JP2002522351A - ガス抑制添加剤又はガス発生添加剤の使用下でのセラミック粉末の製造法 - Google Patents
ガス抑制添加剤又はガス発生添加剤の使用下でのセラミック粉末の製造法Info
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Abstract
(57)【要約】
少なくとも１種のセラミック出発粉末又はセラミックスラリーに、前生成物の製造のために熱処理を施し、前生成物からセラミック粉末を取得するセラミック粉末の製造のための方法が記載されている。セラミック出発粉末、セラミックスラリー又は場合により添加される添加剤は、熱処理の際に、セラミック粉末中で、ガス成分が主要部分で回避されるか又はセラミック出発粉末又はセラミックスラリーから放出されたガスがセラミック粉末中の部分圧を調節するように変化する。
Description
【０００１】 公知技術水準 本発明は、独立請求項の概念によるセラミック粉末の製造法から出発している
。この種の方法は、例えばH. Thomasの論文、Ceramic Technology Internationa
l、１９９２、第６５〜６８頁から公知であるようなアーク溶融法である。しか
しながら、熱処理、殊に溶融の際には、ガス包有及び周囲からのガス（殊に周囲
空気からの窒素）が、前生成物として得られる溶融品又はセラミック体の結晶格
子の中に組み込まれることもある。こうして、例えば粉砕によってセラミック粉
末にするための前記前生成物の後加工の後には、引き続く、セラミック粉末の焼
結の際に、ガス排出によるセラミック構造体の膨張になることがある（M. Merch
、J. Am. Ceram. Soc、７９，（１９９６）、第２６４１〜４４頁及びM. Merch
他、J. Mat. Sci. Letters、１５、（１９９６）、第２１２７〜２９頁参照）。
前記の問題は、殊に、Ｙ2Ｏ3で安定化されたＺｒＯ2を基礎とする平板状のセン
サー部材の仕上げの際に生じている。このために使用したセラミック粉末は、ア
ーク溶融法と引き続く粉砕及び粒度分別の際に製造され、最終的に成形後に焼結
されることが多い。これらは、薄膜注型のためのその有用な性質及びその有用な
焼結活性のために平板状のセンサー部材に特に適している。
。この種の方法は、例えばH. Thomasの論文、Ceramic Technology Internationa
l、１９９２、第６５〜６８頁から公知であるようなアーク溶融法である。しか
しながら、熱処理、殊に溶融の際には、ガス包有及び周囲からのガス（殊に周囲
空気からの窒素）が、前生成物として得られる溶融品又はセラミック体の結晶格
子の中に組み込まれることもある。こうして、例えば粉砕によってセラミック粉
末にするための前記前生成物の後加工の後には、引き続く、セラミック粉末の焼
結の際に、ガス排出によるセラミック構造体の膨張になることがある（M. Merch
、J. Am. Ceram. Soc、７９，（１９９６）、第２６４１〜４４頁及びM. Merch
他、J. Mat. Sci. Letters、１５、（１９９６）、第２１２７〜２９頁参照）。
前記の問題は、殊に、Ｙ2Ｏ3で安定化されたＺｒＯ2を基礎とする平板状のセン
サー部材の仕上げの際に生じている。このために使用したセラミック粉末は、ア
ーク溶融法と引き続く粉砕及び粒度分別の際に製造され、最終的に成形後に焼結
されることが多い。これらは、薄膜注型のためのその有用な性質及びその有用な
焼結活性のために平板状のセンサー部材に特に適している。
【０００２】 溶融の間のセラミック出発材料中への望ましくないガス包有又はガス原子の組
み込みの回避のために、溶融プロセスを、例えば出発粉末もしくはセラミック堆
積物からの周囲空気の抑制を、本来の溶融プロセスの前又は間に達成するために
、これまでは部分的に保護ガス雰囲気下で実施していた。しかしこの場合、規則
的に、粉末凝集物中の望ましくない高い残留ガス濃度又はガス包有（いわゆる「
エアネット（Luftnester）」）を有する領域がなお堆積物中に生じている。
み込みの回避のために、溶融プロセスを、例えば出発粉末もしくはセラミック堆
積物からの周囲空気の抑制を、本来の溶融プロセスの前又は間に達成するために
、これまでは部分的に保護ガス雰囲気下で実施していた。しかしこの場合、規則
的に、粉末凝集物中の望ましくない高い残留ガス濃度又はガス包有（いわゆる「
エアネット（Luftnester）」）を有する領域がなお堆積物中に生じている。
【０００３】 同様に窒素排出の目的を有する選択的な公知のプロセスは、例えば最終的な粉
砕プロセス又は分類プロセスの前の約１６００℃で酸化雰囲気中でのイットリウ
ム安定化された二酸化ジルコニウムからなる凝固又は破壊された溶融品のか焼で
ある。この焼結密度の向上のためのセラミックの後か焼の方法は、Esper 及び F
rieseにより既に酸化アルミニウムの例について記載されている（DKG-Jahrestag
ung 1972、Tagungsband XXIX、第１〜１３頁）が、これは、β−酸化アルミニウ
ムを含有し、再度分解してＮａ2Ｏ及びＡｌ2Ｏ3になるが、この場合、生じた蒸
気圧により、セラミック構造体が膨張することがある。しかしながら、前記方法
の欠点は、もう１つのか焼工程のための大規模工業的費用及びセラミック粉末も
しくは相応する前生成物からの残留ガスの十分でないことの多い事後の抑制にあ
る。
砕プロセス又は分類プロセスの前の約１６００℃で酸化雰囲気中でのイットリウ
ム安定化された二酸化ジルコニウムからなる凝固又は破壊された溶融品のか焼で
ある。この焼結密度の向上のためのセラミックの後か焼の方法は、Esper 及び F
rieseにより既に酸化アルミニウムの例について記載されている（DKG-Jahrestag
ung 1972、Tagungsband XXIX、第１〜１３頁）が、これは、β−酸化アルミニウ
ムを含有し、再度分解してＮａ2Ｏ及びＡｌ2Ｏ3になるが、この場合、生じた蒸
気圧により、セラミック構造体が膨張することがある。しかしながら、前記方法
の欠点は、もう１つのか焼工程のための大規模工業的費用及びセラミック粉末も
しくは相応する前生成物からの残留ガスの十分でないことの多い事後の抑制にあ
る。
【０００４】 本発明の課題は、出発粉末の熱処理によって開始するセラミック粉末の製造の
ための自体公知の方法を、セラミック出発粉末又はセラミックスラリーの製造の
前又は間に、主要部分で生じてくるガス包有又はガス成分を抑制するよう改善す
ることである。その上更に、この方法は、得られたセラミック粉末中での１種又
はそれ以上の望ましいガスの適当な特定の部分圧を意図的に調節するものでなけ
ればならない。
ための自体公知の方法を、セラミック出発粉末又はセラミックスラリーの製造の
前又は間に、主要部分で生じてくるガス包有又はガス成分を抑制するよう改善す
ることである。その上更に、この方法は、得られたセラミック粉末中での１種又
はそれ以上の望ましいガスの適当な特定の部分圧を意図的に調節するものでなけ
ればならない。
【０００５】 本発明の利点 独立請求項の特徴を有する本発明による方法には、公知技術水準に比して、完
全なガス抑制もしくは部分圧調節及び工業的処理過程に関して、本質的に効率的
かつ効果的であるという利点がある。例えば蒸発又は消化又は熱分解の際に著し
く体積を増大させる固形又は液状の添加剤によって、早くも相対的に少量の添加
剤を含有するガスは、出発材料としてのセラミック出発粉末又はスラリーから十
分又は完全に抑制させることができる。更に、添加剤により、セラミック出発材
料中には含まれていなかった意図的にガスをセラミック粉末中に導入することが
できるので、本発明による方法は、得られたセラミック粉末をその性質及び特に
その焼結挙動を変性する多彩な可能性を与えてくれる。この方法により、例えば
意図的な酸素部分圧の調節又は酸素欠損部位を有するセラミックもしくはセラミ
ック粉末への供与を可能にするが、これは殊に、酸素イオン伝導性でイットリウ
ム安定化されたＺｒＯ2を基礎とするセラミックセンサー部材の分野では、個行
的に大きな意味がある。更に、相応する添加剤の添加によって、得られたセラミ
ック粉末の焼結活性を、その後処理の際に改善することもできる。
全なガス抑制もしくは部分圧調節及び工業的処理過程に関して、本質的に効率的
かつ効果的であるという利点がある。例えば蒸発又は消化又は熱分解の際に著し
く体積を増大させる固形又は液状の添加剤によって、早くも相対的に少量の添加
剤を含有するガスは、出発材料としてのセラミック出発粉末又はスラリーから十
分又は完全に抑制させることができる。更に、添加剤により、セラミック出発材
料中には含まれていなかった意図的にガスをセラミック粉末中に導入することが
できるので、本発明による方法は、得られたセラミック粉末をその性質及び特に
その焼結挙動を変性する多彩な可能性を与えてくれる。この方法により、例えば
意図的な酸素部分圧の調節又は酸素欠損部位を有するセラミックもしくはセラミ
ック粉末への供与を可能にするが、これは殊に、酸素イオン伝導性でイットリウ
ム安定化されたＺｒＯ2を基礎とするセラミックセンサー部材の分野では、個行
的に大きな意味がある。更に、相応する添加剤の添加によって、得られたセラミ
ック粉末の焼結活性を、その後処理の際に改善することもできる。
【０００６】 従属請求項中に記載した手段によって、本発明にオール方法の有利な態様が可
能である。
能である。
【０００７】 特に有利に、例えば堆積物中の粉末凝集体又はセラミックスラリー中の含有物
からのガスは、添加剤が、粉砕助剤としての本来の変化の前に、出発粉末に添加
された及び／又は結合剤系の形で、セラミックスラリー又はセラミック粉末中へ
混入される場合に、十分に抑制できるか又は部分圧を調節することができる。１
つの態様の場合、前記の処理を用いて、出発材料のペレット化又は造粒を、添加
剤の本来の変化の前に、出発粉末又はスラリーの熱処理の過程で達成させること
もできる。この種の処理工程によって、添加剤は、極めて均一に粉末凝集体又は
セラミックスラリー中に分布することができ、粉末分配を十分に緩やかに構成さ
せることができるが、これは、例えば粉末堆積物の迅速かつ十分な脱気を促進す
るものである。より多くの異なる添加剤の添加によって、 ガス、例えば空気又は窒素を、添加剤の変化の間に、出発材料の熱処理によって
極めて広い温度範囲にわたって抑制し、ひいては爆発的なガス発生を回避するこ
とも可能にする。添加剤の係る組合せ物は、例えば有利に、セラミック処理技術
において公知であるように溶液、エマルジョン又は懸濁液を用いて実現すること
ができる。
からのガスは、添加剤が、粉砕助剤としての本来の変化の前に、出発粉末に添加
された及び／又は結合剤系の形で、セラミックスラリー又はセラミック粉末中へ
混入される場合に、十分に抑制できるか又は部分圧を調節することができる。１
つの態様の場合、前記の処理を用いて、出発材料のペレット化又は造粒を、添加
剤の本来の変化の前に、出発粉末又はスラリーの熱処理の過程で達成させること
もできる。この種の処理工程によって、添加剤は、極めて均一に粉末凝集体又は
セラミックスラリー中に分布することができ、粉末分配を十分に緩やかに構成さ
せることができるが、これは、例えば粉末堆積物の迅速かつ十分な脱気を促進す
るものである。より多くの異なる添加剤の添加によって、 ガス、例えば空気又は窒素を、添加剤の変化の間に、出発材料の熱処理によって
極めて広い温度範囲にわたって抑制し、ひいては爆発的なガス発生を回避するこ
とも可能にする。添加剤の係る組合せ物は、例えば有利に、セラミック処理技術
において公知であるように溶液、エマルジョン又は懸濁液を用いて実現すること
ができる。
【０００８】 Ｙ2Ｏ3−出発粉末とＺｒＯ2−出発粉末とからなる混合物の使用の場合には、
例えば本発明による方法を用いて窒素の少ない格子構造及びその結果、セラミッ
ク骨格の不利な膨張を焼結の際に生じることなく、製造されたイットリウム安定
化されたＺｒＯ2−セラミックの高い焼結密度を達成することができる。前記方
法の工業的に特に簡単かつ有利な１つの変法は、微粒状セラミックのＺｒＯ2−
出発粉末及びＹ2Ｏ3−出発粉末に、熱処理の前又は間もしくは具体的な場合には
アーク溶融の前又は間に相応する水酸化物を分解し、次に水蒸気の有理化に相応
する酸化物に変化させるが、この場合、生じた水蒸気は粉末堆積物からの空気又
は窒素を抑制し、場合により高い温度で更に分解して水素及び酸素になる場合に
明らかになる。
例えば本発明による方法を用いて窒素の少ない格子構造及びその結果、セラミッ
ク骨格の不利な膨張を焼結の際に生じることなく、製造されたイットリウム安定
化されたＺｒＯ2−セラミックの高い焼結密度を達成することができる。前記方
法の工業的に特に簡単かつ有利な１つの変法は、微粒状セラミックのＺｒＯ2−
出発粉末及びＹ2Ｏ3−出発粉末に、熱処理の前又は間もしくは具体的な場合には
アーク溶融の前又は間に相応する水酸化物を分解し、次に水蒸気の有理化に相応
する酸化物に変化させるが、この場合、生じた水蒸気は粉末堆積物からの空気又
は窒素を抑制し、場合により高い温度で更に分解して水素及び酸素になる場合に
明らかになる。
【０００９】 図面 本発明の実施例は、図面及び以下の説明に基づいて詳細に説明される。各図面
は、アーク溶融装置の原理図を示している。
は、アーク溶融装置の原理図を示している。
【００１０】 実施例 図中に記載されたアーク溶融装置１０は、電極リード線１１及び１８を有する
２個の電極１５及び１６を有している。この電極１５及び１６は、例えばグラフ
ァイトからなり、かつ例えば坩堝壁１２及び坩堝底１３を有するグラファイト又
はねずみ鋳鉄からなる坩堝１４中に対応配置されている。電極１５と１６の間に
は、アーク１７が形成される。坩堝１４上には、セラミック出発粉末又はセラミ
ック出発スラリー又は前記成分の混合物並びに添加剤を含有する出発混合物２１
を有する容器が存在している。この出発混合物は、溶融帯域１９中に導かれる。
これは、例えば出発混合物２１が容器から放出され、その結果、電極１５、１６
の間、ひいては溶融帯域１９を貫流することによって行われている。あるいはま
た、出発混合物２１は、溶融プロセスの開始時に既に坩堝１４中に存在している
こともある。当業者には容易に公知のアーク溶融構成の他の詳細は、図中に記載
されていない。坩堝１４の底１３には、溶融帯域１９の下に前生成物２０が生じ
ているが、これは、例えば以下の粉砕によって後処理されてセラミック粉末にさ
れる。
２個の電極１５及び１６を有している。この電極１５及び１６は、例えばグラフ
ァイトからなり、かつ例えば坩堝壁１２及び坩堝底１３を有するグラファイト又
はねずみ鋳鉄からなる坩堝１４中に対応配置されている。電極１５と１６の間に
は、アーク１７が形成される。坩堝１４上には、セラミック出発粉末又はセラミ
ック出発スラリー又は前記成分の混合物並びに添加剤を含有する出発混合物２１
を有する容器が存在している。この出発混合物は、溶融帯域１９中に導かれる。
これは、例えば出発混合物２１が容器から放出され、その結果、電極１５、１６
の間、ひいては溶融帯域１９を貫流することによって行われている。あるいはま
た、出発混合物２１は、溶融プロセスの開始時に既に坩堝１４中に存在している
こともある。当業者には容易に公知のアーク溶融構成の他の詳細は、図中に記載
されていない。坩堝１４の底１３には、溶融帯域１９の下に前生成物２０が生じ
ているが、これは、例えば以下の粉砕によって後処理されてセラミック粉末にさ
れる。
【００１１】 図中にその原理的構成で記載したアーク溶融プロセスの工業的実施態様は、例
えば本来の溶融領域中でのセラミック出発粉末又はスラリー及び添加剤の供給に
関連して、多岐にわたる自体公知の工業的変法及び実施態様に左右される。
えば本来の溶融領域中でのセラミック出発粉末又はスラリー及び添加剤の供給に
関連して、多岐にわたる自体公知の工業的変法及び実施態様に左右される。
【００１２】 出発混合物２１の後充填は、例えば出発混合物２１としてのセラミック出発粉
末又はスラリー及び添加剤を上から絶えず後供給し、溶融帯域１９、ひいてはち
ょうど溶融したセラミックが、帯域溶融法の際と同様にして、坩堝１４中に存在
する材料の表面付近に存在するが、他方、その下に存在する領域が生じた前生成
物２０で既に徐々に冷却されていることによって行うことができる。
末又はスラリー及び添加剤を上から絶えず後供給し、溶融帯域１９、ひいてはち
ょうど溶融したセラミックが、帯域溶融法の際と同様にして、坩堝１４中に存在
する材料の表面付近に存在するが、他方、その下に存在する領域が生じた前生成
物２０で既に徐々に冷却されていることによって行うことができる。
【００１３】 図中に記載したアーク溶融の自体公知のプロセスは、１つの態様において、プ
ラズマ溶射の場合と同様に、例えば空気又は窒素下又は保護ガス雰囲気下でのア
ーク中に直接セラミック出発粉末又はスラリーを添加剤と一緒に噴射させること
によって行われるが、この場合、添加剤は、アーク中で変化し、かつ溶融したセ
ラミック粉末は、例えば降下区間にわたって冷却させられ、アークの熱い帯域の
外側で捕集される。こうして得られた既に粉末状の前生成物を、引き続き粉砕す
る。
ラズマ溶射の場合と同様に、例えば空気又は窒素下又は保護ガス雰囲気下でのア
ーク中に直接セラミック出発粉末又はスラリーを添加剤と一緒に噴射させること
によって行われるが、この場合、添加剤は、アーク中で変化し、かつ溶融したセ
ラミック粉末は、例えば降下区間にわたって冷却させられ、アークの熱い帯域の
外側で捕集される。こうして得られた既に粉末状の前生成物を、引き続き粉砕す
る。
【００１４】 例えばアーク溶融プロセスの際の特に有利な１つの処理過程は、添加剤によっ
て発生したガス又は蒸気が、空気よりも重く、それによって溶融坩堝の早すぎる
漏出を阻止される場合に明らかになる。
て発生したガス又は蒸気が、空気よりも重く、それによって溶融坩堝の早すぎる
漏出を阻止される場合に明らかになる。
【００１５】 もう１つの処理変法の場合、セラミック出発粉末及び／又は添加剤は、本来の
アーク溶融プロセスの前に早くも坩堝１４中に堆積物の形で存在していてもよい
。また、セラミック出発粉末のみが、先に坩堝１４中に存在し、他方、添加剤が
、外から溶融帯域２１の中へ導入されてもよい。もう１つの処理変法の場合、添
加剤を坩堝底１３の上に充填する及び／又は薄膜又は被覆として坩堝壁１２の上
に施与している。
アーク溶融プロセスの前に早くも坩堝１４中に堆積物の形で存在していてもよい
。また、セラミック出発粉末のみが、先に坩堝１４中に存在し、他方、添加剤が
、外から溶融帯域２１の中へ導入されてもよい。もう１つの処理変法の場合、添
加剤を坩堝底１３の上に充填する及び／又は薄膜又は被覆として坩堝壁１２の上
に施与している。
【００１６】 セラミック粉末の製造のための本発明による方法は、１種又はそれ以上のセラ
ミック出発粉末又はセラミックスラリーから出発している。この場合、スラリー
は、１種又はそれ以上のセラミック粉末を成分として含有していてもよい。この
出発材料に、出発材料の熱処理の際に、まず、熱処理後に得られる前生成物と、
後にこの前生成物から取得されるセラミック粉末との中で、ガス成分が主要部分
で回避されるか又は添加剤から放出されたガスが意図的にセラミック粉末中の部
分圧を調節するように変化する少なくとも１種の添加剤を更に添加する。この場
合、添加剤は、固形又は液状であってもよいか又は粉末、溶液、エマルジョン又
は懸濁液の形で存在していてもよい。
ミック出発粉末又はセラミックスラリーから出発している。この場合、スラリー
は、１種又はそれ以上のセラミック粉末を成分として含有していてもよい。この
出発材料に、出発材料の熱処理の際に、まず、熱処理後に得られる前生成物と、
後にこの前生成物から取得されるセラミック粉末との中で、ガス成分が主要部分
で回避されるか又は添加剤から放出されたガスが意図的にセラミック粉末中の部
分圧を調節するように変化する少なくとも１種の添加剤を更に添加する。この場
合、添加剤は、固形又は液状であってもよいか又は粉末、溶液、エマルジョン又
は懸濁液の形で存在していてもよい。
【００１７】 出発材料への１種又はそれ以上の添加剤の添加は、熱処理に先行する粉砕又は
セラミック種発粉末又はセラミックスラリーの混合の間に行うことができるが、
この場合、添加剤は、同時に、セラミック出発粉末又はセラミックスラリー用の
結合剤、溶剤又は可塑剤としても使用できる。工業的に極めて有利な態様の場合
、添加剤を添加した出発材料のより容易な取扱いのために、引き続き、前記混合
物又は戦記スラリーの部分的又は完全な乾燥を行うこともでできる。前記の乾燥
は、例えば噴霧乾燥又は凍結乾燥であってもよい。同時にセラミック出発粉末用
の結合剤又は結合剤系としても使用される添加剤は、本発明の特に有利な態様に
おいて、セラミック出発粉末の造粒及び／又はペレット化に用いることができ、
ひいては、他の方法でのその取扱いを著しく簡素化することができる。
セラミック種発粉末又はセラミックスラリーの混合の間に行うことができるが、
この場合、添加剤は、同時に、セラミック出発粉末又はセラミックスラリー用の
結合剤、溶剤又は可塑剤としても使用できる。工業的に極めて有利な態様の場合
、添加剤を添加した出発材料のより容易な取扱いのために、引き続き、前記混合
物又は戦記スラリーの部分的又は完全な乾燥を行うこともでできる。前記の乾燥
は、例えば噴霧乾燥又は凍結乾燥であってもよい。同時にセラミック出発粉末用
の結合剤又は結合剤系としても使用される添加剤は、本発明の特に有利な態様に
おいて、セラミック出発粉末の造粒及び／又はペレット化に用いることができ、
ひいては、他の方法でのその取扱いを著しく簡素化することができる。
【００１８】 添加剤の導入のもう１つの形態は、有利に添加剤の飽和蒸気雰囲気又はガス雰
囲気中でのセラミック出発粉末の貯蔵である。
囲気中でのセラミック出発粉末の貯蔵である。
【００１９】 最終生成物として得られるセラミック粉末の望ましくないガス成分の回避の完
全性に関連した熱処理による添加剤の変化の際の結果の改善のために、更に、変
化の前又は間に、ガス又はガス混合物を用いる洗浄を行うことができるが、これ
は、回避すべきガスと同一ではないか又はこれを僅かな濃度で含有しているにす
ぎないものである。前記の洗浄には、多くの場合に例えばアルゴン又は別の希ガ
スが適している。回避すべきガスが空気又は窒素である場合には、あるいはまた
、別の窒素の少ないか又は窒素不含のガス又はガス混合物、例えばＣＯ2が該当
する。
全性に関連した熱処理による添加剤の変化の際の結果の改善のために、更に、変
化の前又は間に、ガス又はガス混合物を用いる洗浄を行うことができるが、これ
は、回避すべきガスと同一ではないか又はこれを僅かな濃度で含有しているにす
ぎないものである。前記の洗浄には、多くの場合に例えばアルゴン又は別の希ガ
スが適している。回避すべきガスが空気又は窒素である場合には、あるいはまた
、別の窒素の少ないか又は窒素不含のガス又はガス混合物、例えばＣＯ2が該当
する。
【００２０】 熱処理の際の添加剤の変化とは、例えば熱分解、燃焼、分解、ガス発生かでの
溶融、蒸発、昇華、添加剤からのガス脱離又はその他の化学反応のことであるが
、この場合、セラミック出発粉末又はセラミックスラリーからのガスは抑制もし
くは別のガスによって置換されているかあるいは係るガスは、化学反応において
結合させられるか又は添加剤から放出されたか又は結合したガスが、得られたセ
ラミック粉末中で意図的にガス又はガス混合物の部分圧を調節している。結局、
添加剤の添加は、前生成物につながり、次にこれが、その後の工程で処理されて
セラミック粉末にされるのである。この後、前記のセラミック粉末は、例えば平
板状のセラミックセンサー部材の仕上げに使用される。本発明によるセラミック
粉末の製造のための１つの実施例は、以下に開示されたイットリウム安定化され
たＺｒＯ2粉末である。
溶融、蒸発、昇華、添加剤からのガス脱離又はその他の化学反応のことであるが
、この場合、セラミック出発粉末又はセラミックスラリーからのガスは抑制もし
くは別のガスによって置換されているかあるいは係るガスは、化学反応において
結合させられるか又は添加剤から放出されたか又は結合したガスが、得られたセ
ラミック粉末中で意図的にガス又はガス混合物の部分圧を調節している。結局、
添加剤の添加は、前生成物につながり、次にこれが、その後の工程で処理されて
セラミック粉末にされるのである。この後、前記のセラミック粉末は、例えば平
板状のセラミックセンサー部材の仕上げに使用される。本発明によるセラミック
粉末の製造のための１つの実施例は、以下に開示されたイットリウム安定化され
たＺｒＯ2粉末である。
【００２１】 回避すべきガス成分は、例えばセラミック出発粉末又はセラミックスラリー中
へのガス包接、粉砕又は混合後の出発粉末の粉末堆積物中へガス貯蔵、出発粉末
又はスラリーの熱処理の前又は間の周囲又は存在するガス雰囲気、出発材料から
のガス脱離又はガス形成反応生成物によって生じることがある。前生成物の製造
のための熱処理は、本発明による方法においては、例えば溶融、殊にアーク溶融
プロセス、焼結又は発熱化学反応であってもよい。例えばこの後溶融材料として
化又はセラミック焼結体として存在する前生成物の、セラミック粉末にするため
の後処理は、引き続き例えば選択に応じて事後の粒度分別を用いる前生成物の粉
砕によって行われる。この後、本発明による製造法の最終生成物としてのセラミ
ック粉末は、例えば薄膜注型の際に任意に後処理することができる。
へのガス包接、粉砕又は混合後の出発粉末の粉末堆積物中へガス貯蔵、出発粉末
又はスラリーの熱処理の前又は間の周囲又は存在するガス雰囲気、出発材料から
のガス脱離又はガス形成反応生成物によって生じることがある。前生成物の製造
のための熱処理は、本発明による方法においては、例えば溶融、殊にアーク溶融
プロセス、焼結又は発熱化学反応であってもよい。例えばこの後溶融材料として
化又はセラミック焼結体として存在する前生成物の、セラミック粉末にするため
の後処理は、引き続き例えば選択に応じて事後の粒度分別を用いる前生成物の粉
砕によって行われる。この後、本発明による製造法の最終生成物としてのセラミ
ック粉末は、例えば薄膜注型の際に任意に後処理することができる。
【００２２】 セラミック粉末中のガス成分の回避のため又はガス部分圧の調節のための添加
剤の必要量は、個々の場合に、溶融装置のそれぞれの寸法、セラミック粉末又は
スラリーの密度もしくは多孔性及びそれぞれの材料及びそれぞれの用途に必要と
される、ガス成分の回避の程度から明かである。
剤の必要量は、個々の場合に、溶融装置のそれぞれの寸法、セラミック粉末又は
スラリーの密度もしくは多孔性及びそれぞれの材料及びそれぞれの用途に必要と
される、ガス成分の回避の程度から明かである。
【００２３】 セラミック粉末中のガス成分の十分又は完全な回避のための実際に適する大き
さとしては、変化した添加剤の量が、熱処理の際に、ガス部分圧の調節のための
ガス放出の回避又は抑制及び温度範囲の幅の必要な程度に応じて、熱処理の際の
出発材料の約０．５〜１００倍の体積に相当するガス体積を放出又は必要とする
程度に定めなければならないことが明らかになった。添加剤の量が少なすぎる場
合には、ガス成分の十分な回避もしくは調節が達成されない。添加剤の量が著し
く多い場合には、狭い温度範囲内で、進行する変化の際に、事情により不利な爆
発的体積増大が生じてしまう。
さとしては、変化した添加剤の量が、熱処理の際に、ガス部分圧の調節のための
ガス放出の回避又は抑制及び温度範囲の幅の必要な程度に応じて、熱処理の際の
出発材料の約０．５〜１００倍の体積に相当するガス体積を放出又は必要とする
程度に定めなければならないことが明らかになった。添加剤の量が少なすぎる場
合には、ガス成分の十分な回避もしくは調節が達成されない。添加剤の量が著し
く多い場合には、狭い温度範囲内で、進行する変化の際に、事情により不利な爆
発的体積増大が生じてしまう。
【００２４】 本発明による方法の１つの有利な態様は、この種の爆発的な変化の回避のため
に、変化が可能な幅広の温度範囲にわたって延在することを意図するものである
。添加剤の変化が行われる温度範囲は、添加剤の選択によって極めて著しく左右
される。水の場合には、温度範囲は１００℃であるが、別の添加剤の場合には、
１２００℃までの温度にも達する。それぞれの妥当な温度範囲は、当業者には、
個々の場合に、選択した添加剤の化学的性質から明かである。これは、殊にセラ
ミック粉末のガス部分圧、特に酸素部分圧の意図的な調節にも当てはまる。
に、変化が可能な幅広の温度範囲にわたって延在することを意図するものである
。添加剤の変化が行われる温度範囲は、添加剤の選択によって極めて著しく左右
される。水の場合には、温度範囲は１００℃であるが、別の添加剤の場合には、
１２００℃までの温度にも達する。それぞれの妥当な温度範囲は、当業者には、
個々の場合に、選択した添加剤の化学的性質から明かである。これは、殊にセラ
ミック粉末のガス部分圧、特に酸素部分圧の意図的な調節にも当てはまる。
【００２５】 従って、当業者のために概算的に定めるべき、本発明による製造法のためのパ
ラメータは、熱変換の際の溶融帯域１９の容積又は出発材料が占める容積、添加
剤の使用すべき量もしくは添加剤から放出されることになるガスの割合である。
ラメータは、熱変換の際の溶融帯域１９の容積又は出発材料が占める容積、添加
剤の使用すべき量もしくは添加剤から放出されることになるガスの割合である。
【００２６】 本発明による製造法は、アーク溶融法の図面中に記載された方法の実施例につ
き説明されており、この方法を用いて、イットリウム安定化されたセラミックの
ＺｒＯ2粉末が製造されるが、この場合、得られたセラミック粉末は、できるだ
け僅かな濃度の窒素成分を含有していることになり、これにより、次に薄膜注型
に使用され、その後に焼結させることができるが、窒素の排出によってセラミッ
ク構造体が膨張することにはならないのである。相応して、添加剤の変化によっ
て回避すべきガス成分は、前記の場合には窒素であるが、これは、著しい規模で
、アーク溶融の際に生じたガス雰囲気中に含有されているものである。
き説明されており、この方法を用いて、イットリウム安定化されたセラミックの
ＺｒＯ2粉末が製造されるが、この場合、得られたセラミック粉末は、できるだ
け僅かな濃度の窒素成分を含有していることになり、これにより、次に薄膜注型
に使用され、その後に焼結させることができるが、窒素の排出によってセラミッ
ク構造体が膨張することにはならないのである。相応して、添加剤の変化によっ
て回避すべきガス成分は、前記の場合には窒素であるが、これは、著しい規模で
、アーク溶融の際に生じたガス雰囲気中に含有されているものである。
【００２７】 前記のセラミックのＺｒＯ2／Ｙ2Ｏ3粉末の測定により、１４００℃〜１６０
０℃の間の焼結の際の窒素排出による膨張が、１４００℃で最初に達成されたセ
ラミック骨格の焼結密度の値が、９０％を上回るセラミック骨格の理論的最大密
度から、ほぼ１６００℃の窒素排出によって再度約７５％にまで低下することに
なることもあることが判明した。本発明の方法によって、膨張による前記の低下
は、完全に回避することができたし、焼結密度は、１４００℃〜１６００℃の間
でも連続的に再度９９％にまで増大した。前記の膨張を回避するためには、セラ
ミック粉末のセラミック骨格中の窒素含量を２分の１に低下させることで十分で
あるが、これは、具体的な実施例の場合には、約２８００ｐｐｍから約１３００
ｐｐｍへの窒素減少を意味するものであった。
０℃の間の焼結の際の窒素排出による膨張が、１４００℃で最初に達成されたセ
ラミック骨格の焼結密度の値が、９０％を上回るセラミック骨格の理論的最大密
度から、ほぼ１６００℃の窒素排出によって再度約７５％にまで低下することに
なることもあることが判明した。本発明の方法によって、膨張による前記の低下
は、完全に回避することができたし、焼結密度は、１４００℃〜１６００℃の間
でも連続的に再度９９％にまで増大した。前記の膨張を回避するためには、セラ
ミック粉末のセラミック骨格中の窒素含量を２分の１に低下させることで十分で
あるが、これは、具体的な実施例の場合には、約２８００ｐｐｍから約１３００
ｐｐｍへの窒素減少を意味するものであった。
【００２８】 表１は、得られたセラミック粉末からの窒素の排出のためのＺｒＯ2−／Ｙ2Ｏ3 −粉末混合物への添加剤の選択並びにその凝集状態、表２に記載のセラミック
種発粉末又はスラリーへの添加剤の添加の可能な方法及び添加剤の可能な組合せ
を示している。この一覧表は、完全なものではなく、本発明の方法の例であるに
すぎないと見なされるべきものである。
種発粉末又はスラリーへの添加剤の添加の可能な方法及び添加剤の可能な組合せ
を示している。この一覧表は、完全なものではなく、本発明の方法の例であるに
すぎないと見なされるべきものである。
【００２９】 表 １： ＺｒＯ2−／Ｙ2Ｏ3−粉末混合物への添加剤
【００３０】
【表１】
【００３１】 添加剤は、同時に、例えばセラミックスラリーのための溶剤、可塑剤、結合剤
、粉砕助剤として、セラミック粉末の焼結活性の向上のための添加剤として又は
所望のガス部分圧の調節のための添加剤としての他の機能をも充足することがで
きる。殊に、酸素部分圧の調節は、セラミックのＺｒＯ2−／Ｙ2Ｏ3−粉末の場
合には工業的に重要である。
、粉砕助剤として、セラミック粉末の焼結活性の向上のための添加剤として又は
所望のガス部分圧の調節のための添加剤としての他の機能をも充足することがで
きる。殊に、酸素部分圧の調節は、セラミックのＺｒＯ2−／Ｙ2Ｏ3−粉末の場
合には工業的に重要である。
【００３２】 表 ２： 添加剤の添加のための方法
【００３３】
【表２】
【００３４】 水の使用の際には、就中、高い温度で水素と酸素とへの水の分離が利用される
。ドライアイスは、高い温度で反応して一酸化炭素と酸素とになる。Ｚｒ−ブチ
レートは、アーク溶融プロセスの際にＺｒＯ2を形成する。Ａｌ−ステアレート
は、アーク溶融プロセスの際にＡｌ2Ｏ3を形成するが、これは殊に、得られたＺ
ｒＯ2−／Ｙ2Ｏ3−粉末の焼結活性を向上させるものである。添加剤としての水
酸化ジルコニウム及び水酸化イットリウムは、約４００℃を上回ると反応してＺ
ｒＯ2もしくはＹ2Ｏ3及び水蒸気になり、この水蒸気は、更に分解し、ひいては
セラミック粉末中のガス成分を回避するので、工業的に特に簡単かつ経済的な製
造方法である。相応して、ＺｒＯ2の安定化に必要とされる酸化イットリウム（
通常、約８質量％）の添加を、部分的にか又は完全にセラミックのＺｒＯ2−出
発粉末と、添加剤としての水酸化イットリウムとの混合により実現することも可
能であるが、これには、添加剤の望ましくない残分がセラミック粉末中に残留す
ることはないという特別な利点がある。選択的又は付加的に、一部を、有利に大
量のガスの回避のために、添加剤としての水酸化ジルコニウムによるセラミック
のＺｒＯ2−出発粉末の約５０モル％を導入し、酸化イットリウムを添加剤とし
ての水酸化イットリウム又は酸化イットリウム出発粉末により導入することもで
きる。水酸化アルミニウム（Ａｌ（ＯＨ）3又はＡｌＯＯＨ）の僅少量（５質量
％まで）の添加により、同様に水もしくは水蒸気が放出され、Ａｌ2Ｏ3を形成す
るが、これは、セラミック粉末の焼結活性を向上させるものである。前記のヒド
ロキシドの添加は、実際には、セラミック出発粉末と添加剤との混合又はセラミ
ックスラリー中への混入によって簡単に可能である。その上これらは、安価であ
り、爆発的な強力すぎるガス発生を回避する。同様の利点は、変化後に酸化物と
してセラミック粉末中に残留する本発明による他の添加剤にもある。
。ドライアイスは、高い温度で反応して一酸化炭素と酸素とになる。Ｚｒ−ブチ
レートは、アーク溶融プロセスの際にＺｒＯ2を形成する。Ａｌ−ステアレート
は、アーク溶融プロセスの際にＡｌ2Ｏ3を形成するが、これは殊に、得られたＺ
ｒＯ2−／Ｙ2Ｏ3−粉末の焼結活性を向上させるものである。添加剤としての水
酸化ジルコニウム及び水酸化イットリウムは、約４００℃を上回ると反応してＺ
ｒＯ2もしくはＹ2Ｏ3及び水蒸気になり、この水蒸気は、更に分解し、ひいては
セラミック粉末中のガス成分を回避するので、工業的に特に簡単かつ経済的な製
造方法である。相応して、ＺｒＯ2の安定化に必要とされる酸化イットリウム（
通常、約８質量％）の添加を、部分的にか又は完全にセラミックのＺｒＯ2−出
発粉末と、添加剤としての水酸化イットリウムとの混合により実現することも可
能であるが、これには、添加剤の望ましくない残分がセラミック粉末中に残留す
ることはないという特別な利点がある。選択的又は付加的に、一部を、有利に大
量のガスの回避のために、添加剤としての水酸化ジルコニウムによるセラミック
のＺｒＯ2−出発粉末の約５０モル％を導入し、酸化イットリウムを添加剤とし
ての水酸化イットリウム又は酸化イットリウム出発粉末により導入することもで
きる。水酸化アルミニウム（Ａｌ（ＯＨ）3又はＡｌＯＯＨ）の僅少量（５質量
％まで）の添加により、同様に水もしくは水蒸気が放出され、Ａｌ2Ｏ3を形成す
るが、これは、セラミック粉末の焼結活性を向上させるものである。前記のヒド
ロキシドの添加は、実際には、セラミック出発粉末と添加剤との混合又はセラミ
ックスラリー中への混入によって簡単に可能である。その上これらは、安価であ
り、爆発的な強力すぎるガス発生を回避する。同様の利点は、変化後に酸化物と
してセラミック粉末中に残留する本発明による他の添加剤にもある。
【００３５】 もう１つの実施例の場合、水酸化ジルコニウム及び／又は水酸化イットリウム
及び／又は僅少量の水酸化アルミニウム（５質量％まで）は、セラミック種発粉
末としての混合物の形又はスラリーとしての溶液の形で使用され、熱処理の進行
とともに変化するが、この場合、水もしくは水蒸気が放出される。前記の場合、
ガス発生成分もしくはガス抑制成分が、変化の間に、早くもセラミック出発材料
から放出されるので、添加剤の添加を不要にすることができる。
及び／又は僅少量の水酸化アルミニウム（５質量％まで）は、セラミック種発粉
末としての混合物の形又はスラリーとしての溶液の形で使用され、熱処理の進行
とともに変化するが、この場合、水もしくは水蒸気が放出される。前記の場合、
ガス発生成分もしくはガス抑制成分が、変化の間に、早くもセラミック出発材料
から放出されるので、添加剤の添加を不要にすることができる。
【図１】 本発明の実施のためのアーク溶融装置を示す図面。
１０ アーク溶融装置、 １１、１８ 電極リード線、 １２ 坩堝壁、 １
３ 坩堝底、 １４ 坩堝、 １５、１６ 電極、 １７ アーク、 １９ 溶
融帯域、 ２０ 前生成物、 ２１ 出発混合物
３ 坩堝底、 １４ 坩堝、 １５、１６ 電極、 １７ アーク、 １９ 溶
融帯域、 ２０ 前生成物、 ２１ 出発混合物
【手続補正書】
【提出日】平成１２年４月２０日（２０００．４．２０）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１１】 添加剤が、放出可能な酸素、水素、炭素、これらのガスの
組合せ物又は空気よりも重く、有利に窒素及びハロゲン原子を十分に含有してい
ないその他のガスを含有している、請求項１から１０までのいずれか１項に記載
の方法。
組合せ物又は空気よりも重く、有利に窒素及びハロゲン原子を十分に含有してい
ないその他のガスを含有している、請求項１から１０までのいずれか１項に記載
の方法。
【請求項１２】 添加剤が、変化の際に、ＺｒＯ2、Ｙ2Ｏ3又は酸化物、有
利にＡｌ2Ｏ3又は前記材料の組合せ物を形成する、請求項１から１１までのいず
れか１項に記載の方法。
利にＡｌ2Ｏ3又は前記材料の組合せ物を形成する、請求項１から１１までのいず
れか１項に記載の方法。
【請求項１３】 添加物が、セラミック粉末の焼結活性を促進する、請求項
１から１２までのいずれか１項に記載の方法。
１から１２までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】 添加剤を、粉砕助剤としてセラミック出発粉末又はセラミ
ックスラリーに添加する、請求項１から１３までのいずれか１項に記載の方法。
ックスラリーに添加する、請求項１から１３までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】 添加剤を、同時にセラミック出発粉末の造粒及び／又はペ
レット化のための結合剤又は結合剤系としても使用する、請求項１から１４まで
のいずれか１項に記載の方法。
レット化のための結合剤又は結合剤系としても使用する、請求項１から１４まで
のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１６】 添加剤を、水、ＣＯ2−ドライアイス、メタノール、プロ
パノール、ポリビニルアルコール、ワックス、ポリビニルブチラール、ブチルカ
ルビトール、ポリグリコール、プロパンジオール、テルピネオール、酪酸ジルコ
ニウム、ステアリン酸アルミニウム、水酸化ジルコニウム、水酸化イットリウム
、水酸化アルミニウム（Ａｌ（ＯＨ）3又はＡｌＯ（ＯＨ））又はアルカリ金属
酸化物又はアルカリ土類金属酸化物のグループから選択する、請求項１から１５
までのいずれか１項に記載の方法。
パノール、ポリビニルアルコール、ワックス、ポリビニルブチラール、ブチルカ
ルビトール、ポリグリコール、プロパンジオール、テルピネオール、酪酸ジルコ
ニウム、ステアリン酸アルミニウム、水酸化ジルコニウム、水酸化イットリウム
、水酸化アルミニウム（Ａｌ（ＯＨ）3又はＡｌＯ（ＯＨ））又はアルカリ金属
酸化物又はアルカリ土類金属酸化物のグループから選択する、請求項１から１５
までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１７】 添加剤の選択により、セラミック粉末中の酸素部分圧を調
節する、請求項１から１６までのいずれか１項に記載の方法。
節する、請求項１から１６までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１８】 添加剤が、変化の際に、見積もられた抑制すべき全ガス容
量の０．５〜１００倍の範囲内であるガス容量を占めているか又は放出する、請
求項１から１７までのいずれか１項に記載の方法。
量の０．５〜１００倍の範囲内であるガス容量を占めているか又は放出する、請
求項１から１７までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１９】 前生成物を、粉砕によって更に後加工してセラミック粉末
にする、請求項１に記載の方法。
にする、請求項１に記載の方法。
【請求項２０】 粉砕と引き続く粒度分別を行う、請求項１９に記載の方法
。
。
【請求項２１】 平板状セラミックセンサー部材の仕上げのための請求項１
から２０までのいずれか１項に記載のセラミック粉末の使用。
から２０までのいずれか１項に記載のセラミック粉末の使用。
Claims (22)
- 【請求項１】 少なくとも１種のセラミック出発粉末又はセラミックスラリ
ーを、前生成物の製造のために熱処理し、該前生成物からセラミック粉末を取得
するセラミック粉末の製造法において、セラミック出発粉末又はセラミックスラ
リーに、熱処理によってセラミック粉末中でガス成分が主要部分で回避されるか
又は添加剤から放出されたガスがセラミック粉末中の部分圧を調節するような程
度に変える少なくとも１種の添加剤を熱処理の際に添加することを特徴とする、
セラミック粉末の製造法。 - 【請求項２】 少なくとも１種のセラミック出発粉末又はセラミックスラリ
ーを、前生成物の製造のために熱処理し、該前生成物からセラミック粉末を取得
するセラミック粉末の製造法において、セラミック出発粉末又はセラミックスラ
リーを、熱処理の際に、セラミック粉末中でガス成分が主要部分で回避されるか
又はセラミック出発粉末又はセラミックスラリーから放出されたガスがセラミッ
ク粉末中の部分圧を調節するような程度に変えることを特徴とする、セラミック
粉末の製造法。 - 【請求項３】 熱処理をアーク溶融プロセス中で行い、セラミック出発粉末
又はセラミックスラリー及び添加剤をアーク中で溶融させる、請求項１又は２に
記載の方法。 - 【請求項４】 熱処理が、ガス放出下での分解、蒸発、昇華による変化又は
化学反応につながる、請求項１又は２に記載の方法。 - 【請求項５】 熱処理の前にセラミック出発粉末を、有利に、添加剤の飽和
蒸気雰囲気中で貯蔵する、請求項１に記載の方法。 - 【請求項６】 添加剤の添加を、セラミック出発粉末又はスラリーの先行す
る粉砕又は混合の間に行う、請求項１に記載の方法。 - 【請求項７】 セラミック出発粉末への添加剤の添加後に、部分的又は完全
な乾燥、有利に噴霧乾燥又は凍結乾燥を行う、請求項１に記載の方法。 - 【請求項８】 セラミック出発粉末又はスラリーがＺｒＯ2、Ｙ2Ｏ3又はＺ
ｒＯ2とＹ2Ｏ3との混合物を含有している、請求項１又は２に記載の方法。 - 【請求項９】 セラミック出発粉末が、水酸化ジルコニウム、水酸化イット
リウム、水酸化アルミニウム、二酸化ジルコニウム、酸化イットリウム又は前記
成分の混合物からなる、請求項２に記載の方法。 - 【請求項１０】 添加剤を、同時にセラミック出発粉末又はセラミックスラ
リー用の結合剤、溶剤又は可塑剤としても使用する、請求項１に記載の方法。 - 【請求項１１】 熱処理の前又は間に熱処理の前又は間に、有利に窒素が少
ないか又は窒素が多いガス又はガス混合物、殊にアルゴンを用いる洗浄を行う、
請求項１又は２に記載の方法。 - 【請求項１２】 添加剤が、放出可能な酸素、水素、炭素、これらのガスの
組合せ物又は空気よりも重く、有利に窒素及びハロゲン原子を十分に含有してい
ないその他のガスを含有している、請求項１から１１までのいずれか１項に記載
の方法。 - 【請求項１３】 添加剤が、変化の際に、ＺｒＯ2、Ｙ2Ｏ3又は酸化物、有
利にＡｌ2Ｏ3又は前記材料の組合せ物を形成する、請求項１から１２までのいず
れか１項に記載の方法。 - 【請求項１４】 添加物が、セラミック粉末の焼結活性を促進する、請求項
１から１３までのいずれか１項に記載の方法。 - 【請求項１５】 添加剤を、粉砕助剤としてセラミック出発粉末又はセラミ
ックスラリーに添加する、請求項１から１４までのいずれか１項に記載の方法。 - 【請求項１６】 添加剤を、同時にセラミック出発粉末の造粒及び／又はペ
レット化のための結合剤又は結合剤系としても使用する、請求項１から１５まで
のいずれか１項に記載の方法。 - 【請求項１７】 添加剤を、水、ＣＯ2−ドライアイス、メタノール、プロ
パノール、ポリビニルアルコール、ワックス、ポリビニルブチラール、ブチルカ
ルビトール、ポリグリコール、プロパンジオール、テルピネオール、酪酸ジルコ
ニウム、ステアリン酸アルミニウム、水酸化ジルコニウム、水酸化イットリウム
、水酸化アルミニウム（Ａｌ（ＯＨ）3又はＡｌＯ（ＯＨ））又はアルカリ金属
酸化物又はアルカリ土類金属酸化物のグループから選択する、請求項１から１６
までのいずれか１項に記載の方法。 - 【請求項１８】 添加剤の選択により、セラミック粉末中の酸素部分圧を調
節する、請求項１から１７までのいずれか１項に記載の方法。 - 【請求項１９】 添加剤が、変化の際に、見積もられた抑制すべき全ガス容
量の０．５〜１００倍の範囲内であるガス容量を占めているか又は放出する、請
求項１から１８までのいずれか１項に記載の方法。 - 【請求項２０】 前生成物を、粉砕によって更に後加工してセラミック粉末
にする、請求項１に記載の方法。 - 【請求項２１】 粉砕と引き続く粒度分別を行う、請求項２０に記載の方法
。 - 【請求項２２】 平板状セラミックセンサー部材の仕上げのための請求項１
から２１までのいずれか１項に記載の方法により得られるセラミック粉末の使用
。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19836989A DE19836989A1 (de) | 1998-08-14 | 1998-08-14 | Verfahren zur Herstellung keramischer Pulver unter Einsatz von gasverdrängenden oder gaserzeugenden Zusatzstoffen |
| DE19836989.1 | 1998-08-14 | ||
| PCT/DE1999/001739 WO2000009461A1 (de) | 1998-08-14 | 1999-06-15 | Verfahren zur herstellung keramischer pulver unter einsatz von gasverdrängenden oder gaserzeugenden zusatzstoffen |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002522351A true JP2002522351A (ja) | 2002-07-23 |
Family
ID=7877604
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000564916A Pending JP2002522351A (ja) | 1998-08-14 | 1999-06-15 | ガス抑制添加剤又はガス発生添加剤の使用下でのセラミック粉末の製造法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6582669B1 (ja) |
| EP (1) | EP1060152B1 (ja) |
| JP (1) | JP2002522351A (ja) |
| DE (2) | DE19836989A1 (ja) |
| WO (1) | WO2000009461A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004514287A (ja) * | 2000-11-16 | 2004-05-13 | マットソン テクノロジイ インコーポレイテッド | 熱処理システムを抵抗により加熱する装置および方法 |
Family Cites Families (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2403900B2 (de) * | 1974-01-28 | 1980-12-18 | Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen | Verfahren zur Herstellung vorgesinterter elektrokeramischer Pulvermassen |
| JPS5941952B2 (ja) * | 1978-04-18 | 1984-10-11 | 株式会社デンソー | 酸素濃度センサ−用ジルコニア焼結体 |
| US4294795A (en) * | 1978-06-12 | 1981-10-13 | Kureha Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Stabilized electrocast zirconia refractories |
| US4288251A (en) * | 1979-06-11 | 1981-09-08 | Kureha Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Reinforced electrocast zirconia refractories |
| US4450184A (en) * | 1982-02-16 | 1984-05-22 | Metco Incorporated | Hollow sphere ceramic particles for abradable coatings |
| JPS59162130A (ja) * | 1983-03-04 | 1984-09-13 | Nippon Kokan Kk <Nkk> | 電融マグネシアの製造法 |
| JPS59227725A (ja) * | 1983-06-06 | 1984-12-21 | Asahi Chem Ind Co Ltd | イツトリウムを固溶した酸化ジルコニウム粉体の製造方法 |
| US4695439A (en) | 1986-09-25 | 1987-09-22 | Gte Products Corporation | Yttrium oxide stabilized zirconium oxide |
| DE3855287T2 (de) * | 1987-06-26 | 1996-12-05 | Hitachi Ltd | Supraleitender Draht |
| US5087592A (en) * | 1990-05-25 | 1992-02-11 | Alcan International Limited | Method of producing platelets of borides of refractory metals |
| RU1772099C (ru) * | 1990-07-02 | 1992-10-30 | Украинский научно-исследовательский институт огнеупоров | Способ изготовлени конструкционной керамики |
| DE4034786A1 (de) * | 1990-11-02 | 1992-05-07 | Merck Patent Gmbh | Verfahren und vorrichtung zur herstellung von pulverfoermigen metalloxiden fuer keramische massen |
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| US5155071A (en) * | 1991-08-16 | 1992-10-13 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Flame-produced partially stabilized zirconia powder |
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-
1998
- 1998-08-14 DE DE19836989A patent/DE19836989A1/de not_active Ceased
-
1999
- 1999-06-15 US US09/529,481 patent/US6582669B1/en not_active Expired - Fee Related
- 1999-06-15 EP EP99939321A patent/EP1060152B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-06-15 JP JP2000564916A patent/JP2002522351A/ja active Pending
- 1999-06-15 WO PCT/DE1999/001739 patent/WO2000009461A1/de active IP Right Grant
- 1999-06-15 DE DE59913947T patent/DE59913947D1/de not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE19836989A1 (de) | 2000-02-24 |
| EP1060152B1 (de) | 2006-10-25 |
| EP1060152A1 (de) | 2000-12-20 |
| US6582669B1 (en) | 2003-06-24 |
| WO2000009461A1 (de) | 2000-02-24 |
| DE59913947D1 (de) | 2006-12-07 |
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