JP2002540931A - サイホンチューブを収容した反応容器 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 本発明は、固相合成を行う反応ブロックに使用される反応容器（１）であって、反応流体（２）がサイホン出口を用いて微小滴定板に供給されるように構成された反応容器（１）に関する。反応容器（１）の出口（１５）にはサイホンパイプ（１６）が配置され、該サイホンパイプ（１６）から半径方向に間隔を隔てて立上り管（２１）が配置されている。立上り管（２１）はその上方領域が閉鎖されておりかつサイホンパイプ（１６）に連結されている。サイホンパイプの下方領域は、反応容器（１）の受容チャンバ（１２）に相互連結されている。この構成は、サイホン出口が作られるときにあらゆる付加成形を防止でき、従ってサイホン出口の領域における漏洩を事実上なくすことができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】 （技術分野） 本発明は、サイホン出口を介して微小滴定板（micro-titre plate）に供給さ
れる反応流体を受け入れる反応容器であって、他の反応容器と協働して、固相合
成（solid phase synthesis）を行う反応容器ホルダ内に置かれる反応容器に関
する。

【０００２】 （背景技術） このような反応容器は、米国特許US-5 770 157 Aから知られている。この反応
容器の出口開口にはサイホン出口を形成するチューブピースが使用され、該チュ
ーブピースの一端は溶融により反応容器のベースに固定されかつ他端は排出パイ
プ内に連結されて、反応流体をチューブピース内に移すことができるようになっ
ている。各場合において、排出パイプは、反応容器ホルダ内で反応容器から横方
向に間隔を隔てて該反応容器に隣接して配置され、このため、各場合において、
チューブピースは、溶融領域および他端領域の両領域において１８０°に曲げら
れる。従って、チューブピースにより形成されるサイホン出口は反応容器に隣接
してこの外部に配置される。

【０００３】 特に反応容器ホルダ内の空間が制限されているため、反応容器に連結された時
として壊れ易いチューブピースを手で曲げることおよび該チューブピースの排出
パイプ内への導入は特別な器用さを必要とせず、またこれらの作業プロセスは極
めて時間を要するものである。しかしながら、特に問題となることは、チューブ
ピースと反応容器のベースとの溶融連結が、曲げおよび／または変位によりこの
ように大きい荷重が作用するため、しばしば損傷が生じることである。これによ
り漏洩が生じ、この結果固相合成が疑問となり、時間およびコストの高い出費を
もたらす。また、各場合に、反応容器ホルダ内の反応容器に隣接するサイホン出
口を形成するチューブピースの配置の結果としてかなりの空間が必要になり、こ
のため、反応容器ホルダは反応容器およびチューブピースによりほぼ完全に満た
されてしまい、フラッシングによる均一加熱または冷却が事実上排除される。従
って、既知の反応容器は、反応容器ホルダに使用するには不適当である。

【０００４】 （発明の開示） 従って本発明の目的は、上記種類の反応流体を受け入れる反応容器であって、
構造的に簡単でかつ経済的に作ることができるが、漏洩が生じることは事実上問
題とならない反応容器を作ることにある。反応容器ホルダ内に置かれる反応容器
を均一に加熱または冷却するための流体およびガスを供給すべく、反応容器ホル
ダ内の大きい自由空間を使用できるようにするには、サイホン出口の形成のため
の付加加工を必要とすることおよび同じ容器容量で大きい空間を節約できること
は回避すべきである。また、故障率が低いことによる有用性および簡単な操作性
も保証されるべきである。

【０００５】 本発明によれば、上記目的は、上記種類の反応流体を受け入れる反応容器であ
って、サイホンチューブが好ましくは反応容器の中央に配置されかつ反応容器の
出口に連結され、上端部が閉鎖された立上り管が、サイホンチューブから半径方
向に間隔を隔てて反応容器の下部に取り付けられ、立上り管がその受容空間と流
体連通しかつその上部がサイホンチューブにリンクされている構成の反応容器に
より達成される。

【０００６】 この場合、好ましくは、サイホンチューブが、反応容器の受容空間を形成する
ハウジングと一体のワンピースとして形成されかつ好ましくは射出成形によりハ
ウジングのベース上に成形される。また、立上り管は、ハウジングのベースから
軸線方向に間隔を隔ててハウジング内に配置するのが好ましい。また、立上り管
をハウジング内に保持するため、ハウジングのベースの縁領域好ましくはベース
の周囲の縁領域には肩部が設けられ、該肩部は特に段として形成され、該段の上
に、立上り管の一体成形カラーが支持されることが好ましい。更に、カラーには
、対称的に配置された通孔を設けるのが好ましい。また、ハウジングのベースの
外部の好ましくは中央部には、出口ノズルが好ましくは射出成形により成形され
る。

【０００７】 また、非常に有効なことは、ハウジングの受容空間と立上り管との間の移行領
域に、特にフリットの形態をなすフィルタインサートを配置することであり、該
フィルタインサートは立上り管のカラー上に配置される。立上り管の上縁領域に
は、ハウジングの受容空間内に開口する通孔が設けられ、該通孔には、例えば、
立上り管の内部に配置されるフリットの形態をなす絞りが割り当てられる。

【０００８】 更に、ハウジングの上部には、加圧ガスを導入するための入口開口を設けるの
が有効である。反応容器ホルダ内に複数のこのような反応容器を配置すべき場合
には、反応容器を、板の補助により気密態様で一緒にシールすることが好ましい
。

【０００９】 反応流体を受け入れる反応容器が本発明に従って構成される場合には、最も簡
単な態様で反応容器を組み立てることができるだけでなく、反応容器の個々の部
品が損傷を受けるという問題が事実上なくなる。組立て時に、立上り管は、反応
容器のハウジングに一体成形されたサイホンチューブ上に単に置くだけでよく、
これにより、長期間に亘って非常に多用性のある態様で使用できる反応容器であ
って、作動上の故障の危険が全くない反応容器が得られる。

【００１０】 更に、サイホンチューブが反応容器のハウジング内に配置されているので、空
間が節約され、、このため、反応容器が反応容器ホルダ内に置かれたときに大き
い自由空間が得られるという優れた長所が得られる。これらの空間は、反応容器
内に入れられる反応流体の冷却および加熱に有効であり、自由空間は流体または
ガスによりすすがれる。従って、個々の反応容器に均一な影響を与えることが保
証され、このことは、簡単操作と共に多用性が得られることを意味する。

【００１１】 （発明を実施するための最良の形態） 以下、本発明に従って構成された反応流体を受け入れる反応容器の一実施形態
を添付図面を参照して説明する。

【００１２】 軸線方向断面図で示す本発明の反応容器１は、反応容器ホルダ内で固相合成を
行うべく反応流体２を受け入れる機能を有し、かつ実質的に、ビーカのような形
状を有するハウジング１１と、該ハウジング１１のベース１３の中央に取り付け
られて、ハウジング１１の受容空間１２内に突出しているサイホンチューブ１６
と、該サイホンチューブ１６上でかつこれから横方向に配置されかつハウジング
１１のベース１３上に支持されかつハウジング１１の内部１２と連通している立
上り管２１とを有している。このため、立上り管２１には環状フランジ２３が一
体成形され、かつハウジング１１のベース１３の縁領域には周方向に突出する肩
部１４が設けられており、該肩部１４上にフランジ２３が載置される。かくして
、立上り管２１すなわちそのフランジ２３は、ベース１３から間隔を隔てて支持
される。フランジ２３には均一に分布された通孔２４が設けられているので、反
応流体２は、ハウジング１１の内部から、サイホンチューブ１６と立上り管２１
との間の環状空間２２内へと流れることができる。また、フランジ２３上には環
状フリットの形態をなすフィルタインサート２５が置かれ、従って、反応流体中
に含有される粒子は捕捉され、環状空間２２内にアクセスすることはない。

【００１３】 複数の反応容器１を反応容器ホルダ（図示せず）内に置きかつ反応流体２を充
填した後、反応容器１は、板２０により気密態様で一緒にシールされる。次に、
固相合成に影響を与えるため、必要に応じて反応容器１が加熱または冷却される
。このプロセスが完了したならば、反応流体は微小滴定板に移される。これは、
ハウジング１１の受容空間１２内に収容された反応流体２に、ハウジング１２の
上方部分に形成されたボア１８を介して供給される高圧ガスを作用することによ
り行われる。この結果、立上り管２１の上端部が閉鎖されているため、反応流体
２は環状空間２２内を上昇し、ベース１３の外面中央に取り付けられた出口ノズ
ル１５に連結されたサイホンチューブ１６の内部１７内に流入する。出口ノズル
１５の補助により、反応流体２は、次に、微小滴定板のそれぞれの受容空間内に
注がれる。出口ノズル１５に真空を加え、サイホン効果によって反応容器１を空
にできることも当然である。

【００１４】 反応容器１が加熱されると、ハウジング１１の内部１２の、反応流体２が充填
されていない部分には超過圧力が発生し、反応流体２がサイホンチューブ１６内
に押し出されて、ハウジング１１の好ましくない乾燥を引き起こすため、これを
防止するため、立上り管２１の上端部には通孔２６が形成されている。通孔２６
の補助により、該通孔に連結されている２つの空間内の圧力が均衡され、これに
より、環状空間２２内にある反応流体２も加圧されるため反応流体の上昇は生じ
ない。また、反応流体２が引き出されるとき、流体の流れが、通孔２６を通って
吸引される空気により妨げられることを防止するため、通孔２６の前方にはフリ
ット２７も配置されている。このフリット２７は絞りとして機能し、少量の空気
のみが引き出されることを可能にする。反応容器１は、その簡単な構造にも拘わ
らず作動上の故障なくして、特に、固相合成の試験に長期間に亘って使用できる
。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明による反応容器の一実施形態を示す断面図である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ，ＵＧ，ＺＷ )，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ， ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ， ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，Ｃ Ｒ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＤＭ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ ，ＧＢ，ＧＤ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ， ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，Ｋ Ｚ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＡ ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ， ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，Ｓ Ｋ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＴＺ，ＵＡ，ＵＧ ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＡ，ＺＷ (72)発明者 フドラー ヴァルター ドイツ連邦共和国 デー−88444 フィッ シュバッハ ツル ミューレ ６／２ (72)発明者 イェルグ ヴォルフガング ドイツ連邦共和国 デー−88437 ラウペ ルトシャウゼン ダーリーンヴェッヒ ６ (72)発明者 シュミット マルティン ドイツ連邦共和国 デー−88400 ビベラ ッハ アルテ シュルシュトラッセ 14 (72)発明者 シュタイナー ゲルハルト ドイツ連邦共和国 デー−88487 バルト リンゲン タルシュトラッセ 17 Ｆターム(参考） 4G075 AA23 AA39 AA62 BA02 BB05 BD03 BD15 BD16 CA02 CA03 CA05 EB21 EC01 EE02 EE40

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 サイホン出口を介して微小滴定板に供給される反応流体（２
   ）を受け入れるための反応容器（１）であって、固相合成を行う目的で、他の反
   応容器と一緒に反応容器ホルダ内に置くことができる反応容器（１）において、
   サイホンチューブ（１６）が好ましくは反応容器（１）の中央に配置されかつ反
   応容器（１）の出口（１５）に連結され、上端部が閉鎖された立上り管（２１）
   が、サイホンチューブ（１６）から半径方向に間隔を隔てて反応容器（１）の下
   部に取り付けられ、立上り管（２１）はその受容空間（１２）と流体連通しかつ
   その上部がサイホンチューブ（１６）にリンクされていることを特徴とする反応
   容器。
2. 【請求項２】 前記サイホンチューブ（１６）は、反応容器（１）の受容空
   間（１２）を形成するハウジング（１１）と一体のワンピースとして形成されか
   つ好ましくは射出成形によりハウジング（１１）のベース（１３）上に成形され
   ていることを特徴とする請求項１記載の反応容器。
3. 【請求項３】 前記立上り管（２１）は、ハウジング（１１）のベース（１
   ３）から軸線方向に間隔を隔ててハウジング（１１）内に配置されていることを
   特徴とする請求項１または２記載の反応容器。
4. 【請求項４】 前記立上り管（１６）をハウジング（１２）内に保持するた
   め、ハウジングのベース（１３）の縁領域好ましくはベースの周囲の縁領域には
   肩部（１４）が設けられており、該肩部（１４）は特に段として形成され、該段
   の上に、立上り管（１６）の一体成形カラー（２３）が支持されることを特徴と
   する請求項３記載の反応容器。
5. 【請求項５】 前記カラー（２３）には通孔（２４）が設けられており、該
   通孔（２４）は好ましくは対称的に配置されていることを特徴とする請求項４記
   載の反応容器。
6. 【請求項６】 前記ハウジング（１１）のベース（１３）の外部の好ましく
   は中央部には、出口ノズル（１５）が好ましくは射出成形により成形されている
   ことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項記載の反応容器。
7. 【請求項７】 前記ハウジング（１１）の受容空間（１２）と立上り管（２
   １）との間の移行領域には、特にフリットの形態をなすフィルタインサート（２
   ５）が配置されていることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項記載の反応
   容器。
8. 【請求項８】 前記フィルタインサート（２５）は立上り管（２１）のカラ
   ー（２３）上に配置されていることを特徴とする請求項７記載の反応容器。
9. 【請求項９】 前記立上り管（２１）の上縁領域には、ハウジング（１１）
   の受容空間（１２）内に開口する通孔（２６）が設けられていることを特徴とす
   る請求項１〜８のいずれか１項記載の反応容器。
10. 【請求項１０】 前記通孔（２６）は、特に、立上り管（２１）の内部に配
    置されるフリットの形態をなす絞り（２７）を有していることを特徴とする請求
    項９記載の反応容器。
11. 【請求項１１】 前記ハウジング（１）の上部には、加圧ガスを導入するた
    めの入口開口（１８）が設けられていることを特徴とする請求項１〜１０のいず
    れか１項記載の反応容器。
12. 【請求項１２】 反応容器（１）が、板（２０）の補助により気密態様で一
    緒にシールされることを特徴とする請求項１〜１１の１項以上に記載の複数の反
    応容器を備えた反応容器ホルダ。