JPH03255116A - エチレン系共重合体の製造方法 - Google Patents
エチレン系共重合体の製造方法Info
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- JPH03255116A JPH03255116A JP2054337A JP5433790A JPH03255116A JP H03255116 A JPH03255116 A JP H03255116A JP 2054337 A JP2054337 A JP 2054337A JP 5433790 A JP5433790 A JP 5433790A JP H03255116 A JPH03255116 A JP H03255116A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、三価有機ランタニド化合物存在下エチレンと
不飽和カルボン酸エステルを共重合することによりエチ
レン系ブロック共重合体を効率よく製造する方法に関す
る。
不飽和カルボン酸エステルを共重合することによりエチ
レン系ブロック共重合体を効率よく製造する方法に関す
る。
[従来の技術と解決すべきR題]
従来のポリオレフィンは、分子中に極性基がないため接
着性、印刷性及び他のポリマーとの相溶性に劣るという
欠点があった。
着性、印刷性及び他のポリマーとの相溶性に劣るという
欠点があった。
これらの欠点を改善するためα−オレフィンと極性ビニ
ルモノマーとの共重合が試みられている。
ルモノマーとの共重合が試みられている。
その例として、特開昭59−43003によるとルイス
酸存在下T i C14,A I (C2H5) 2
C1を触媒としてプロピレンと不飽和カルボン酸エステ
ルの共重合方法が提案されている。また、特開昭64−
14217によると0価のニッケルキレート化合物とア
ルミノキサンを用いてエチレンと不飽和カルボン酸エス
テルの共重合が提案されているが、いずれも多量のルイ
ス酸が必要であるか或は、助触媒のアルミノキサンが大
過剰必要である等の問題点がある。
酸存在下T i C14,A I (C2H5) 2
C1を触媒としてプロピレンと不飽和カルボン酸エステ
ルの共重合方法が提案されている。また、特開昭64−
14217によると0価のニッケルキレート化合物とア
ルミノキサンを用いてエチレンと不飽和カルボン酸エス
テルの共重合が提案されているが、いずれも多量のルイ
ス酸が必要であるか或は、助触媒のアルミノキサンが大
過剰必要である等の問題点がある。
本発明者らは既に二価ランタニド化合物とアルキルアル
ミの複核錯体を用いてエチレン−MMAブロック共重合
体の合成を報告している(日本化学会3158春季年会
講演予稿集!、IIIBO7,1989)が、このよう
な二価ランタニド化合物を用いた場合重合活性が低いと
いうrJj題点がある。
ミの複核錯体を用いてエチレン−MMAブロック共重合
体の合成を報告している(日本化学会3158春季年会
講演予稿集!、IIIBO7,1989)が、このよう
な二価ランタニド化合物を用いた場合重合活性が低いと
いうrJj題点がある。
[11題を解決するための手段]
そこで本発明者らはさらに鋭意研究を重ねた結果、三価
有機Sc化合物もしくは、三価有機Y化合物もしくは、
三価有機ランタニド化合物、もしくはこれらと有機アル
ミニウムから得られる化合物を触媒として用いエチレン
の重合をリビング的に行いその成長末端に不飽和カルボ
ン酸エステルを作用させることによりエチレンー不飽和
カルボン酸エステルブロック共重合体が得られることを
見いだし、本発明を完成するにいたった。
有機Sc化合物もしくは、三価有機Y化合物もしくは、
三価有機ランタニド化合物、もしくはこれらと有機アル
ミニウムから得られる化合物を触媒として用いエチレン
の重合をリビング的に行いその成長末端に不飽和カルボ
ン酸エステルを作用させることによりエチレンー不飽和
カルボン酸エステルブロック共重合体が得られることを
見いだし、本発明を完成するにいたった。
本発明は、三価有機Sc化合物もしくは、三価有機Y化
合物もしくは、三価有機ランタニド(La、 Ce−
Pr−Nd、 Pm、 Sm、 Eu−Ga、T
b、Dy、 Ho、 Er、 Tm、 Yb、 Lu)
化合物もしくは、これらと有機アルミニウムがら得られ
る化合物を開始剤として用いることを特徴とするエチレ
ンと不飽和カルボン酸エステルのブロック共重合体の製
造方法に関する。
合物もしくは、三価有機ランタニド(La、 Ce−
Pr−Nd、 Pm、 Sm、 Eu−Ga、T
b、Dy、 Ho、 Er、 Tm、 Yb、 Lu)
化合物もしくは、これらと有機アルミニウムがら得られ
る化合物を開始剤として用いることを特徴とするエチレ
ンと不飽和カルボン酸エステルのブロック共重合体の製
造方法に関する。
本発明で使用され得る三価有機sc化合物および三価有
機Y化合物および三価有機ランタニド化合物は式(1)
(2) %式%(2) [式中R1〜R111は水素原子または炭素数」〜5の
炭化水素基またはケイ素を含む炭化水素基であり、RI
−R+ ilは隣接するR基と炭化水素基を介して結合
していてもよい、MはSc、 Y、 La、 C
e。
機Y化合物および三価有機ランタニド化合物は式(1)
(2) %式%(2) [式中R1〜R111は水素原子または炭素数」〜5の
炭化水素基またはケイ素を含む炭化水素基であり、RI
−R+ ilは隣接するR基と炭化水素基を介して結合
していてもよい、MはSc、 Y、 La、 C
e。
Pr、Nd、 Pm−Sm、 Eu、 Ga−T
b、 Dy−Ho、Er、Tm、Yb、Luである。
b、 Dy−Ho、Er、Tm、Yb、Luである。
Xは水素原子または炭素数1〜10の炭化水素基または
ケインを含む炭化水素基である。Yは炭素数1〜3のア
ルキレン基またはアルキルシリル基である。Dは溶媒分
子でありn=o〜3である。コで示される。
ケインを含む炭化水素基である。Yは炭素数1〜3のア
ルキレン基またはアルキルシリル基である。Dは溶媒分
子でありn=o〜3である。コで示される。
このような化合物の例としては、ビスシクロペンタジェ
ニルルテチウムハイドライド、ビスシクロペンタジェニ
ルルテチウムメチル、ビスシクロペンタジェニルルテチ
ウムエチル、ビスシクロペンタジェニルルテチウムビス
トリメチルシリルメチル、ビスペンタメチルシクロペン
タジェニルルテチウムハイドライド、ビスペンタメチル
シクロペンタジェニルルテチウムメチル、ビスペンタメ
チルシクロペンタジェニルルテチウムビストリメチルシ
リルメチル、ビスシクロペンタジエニルイッテルビュウ
ムハイドライド、ビスシクロペンタジエニルイッテルビ
ュウムメチル、ビスペンタメチルシクロペンタジェニル
イッテルビュウムハイドライド、ビスペンタメチルシク
ロペンタジェニルイッテルビュウムメチル、 ビスペン
タメチルシクロペンタジェニルイッテルビュウムビスト
リメチルシリルメチル、ビスシクロペンタジェニルサマ
リウムハイドライド、ビスシクロペンタジェニルサマリ
ウムメチル−ビスペンタメチルシクロペンタジェニルサ
マリウムハイドライド、ビスペンタメチルシクロペンタ
ジェニルサマリウムメチル、ビスペンタメチルシクロペ
ンタジェニルサマリウムビストリメチルシリルメチル、
ビスシクロペンタジェニルサマリウムハイドライド、
ビスシクロペンタジェニルサマリウムメチル、ビスペン
タメチルシクロペンタジェニルサマリウムハイドライド
、ビスベンタメチルシクロペンタジェニルヨーロビウム
メチル、ビスペンタメチルシクロペンタジェニルネオジ
ウムメチル、ビスペンタメチルシクロペンタジェニルセ
リウムハイトライド、ビスペンタメチルシク口ペンタジ
ェニルイントリラムメチル、ビスペンタメチルシクロペ
ンタジェニルスカンジウムハイドライド、ビスペンタメ
チルシクロペンタジェニルスカンジウムメチル、ビスイ
ンデニルルテチウムメチル、エチレンビスインデニルル
テチウムメチル、エチレンビスシクロペンタジェニルル
テチウムメチルおよびこれらの化合物ノエーテラート、
テトラヒドロフラネートなどが挙げられるがこれらに限
定されるものではない。
ニルルテチウムハイドライド、ビスシクロペンタジェニ
ルルテチウムメチル、ビスシクロペンタジェニルルテチ
ウムエチル、ビスシクロペンタジェニルルテチウムビス
トリメチルシリルメチル、ビスペンタメチルシクロペン
タジェニルルテチウムハイドライド、ビスペンタメチル
シクロペンタジェニルルテチウムメチル、ビスペンタメ
チルシクロペンタジェニルルテチウムビストリメチルシ
リルメチル、ビスシクロペンタジエニルイッテルビュウ
ムハイドライド、ビスシクロペンタジエニルイッテルビ
ュウムメチル、ビスペンタメチルシクロペンタジェニル
イッテルビュウムハイドライド、ビスペンタメチルシク
ロペンタジェニルイッテルビュウムメチル、 ビスペン
タメチルシクロペンタジェニルイッテルビュウムビスト
リメチルシリルメチル、ビスシクロペンタジェニルサマ
リウムハイドライド、ビスシクロペンタジェニルサマリ
ウムメチル−ビスペンタメチルシクロペンタジェニルサ
マリウムハイドライド、ビスペンタメチルシクロペンタ
ジェニルサマリウムメチル、ビスペンタメチルシクロペ
ンタジェニルサマリウムビストリメチルシリルメチル、
ビスシクロペンタジェニルサマリウムハイドライド、
ビスシクロペンタジェニルサマリウムメチル、ビスペン
タメチルシクロペンタジェニルサマリウムハイドライド
、ビスベンタメチルシクロペンタジェニルヨーロビウム
メチル、ビスペンタメチルシクロペンタジェニルネオジ
ウムメチル、ビスペンタメチルシクロペンタジェニルセ
リウムハイトライド、ビスペンタメチルシク口ペンタジ
ェニルイントリラムメチル、ビスペンタメチルシクロペ
ンタジェニルスカンジウムハイドライド、ビスペンタメ
チルシクロペンタジェニルスカンジウムメチル、ビスイ
ンデニルルテチウムメチル、エチレンビスインデニルル
テチウムメチル、エチレンビスシクロペンタジェニルル
テチウムメチルおよびこれらの化合物ノエーテラート、
テトラヒドロフラネートなどが挙げられるがこれらに限
定されるものではない。
これらの化合物は、公知の方法(TobinJ、Mar
ks、 J、Am、Chem、Soc。
ks、 J、Am、Chem、Soc。
107.8091,1985.;William、J、
Evans、J、Am、Chem、S。
Evans、J、Am、Chem、S。
c、 105,1401,1983.;p、L。
Watson、A、C,S、Symp、、495゜19
83、;Tobin J、Marks、WO3605
788)により合成することが出来るが、合成方法によ
り限定されるものではない。
83、;Tobin J、Marks、WO3605
788)により合成することが出来るが、合成方法によ
り限定されるものではない。
本発明に使用される有機アルミニウム化合物は、式(3
) %式% (3) [式中Rは脂肪族炭化水素基、又はハロゲン元素、n=
1〜3の整数 ] 本発明に用いられるカルボン酸エステルとしては式(4
)(5) %式%(5) [式中Rは脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、およ
びハロゲン、アミン、エーテル等の官能基を含む炭化水
素基の中から選ばれた一価の基である。
) %式% (3) [式中Rは脂肪族炭化水素基、又はハロゲン元素、n=
1〜3の整数 ] 本発明に用いられるカルボン酸エステルとしては式(4
)(5) %式%(5) [式中Rは脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、およ
びハロゲン、アミン、エーテル等の官能基を含む炭化水
素基の中から選ばれた一価の基である。
]に示すものが有効に使用され得る。
具体的には、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、ア
クリル酸イソプロピル、アクリル酸イソプロピル、アク
リル酸n−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸
5eC−ブチル、アクリル酸n−ブチル、アクリル酸イ
ソアミル、アクリル酸ラウリル、アクリル酸ベンジル、
アクリル酸フェニル、アクリル酸ビニル、メタクリル酸
メチル、メタクリル酸エチル、メタフリルミn−プロピ
ル。
クリル酸イソプロピル、アクリル酸イソプロピル、アク
リル酸n−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸
5eC−ブチル、アクリル酸n−ブチル、アクリル酸イ
ソアミル、アクリル酸ラウリル、アクリル酸ベンジル、
アクリル酸フェニル、アクリル酸ビニル、メタクリル酸
メチル、メタクリル酸エチル、メタフリルミn−プロピ
ル。
メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸n−ブチル、
メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸5eC−ブチル
、メタクリル酸t−ブチル、メタクリル酸イソアミル、
メタクリル酸n−ヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシ
ル、メタクリル酸ラウリル、メタクリル酸アリル、メタ
クリル酸ビニル。
メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸5eC−ブチル
、メタクリル酸t−ブチル、メタクリル酸イソアミル、
メタクリル酸n−ヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシ
ル、メタクリル酸ラウリル、メタクリル酸アリル、メタ
クリル酸ビニル。
メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸フェニル、メタク
リル酸ナフチル、メタクリルw12−メトキシエチル、
メタクリル酸ジエチレングリコールモノメチルエーテル
、メタクリル62−ジメチルアミノエチル等が例示され
るがこれらに限定されるものではない。
リル酸ナフチル、メタクリルw12−メトキシエチル、
メタクリル酸ジエチレングリコールモノメチルエーテル
、メタクリル62−ジメチルアミノエチル等が例示され
るがこれらに限定されるものではない。
重合は不活性気体中上述した三価有機Sc化合物および
三価有機Y化合物および三価有機ランタニド化合物を触
媒として用い、溶媒存在下策1のモノマーであるエチレ
ンを常圧で導入してエチレン重合を行い、その後第2の
モノマーである不飽和カルボン酸エステルを系中に加え
て共重合することによりブロック共重合を得る。
三価有機Y化合物および三価有機ランタニド化合物を触
媒として用い、溶媒存在下策1のモノマーであるエチレ
ンを常圧で導入してエチレン重合を行い、その後第2の
モノマーである不飽和カルボン酸エステルを系中に加え
て共重合することによりブロック共重合を得る。
不活性気体としては窒素、ヘリウム、アルゴン等が用い
られるが好ましくはアルゴンである。
られるが好ましくはアルゴンである。
重合に使用する溶媒は、塩化メチレン、クロロホルム、
四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素、ヘキサン、ヘ
プタン、ベンゼン、トルエン、キシレンのような炭化水
素類、テトラヒドロフラン、エーテル等が挙げられるが
いずれも完全に脱水脱気されたものを用いるのがよい。
四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素、ヘキサン、ヘ
プタン、ベンゼン、トルエン、キシレンのような炭化水
素類、テトラヒドロフラン、エーテル等が挙げられるが
いずれも完全に脱水脱気されたものを用いるのがよい。
重合に使用する不飽和カルボン酸エステルモノマーは、
カルシウムハイドライド、モレキュラーシーブにより十
分に乾燥したものを重合に供する直前に不活性気体下で
蒸留したものを用いる。
カルシウムハイドライド、モレキュラーシーブにより十
分に乾燥したものを重合に供する直前に不活性気体下で
蒸留したものを用いる。
重合温度は用いた溶媒の凝固点から沸点までの広範囲に
わたって可能であるが室温程度の方がより好ましい。
わたって可能であるが室温程度の方がより好ましい。
また1分子量分布の狭いブロック共重合体が製造できる
ことが本発明の製造方法の1つの特徴である。
ことが本発明の製造方法の1つの特徴である。
本発明の製造方法を用いれば分子量分布の狭いエチレン
系ブロック共重合体が容易に合成することができる。
系ブロック共重合体が容易に合成することができる。
また、本方法は、相応する三価有機S’c化合物および
三価有機Y化合物および有機ランタニド化合物のハロゲ
ン化物(例えばビスシクロペンタジェニルルテチウムク
ロリド、ビスペンタメチルシクロペンタジエニルイツテ
ルビュウムブロミド等)と等象現下のアルキルアルカリ
化合物を系中で反応させることによっても重合触媒とな
る。
三価有機Y化合物および有機ランタニド化合物のハロゲ
ン化物(例えばビスシクロペンタジェニルルテチウムク
ロリド、ビスペンタメチルシクロペンタジエニルイツテ
ルビュウムブロミド等)と等象現下のアルキルアルカリ
化合物を系中で反応させることによっても重合触媒とな
る。
更に本発明においては触媒濃度、エチレンモノマー濃度
を決定すると反応温度、重合時間を調節することにより
共重合体のエチレン連鎖部分の重合度を自由に制御出来
、さらにjJ2のモノマーである不飽和カルボン酸エス
テルの濃度1重合時間を調節することによりブロックコ
ポリマーのカルシボン瞭エステル部分の重合度も自由に
制御出来る点も大きな特徴である。
を決定すると反応温度、重合時間を調節することにより
共重合体のエチレン連鎖部分の重合度を自由に制御出来
、さらにjJ2のモノマーである不飽和カルボン酸エス
テルの濃度1重合時間を調節することによりブロックコ
ポリマーのカルシボン瞭エステル部分の重合度も自由に
制御出来る点も大きな特徴である。
[実施例]
以下、実施例によって具体的に説明する力く、本発明が
これにより何ら制限されな(j。
これにより何ら制限されな(j。
実施例、比較例に於て生成する共重合体の分子量はGP
Cにより求め、分子量分布はM w / M nにより
見積った。また、共重合体中のエチレン、カルボン酸エ
ステルの量比は、’H−NMR及び13C−NMRより
算出した。
Cにより求め、分子量分布はM w / M nにより
見積った。また、共重合体中のエチレン、カルボン酸エ
ステルの量比は、’H−NMR及び13C−NMRより
算出した。
実施例1
十分にe’imアルゴンガス置換した50m1のフラス
コに公知の方法(P、 L、 Wa t s o
n、 A。
コに公知の方法(P、 L、 Wa t s o
n、 A。
C,S、Symp、、495,1983.)1’合戒さ
れたビスペンタメチルシクロペンタジエニルイッテルビ
ュウムメチルモノエーテラートのトルエン溶液(0,0
2M) 1 m lとdry −1−ルxン20m1を
投入し、冷却減圧によりアルゴンガスをエチレンに置換
した後磁気攪#器を用いて攪拌しながら重合温度30℃
に昇温した。5分間エチレン重合をおこなった後、未反
応のエチレンガスを冷却減圧により再びアルゴンガスに
置換した。
れたビスペンタメチルシクロペンタジエニルイッテルビ
ュウムメチルモノエーテラートのトルエン溶液(0,0
2M) 1 m lとdry −1−ルxン20m1を
投入し、冷却減圧によりアルゴンガスをエチレンに置換
した後磁気攪#器を用いて攪拌しながら重合温度30℃
に昇温した。5分間エチレン重合をおこなった後、未反
応のエチレンガスを冷却減圧により再びアルゴンガスに
置換した。
この時、生成したポリエチレンを注射器で5mlサンプ
リングした。残りの反応溶液にカルシウムハイドライド
およびモレキュラーシーブにより乾燥したメチルメタク
リレート1m1を注射器で加えて約1時間攪拌を続けた
。反応後反応液を多量のメタノール中にあけポリマーを
析出させた。得られたポリマーは、クロロホルム中で加
熱還流しクロロホルム不溶部を濾取し、乾燥後秤量、G
PC,NMR測定を行なった。
リングした。残りの反応溶液にカルシウムハイドライド
およびモレキュラーシーブにより乾燥したメチルメタク
リレート1m1を注射器で加えて約1時間攪拌を続けた
。反応後反応液を多量のメタノール中にあけポリマーを
析出させた。得られたポリマーは、クロロホルム中で加
熱還流しクロロホルム不溶部を濾取し、乾燥後秤量、G
PC,NMR測定を行なった。
実施例2
ポリエチレン重合時間を10分とする以外実施例1と同
様に行なった。
様に行なった。
実施例3
ポリエチレン重合時間を15分とする以外実施例1と同
様に行なった。
様に行なった。
実施例4
開始剤としてビスペンタメチルシクロペンタジェニルサ
マリウムハイドライドを用い、ポリエチレン重合時間を
1分とする以外は、実施例1と同様に行なった。
マリウムハイドライドを用い、ポリエチレン重合時間を
1分とする以外は、実施例1と同様に行なった。
実施例5
開始剤としてビスペンタメチルシクロペンタジェニルサ
マリウムハイドライドを用い、ポリエチレン重合時間を
3分とする以外は、実施例1と同様に行なった。
マリウムハイドライドを用い、ポリエチレン重合時間を
3分とする以外は、実施例1と同様に行なった。
比較例1
開始剤としてビスペンタメチルイッテルビュウムビステ
トラヒドロフラネート(二価)を用いた以外は実施例1
と同様に共重合を行なったが共重合体は得られなかった
。
トラヒドロフラネート(二価)を用いた以外は実施例1
と同様に共重合を行なったが共重合体は得られなかった
。
実施例6
開始剤としてビスペンタメチルシクロペンタジエニルイ
ツテルビュウムメチルトリメチルアルミニウムを用いる
以外は、実施例1と同様に行なった。
ツテルビュウムメチルトリメチルアルミニウムを用いる
以外は、実施例1と同様に行なった。
実施例1〜6までの結果をまとめて表]に示す。
(以下余白)
実施例7
開始剤としてビスペンタメチルシクロペンタジェニルイ
ッテルビウムメチルを用い、モノマーとしてアクリル酸
メチルを用いる以外は、実施例1と同様に行なった。収
量 57IIIg。
ッテルビウムメチルを用い、モノマーとしてアクリル酸
メチルを用いる以外は、実施例1と同様に行なった。収
量 57IIIg。
[発明の効果]
本発明の上記共重合体をポリオレフィン等の熱可塑性樹
脂に配合することにより、該樹脂の種々の性質を改良す
ることができる。
脂に配合することにより、該樹脂の種々の性質を改良す
ることができる。
図1は実施例1で得られたポリエチレン−PMMA共重
合体のIRスペクトルである。 (実施例2〜6で得ら
れたものも同様のスペクトルを示した。 )
合体のIRスペクトルである。 (実施例2〜6で得ら
れたものも同様のスペクトルを示した。 )
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 I )a)三価有機Sc化合物、b)三価有機Y化合物
、c)三価有機ランタニド(La、Ce、Pr、Nd、
Pm、Sm、Eu、Ga、Tb、Dy、Ho、Er、T
m、Yb、Lu)化合物として、a)b)c)からなる
群の少なくとも一種の有機金属化合物を開始剤として用
いることを特徴とするエチレンと不飽和カルボン酸エス
テル共重合体の製造方法。 II)a)三価有機Sc化合物、b)三価有機Y化合物、
c)三価有機ランタニド(La、Ce、Pr、Nd、P
m、Sm、Eu、Ga、Tb、Dy、Ho、Er、Tm
、Yb、Lu)化合物として、a)b)c)からなる群
の少なくとも一種の有機金属化合物と有機アルミニウム
から得られる化合物を開始剤として用いることを特徴と
するエチレンと不飽和カルボン酸エステル共重合体の製
造方法。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5433790A JP2850152B2 (ja) | 1990-03-06 | 1990-03-06 | エチレン系共重合体の製造方法 |
CA002035650A CA2035650C (en) | 1990-02-14 | 1991-02-04 | Process of preparing polymer or copolymer of unsaturated carboxylic acid ester |
KR1019910002348A KR0155998B1 (ko) | 1990-02-14 | 1991-02-12 | 불포화 카르복실산 에스테르의 중합체 또는 공중합체의 제조방법 |
EP91102031A EP0442476B1 (en) | 1990-02-14 | 1991-02-13 | Process for preparing polymer or copolymer of unsaturated carboxylic acid ester |
DE69110490T DE69110490T2 (de) | 1990-02-14 | 1991-02-13 | Verfahren zur Herstellung eines Polymers oder Copolymers eines Esters einer ungesättigten Karbonsäure. |
US07/655,491 US5132369A (en) | 1990-02-14 | 1991-02-14 | Process for preparing narrow molecular weight distribution syndiotactic block copolymers of unsaturated carboxylic acid esters with α-olefins |
US07/875,330 US5218064A (en) | 1990-02-14 | 1992-04-29 | Process for preparing narrow molecular weight distribution syndiotactic polymers or copolymers of unsaturated carboxylic acid esters |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5433790A JP2850152B2 (ja) | 1990-03-06 | 1990-03-06 | エチレン系共重合体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03255116A true JPH03255116A (ja) | 1991-11-14 |
JP2850152B2 JP2850152B2 (ja) | 1999-01-27 |
Family
ID=12967790
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5433790A Expired - Fee Related JP2850152B2 (ja) | 1990-02-14 | 1990-03-06 | エチレン系共重合体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2850152B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5627244A (en) * | 1994-04-27 | 1997-05-06 | Sumitomo Chemical Co., Ltd. | Process producing a polymer comprising an unsaturated carboxylic acid or a derivative thereof |
US8314450B2 (en) | 2008-03-06 | 2012-11-20 | Panasonic Corporation | Solid-state imaging device and method for manufacturing same |
-
1990
- 1990-03-06 JP JP5433790A patent/JP2850152B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5627244A (en) * | 1994-04-27 | 1997-05-06 | Sumitomo Chemical Co., Ltd. | Process producing a polymer comprising an unsaturated carboxylic acid or a derivative thereof |
US8314450B2 (en) | 2008-03-06 | 2012-11-20 | Panasonic Corporation | Solid-state imaging device and method for manufacturing same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2850152B2 (ja) | 1999-01-27 |
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