニ
   トロ基又はハロゲン原子である。）で表わされる請求項
   ６記載の方法。
8. 【請求項８】 環状イミノエステルが、２，２′―ビス
   （３，１―ベンゾオキサジン―４―オン）、２，２′―
   ｐ―フェニレンビス（３，１―ベンゾオキサジン―４―
   オン）、２，２′―ｐ―フェニレンビス（６―アセトキ
   シ―３，１―ベンゾオキサジン―４―オン）、２，２′
   ―ｐ―フェニレンビス（６―オクチルカルボニルオキシ
   ―３，１―ベンゾオキサジン―４―オン）、２，２′―
   ｐ―フェニレンビス（７―クロロ―３，１―ベンゾオキ
   サジン―４―オン）、２，２′―ｐ―フェニレンビス
   （６―クロロ―３，１―ベンゾオキサジン―４―オ
   ン）、２，２′―ｐ―フェニレンビス（６―メチル―
   ３，１―ベンゾオキサジン―４―オン）および２，２′
   ―ｐ―フェニレンビス（５―メチル―３，１―ベンゾオ
   キサジン―４―オン）よりなる群から選ばれる請求項６
   記載の方法。
9. 【請求項９】 キノキサリン類が２，３―ジフェニルキ
   ノキサリン、２，３―ビス（４―メトキシカルボニルフ
   ェニル）キノキサリン、２，３―ビス（４―エトキシカ
   ルボニルフェニル）キノキサリン、２，３―ビス（４―
   メトキシフェニル）キノキサリン、２，３―ビス（４―
   アセトキシフェニル）キノキサリンおよび２，３―ビス
   （４―クロロフェニル）キノキサリンよりなる群から選
   ばれる請求項９記載の方法。
10. 【請求項１０】 環状イミノエステルおよび／またはキ
    ノキサリン類を、ポリアルキレンナフタレン―２，６―
    ジカルボキシレート１００重量部当り０．１〜４重量部
    混合する請求項６〜９のいずれかに記載の方法。
11. 【請求項１１】 被覆層が紫外線吸収剤を、被覆層を形
    成するポリマー１００重量部当り０．１〜１０重量部で
    含有する請求項６〜１０のいずれかに記載の方法。