JP2002535427A - パラフィン可溶性ポリマーおよびコポリマー - Google Patents

パラフィン可溶性ポリマーおよびコポリマー

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JP2002535427A JP2000594851A JP2000594851A JP2002535427A JP 2002535427 A JP2002535427 A JP 2002535427A JP 2000594851 A JP2000594851 A JP 2000594851A JP 2000594851 A JP2000594851 A JP 2000594851A JP 2002535427 A JP2002535427 A JP 2002535427A
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G67/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing oxygen or oxygen and carbon, not provided for in groups C08G2/00 - C08G65/00
    • C08G67/02—Copolymers of carbon monoxide and aliphatic unsaturated compounds

Abstract

(57)【要約】 本発明は、非線状でパラフィン可溶性のオレフィン／一酸化炭素コポリマーおよびオレフィン／アセチレン／一酸化炭素コポリマーに関する。本発明はまた、ラジカル重合開始剤が存在する状態で、少なくとも一種のオレフィン、一酸化炭素、二酸化炭素、水素およびメタンの原料を加熱することによりオレフィン／一酸化炭素コポリマーを製造する方法に関する。より詳しくは、原料は、全量が約５〜約４０モル％の範囲である少なくとも一種のオレフィン、約１〜約４０モル％の範囲の量の一酸化炭素、約４〜約５５モル％の範囲の量の水素、約３〜約１０モル％の範囲の量の二酸化炭素および約４〜約８５モル％の範囲の量のメタンを含む。原料は、約１０モル％以下の量のアセチレンを含むことも可能である。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】 発明の分野 本発明は、エチレン、一酸化炭素およびその他の反応性成分ならびに不活性成
分を有する希釈多成分モノマー源から形成されるパラフィン可溶性ポリマーおよ
びコポリマーに関する。
【０００２】 発明の背景 本明細書において「Ｅ／ＣＯ」または「[エチレンｃｏ−ＣＯ]」と呼ばれるエ
チレン−一酸化炭素コポリマーは、一般に、ラジカル開始剤または有機金属触媒
のいずれかを用いて純粋なエチレン原料とＣＯ原料から製造される。このラジカ
ル製品はＰＶＣ改質剤または分解性フィルムとして有用である。有機金属触媒製
品は、エンジニアリング樹脂として有用である線状交互ポリマーである。しかし
、好ましくないことには、どちらの方法により製造されたこうしたポリマーも、
パラフィンへの溶解度が低い。
【０００３】 本明細書において「アセチレン／オレフィン／ＣＯ」または[アセチレンｃｏ
−オレフィンｃｏ−ＣＯ]と呼ばれるアセチレン、オレフィンおよび一酸化炭素
のコポリマーは技術上知られており、有益な架橋サイトおよび硬化サイトを有す
る。しかし、こうしたコポリマーは線状コポリマーであり、従ってパラフィンへ
の溶解度が低い。
【０００４】 従って、パラフィン可溶性のＥ／ＣＯコポリマーおよび非線状アセチレン／オ
レフィン／ＣＯコポリマーが必要とされている。
【０００５】 発明の概要 一つの実施形態において、本発明は、パラフィン可溶性のオレフィン−一酸化
炭素コポリマーである。
【０００６】 もう一つの実施形態において、本発明は、ラジカル重合開始剤が存在する状態
においてラジカル重合条件下で、少なくとも一種のオレフィン、一酸化炭素、二
酸化炭素、水素およびメタンの原料を加熱することによりオレフィン／一酸化炭
素コポリマーを製造する方法である。より詳しくは、原料は、全量が約５〜約４
０モル％の範囲である少なくとも一種のオレフィン、約１〜約４０モル％の範囲
の量の一酸化炭素、約４〜約５５モル％の範囲の量の水素、約３〜約１０モル％
の範囲の量の二酸化炭素および約４〜約８５モル％の範囲の量のメタンを含む。
原料は、約１０モル％以下の量のアセチレンを含むことも可能である。
【０００７】 もう一つの実施形態において、本発明は、ラジカル重合開始剤が存在する状態
においてラジカル重合条件下で、少なくとも一種のオレフィン、一酸化炭素、二
酸化炭素、水素およびメタンの原料を加熱することにより形成される生産物であ
る。より詳しくは、原料は、全量が約５〜約４０モル％の範囲である少なくとも
一種のオレフィン、約１〜約４０モル％の範囲の量の一酸化炭素、約４〜約５５
モル％の範囲の量の水素、約３〜約１０モル％の範囲の量の二酸化炭素および約
４〜約８５モル％の範囲の量のメタンを含む。原料は、約１０モル％以下の量の
アセチレンを含むことも可能である。
【０００８】 なおもう一つの実施形態において、本発明は、非線状パラフィン可溶性のオレ
フィン／アセチレン／一酸化炭素コポリマーである。
【０００９】 発明の詳細な説明 本発明は、多成分原料を用いる[オレフィンｃｏ−ＣＯ]重合プロセスが炭素原
子１０００当たり約６０〜約３００の範囲の全体の分岐数を有するパラフィン可
溶性コポリマーをもたらすという発見に基づいている。合成ガスタイプの原料な
どの多成分原料は、少なくとも一種のオレフィン、一酸化炭素、水素、二酸化炭
素、メタンおよび任意にアセチレンを含有し、そして部分酸化および分解などの
種々の炭化水素転化プロセスから得られ、ますます豊富になりつつある。驚くべ
きことに、こうした原料は、原料が希釈されたモノマー濃度および水素またはア
セチレンなどの他の反応性成分の実質的な量を含んでいても、一酸化炭素含有ポ
リマーを形成するために有用である。さらに、こうした原料中に存在する水素が
穏やかな連鎖移動剤として有益に作用することが考えられる。
【００１０】 本発明の実施技術において有用な原料は、全量が約５〜約４０モル％の範囲で
あるエチレンなどの少なくとも一種のオレフィン系不飽和化合物、約１〜約４０
モル％の範囲の量の一酸化炭素、約４〜約５５モル％の範囲の量の水素、約３〜
約１０モル％の範囲の量の二酸化炭素および約４〜約８５モル％の範囲の量のメ
タンを含む。原料は、約１０モル％以下の量で、アセチレンなどの少なくとも一
種のアセチレン系不飽和化合物を含むことも可能である。
【００１１】 本発明において有用なオレフィン系不飽和化合物（すなわち、オレフィン）は
、一般に２０個以下の炭素原子、好ましくは１０個以下の炭素原子を含む。それ
らはヘテロ原子を含むことが可能である。しかし、オレフィン系不飽和化合物が
炭化水素であることが好ましい。オレフィン系不飽和炭化水素の好ましいクラス
は、脂肪族モノオレフィン、特にアルファ−オレフィンであり、その内でエチレ
ンが特に好ましい。
【００１２】 本発明において有用なアセチレン系不飽和化合物は、好ましくは２０個以下の
炭素原子、より好ましくは１０個以下の炭素原子を含む。好ましくは、それらは
ヒドロカルビル化合物であり、それらは構造において広く異なることが可能であ
る。それらはヘテロ原子を含むことも可能である。好ましくは、アセチレン系不
飽和化合物は、エチレン基に結合された多くとも一つの有機基を有する。より好
ましくは、アセチレン系不飽和化合物は、一般式Ｒ−ＣＣｈの化合物である。式
中、Ｒは、水素原子またはヒドロカルビル基を表す。ヒドロカルビル基Ｒは、フ
ェニル、４−メトキシフェニル、３−クロロフェニルおよびナフチル基などのア
リール基、あるいはメチル、エチル、２−プロピル、２−ブチル、シクロヘキシ
ルおよび２−メチルヘキシル−１基などの（シクロ）アルキル基であることが可
能である。例えば、Ｒ基がメチル基である時、アセチレン系不飽和化合物はプロ
ピンであり、Ｒ基が水素である時、アセチレン系不飽和化合物はアセチレンであ
る。アセチレン系不飽和化合物の混合物を含めることが可能であるが、単一アセ
チレン系不飽和化合物が好ましい。
【００１３】 本発明の実施技術において用いられる原料は、組合せ濃度約３５モル％以下の
ＣＯおよびオレフィンを含む。好ましいオレフィンはエチレンである。好ましい
原料は、炭化水素転化プロセスから、好ましくはガス転化プロセスから、なおよ
り好ましくは天然ガス転化プロセスから得られる。メタン含有ガスの酸化カップ
リングおよびメタン部分酸化に続くエタン冷却は、こうした反応の例である。メ
タン含有ガスは、天然ガスまたは合成ガスであることが可能である。こうしたプ
ロセスから由来する原料の混合物も本発明の範囲内である。二酸化炭素に加えて
、メタンなどの不活性希釈剤は、約４モル％〜約８５モル％の範囲の量で原料中
に存在することが可能である。重要なことは、本発明の実施技術において用いら
れる原料が、約５５モル％以下のＨ２を含有することが可能なことである。好ま
しい原料は約５〜約５５モル％の水素を含有し、そしてメタン誘導炭化水素合成
反応において形成される。
【００１４】 本発明のＣＯ含有ポリマーは、従来の方法によりラジカル開始剤として有機過
酸化物を用いるラジカル重合プロセスにおいて形成される。代表的な開始剤には
、ジターシャリーブチルペルオキシド、２，５−ジメチル−２，５−ジターシャ
リーブチルペルオキシヘキサン、ジクミルペルオキシドなどのジアルキルペルオ
キシド、ターシャリーブチルヒドロペルオキシド、ターシャリーオクチルヒドロ
ペルオキシド、クメンヒドロペルオキシドなどのアルキルペルオキシド、ベンゾ
イルペルオキシドなどのアロイルペルオキシド、ターシャリーブチルペルオキシ
ピバレート、ターシャリーブチルパーベンゾエートなどのペルオキシエステル、
およびアゾビスイソブチロニトリルなどの化合物が挙げられる。約５０℃〜約２
００℃の範囲の反応温度で適切な半減期を有するラジカル開始剤を用いることが
可能であり、これらの内で、６６℃で約１０時間の半減期を有するｔ−ブチルペ
ルオキシピバレートは好ましい。
【００１５】 こうした原料および開始剤は、約５０〜約２３０℃、好ましくは約５０℃〜約
１００℃の範囲の温度、約１００〜約３０，０００ｐｓｉｇ、好ましくは約１０
０ｐｓｉｇ〜約３，０００ｐｓｉｇの範囲の圧力で、適切な半減期を有するラジ
カル開始剤が存在する状態において共重合条件下でＣＯ含有ポリマーを形成する
ために有用である。
【００１６】 「コポリマー」という用語は、二種以上のモノマー源から形成される高分子の
本用語の広い意味により本明細書において用いられる。「ポリマー」という用語
は、少なくとも一種のモノマー源から形成される高分子の本用語の広い意味によ
り本明細書において用いられる。
【００１７】 好ましくは、反応は溶媒の存在下で起きる。適する溶媒には、トルエン、ベン
ゼン、ジオキサン、ペンタン、ヘプタン、ヘキサン、プロピレンオキシドおよび
シクロヘキサンなどが挙げられる。ヘキサンは好ましい。
【００１８】 本発明により製造されたポリマーおよびコポリマーは、例えば、濾過による、
あるいは希釈剤の蒸発による従来の方法を用いて重合混合物から回収することが
可能である。それらは、コールドプレスまたはホットプレスなどの通常の二次成
形技術によって必要な形状にすることが可能である。あるいは、重合は、薄層中
での溶液重合、その後の希釈剤の除去によりフィルム状のコポリマーを生じさせ
るなどによってコポリマーを必要な形状に形成するように行われる。
【００１９】 本発明により形成されたポリマーの数平均分子量（「Ｍｎ」）は、約１００〜
約１，０００，０００の範囲である。Ｍｎは、好ましくは２００〜１００，００
０、より好ましくは５００〜５０，０００の範囲である。
【００２０】 コポリマー鎖の分岐度および一酸化炭素から由来する炭素原子の数と比べた重
合性炭素−炭素不飽和をもつモノマーから由来するモノマー単位の数は、両方と
も、少なくともある程度、ポリマー鎖の規則性を決定し、よってコポリマーの特
性の一部、例えば、結晶性および溶解度も決定する。オレフィン系不飽和化合物
から由来するモノマー単位の数対、一酸化炭素から由来する炭素原子の数の比は
、好ましくは多くとも９９：１、より好ましくは約９０：１〜約１：１の範囲、
なおより好ましくは約９５：１〜約１：１の範囲である。しかし、得られたポリ
マーまたはコポリマー上での追加の硬化サイトの存在が望ましいか、あるいは有
益である場合、アセチレン組込みの好ましい範囲は１０モル％未満であるべきで
ある。
【００２１】 本発明の実施技術により製造されたポリマーは、炭素原子１０００当たり約６
０〜約３００の範囲の全体の分岐数を有する非線状ポリマーである。分岐は、Ｃ
ｒ（ＡｃＡＣ）３緩和剤を用いる重水素クロロホルム中の１３Ｃ溶液ＮＭＲによ
って測定される。炭素原子１０００当たりのＣ１分岐の数は、約２０．１ｐｐｍ
で測定した。炭素原子１０００当たりのＣ２分岐の数は、約１１．３ｐｐｍで測
定した。Ｃ３の数は約１４．７ｐｐｍで測定した。Ｃ４分岐の数は約１４．２ｐ
ｐｍで測定した。
【００２２】 本発明により製造されたポリマーはパラフィン可溶性である。本明細書におい
て用いられる「パラフィン」という用語は、ノルマル、イソまたは直鎖アルカン
である。
【００２３】 以下の非限定的な実施例において本発明をさらに説明する。
【００２４】 実施例１〜３ ラジカル重合技術を用いて、純粋なエチレン原料と一酸化炭素原料を用いる一
酸化炭素含有ポリマーを以下のように合成した。
【００２５】 ３００ｍｌオートクレーブ反応器に溶媒（ｎ−ヘキサン）およびｔ−ブチルペ
ルオキシピバレート開始剤を投入した。反応器を密封し、精製窒素でパージした
。反応器をＣＰグレードのエチレン−一酸化炭素原料で７００ｐｓｉｇ（４，８
３０ｋＰａ）に加圧した。攪拌しつつ温度を６０℃に上げ、２４時間にわたりそ
れを維持した。反応器を放置して室温に冷却し、その後減圧した。ヘキサンを回
転式蒸発器で除去して製品を得た。
【００２６】 表１に重合の詳細を記載している。
【００２７】
【表１】
【００２８】 ＩＲ、ＮＭＲおよびゲル透過クロマログラフィー（ＧＰＣ）によって実施例１
、２および３の製品を分析した。実施例２において形成されたポリマー製品は、
炭素原子１０００当たり３のＣ１分岐数、２０のＣ２分岐数、１のＣ３分岐数お
よびＣ４以上の分岐数１５を有する。表２に三つのポリマー製品に関するその他
のキャラクタリゼーション結果を記載している。
【００２９】
【表２】
【００３０】 ＩＲ、ＮＭＲおよびゲル透過クロマログラフィー（ＧＰＣ）によって製品を分
析した。これらのポリマーが室温でＴＨＦに不溶だったので、ポリエチレン標準
物質を用いて１３５℃においてトリクロロベンゼン中でＧＰＣを実施した。
【００３１】 実施例４ 希釈多成分合成「ＭＣＳ」原料を用いる一酸化炭素含有ポリマーをラジカル重
合技術により以下のように合成した。
【００３２】 ３００ｍｌオートクレーブ反応器に純ｎ−ヘキサン１５０ｍｌおよびミネラル
スピリット中のｔ−ブチルペルオキシピバレートの７５％溶液０．６１１ｇを投
入した（ｔ−ブチルペルオキシピバレートは、０．２Ｍベンゼン溶液中で５５℃
において１０時間の半減期を有する）（Ｓｗｅｒｎ，「Ｏｒｇａｎｉｃ Ｐｅｒ
ｏｘｉｄｅｓ」，Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ａｎｄ Ｓｏｎｓ，１９７０，Ｖｏｌ
．１，ｐｐ８２，８７）。反応器を密封し、精製窒素でパージした。その後、反
応器をＭＣＳ混合物（アセチレン８．３モル％、エチレン９．５モル％、一酸化
炭素２１．３モル％、二酸化炭素３．２９モル％、メタン４モル％および水素５
３．６５モル％）で２００ｐｓｉｇ（１，３８０ｋＰａ）に加圧した。攪拌しつ
つ温度を６６℃に上げ、２４時間にわたりそれを維持した。反応器を放置して室
温に冷却し、その後減圧した。ヘキサンを回転式蒸発器で除去し、１．５ｇの製
品が残った。
【００３３】 ＩＲ、ＮＭＲおよびＧＰＣによって製品を分析した。製品のＦＴＩＲスペクト
ルにより、カルボニル基による１７１５ｃｍ−１での極めて強いピークが示され
た。従って、ＣＯは製品中に組込まれていた。ＦＴＩＲスペクトルによると、ア
セチレンモノマー組込みから由来するＩＲにおける１６３０ｃｍ−１でのブロー
ドな肩および約４．６〜約６ｐｐｍの陽子共鳴も示された。製品の１３Ｃ ＮＭ
Ｒにより、ポリマーが２０％ＣＯ組込みおよび非線状（分岐）ポリエチレン構造
をもっていることが示唆された。ポリマーのＧＰＣにより６８０のＭｗ（ポリス
チレン標準物質、ＴＨＦ溶媒）が示された。製品はヘキサンに可溶であった。製
品の非線状特性は、約９〜約４８ｐｐｍの脂肪族領域に関する１３Ｃ ＮＭＲに
おけるブロードな多重線およびＣＯ共鳴に関する約２０６〜約２１８ｐｐｍの多
重線の存在によって示唆されている。炭素原子１０００当たりの分岐数は、１０
００炭素原子当たり約２０２の全体の分岐数に対して、Ｃ１＝３１、Ｃ２＝８８
、Ｃ３＝１４およびＣ４以上＝６９に及ぶ。
【００３４】 実施例５ 「ＭＣＳ」原料を用いる一酸化炭素含有ポリマーをラジカル重合技術により以
下のように合成した。
【００３５】 ３００ｍｌオートクレーブ反応器に純ｎ−ヘキサン１５０ｍｌおよびミネラル
スピリット中のｔ−ブチルペルオキシピバレートの７５％溶液０．１７４ｇを投
入した。反応器を密封し、精製窒素でパージした。その後、反応器をＭＣＳ混合
物（エチレン５．４モル％、一酸化炭素１．３モル％、二酸化炭素７．４モル％
、水素４．６モル％およびメタン８１．３モル％）で７００ｐｓｉｇ（４，８３
０ｋＰａ）に加圧した。攪拌しつつ温度を６６℃に上げ、２４時間にわたりそれ
を維持した。反応器を放置して室温に冷却し、その後減圧した。ヘキサンを回転
式蒸発器で除去して製品を得た。原料が非常に希釈された濃度を含み、アセチレ
ンを含まなかったことに注意するべきある。
【００３６】 ＩＲ、ＮＭＲおよびＧＰＣによって製品を分析した。製品のＦＴＩＲスペクト
ルにより、カルボニル基による１７１５ｃｍ−１での極めて強いピークが示され
、それは製品への一酸化炭素の組込みを示唆している。この製品において、ＩＲ
によると、実施例４のそれと比べて遥かによりシャープなカルボニルピークが示
された。よりシャープなピークが実施例４の製品へのアセチレン組込みに起因す
る二重結合ピークが存在しないことから生じていると考えられる。製品はヘキサ
ンに可溶であった。製品の１３Ｃ ＮＭＲにより、９〜４８ｐｐｍのアルキル領
域に関する１３Ｃ ＮＭＲにおけるブロードな多重線およびＣＯ共鳴に関する２
０６〜２１８の多重線によって示唆されるように、ポリマーが５．１％ＣＯ組込
みおよび非線状（分岐）ポリエチレン構造をもっていたことが示された。製品の
ＧＰＣにより３２０のＭｎおよび４２０のＭｗが示された。
【００３７】 これらの実施例は、パラフィン可溶性ＣＯ含有ポリマー製品を多成分原料から
形成できることこと示している。実施例は、アセチレン／オレフィン／ＣＯポリ
マー製品の生成も示している。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ，ＵＧ，ＺＷ )，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ， ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＵ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ， ＣＡ，ＣＮ，ＣＵ，ＣＺ，ＥＥ，ＧＥ，ＨＲ，ＨＵ，Ｉ Ｄ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＰ，ＫＲ，ＬＣ，ＬＫ ，ＬＲ，ＬＴ，ＬＶ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＸ，ＮＯ， ＮＺ，ＰＬ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，Ｔ Ｒ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＡ (72)発明者 シュルツ ドナルド ノーマン アメリカ合衆国 ニュージャージー州 08801 アナンデイル バリー クレスト ロード 36 (72)発明者 クック レイモンド アーノルド アメリカ合衆国 ペンシルバニア州 18017 ベスレヘム サウス コート 2419 (72)発明者 マッターロ ミッシェル ジェラルド アメリカ合衆国 ニュージャージー州 08530 ランバートビル ヨーク ストリ ート 41 Ｆターム(参考） 4J005 AB01 BB02

Claims (19)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 非線状パラフィン可溶性[オレフィンｃｏ−一酸化炭素]コポ
    リマーを含む組成物。
  2. 【請求項２】 前記コポリマーの数平均分子量は約２００〜約１，０００の
    範囲である請求項１に記載の組成物。
  3. 【請求項３】 前記コポリマーへのＣＯ組込みは、約２〜約５０モル％の範
    囲である請求項２に記載の組成物。
  4. 【請求項４】 前記コポリマーは、炭素原子１０００当たり約８０〜約３０
    ０の範囲の全体の分岐数を有する請求項３に記載の組成物。
  5. 【請求項５】 オレフィンはエチレンである請求項４に記載の組成物。
  6. 【請求項６】 前記コポリマーはアセチレン系不飽和モノマー単位をさらに
    含む請求項５に記載の組成物。
  7. 【請求項７】 前記アセチレン系不飽和単位は、式−ＨＣ＝ＣＨ−を有する
    請求項６に記載の組成物。
  8. 【請求項８】 約５〜約４０モル％の範囲の量のオレフィン、約１〜約４０
    モル％の範囲の量の一酸化炭素、約４〜約５５モル％の範囲の量の水素、約３〜
    約１０モル％の範囲の量の二酸化炭素および約４〜約８５モル％の範囲の量のメ
    タンを含む原料をラジカル共重合条件下で反応させることを含む方法。
  9. 【請求項９】 前記共重合条件は、温度が約５０〜約２３０℃の範囲であり
    、圧力が約１００〜約３０，０００ｐｓｉの範囲であると共に、適切な半減期を
    有するラジカル開始剤を含む請求項８に記載の方法。
  10. 【請求項１０】 前記原料は約１０モル％以下の量でアセチレンをさらに含
    む請求項９に記載の方法。
  11. 【請求項１１】 前記共重合は、トルエン、ベンゼン、ジオキサン、ペンタ
    ン、ヘプタン、ヘキサン、プロピレンオキシド、シクロヘキサンおよびそれらの
    混合物から成る群から選択された溶媒の存在下で行われる請求項１０に記載の方
    法。
  12. 【請求項１２】 前記ラジカル開始剤は、ジターシャリーブチルペルオキシ
    ド、２，５−ジメチル−２，５−ジターシャリーブチルペルオキシヘキサン、ジ
    クミルペルオキシド、ターシャリーブチルヒドロペルオキシド、ターシャリーオ
    クチルヒドロペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド、ベンゾイルペルオキシ
    ド、ターシャリーブチルペルオキシピバレート、ターシャリーブチルパーベンゾ
    エート、アゾビスイソブチロニトリルおよびそれらの混合物から成る群から選択
    される請求項１１に記載の方法。
  13. 【請求項１３】 前記原料は炭化水素転化プロセスから得られる請求項１２
    に記載の方法。
  14. 【請求項１４】 約１〜約４０モル％の範囲の量の一酸化炭素、約４〜約５
    ５モル％の範囲の量の水素、約３〜約１０モル％の範囲の量の二酸化炭素、約４
    〜約８５モル％の範囲の量のメタンおよび全量が約５〜約４０モル％の範囲であ
    る少なくとも一種のオレフィンを含有する原料をラジカル重合開始剤が存在する
    状態において共重合条件下で反応させることにより形成されるポリマー。
  15. 【請求項１５】 前記共重合条件は、温度が約５０〜約２３０℃の範囲であ
    り、圧力が約１００〜約３０，０００ｐｓｉｇの範囲であると共に、適切な半減
    期を有するラジカル開始剤を含む請求項１４に記載の生産物。
  16. 【請求項１６】 前記原料は約１０モル％以下の量でアセチレンをさらに含
    む請求項１５に記載の生産物。
  17. 【請求項１７】 前記共重合は、トルエン、ベンゼン、ジオキサン、ペンタ
    ン、ヘプタン、ヘキサン、プロピレンオキシド、シクロヘキサンおよびそれらの
    混合物から成る群から選択された溶媒の存在下で行われる請求項１６に記載の生
    産物。
  18. 【請求項１８】 前記ラジカル開始剤は、ジターシャリーブチルペルオキシ
    ド、２，５−ジメチル−２，５−ジターシャリーブチルペルオキシヘキサン、ジ
    クミルペルオキシド、ターシャリーブチルヒドロペルオキシド、ターシャリーオ
    クチルヒドロペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド、ベンゾイルペルオキシ
    ド、ターシャリーブチルペルオキシピバレート、ターシャリーブチルパーベンゾ
    エート、アゾビスイソブチロニトリルおよびそれらの混合物から成る群から選択
    される請求項１７に記載の生産物。
  19. 【請求項１９】 前記原料は炭化水素転化プロセスから得られる請求項１８
    に記載の生産物。
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