JP2002523425A - ビオスタチン（ｔｔ−２３２トリアセテート）およびその類似体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 本発明はポリマー担体上での固相合成により、保護基で誘導体化されたアミノ酸を使用してペプチドを段階的に構成することによってビオスタチン（ＴＴ−２３２）を合成するための方法に関する。該方法によれば保護基は分離され、かつペプチドは固相から分離される。ジスルフィド結合は、できる限りペプチドが固相に結合して残っている間に、適当な溶剤の存在下に完全または部分的に合成されたペプチドの酸化によって閉鎖させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】 本発明は固相合成によるビオスタチン（Biostatin）の合成のための方法に関
する。

【０００２】 ペプチドの合成のためには種々の方法が当業者に知られている。これらはシェ
ミアキン（Shemyakin）による液相法（Tetrahedron Lett. (1965), 2323 f.）、
および最初にメリフィールド（Merrifield）によって記載された固相法（R. B.
Merrifield, J. Am. Chem. Soc. 85 (1963) 2149）である。

【０００３】 固相合成および液相合成の方法はこれまで進展しており、かつ著しく改善され
ており、これらには、例えば“Peptide, Chemie und Biologie”(Hans Dieter J
akubke, Spektrum Akademischer Verlag Heidelberg-Berlin-Oxford, 1996, ISB
N 3-8274-0000-7）に示される。このテキストブックは古典的な合成方法もメリ
フィールドのペプチド合成法も記載している。目下のところ、第一にペプチド合
成のために溶液中のペプチド合成が使用される。但し、特に少なくとも１つのジ
スルフィド架橋を形成すべきであるペプチドの合成において溶液中の合成に関し
ては、これらのジスルフィド架橋を高度な希釈における酸化によって形成しなけ
ればならないという該方法に必備の欠点が存在する。これは典型的な溶液中のペ
プチド合成法において個々の反応中心の必須の位置的分離を生じさせ、かつそれ
によって効果的な環化を可能にするために必要である。

【０００４】 ペプチドのビオスタチン（ＴＴ−２３２）はソマトスタチンの類似体であり、
インビトロおよびインビボでの強力な抗腫瘍活性を有する。

【０００５】 ソマトスタチンは、成長ホルモンの形成および他の内分泌分子、例えばグルカ
ゴン、インスリンおよびガストリンの分泌を阻害する天然に存在するテトラデカ
ペプチドである。ソマトスタチンは幾つかの細胞機能を阻害または調節し、かつ
更に重要な内因性の抗増殖活性を発揮することが確認されている。更にこれはソ
マトスタチンおよびその類似体の腫瘍に対する阻害作用を示す。昨年に幾つかの
ソマトスタチン類似体が開発された。これらは天然のホルモンよりも長期の作用
時間およびより良好な抗腫瘍作用を有する。それ故、腫瘍選択的なソマトスタチ
ン類似体を開発することに多大な労力を費やし、その際に、特に容易に製造でき
ることも重要である。

【０００６】 これらの類似体の１つは、以下の配列：

【０００７】

【化１】

【０００８】 を有する５−環構造を有する分子である。

【０００９】 該分子はＴＴ−２３２もしくはビオスタチンと呼ばれる。このソマスタチン類
似体は事実上、成長ホルモンの遊離に対する阻害作用を有さないが、インビボお
よびインビトロでの強力な抗腫瘍作用を示し、かつアポトーシスを誘発させる。
該化合物は種々のヒトの腸腫瘍細胞系統のチロシンキナーゼ活性を阻害し、その
際、この阻害は細胞増殖に見られる阻害と非常によく一致している。

【００１０】 オクタペプチド誘導体もしくはヘプタペプチド誘導体の製造は、例えばＥＰ−
Ａ−０５０５６８０号に記載されている。しかし、そこには両方のシステイン残
基を介する効果的な環化のためにペプチドをまず固相から分離し、溶液を激しく
希釈しかつ次いで酸化を惹起させる。しかし、この種類の製造は更なる濃縮工程
および精製工程を必要とする。

【００１１】 従って本発明の課題は、ビオスタチンをジスルフィド酸化の後に特に容易にか
つ高い収量で遊離ペプチドアミドが得られる方法を提供することである。

【００１２】 本発明の更なる課題は、得られた生成物の容易な後処理を実施できるような方
法でビオスタチンの製造を可能にすることである。

【００１３】 前記課題は、ビオスタチン（ＴＴ−２３２）の合成のために本発明の第１の方
法においてポリマー担体上での固相合成によりペプチドを段階的に構成すること
によって、保護基で誘導体化されたアミノ酸を使用して、その後に保護基を脱離
させ、かつペプチドを固相から溶離させ、その際、ジスルフィド架橋を、完全ま
たは部分的に構成されたペプチドを該ペプチドが固相上に依然として結合して存
在する間は適当な溶剤の存在下で酸化させることによって設けて解決される。

【００１４】 本発明の方法の範囲において使用される固相合成は当業者に自体公知の方法に
おいて実施してよい。このために適当な固相材料、必要な試薬、バッファー、反
応条件およびアミノ酸に使用されるべき保護基は当業者に公知である。

【００１５】 本発明による方法はビオスタチン中でのジスルフィド架橋の形成の際の反応中
心の位置的分離が、酸化を該ペプチドが固相に依然として結合している間に実施
する場合には十分に保証されていることが確認されていることに基づいている。

【００１６】 本発明の範囲において、架橋されるべきスルフヒドリル基を有するビオスタチ
ンのその部分の合成の後に直接的に酸化およびそれによるジスルフィド架橋の形
成をもたらし、次いでペプチドを合成し終えることも、また完全なペプチドを合
成し、次いで酸化を実施することも可能である。しかしながら酸化はペプチドが
固相に結合して存在している間に実施せねばならないことが重要である。

【００１７】 本発明の範囲においては、ペプチドの保護基の脱離の前に酸化を実施すること
が有利である。

【００１８】 酸化のために、今までも既に溶液中で実施される方法に関して知られている全
ての酸化剤を使用してよい。適当な酸化剤は、従って当業者に知られている。こ
のような酸化剤の例は、銀塩、水銀塩またはタリウム塩、ヨウ素、ペルオキシド
または酸素である。これらの酸化剤を適当な溶剤または溶剤混合物の存在下に使
用する。

【００１９】 本発明の範囲においては、特に有利には酸化剤として、例えば酢酸溶液中また
はＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドをベースとする溶剤中でヨウ素が使用される。

【００２０】 最終的な酸化の後に、ポリマーに結合したペプチドを種々の溶剤もしくは溶剤
混合物で洗浄を実施する。このために、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、
メタノール、酢酸および水または錯形成試薬または還元剤、例えば特にチオスル
フェートまたはアスコルビン酸の溶液も使用できる。

【００２１】 本発明による方法は、有利には酸不安定性のアンカー基（acid labile anchor
ing bond, ALAB）を有する固相上で実施する。特に有利には固相としてポリマー
、ポリスチレンが使用される。有利にはまた変性樹脂、例えばアミノメチルポリ
スチレン（ＡＭＰＳ）、ベンズヒドリルアミン−ポリスチレン（ＢＨＡ−ＰＳ）
およびメチルベンズヒドロールアミノ−ポリスチレン（ＭＢＨＡ−ＰＳ）を使用
してもよい。この固相は、この場合は固相合成のために慣用の形で使用してよい
。有利には固相は球体、いわゆる“ビーズ”の形で使用される。

【００２２】 適当なアンカー基は、ペプチドをポリマー担体から容易に分離可能な固相化学
において慣用のアンカーである。本発明の範囲においてはペプチドをアミドとし
て分離可能なアンカー基が特に有利である。酸不安定性のアンカー基で誘導体化
されたポリマー（ＡＬＡＢ−Ｐ）の例は５−（９−アミノ）キサンテン−２−イ
ル）オキシヴェリル（oxyveryl）−４′−メチル−ベンズヒドリルアミノ−ポリ
スチレンおよび４−（２′，４′−ジメトキシフェニル）−アミノメチル−フェ
ノキシアセチル−４′′−メチル ベンズヒドリルアミノ−ポリスチレンである
。

【００２３】 特に有利なアンカー基は、他の４−ヒドロキシメチル−安息香酸（ＨＢＭＡ）
、９−アミノ−キサンテニル−３−ヒドロール（hydrol）（ＸＡＮＴ）またはｐ
［（Ｒ，５）−α−（１−（９Ｈ−フルオレン−９−イル）メトキシホルムアミ
ド］−２，４−ジメトキシベンジル］−フェノキシ−酢酸［ＭＥＯＢＰ］である
。本発明の範囲においてはキサント群およびＭＥＯＢＰ群が最も有利である。

【００２４】 該合成は、本発明による方法において、有利にはＦｍｏｃ／ｔ−ブチル−スト
ラテジーを使用して実施する。このことは、ペプチドの構成のために必要なアミ
ノ酸がアミノ基でＦｍｏｃ−保護基によって誘導体化され、かつ側鎖群でｔ−ブ
チル基によって誘導体化されていることを意味する。Ｆｍｏｃ保護基は、この場
合は一時的な保護基である。それというのもペプチドの合成の際に脱離され、か
つ合成され固相に結合しているペプチドのＮ−末端にＦｍｏｃ基がとどまるにす
ぎないからである。

【００２５】 システインのスルフヒドリル基は、有利にはトリチル保護基またはＡｃｍ保護
基によって誘導体化される。更に、配列の合成においてＮ−末端の最後のアミノ
酸をＮ−α−Ｂｏｃ保護されたアミノ酸誘導体として使用することが特に有利で
ある。

【００２６】 本発明による合成法の範囲においては、以下の工程： １． ポリマー担体のアンカーおよび／または第１のアミノ酸誘導体による負荷 工程 ２． ペプチド配列の合成工程 ３． ジスルフィド架橋の結合工程 ４． ポリマー担体からのペプチドの分離工程および／または保護基の脱離工程 ５． 保護基の脱離（４の工程においてまだ実施されていない場合） を進行させる。

【００２７】 合成されたペプチド中に含まれる保護基の脱離のために、文献から公知の方法
、例えば希釈されたピペリジン溶液の添加を使用してよい。

【００２８】 ポリマー担体からのペプチドの分離を、同様に自体公知の方法によって実施す
る。酸不安定性のアンカー基の場合に分離は、特に有利には濃トリフルオロ酢酸
または希トリフルオロ酢酸によって酸性的に実施する。

【００２９】 固相から溶離するペプチドの保護基の脱離は、一般に同様に酸の添加によって
、有利にはまたしてもトリフルオロ酢酸を使用して実施する。ペプチドの分離の
後に、所望であれば更なる精製工程および／または濃縮工程を実施してよい。こ
の場合有利には、精製は分取ＨＰＬＣによって実施してよい。

【００３０】 本発明の方法による合成は特に有利な実施態様においてＦｍｏｃ−トレオニン
（ｔ−ブチルエーテル）アミドから出発する。これは酸不安定性のキサンテニル
−アンカー基を介してポリスチレン−固相に共有結合する。

【００３１】 次いで個々の保護アミノ酸を添加して、固相に結合していて保護されたペプチ
ドを形成させる。ジスルフィド架橋の形成のために、次いでヘプタペプチドを固
相上でヨウ素／Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドまたは酢酸の添加によって酸化さ
せ、かつ環化されたヘプタペプチドを担体の酸処理によって溶離させる。同時に
ペプチドの側鎖の全ての保護基を脱離させる。

【００３２】 本発明の更なる目的は、ビオスタチン（ＴＴ−２３２）を、溶液中のペプチド
合成により保護基で誘導体化されたアミノ酸の使用下にペプチドを段階的に構成
することによって合成し、その際、ジスルフィド架橋を完全または部分的に構成
されたペプチドの酸化によって適当な溶剤の存在下に設け、かつ溶剤の除去およ
び場合により生成物の洗浄の後にビオスタチンを得る方法である。

【００３３】 本発明による方法は従来の技術と比較して非常に効果的かつ簡単な溶液中での
ペプチド合成によるビオスタチンの製造を可能にする。特に、保護基としてＤｄ
ｚ（３，５−ジメトキシベンジル−α，α−ジメチルオキシカルボニル）または
２［（３，５−ジメトキシフェニル）−２−オキシカルボニル］−プロピル）で
誘導体化されたアミノ酸をペプチド合成に使用する有利な方法の実施において生
成物の高い収量が容易に得られる。本発明による方法は、更にペプチド合成の完
了後に酸化を容易な方法で実施できるという利点を有する。本発明の範囲におい
ては、全ての保護基の脱離の前に酸化を実施するのが有利であるが、但し酸化の
前に保護基を脱離させる方法の実施も、これらの変法による収量は幾らか少ない
が同様に可能である。

【００３４】 本発明の特記される利点は、実施される酸化およびそれによる両者のシステイ
ン残基を介する分子内の閉環後に反応溶液を蒸発させることができ、このように
して生成物が得られるということである。場合により生成物を、例えばエーテル
でなおも洗浄し、かつ次いで再び吸引濾過し、かつ乾燥させる。

【００３５】 本発明による方法において、有利には以下の合成工程を順次に実施する： １． Ｄｄｚ−保護されたＣｙｓ（Ａｃｍ）のｔ−ブチル−保護されたトレオ ニンアミドへのカップリング工程 ２． 保護基Ｄｄｚのトリフルオロ酢酸による置換工程 ３． Ｄｄｚ−保護されたリジン（Ｚ）の付加工程 ４． Ｄｄｚ−保護基のトリフルオロ酢酸による置換工程 ５． Ｄｄｚ−保護されたＤ−Ｔｒｐの付加工程 ６． Ｄｄｚ−保護基のトリフルオロ酢酸による除去工程 ７． Ｄｄｚ−保護されたＴｙｒ（Ｔｂｕ）の付加工程 ８． Ｄｄｚ−保護基の除去工程およびトリフルオロ酢酸による置換工程 ９． Ｄｄｚ−保護されたＣｙｓ（Ａｃｍ）の付加工程 １０． Ｄｄｚ−保護基のトリフルオロ酢酸による除去工程 １１． Ｂｏｃ−保護されたＤ−Ｐｈｅの付加工程 １２． Ｂｏｃのトリフルオロ酢酸による置換工程 １３． 酸化工程ならびに溶剤の蒸発および洗浄による生成物の後処理工程。

【００３６】 有利な実施態様においては、酸化は完全に保護されたペプチドで実施されるが
、それに対して別の実施態様においては工程１１で部分的にＡｃｍ−基がシステ
インに残留するだけであるように事前に保護基を除去する。

【００３７】 本発明による第２の目的である本発明による方法は溶液中での簡単なペプチド
合成を可能にし、その場合、酸化も後処理も非常に容易に実施される。なおもｔ
−ブチル保護されているビオスタチンの酸化によって、理論値の約７０〜８０％
の特に高い収率が得られる。

【００３８】 本発明による方法の他の実施態様は例４および例５から判明する。

【００３９】 以下の実施例は本発明を更に説明すべきである。

【００４０】 例１： 段階１、Ｆｍｏｃ−保護基のリンカーからの脱離 ３９５ｇのＦｍｏｃ−ＭＥＯＢＰ−ＭＢＨＡ樹脂（負荷量０．８４ミリモル／
ｇ）を１．５ｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドの使用下にフリット床（Bodenf
rit）を備えた反応容器中に移し、振盪によって混合し、５分後に吸引濾過する
。振盪を全ての洗浄工程および反応工程の間に維持する。これに引き続いてＤＭ
Ｆ−洗浄工程を実施し、更に１．５ｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを反応容
器中に充填し、５分後にＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを吸引濾過する。１．５
ｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中の５０％ピペリジン（ｖ／ｖ）を添加する
。５分後にピペリジン溶液を吸引濾過し、かつ再び１．５ｌのＮ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド中の５０％ピペリジン（ｖ／ｖ）を添加する。３０分後にピペリジ
ン溶液を吸引濾過し、再び１．５ｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中の５０％
ピペリジン（ｖ／ｖ）を添加する。５分後にピペリジン溶液を吸引濾過し、引き
続き５回のＤＭＦ−洗浄工程（前記参照）を実施する。

【００４１】 段階２、Ｆｍｏｃ−Ｔｈｒ（ｔＢｕ）のカップリング Ｆｍｏｃ脱離（段階１）の最後のＤＭＦ−洗浄工程の間に、以下の溶液：３７
５ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中の２６７．１ｇ（６７２ミリモル）の
Ｆｍｏｃ−Ｔｈｒ（ｔＢｕ）、２５０ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中の
１０４．４ｇ（６７２ミリモル）のＨＯＢｔ・Ｈ2Ｏおよび７５０ｍｌのＮ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド中の２１５．８ｇのＴＢＴＵを調製する。調製した溶液
を反応容器中で脱遮断されたリンカーポリマー（段階１）に添加し、次いで２２
８．７ｍｌのＤＩＥＡの添加を実施する。２時間の反応時間後に樹脂試料を取り
出し、洗浄し、かつ遊離アミノ基に関して調査する。カイゼル試験（Kaisertest
）は完全な変換を示し、これに４回のＤＭＦ洗浄工程（前記参照）を実施する。

【００４２】 段階３、Ｆｍｏｃ−保護基の脱離 Ｆｍｏｃ−保護基を段階１に記載されるように脱離させる。その際、ＤＭＦで
湿らせた樹脂の場合には膨潤プロセスの導入を省く。

【００４３】 段階４、Ｆｍｏｃ−Ｃｙｓ（Ｔｒｔ）のカップリング Ｆｍｏｃ−脱離（段階３）の最後のＤＭＦ−洗浄工程の間に、以下の溶液：３
７５ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中の３９３．６ｇ（６７２ミリモル）
のＦｍｏｃ−Ｃｙｓ（Ｔｒｔ）、２５０ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中
の１０４．４ｇ（６７２ミリモル）のＨＯＢｔ・Ｈ2Ｏおよび７５０ｍｌのＮ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド中の２１５．８ｇのＴＢＴＵを調製する。調製した溶
液を反応容器中で脱遮断されたリンカーポリマー（段階３）に添加し、次いで２
２８．７ｍｌのＤＩＥＡの添加を実施する。２時間の反応時間後に、樹脂試料を
取り出し、洗浄し、かつ遊離アミノ基に関して調査する。カイゼル試験は不完全
な変換を示し、これに以下の溶液：２５０ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
中の１９６．８ｇ（３３６ミリモル）、１２５ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド中の５２．２ｇ（３３６ミリモル）のＨＯＢｔ・Ｈ2Ｏおよび３７５ｍｌの
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中の１０７．９ｇのＴＢＴＵの使用下の後カップ
リングを実施する。これらの溶液を反応容器中に添加し、次いで１１４．３ｍｌ
ＤＩＥＡの添加を実施する。１時間の反応時間後に樹脂試料を取り出し、洗浄し
、かつ遊離アミノ基に関して調査する。カイゼル試験は完全な変換を示し、これ
に４回のＤＭＦ−洗浄工程（前記参照）を実施する。

【００４４】 段階５、Ｆｍｏｃ−保護基の脱離 Ｆｍｏｃ−保護基を段階３に記載されるように脱離させる。

【００４５】 段階６、Ｆｍｏｃ−Ｌｙｓ（Ｂｏｃ）のカップリング Ｆｍｏｃ−脱離（段階５）の最後のＤＭＦ洗浄工程の間に、以下の溶液：５０
０ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中の３１４．９ｇ（６７２ミリモル）の
Ｆｍｏｃ−Ｌｙｓ（Ｂｏｃ）、２５０ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中の
１０４．４ｇ（６７２ミリモル）のＨＯＢｔ・Ｈ2Ｏおよび７５０ｍｌのＮ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド中の２１５．８ｇのＴＢＴＵを調製する。調製した溶液
を反応容器中で脱遮断されたリンカーポリマー（段階５）に添加し、次いで２２
８．７ｍｌのＤＩＥＡの添加を実施する。２時間の反応時間の後に樹脂試料を取
り出し、洗浄し、かつ遊離アミノ基に関して調査する。カイゼル試験は不完全な
変換を示し、これに以下の溶液：２５０ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中
の１５７．４ｇ（３３６ミリモル）のＦｍｏｃ−Ｌｙｓ（Ｂｏｃ）、１２５ｍｌ
のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中の５２．２ｇ（３３６ミリモル）のＨＯＢｔ
・Ｈ2Ｏおよび３７５ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中の１０７．９ｇの
ＴＢＴＵの使用下の後カップリングを実施する。これらの溶液を反応容器中に添
加し、次いで１１４．３ｍｌのＤＩＥＡの添加を実施する。１時間の反応時間の
後に樹脂試料を取り出し、洗浄し、かつ遊離アミノ基に関して調査する。カイゼ
ル試験は完全な変換を示し、これに４回のＤＭＦ洗浄工程（前記参照）を実施す
る。

【００４６】 段階７、Ｆｍｏｃ−保護基の脱離 Ｆｍｏｃ−保護基を段階３に記載されるように脱離させる。

【００４７】 段階８、Ｆｍｏｃ−Ｄ−Ｔｒｐのカップリング Ｆｍｏｃ−脱離（段階７）の最後のＤＭＦ洗浄工程の間に、以下の溶液：５０
０ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中の２８６．８ｇ（６７２ミリモル）の
Ｆｍｏｃ−Ｄ−Ｔｒｐ、２５０ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中の１０４
．４ｇ（６７２ミリモル）のＨＯＢｔ・Ｈ2Ｏおよび７５０ｍｌのＮ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド中の２１５．８ｇのＴＢＴＵを調製する。調製した溶液を反応
容器中で脱遮断されたリンカーポリマー（段階７）に添加し、次いで２２８．７
ｍｌのＤＩＥＡの添加を実施する。２時間の反応時間の後に樹脂試料を取り出し
、洗浄し、かつ遊離アミノ基に関して調査する。カイゼル試験は不完全な変換を
示し、これに以下の溶液：２５０ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中の１４
３．３ｇ（３３６ミリモル）のＦｍｏｃ−Ｄ−Ｔｒｐ、１２５ｍｌのＮ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド中の５２．２ｇ（３３６ミリモル）のＨＯＢｔ・Ｈ2Ｏおよ
び３７５ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中の１０７．９ｇのＴＢＴＵの使
用下の後カップリングを実施する。これらの溶液を反応容器中に添加し、次いで
１１４．３ｍｌのＤＩＥＡの添加を実施する。１時間の反応時間の後に樹脂試料
を取り出し、洗浄し、かつ遊離アミノ基に関して調査する。カイゼル試験は完全
な変換を示し、これに４回のＤＭＦ洗浄工程（前記参照）を実施する。

【００４８】 段階９、Ｆｍｏｃ−保護基の脱離 Ｆｍｏｃ−保護基を段階３に記載されるように脱離させる。

【００４９】 段階１０、Ｆｍｏｃ−Ｔｙｒ（ｔＢｕ）のカップリング Ｆｍｏｃ−脱離（段階９）の最後のＤＭＦ洗浄工程の間に、以下の溶液：５０
０ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中の３０８．８ｇ（６７２ミリモル）の
Ｆｍｏｃ−Ｔｙｒ（ｔＢｕ）、２５０ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中の
１０４．４ｇ（６７２ミリモル）のＨＯＢｔ・Ｈ2Ｏおよび７５０ｍｌのＮ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド中の２１５．８ｇのＴＢＴＵを調製する。調製した溶液
を反応容器中で脱遮断されたリンカーポリマー（段階９）に添加し、次いで２２
８．７ｍｌのＤＩＥＡの添加を実施する。２時間の反応時間の後に樹脂試料を取
り出し、洗浄し、かつ遊離アミノ基に関して調査する。カイゼル試験は不完全な
変換を示し、これに以下の溶液：２５０ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中
の１５４．４ｇ（３３６ミリモル）のＦｍｏｃ−Ｔｙｒ（ｔＢｕ）、１２５ｍｌ
のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中の５２．２ｇ（３３６ミリモル）のＨＯＢｔ
・Ｈ2Ｏおよび３７５ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中の１０７．９ｇの
ＴＢＴＵの使用下の後カップリングを実施する。これらの溶液を反応容器中に添
加し、次いで１１４．３ｍｌＤＩＥＡの添加を実施する。１時間の反応時間の後
に樹脂試料を取り出し、洗浄し、かつ遊離アミノ基に関して調査する。カイゼル
試験は完全な変換を示し、これに４回のＤＭＦ洗浄工程（前記参照）を実施する
。

【００５０】 段階１１、Ｆｍｏｃ−保護基の脱離 Ｆｍｏｃ−保護基を段階３に記載されるように脱離させる。

【００５１】 段階１２、Ｆｍｏｃ−Ｃｙｓ（Ｔｒｔ）のカップリング Ｆｍｏｃ−脱離（段階１１）の最後のＤＭＦ洗浄工程の間に、以下の溶液：５
００ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中の３９３．６ｇ（６７２ミリモル）
のＦｍｏｃ−Ｃｙｓ（Ｔｒｔ）、２５０ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中
の１０４．４ｇ（６７２ミリモル）のＨＯＢｔ・Ｈ2Ｏおよび７５０ｍｌのＮ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド中の２１５．８ｇのＴＢＴＵを調製する。調製した溶
液を反応容器中で脱遮断されたリンカーポリマー（段階１１）に添加し、次いで
２２８．７ｍｌのＤＩＥＡの添加を実施する。２時間の反応時間の後に樹脂試料
を取り出し、洗浄し、かつ遊離アミノ基に関して調査する。カイゼル試験は不完
全な変換を示し、これに以下の溶液：２５０ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド中の１９６．８ｇ（３３６ミリモル）のＦｍｏｃ−Ｃｙｓ（Ｔｒｔ）、１２５
ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中の５２．２ｇ（３３６ミリモル）のＨＯ
Ｂｔ・Ｈ2Ｏおよび３７５ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中の１０７．９
ｇのＴＢＴＵの使用下の後カップリングを実施する。これらの溶液を反応容器中
に添加し、次いで１１４．３ｍｌＤＩＥＡの添加を実施する。１時間の反応時間
の後に樹脂試料を取り出し、洗浄し、かつ遊離アミノ基に関して調査する。カイ
ゼル試験は完全な変換を示し、これに４回のＤＭＦ洗浄工程（前記参照）を実施
する。

【００５２】 段階１３、Ｆｍｏｃ−保護基の脱離 Ｆｍｏｃ−保護基を段階３に記載されるように脱離させる。

【００５３】 段階１４、Ｂｏｃ−Ｄ−Ｐｈｅのカップリング Ｆｍｏｃ−脱離（段階１）の最後のＤＭＦ洗浄工程の間に、以下の溶液：５０
０ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中の１７８．３ｇ（６７２ミリモル）の
Ｂｏｃ−Ｄ−Ｐｈｅ、２５０ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中の１０４．
４ｇ（６７２ミリモル）のＨＯＢｔ・Ｈ2Ｏおよび７５０ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド中の２１５．８ｇのＴＢＴＵを調製する。調製した溶液を反応容
器中で脱遮断されたリンカーポリマー（段階１１）に添加し、次いで２２８．７
ｍｌのＤＩＥＡの添加を実施する。２時間の反応時間の後に樹脂試料を取り出し
、洗浄し、かつ遊離アミノ基に関して調査する。カイゼル試験は不完全な変換を
示し、これに以下の溶液：２５０ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中の８９
．１ｇ（３３６ミリモル）のＢｏｃ−Ｄ−Ｐｈｅ、１２５ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド中の５２．２ｇ（３３６ミリモル）のＨＯＢｔ・Ｈ2Ｏおよび４
００ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中の１０７．９ｇのＴＢＴＵの使用下
の後カップリングを実施する。これらの溶液を反応容器中に添加し、次いで１１
４．３ｍｌＤＩＥＡの添加を実施する。１時間の反応時間の後に樹脂試料を取り
出し、洗浄し、かつ遊離アミノ基に関して調査する。カイゼル試験は完全な変換
を示し、これに４回のＤＭＦ洗浄工程（前記参照）を実施する。

【００５４】 段階１５、Ｂｏｃ2Ｏによる置換 段階１４から得られる生成物を４ｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドと混合し
、かつ２０分間撹拌する。次いで４００ｇのＢｏｃ2Ｏを添加し、５分後に５分
間の間隔で３回に分けて２００ｍｌずつＤＩＥＡを添加する。１０００分後に吸
引濾過し、これに３ｌずつのＤＭＦ洗浄工程（前記参照）を５回実施し、類似の
ＭｅＯＨ洗浄工程をそれぞれ２．５ｌのＭｅＯＨを使用して３回実施する。高真
空中での１６時間の乾燥後に８３３ｇのポリマーに結合しているペプチドが得ら
れる。

【００５５】 段階１６、ジスルフィド架橋の結合 段階１５からのポリマー結合している８３３ｇのペプチド（０．３７ミリモル
のペプチド／ペプチド−担体結合体のｇ）に６ｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド中の４１６．５ｇのヨウ素の溶液を添加する。６０分後に吸引濾過し、かつ８
ｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドと混合する。６０分後に吸引濾過し、８ｌず
つのＤＭＦでの洗浄工程（前記参照）を４回実施する。以下の手順を３回実施す
る：８ｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドおよび２ｌの１０％のＮａ2Ｓ2Ｏ3溶
液を添加する。５分後に吸引濾過し、８ｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドおよ
び２ｌの水からなる混合物での洗浄工程を３回実施し、かつ８ｌずつのＤＭＦで
の洗浄工程を２回実施する。引き続き３回ずつ水、メタノール、水およびメタノ
ールで洗浄し、一晩中、高真空中で乾燥させる。秤量６７２．４ｇ（０．４５ミ
リモルのペプチド／ペプチド−担体結合体のｇ） 段階１７、ポリマーからの分離 ６７２．４ｇの、ポリマーに結合している段階１６からのペプチドを６ｌのト
リフルオロ酢酸（分離試薬）中のそれぞれ１２０ｍｌのｍ−クレゾールおよび水
の溶液を添加し、かつ室温で３０分間振盪する。次いでこれを吸引濾過し、かつ
樹脂を再び分離試薬と混合する。最初の後分離物を３０分後に吸引濾過し、１時
間もしくは２時間の後分離を実施する。それぞれの濾液を回転蒸発装置中で３０
℃の水浴温度において水流ポンプ（Wasserstrahlvakuum）中で蒸発させる。残滓
を３ｌのエーテルと一緒に撹拌する。Ｐ３−フリットを通して吸引濾過し、かつ
各１．５ｌのエーテルで３回洗浄する。高真空中での１６時間の乾燥後に、全体
で２３１．８５ｇのペプチドが得られる。

【００５６】 収率：全段階を通して理論量の１３．４％、分離に対して１４．８％ 例２： 段階１、Ｆｍｏｃ−保護基のリンカーからの脱離 ３．６４ｇのＦｍｏｃ−ＸＡＮＴ樹脂（負荷量０．５５ミリモル／ｇ）を２５
ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドの使用下にボーデンフリット（Bodenfrit
）を備えた反応容器中に移し、振盪させ、５分後に吸引濾過する。全ての洗浄工
程および反応工程の間に振盪を維持する。これに引き続いてＤＭＦ−洗浄工程を
実施し、更に２５ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを反応容器中に充填し、
５分後にＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを吸引濾過する。２５ｍｌのＮ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド中の５０％ピペリジン（ｖ／ｖ）を添加する。５分後にピペ
リジン溶液を吸引濾過し、かつ再び２５ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中
の５０％ピペリジン（ｖ／ｖ）を添加する。２５分後にピペリジン溶液を吸引濾
過し、再び２５ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中の５０％ピペリジン（ｖ
／ｖ）を添加する。５分後にピペリジン溶液を吸引濾過し、引き続き５回のＤＭ
Ｆ−洗浄工程（前記参照）を実施する。

【００５７】 段階２、Ｆｍｏｃ−Ｔｈｒ（ｔＢｕ）のカップリング Ｆｍｏｃ脱離（段階１）の最後のＤＭＦ−洗浄工程の間に、２．３９ｇ（６ミ
リモル）のＦｍｏｃ−Ｔｈｒ（ｔＢｕ）、１．１２ｇ（７．２ミリモル）のＨＯ
Ｂｔ・Ｈ2Ｏおよび２．１２ｇ（６．６ミリモル）のＴＢＴＵを１５ｍｌのＮ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド中に溶解させる。この溶液を反応容器中で脱遮断され
たリンカーポリマー（段階１）に添加し、次いで２．０４ｍｌ（１２ミリモル）
のＤＩＥＡの添加を実施する。２時間の反応時間後に樹脂試料を取り出し、洗浄
し、かつ遊離アミノ基に関して調査する。カイゼル試験は完全な変換を示し、こ
れに５回のＤＭＦ洗浄工程（前記参照）を実施する。

【００５８】 段階３、Ｆｍｏｃ−保護基の脱離 Ｆｍｏｃ−保護基を段階１に記載されるように脱離させる。その際、ＤＭＦで
湿らせた樹脂の場合には膨潤プロセスの導入を省く。

【００５９】 段階４、Ｆｍｏｃ−Ｃｙｓ（Ｔｒｔ）のカップリング Ｆｍｏｃ−脱離（段階３）の最後のＤＭＦ−洗浄工程の間に、３．５１ｇ（６
ミリモル）のＦｍｏｃ−Ｃｙｓ（Ｔｒｔ）、１．１２ｇ（７．２ミリモル）のＨ
ＯＢｔ・Ｈ2Ｏおよび２．１２ｇ（６．６ミリモル）のＴＢＴＵを１５ｍｌのＮ
，Ｎ−ジメチルホルムアミド中に溶解させる。この溶液を反応容器中で脱遮断さ
れたリンカーポリマー（段階３）に添加し、次いで２．０４ｍｌ（１２ミリモル
）のＤＩＥＡの添加を実施する。２時間の反応時間後に、樹脂試料を取り出し、
洗浄し、かつ遊離アミノ酸に関して調査する。カイゼル試験は完全な変換を示し
、これに５回のＤＭＦ−洗浄工程（前記参照）を実施する。

【００６０】 段階５、Ｆｍｏｃ−保護基の脱離 Ｆｍｏｃ−保護基を段階３に記載されるように脱離させる。

【００６１】 段階６、Ｆｍｏｃ−Ｌｙｓ（Ｂｏｃ）のカップリング Ｆｍｏｃ−脱離（段階５）の最後のＤＭＦ洗浄工程の間に、２．８１ｇ（６ミ
リモル）のＦｍｏｃ−Ｌｙｓ（Ｂｏｃ）、１．１２ｇ（７．２ミリモル）のＨＯ
Ｂｔ・Ｈ2Ｏおよび２．１２ｇ（６．６ミリモル）のＴＢＴＵを１５ｍｌのＮ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド中に溶解させる。この溶液を反応容器中で脱遮断され
たリンカーポリマー（段階５）に添加し、次いで２．０４ｍｌ（１２ミリモル）
のＤＩＥＡの添加を実施する。２時間の反応時間の後に樹脂試料を取り出し、洗
浄し、かつ遊離アミノ基に関して調査する。カイゼル試験は完全な変換を示し、
これに５回のＤＭＦ洗浄工程（前記参照）を実施する。

【００６２】 段階７、Ｆｍｏｃ−保護基の脱離 Ｆｍｏｃ−保護基を段階３に記載されるように脱離させる。

【００６３】 段階８、Ｆｍｏｃ−Ｄ−Ｔｒｐのカップリング Ｆｍｏｃ−脱離（段階７）の最後のＤＭＦ洗浄工程の間に、２．５６ｇ（６ミ
リモル）のＦｍｏｃ−Ｄ−Ｔｒｐ、１．１２ｇ（７．２ミリモル）のＨＯＢｔ・
Ｈ2Ｏおよび２．１２ｇ（６．６ミリモル）のＴＢＴＵを１５ｍｌのＮ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミドに溶解させる。この溶液を反応容器中で脱遮断されたリンカ
ーポリマー（段階７）に添加し、次いで２．０４ｍｌ（１２ミリモル）のＤＩＥ
Ａの添加を実施する。２時間の反応時間の後に樹脂試料を取り出し、洗浄し、か
つ遊離アミノ基に関して調査する。カイゼル試験は完全な変換を示し、これに５
回のＤＭＦ洗浄工程（前記参照）を実施する。

【００６４】 段階９、Ｆｍｏｃ−保護基の脱離 Ｆｍｏｃ−保護基を段階３に記載されるように脱離させる。

【００６５】 段階１０、Ｆｍｏｃ−Ｔｙｒ（ｔＢｕ）のカップリング Ｆｍｏｃ−脱離（段階９）の最後のＤＭＦ洗浄工程の間に、２．７６ｇ（６ミ
リモル）のＦｍｏｃ−Ｔｙｒ（ｔＢｕ）、１．１２ｇ（７．２ミリモル）のＨＯ
Ｂｔ・Ｈ2Ｏおよび２．１２ｇ（６．６ミリモル）のＴＢＴＵを１５ｍｌのＮ，
Ｎ−ジメチルホルムアミドに溶解させる。調製した溶液を反応容器中で脱遮断さ
れたリンカーポリマー（段階９）に添加し、次いで２．０４ｍｌ（１２ミリモル
）のＤＩＥＡの添加を実施する。２時間の反応時間の後に樹脂試料を取り出し、
洗浄し、かつ遊離アミノ基に関して調査する。カイゼル試験は完全な変換を示し
、これに５回のＤＭＦ洗浄工程（前記参照）を実施する。

【００６６】 段階１１、Ｆｍｏｃ−保護基の脱離 Ｆｍｏｃ−保護基を段階３に記載されるように脱離させる。

【００６７】 段階１２、Ｆｍｏｃ−Ｃｙｓ（Ｔｒｔ）のカップリング Ｆｍｏｃ−脱離（段階１１）の最後のＤＭＦ洗浄工程の間に、３．５１ｇ（６
ミリモル）のＦｍｏｃ−Ｃｙｓ（Ｔｒｔ）、１．１２ｇ（７．２ミリモル）のＨ
ＯＢｔ・Ｈ2Ｏおよび２．１２ｇ（６．６ミリモル）のＴＢＴＵを１５ｍｌのＮ
，Ｎ−ジメチルホルムアミド中に溶解させる。この溶液を反応容器中で脱遮断さ
れたリンカーポリマー（段階１１）に添加し、次いで２．０４ｍｌ（１２ミリモ
ル）のＤＩＥＡの添加を実施する。２時間の反応時間の後に樹脂試料を取り出し
、洗浄し、かつ遊離アミノ基に関して調査する。カイゼル試験は完全な変換を示
し、これに５回のＤＭＦ洗浄工程（前記参照）を実施する。

【００６８】 段階１３、Ｆｍｏｃ−保護基の脱離 Ｆｍｏｃ保護基を段階３に記載のように脱離させる。

【００６９】 段階１４、Ｂｏｃ−Ｄ−Ｐｈｅのカップリング Ｆｍｏｃ−脱離（段階１３）の最後のＤＭＦ洗浄工程の間に、１．５９ｇ（６
ミリモル）のＢｏｃ−Ｄ−Ｐｈｅ、１．１２ｇ（７．２ミリモル）のＨＯＢｔ・
Ｈ2Ｏおよび２．１２ｇ（６．６ミリモル）のＴＢＴＵを１５ｍｌのＮ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド中に溶解させる。この溶液を反応容器中で脱遮断されたリン
カーポリマー（段階１３）に添加し、次いで２．０４ｍｌ（１２ミリモル）のＤ
ＩＥＡの添加を実施する。２時間の反応時間の後に樹脂試料を取り出し、洗浄し
、かつ遊離アミノ基に関して調査する。カイゼル試験は完全な変換を示し、これ
に５回のＤＭＦ洗浄工程（前記参照）を実施する。

【００７０】 段階１５、ジスルフィド架橋の結合 段階１４からのポリマー結合している５ｇのペプチド（０．３０ミリモルのペ
プチド／ペプチド−担体結合体のｇ）に６ｌの５０ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド中の２．５ｇのヨウ素の溶液を添加する。６０分後に吸引濾過し、かつ
５０ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドと混合する。６０分後に吸引濾過し、
５０ｍｌずつのＤＭＦでの洗浄工程（前記参照）を４回実施する。以下の手順を
３回実施する：１６ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドおよび４ｍｌの１０％
のＮａ2Ｓ2Ｏ3溶液を添加する。５分後に吸引濾過し、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミドでの洗浄工程を３回実施する。引き続き３回ずつ水、メタノール、水およ
びメタノールで洗浄し、一晩中、高真空中で乾燥させる。秤量４．１ｇ（０．３
４ミリモルのペプチド／ペプチド−担体結合体のｇ） 段階１６、ポリマーからの分離および引き続いての保護基の脱離 １ｇのポリマーに結合しているペプチドをそれぞれ１０分間ずつ、それぞれジ
クロロメタン中の１％トリフルオロ酢酸５ｍｌと１０回混合する。引き続きジク
ロロメタン中の５％トリフルオロ酢酸で３回分離する。分離溶液をプールし、蒸
発させ、かつ３０分間２．５ｍｌのトリフルオロ酢酸中で撹拌する。次いで２０
ｍｌのエーテル中で沈殿させ、Ｐ３−フリットを通して吸引濾過し、かつそれぞ
れ１０ｍｌのエーテルで３回洗浄する。１６時間の高真空中での乾燥後に３３２
ｍｇのペプチドが得られる。

【００７１】 収率： 全ての段階を通して理論値の２３．９％ 分離に対して３３．０％ 例３：タリウム−トリフルオロアセテートによるジスルフィド−酸化 まず固相合成を例１に記載のように実施するが、ＢＨＡ−ＰＳ（負荷１ミリモ
ル／ｇ）上でこれにＭＥＯＢＰ−リンカーを負荷させる。Ｆｍｏｃ−Ｃｙｓ（Ｔ
ｒｔ）の代わりにＦｍｏｃＣｙｓ（Ａｍｃ）を使用する。

【００７２】 １３６ｍｇのＴｌ（ＴＦＡ）3を１ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中に
溶解させ（酸化溶液）、０．５ｇのポリマーに結合しているペプチド（０．３８
ミリモルのペプチド／ペプチド−担体結合体のｇ）を３ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミドと一緒に５分間振盪し、次いで０．７２５ｍｌの酸化溶液を添加す
る。２５℃での３０分間の振盪後に吸引濾過し、かつ５ｍｌずつの以下の溶液：
３×Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、３×ＭｅＯＨ、１×Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド中の１０％のＨＡｃ、１×Ｈ2Ｏ中の５％ＥＤＴＡ、１×Ｎ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド中の１０％ＨＡｃ、１×Ｈ2Ｏ中の５％ＥＤＴＡ、１×１×Ｎ
，Ｎ−ジメチルホルムアミド中の１０％ＨＡｃ、１×Ｈ2Ｏ中の５％ＥＤＴＡ、
１×Ｈ2Ｏ、３×ＭｅＯＨ中の１０％ＨＡｃ、３×Ｈ2Ｏ中の１０％ＨＡｃ、３×
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、３×ＭｅＯＨ、３×Ｈ2Ｏ、３×ＭｅＯＨで洗
浄する。高真空中で一晩乾燥させる。秤量４２０ｍｇ（０．４０ミリモルのペプ
チド／ペプチド−担体結合体のｇ）。

【００７３】 ０．２５ｍｌのトリエチルシランを１０ｍｌのトリフルオロ酢酸と一緒に混合
する（分離試薬）。０．４ｇのポリマーに結合しているペプチドを３ｍｌの分離
試薬と一緒に３０分間振盪し、次いで吸引濾過し、かつ２．５ｍｌの分離試薬を
添加する。３０分間の振盪後に吸引濾過し、かつ樹脂をそれぞれ２．５ｍｌの分
離試薬でなお１および２時間処理する。濾液を蒸発させ、それぞれ３ｍｌのエー
テルで擦り、その際に生じる沈殿をＰ３−フリットを通して吸引濾過し、それぞ
れ２ｍｌのエーテルで３回洗浄する。高真空中での１６時間の乾燥の後に全体で
１１９ｍｇのペプチドが得られる。

【００７４】 収率：全段階を通して理論量の８．６％ 分離に対して８．６％ 例４：溶液中でのＴＴ２３２の合成 １． Ｄｄｚ−Ｃｙｓ（Ａｃｍ）−Ｔｈｒ（ｔＢｕ）−ＮＨ2 １Ｌの丸底フラスコ中で、２２．８ｇ（５５ミリモル）のＤｄｚ−Ｃｙｓ（Ａ
ｃｍ）および９．３２ｇ（６０ミリモル）ＨＯＢＴを３００ｍｌの酢酸エチル中
に溶解させる。撹拌した溶液に１８．４６ｇ（５７．５ミリモル）のＴＢＴＵお
よび２７．４５ｍｌ（０．２５モル）のＮＭＭを添加する。更に５分間の撹拌の
後に８．７１ｇ（５０ミリモル）のＴｈｒ（ｔＢｕ）−ＮＨ2の添加を実施する
。これを一晩撹拌する。反応溶液を１５０ｍｌのベンジンと混合し、かつ１×１
００ｍｌのＶＥ−水、３×１００ｍｌの飽和ＮａＨＣＯ3溶液、１×１００ｍｌ
のＶＥ−水、３×１００ｍｌの０．１ＮのＨＣｌ、１×１００ｍｌのブラインお
よび１×１００ｍｌの飽和ＮａＨＣＯ3溶液で洗浄し、１０ｇの硫酸マグネシウ
ム上で乾燥させ、回転蒸発装置上で約２０ミリバールおよび４０℃の水浴温度で
蒸発させる。２５．２ｇの非晶質の生成物が得られる（収率：理論量の８８％）
。

【００７５】 ２． ＴＦＡ*Ｃｙｓ（Ａｃｍ）−Ｔｈｒ（ｔＢｕ）−ＮＨ2 １８．３ｇ（３２ミリモル）のＤｄｚ−Ｃｙｓ（Ａｃｍ）−Ｔｈｒ（ｔＢｕ）
−ＮＨ2をＤＣＭ中の２００ｍｌの５％トリフルオロ酢酸中に溶解させ室温で１
時間撹拌する。２００ｍｌのトルエンの添加後に、回転蒸発装置上で約２０ミリ
バールおよび４０℃の水浴温度で蒸発させ、かつ引き続き１００ｍｌの酢酸エチ
ルで同時蒸留（codestillieren）する。残滓を高真空中での乾燥後に３０ｍｌの
ＶＥ−水、１５ｍｌの酢酸エチルおよび３０ｍｌのジエチルエーテルからの混合
物中に取り出す。これらの相を分液漏斗中で分離し、有機相をそれぞれ１０ｍｌ
のＶＥ−水でなお２回抽出する。合した水相を３×１０ｍｌの酢酸エチル／ジエ
チルエーテル１：２（ｖ／ｖ）で洗浄し、かつ凍結乾燥させる。１１．８ｇの非
晶質の生成物が得られる（収率：理論量の８０％）。

【００７６】 ３． Ｄｄｚ−Ｌｙｓ（Ｚ）−Ｃｙｓ（Ａｃｍ）−Ｔｈｒ（ｔＢｕ）−ＮＨ2 丸底フラスコ中で１２ｇ（２６ミリモル）のＴＦＡ*Ｃｙｓ（Ａｃｍ）−Ｔｈ
ｒ（ｔＢｕ）−ＮＨ2、１４．３４ｇ（２８．５ミリモル）のＤｄｚ−Ｌｙｓ（
Ｚ）および４．８４ｇ（３１．１ミリモル）のＨＯＢｔを１００ｍｌの酢酸エチ
ル中に溶解させる。撹拌した溶液に９．５８ｇ（２９．８ミリモル）のＴＢＴＵ
および１４．３ｍｌ（０．１３モル）のＮＭＭを添加する。これを一晩撹拌する
。澄明な反応溶液を約５０ｍｌのベンジンと混合し、かつ１×５０ｍｌのＶＥ−
水、３×５０ｍｌの飽和ＮａＨＣＯ3溶液、１×５０ｍｌのＶＥ−水、３×５０
ｍｌの０．１ＮのＨＣｌ、１×５０ｍｌのＶＥ−水および１２×２０ｍｌの３％
のＮａＣＯ3溶液で洗浄し、５ｇの硫酸マグネシウム上で乾燥させ、かつ回転蒸
発器上で約２０ミリバールおよび４０℃の水浴温度で蒸発させる。２１．９ｇの
ガラス状に凝固した生成物が得られる（収率：理論量の１００％）。

【００７７】 ４． ＴＦＡ*Ｌｙｓ（Ｚ）−Ｃｙｓ（Ａｃｍ）−Ｔｈｒ（ｔＢｕ）−ＮＨ2 ６ｇ（７．２ミリモル）のＤｄｚ−Ｌｙｓ（Ｚ）−Ｃｙｓ（Ａｃｍ）−Ｔｈｒ
（ｔＢｕ）−ＮＨ2をＤＣＭ中の４０ｍｌの５％トリフルオロ酢酸中に溶解させ
、かつ室温で１時間撹拌する。４０ｍｌのトルエンの添加後に、回転蒸発器上で
約２０ミリバールおよび４０℃の水浴温度で蒸発させ、かつ引き続き４０ｍｌの
ＤＭＥで同時蒸留させる。残滓を高真空中で乾燥させる。３ｇのフォーム状物が
得られる（収率：定量（quant））。

【００７８】 ５． Ｄｄｚ−Ｄ−Ｔｒｐ−Ｌｙｓ（Ｚ）−Ｃｙｓ（Ａｃｍ）−Ｔｈｒ（ｔＢｕ
）−ＮＨ2 ＤＣＨＡ−塩からのＤｄｚ−Ｄ−Ｔｒｐの遊離： ６．５６ｇ（１１ミリモル）のＤｄｚ−Ｄ−Ｔｒｐ*ＤＣＨＡを２０ｍｌの酢
酸エチル中で懸濁し、かつ分液漏斗中で３×２０ｍｌの０．１ＮのＨＣｌおよび
２×１０ｍｌのＶＥ−水で洗浄する。有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥させ、
かつ回転蒸発器上で約２０ミリバールおよび４０℃の水浴温度で蒸発させる。

【００７９】 丸底フラスコ中で５．２２ｇ（７．２ミリモル）のＴＦＡ*Ｌｙｓ（Ｚ）−Ｃ
ｙｓ（Ａｃｍ）−Ｔｈｒ（ｔＢｕ）−ＮＨ2、前記で得られたＤｄｚ−Ｄ−Ｔｒ
ｐおよび１．５７ｇ（１０ミリモル）ＨＯＢＴを４０ｍｌのＤＭＥ中に溶解させ
る。撹拌した溶液に３．０ｇ（９．４ミリモル）のＴＢＴＵおよび３．４ｍｌ（
０．０３１モル）のＮＭＭを添加する。これを一晩撹拌する。澄明な反応溶液を
回転蒸発器上で約２０ミリバールおよび４０℃の水浴温度で蒸発させ、４０ｍｌ
の酢酸エチル中に取り出し、かつ約１０ｍｌのベンジンと混合する。次いで１×
２０ｍｌのＶＥ−水および１×２０ｍｌの３％のＮａ2ＣＯ3溶液で洗浄する。生
成物が沈殿し、これを吸引濾過し、ＰＥ／ＥＥ２：１で洗浄する。高真空中での
乾燥後に４．３ｇの生成物が得られる（収率：理論量の６５％）。

【００８０】 ６． ＴＦＡ*Ｄ−Ｔｒｐ−Ｌｙｓ（Ｚ）−Ｃｙｓ（Ａｃｍ）−Ｔｈｒ（ｔＢｕ
）−ＮＨ2 １１．２ｇ（１１ミリモル）Ｄｄｚ−Ｄ−Ｔｒｐ−Ｌｙｓ（Ｚ）−Ｃｙｓ（Ａ
ｃｍ）−Ｔｈｒ（ｔＢｕ）−ＮＨ2をＤＣＭ中の６４ｍｌの５％のトリフルオロ
酢酸中に溶解させ、かつ室温で１時間撹拌する。６４ｍｌのトルエンの添加後に
、回転蒸発器上で約２０ミリバールおよび４０℃の水浴温度で蒸発させ、引き続
き６０ｍｌのＤＭＥで同時蒸留させる。残滓を高真空中での乾燥の後にエーテル
で擦る。沈殿物を吸引濾過し、高真空中で乾燥させる。ベージュの固体１０ｇが
得られる（収率：１００％）。

【００８１】 ７． Ｄｄｚ−Ｔｙｒ（ｔＢｕ）−Ｄ−Ｔｒｐ−Ｌｙｓ（Ｚ）−Ｃｙｓ（Ａｃｍ
）−Ｔｈｒ（ｔＢｕ）−ＮＨ2 ＣＨＡ−塩からのＤｄｚ−Ｔｙｒ（ｔＢｕ）の遊離 ７．３８ｇ（１３．２ミリモル）のＤｄｚ−Ｄ−Ｔｒｐ*ＤＣＨＡを３０ｍｌ
の酢酸エチル中で懸濁させ、かつ分液漏斗中で３×３０ｍｌの０．１ＮのＨＣｌ
および２×２０ｍｌのＶＥ−水で洗浄する。有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥
させ、回転蒸発器上で約２０ミリバールおよび４０℃の水浴温度で蒸発させる。

【００８２】 丸底フラスコ中で１０ｇ（１１ミリモル）ＴＦＡ*Ｄ−Ｔｒｐ−Ｌｙｓ（Ｚ）
−Ｃｙｓ（Ａｃｍ）−Ｔｈｒ（ｔＢｕ）−ＮＨ2、前記で得られたＤｄｚ−Ｔｙ
ｒ（ｔＢｕ）および２．３９ｇ（１５．４ミリモル）のＨＯＢＴを８０ｍｌのＮ
，Ｎ′−ジメチルホルムアミド中に溶解させる。撹拌した溶液に４．５９ｇ（１
４．３ミリモル）のＴＢＴＵおよび６ｍｌ（０．０５５モル）のＮＭＭを添加す
る。これを一晩撹拌する。このバッチを回転蒸発器上で約４０℃の水浴温度で蒸
発させ、かつ１００ｍｌの酢酸エチル中に取り出す。次いで１×２０ｍｌのＶＥ
−水、３×３０ｍｌの飽和ＮａＨＣＯ3溶液、１×２０ｍｌのＶＥ−水、３×３
０ｍｌの０．１Ｎの冷ＨＣｌ、１×１００ｍｌのブラインおよび３×２０ｍｌの
３％のＮａ2ＣＯ3溶液で洗浄し、約５ｇの硫酸マグネシウム上で乾燥させ、回転
蒸発器上で約２０ミリバールおよび４０℃の水浴温度で蒸発させる。１１．８ｇ
の非晶質の生成物が得られる（収率：理論量の８７％）。

【００８３】 ８． ＴＦＡ*Ｔｙｒ（ｔＢｕ）−Ｄ−Ｔｒｐ−Ｌｙｓ（Ｚ）−Ｃｙｓ（Ａｃｍ
）−Ｔｈｒ（ｔＢｕ）−ＮＨ2 １１．８ｇ（９．５ミリモル）のＤｄｚ−Ｔｙｒ（ｔＢｕ）−Ｄ−Ｔｒｐ−Ｌ
ｙｓ（Ｚ）−Ｃｙｓ（Ａｃｍ）−Ｔｈｒ（ｔＢｕ）−ＮＨ2をＤＣＭ中の５０ｍ
ｌの５％トリフルオロ酢酸中に溶解させ、かつ室温で１時間撹拌する。５０ｍｌ
のトルエンの添加後に、回転蒸発器上で約２０ミリバールおよび４０℃の水浴温
度で蒸発させ、引き続き５０ｍｌのＤＭＥで同時蒸留させる。残滓を高真空中で
の乾燥の後にエーテルで擦る。沈殿物を吸引濾過し、かつ高真空中で乾燥させる
。１０．７ｇのベージュの固体が得られる（収率：１００％）。

【００８４】 ９． Ｄｄｚ−Ｃｙｓ（Ａｃｍ）−Ｔｙｒ（ｔＢｕ）−Ｄ−Ｔｒｐ−Ｌｙｓ（Ｚ
）−Ｃｙｓ（Ａｃｍ）−Ｔｈｒ（ｔＢｕ）−ＮＨ2 丸底フラスコ中で４．７３ｇ（１１ミリモル）のＤｄｚ−Ｃｙｓ（Ａｃｍ）、
１０．７ｇ（５０ミリモル）のＴＦＡ*Ｔｙｒ（ｔＢｕ）−Ｄ−Ｔｒｐ−Ｌｙｓ
（Ｚ）−Ｃｙｓ（Ａｃｍ）−Ｔｈｒ（ｔＢｕ）−ＮＨ2および２．０７ｇ（１３
ミリモル）のＨＯＢＴを７５ｍｌのＮ，Ｎ′−ジメチルホルムアミド中に溶解さ
せる。撹拌した溶液に３．９７ｇ（１２．４ミリモル）のＴＢＴＵおよび５．２
ｍｌ（０．０４８モル）のＮＭＭを添加する。一晩の撹拌の後に、このバッチを
回転蒸発器上で約４０℃の水浴温度で蒸発させ、酢酸エチル中に取り出し、かつ
１×３０ｍｌのＶＥ−水、３×３０ｍｌの飽和ＮａＨＣＯ3溶液、１×２０ｍｌ
のＶＥ−水、３×２０ｍｌの０．１ＮのＨＣｌ、１×２０ｍｌのＶＥ−水、３×
３０ｍｌの飽和ＮａＨＣＯ3溶液および１×２０ｍｌのＶＥ−水で洗浄し、硫酸
マグネシウム上で乾燥させ、かつ回転蒸発器上で約２０ミリバールおよび４０℃
の水浴温度で蒸発させる。９．３ｇのフォーム状物が得られる（収率：理論量の
７０％）。

【００８５】 １０． ＴＦＡ*Ｃｙｓ（Ａｃｍ）−Ｔｙｒ（ｔＢｕ）−Ｄ−Ｔｒｐ−Ｌｙｓ（
Ｚ）−Ｃｙｓ（Ａｃｍ）−Ｔｈｒ（ｔＢｕ）−ＮＨ2 ８．９ｇ（６．３ミリモル）Ｄｄｚ−Ｃｙｓ（Ａｃｍ）−Ｔｙｒ（ｔＢｕ）−
Ｄ−Ｔｒｐ−Ｌｙｓ（Ｚ）−Ｃｙｓ（Ａｃｍ）−Ｔｈｒ（ｔＢｕ）−ＮＨ2をＤ
ＣＭ中の３５ｍｌの５％トリフルオロ酢酸中に溶解させ、かつ室温で１時間撹拌
する。３５ｍｌのトルエンの添加後に、回転蒸発器上で約２０ミリバールおよび
４０℃の水浴温度で蒸発させ、引き続き６０ｍｌのＤＭＥで同時蒸留させる。残
滓を高真空中での乾燥の後に３０ｍｌのエーテルで擦り、吸引濾過し、洗浄し、
かつ高真空中で乾燥させる。６．９ｇの固体が得られる（収率：８４％）。

【００８６】 １１． Ｂｏｃ−Ｄ−Ｐｈｅ−Ｃｙｓ（Ａｃｍ）−Ｔｙｒ（ｔＢｕ）−Ｄ−Ｔｒ
ｐ−Ｌｙｓ（Ｚ）−Ｃｙｓ（Ａｃｍ）−Ｔｈｒ（ｔＢｕ）−ＮＨ2 丸底フラスコ中で６４０ｍｇ（２．４ミリモル）のＢｏｃ−Ｄ−Ｐｈｅ、２．
６１ｇ（２ミリモル）のＴＦＡ*Ｃｙｓ（Ａｃｍ）−Ｔｙｒ（ｔＢｕ）−Ｄ−Ｔ
ｒｐ−Ｌｙｓ（Ｚ）−Ｃｙｓ（Ａｃｍ）−Ｔｈｒ（ｔＢｕ）−ＮＨ2および４３
０ｍｇ（２．８ミリモル）のＨＯＢＴを１０ｍｌのＮ，Ｎ′−ジメチルホルムア
ミド中に溶解させる。撹拌した溶液に８３０ｍｇ（２．６ミリモル）のＴＢＴＵ
および５５０μｌ（１０ミリモル）のＮＭＭを添加する。一晩の撹拌の後に、こ
のバッチを回転蒸発器上で約４０℃の水浴温度で蒸発させ、酢酸エチル中に取り
出し、１×１０ｍｌのＶＥ−水、３×１５ｍｌの飽和ＮａＨＣＯ3溶液、１×１
０ｍｌのＶＥ−水、３×１０ｍｌの０．１ＮのＨＣｌ、１×１０ｍｌの飽和Ｎａ
ＨＣＯ3溶液および１×１０ｍｌのＶＥ−水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾
燥させ、回転蒸発器上で約２０ミリバールおよび４０℃の水浴温度で蒸発させる
。２．１ｇの非晶質の残滓が得られる（収率：理論量の７３％）。

【００８７】 １２． ＴＦＡ*Ｄ−Ｐｈｅ−Ｃｙｓ（Ａｃｍ）−Ｔｙｒ−Ｄ−Ｔｒｐ−Ｌｙｓ
−Ｃｙｓ（Ａｃｍ）−Ｔｈｒ−ＮＨ2 １．４４ｇ（１ミリモル）のＢｏｃ−Ｄ−Ｐｈｅ−Ｃｙｓ（Ａｃｍ）−Ｔｙｒ
（ｔＢｕ）−Ｄ−Ｔｒｐ−Ｌｙｓ（Ｚ）−Ｃｙｓ（Ａｃｍ）−Ｔｈｒ（ｔＢｕ）
−ＮＨ2を７．５ｍｌのトリフルオロ酢酸中に溶解させ、かつ室温で１６時間撹
拌する。ＤＣコントロール（DC-Kontroll）後に７５ｍｌのジエチルエーテル中
で沈殿させる。沈殿物を吸引濾過し、洗浄し、かつ高真空中で乾燥させる。１．
２６ｇの粉末が得られる（収率：８８％）。

【００８８】 １３． ＴＴ−２３２トリフルオロアセテート １ｌの丸底フラスコ中で３００ｍｌの酢酸（９６％）を初充填し、０．２１５
ｇ（０．１５ミリモル）ＴＦＡ*Ｄ−Ｐｈｅ−Ｃｙｓ（Ａｃｍ）−Ｔｙｒ−Ｄ−
Ｔｒｐ−Ｌｙｓ−Ｃｙｓ（Ａｃｍ）−Ｔｈｒ−ＮＨ2を激しく撹拌しながら緩慢
に添加する。この溶液をアルゴンで脱ガスする。２２℃で滴下漏斗を介して６ｍ
ｌのＭｅＯＨ中の９２ｍｇ（０．３６ミリモル）のヨウ素の溶液を、反応溶液が
持続的に淡橙色を呈するまで緩慢に滴加する。１時間後に反応溶液が脱色される
まで５ｍｌのＶＥ−水中の５３ｍｇ（０．３ミリモル）のアスコルビン酸の溶液
を添加する。この溶液を回転蒸発器上で４０℃の水浴温度で蒸発させ、残滓を高
真空中での乾燥後に５ｍｌのエーテルで擦り、吸引濾過し、洗浄し、かつ高真空
中で乾燥させる。２８０ｍｇの固体が得られる（ＨＰＬＣによる基準との比較に
よって５３％の含有率が示される）。

【００８９】 例５ 例４と相応して扱うが、ジスルフィド架橋の結合を保護されたペプチド上で行
う。

【００９０】 １． ｔ−ブチル保護されたＴＴ２３２ １００ｍｌの酢酸（９６％）に丸底フラスコ中で７２ｍｇ（０．０５ミリモル
）のＢｏｃ−Ｄ−Ｐｈｅ−Ｃｙｓ（Ａｃｍ）−Ｔｙｒ（ｔＢｕ）−Ｄ−Ｔｒｐ−
Ｌｙｓ（Ｚ）−Ｃｙｓ（Ａｃｍ）−Ｔｈｒ（ｔＢｕ）−ＮＨ2を激しく撹拌しな
がら緩慢に添加する。この溶液をアルゴンで脱ガスする。２２℃で滴下漏斗を介
して６ｍｌのＭｅＯＨ中の９２ｍｇ（０．３６ミリモル）のヨウ素の溶液を、反
応溶液が持続的に淡橙色を呈するまで滴加する。１時間後に、反応溶液が脱色さ
れるまで５ｍｌのＶＥ−水中の５３ｍｇ（０．３ミリモル）のアスコルビン酸の
溶液を添加する。この溶液を回転蒸発器上で４０℃の水浴温度で蒸発させ、残滓
を５ｍｌの酢酸エチルおよび２ｍｌのＶＥ−水中に取り出し、橙色の相を３×２
ｍｌの飽和ＮａＨＣＯ3溶液、１×２ｍｌのＶＥ−水、１×２ｍｌの０．１Ｎの
ＨＣｌおよび１×１０ｍｌのＶＥ−水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥させ
、かつ回転蒸発器上で約２０ミリバールおよび４０℃の水浴温度で蒸発させる。
高真空中で乾燥させた後に、４５ｍｇの残滓が得られる（収率：理論量の７１％
）。

【００９１】 ２． ＴＴ２３２トリフルオロアセテート ３９ｍｇ（０．０３ミリモル）のｔ−ブチル保護されたＴＴ２３２を２３０μ
ｌのトリフルオロ酢酸中に溶解させ、かつ室温で１６時間撹拌する。次いで回転
蒸発器上で約２０ミリバールおよび４０℃の水浴温度で蒸発させる。残滓を高真
空中での乾燥の後に１ｍｌのエーテルで擦り、吸引濾過し、洗浄し、かつ高真空
中で乾燥させる。３３ｍｇの生成物が得られる（収率：７７％）。

【手続補正書】特許協力条約第３４条補正の翻訳文提出書

【提出日】平成１２年１１月８日（２０００．１１．８）

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】請求項１

【補正方法】変更

【補正内容】

【手続補正２】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】請求項２

【補正方法】変更

【補正内容】

【手続補正３】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】請求項３

【補正方法】変更

【補正内容】

【手続補正４】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】請求項４

【補正方法】変更

【補正内容】

【手続補正５】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】請求項５

【補正方法】変更

【補正内容】

【手続補正６】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】請求項６

【補正方法】変更

【補正内容】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＵＧ，ＺＷ)，Ｅ Ａ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＲ， ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＤＭ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，Ｇ Ｂ，ＧＤ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ ，ＩＮ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ， ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，Ｍ Ｇ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ， ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，Ｖ Ｎ，ＹＵ，ＺＡ，ＺＷ (72)発明者 アクセル リッフェルト ドイツ連邦共和国 ザントハウゼン ケプ ラーシュトラーセ 23 (72)発明者 クリスティアン ビル ドイツ連邦共和国 ネッカーゲミュント バーンホフシュトラーセ 130 Ｆターム(参考） 4H045 AA10 AA20 BA01 BA16 EA28 FA33 FA58 FA61 FA81

Claims (13)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ポリマー担体上での固相合成により、保護基で誘導体化され
   たアミノ酸を使用してペプチドを段階的に構築し、その後に保護基を脱離させ、
   かつペプチドを固相から溶離させ、その際、ペプチドが依然として固相上に結合
   して存在する間に適当な溶剤の存在下に、完全または部分的に構築されたペプチ
   ドの酸化によってジスルフィド架橋を生成させるビオスタチン（ＴＴ−２３２）
   の合成方法。
2. 【請求項２】 酸化を完全なペプチドの構築の後に生じさせる、請求項１記
   載の方法。
3. 【請求項３】 酸化を保護基の脱離の前に実施する、請求項１または２記載
   の方法。
4. 【請求項４】 酸化のために、銀塩、水銀塩またはタリウム塩、ヨウ素、ペ
   ルオキシドまたは酸素、特にヨウ素を酢酸溶液またはＮ，Ｎ−ジメチルホルムア
   ミド中で使用する、請求項１から３までのいずれか１項記載の方法。
5. 【請求項５】 固相として酸不安定性アンカー基を有するポリスチレンを使
   用する、請求項１から４までのいずれか１項記載の方法。
6. 【請求項６】 酸不安定性アンカー基がキサンチル基またはＭＥＯＢＰ基で
   ある、請求項５記載の方法。
7. 【請求項７】 合成のために、アミノ基ではＦｍｏｃ基により、かつ側鎖で
   は第三級ブチル基により保護されているアミノ酸を使用する、請求項１から６ま
   でのいずれか１項記載の方法。
8. 【請求項８】 保護基を有していてよい、スルフヒドリル基を有するアミノ
   酸を使用する、請求項７記載の方法。
9. 【請求項９】 ポリマーからのペプチドの分離および保護基の脱離を同時に
   生じさせる、請求項１から８までのいずれか１項記載の方法。
10. 【請求項１０】 製造されたペプチドの精製を固相からの除去後に実施する
    、請求項１から９までのいずれか１項記載の方法。
11. 【請求項１１】 溶液中のペプチド合成により、保護基で誘導体化されたア
    ミノ酸の使用下に段階的にペプチドを構築することによってビオスタチン（ＴＴ
    −２３２）を製造するための方法において、適当な溶剤の存在下に、完全または
    部分的に構築されたペプチドの酸化によってジスルフィド架橋を生成させ、かつ
    ビオスタチンを溶剤の除去後、および場合により洗浄後に得ることを特徴とする
    方法。
12. 【請求項１２】 酸化を全ての保護基の脱離前に実施する、請求項１１記載
    の方法。
13. 【請求項１３】 １つ以上のアミノ酸のための保護基としてＤｄｚを使用す
    る、請求項１１または１２記載の方法。