JP2002522227A - 連続鋳造法、及びそのための装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 連続鋳造法、及びその鋳造法に使用される装置を開示する。吐出された溶融金属の流動状態が適切に制御されるため、溶融金属内の残留非金属介在物や気泡の量が減少し、その結果、良質の連続鋳造スラブを製造することができる。連続鋳造装置は、据え付けられた浸漬ノズル（１１）を有する鋳型（１０）、鋳型（１０）の短面に向けられている一組の吐出孔（１１ａ）を有する浸漬ノズルを含む。さらに、電磁ブレーキルーラー（４０）が、鋳型（１０）内の磁場を形成するために含まれている。電磁ブレーキルーラー（４０）は、鋳型（１０）を取り囲むベースフレーム（４３）、鋳型の長面から突出する鉄心を含み、鉄心は誘導コイルで巻き付けられている。さらにそれは、鉄心に接続され、鋳型の短面に向って浸漬ノズルの吐出孔の直上で、溶融金属吐出方向と平行に配置された一組の磁場変更部材（４１及び４２）を含む。鋳型（１０）内に磁場が印加されると、非金属介在物及び気泡の分離能が高められ、鋳造産物の内部欠陥を大いに減少させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】 本発明は、連続鋳造法及びその鋳造法に使用される装置に関するものである。
より具体的には、本発明は、吐出された溶融金属の流動状態が適切に制御される
ため、溶融金属内の残留非金属介在物や気泡の量が減少し、その結果、良質の連
続鋳造スラブを製造することができる、連続鋳造法及びその鋳造法に使用される
装置に関するものである。

【０００２】 溶融金属連続鋳造法は、１９６０年代以降全世界で採り入れられている。この
方法は一般的な造塊法と比較して様々な利点を有するため、製造される鋼のかな
りの割合を占めている。 連続鋳造金属の性質は表面性質と内部性質に分類され、これらの性質は鋳型内
の溶融金属の流れに密接に関係する。

【０００３】 図１ａ及び１ｂは、一般的な連続鋳造法に使用される鋳型を図示している。こ
れらの図面を参照すれば、溶融金属は２つの吐出孔１１ａ有する浸漬ノズル１１
を通じて鋳型１０に供給されている。２つの吐出孔から吐出される溶融金属は、
短面１３に向って噴流を形成し、噴流は短面１３に衝突して上昇流Ｕと下降流Ｄ
に分かれる。すなわち、噴流は４つの再循環細流Ｕ１、Ｕ２、Ｄ１及びＤ２に分
かれる。図１ｂで参照コードＳは再循環細流の分岐点を示している。

【０００４】 鋳型に流し込まれた溶融金属は、前処理段階で形成された、あるいは耐火物か
ら生じたＡｌ_２Ｏ_３、ＭｎＯ、ＳｉＯ_２等の非金属介在物（以下、「介在物」と
言うこともある）を含有する。さらに溶融金属は、浸漬ノズル１１の詰まりを防
止するためにノズル１１に注入された不活性ガス気泡（以下、「気泡」と言うこ
ともある）も含有する。気泡は数十μ〜数ｍｍの大きさである。上部再循環細流
に含有される介在物と気泡は、溶融金属より低密度である。従って、介在物と気
泡は、重力と反対方向の浮力に影響されるため、溶融金属流と浮力の結合ベクト
ル方向に動いていく。それから徐々に溶融金属のメニスカスの方へ移動し、鋳型
フラックス１４によって捕捉される。

【０００５】 しかしながら、下部再循環細流Ｄに含有される介在物と気泡は、上部再循環細
流Ｕの方へ移動する前に、ノズル吐出孔１１ａ近傍の噴流領域を通過する。噴流
速度は浮力のため上昇速度より速くなり、その結果、介在物と気泡はめったにそ
の噴流を通過しない。従って、下部再循環細流に含有される介在物と気泡は、溶
融金属のメニスカスに達することはできず、連続的に下部再循環細流と共に循環
する。そのため、これらは鋳造金属内に残留する恐れがある。特に、わん曲型連
続鋳造機の場合、下部再循環細流に含有される粒子は、浮力の影響のため渦巻き
状に動き、凝固層すなわち鋳片の上層に完全に付着し、これにより鋳片の上層に
介在物／気泡の凝集領域が形成される。

【０００６】 この鋳片は圧延が施されると、残留介在物と気泡がその表面に曝され、表面欠
陥を引き起こす。あるいはこれらが鋳片内に残留し、焼鈍しが行われると、気泡
が膨張して内部欠陥を引き起こす。

【０００７】 このような問題を解決し、鋳片の質を向上させるために、従来、浸漬ノズルの
吐出角度θが適切に調整され、鋳片の質を向上させるようにしている。浸漬ノズ
ルの吐出角度θは、溶融金属の流れに大きく影響するものである。 吐出角度θが増せば、下降流量は増加するが、上昇流量は減少する。結果とし
て、溶融物のメニスカス上の溶融金属の速度は遅くなるため、溶融物の安定した
表面が維持される。従って、実用度が向上され、また初期の凝固が安定して行わ
れ、これにより鋳片の表面性質が高められる。しかしながら、吐出角度θが増せ
ば、大量の介在物と気泡は、溶融物のメニスカスにまで浮上する機会を失うので
、鋳片の中に深く埋め込まれてしまう。そのため、鋳片の内部性質は悪化する。

【０００８】 一方、吐出角度θが減少すれば、下降流量は減少し、従って介在物と気泡によ
る欠陥は軽減する。しかしながら、吐出角度θが減少すれば、上昇流量は増加し
、溶融物のメニスカス上の溶融金属の速度は急激に増加する。その結果、溶融物
表面で鋳型フラックスが流入するために、また渦が形成されるために、鋳片の表
面性質は悪化する。鋳造速度が速くなるにつれて、これらの問題はますます深刻
になる。

【０００９】 例えば、浸漬ノズルのみを使用すれば、溶融金属の流れの制御における限界に
直面する。その結果、図２ａに示されるように、電磁ブレーキルーラー（ＥＭＢ
Ｒ）２０が浸漬ノズルの吐出孔１１ａの直下に取り付けられている。このように
、磁場と流れに基づくローレンツ力が、流速を減少させるために利用されている
（これは、スイス特許第ＳＥ８，００３，６９５号、及び米国特許第４，４９５
，９８４号で提案されている）。 図２ａの方法は実用化されたが、磁場によって流速を減少させるというよりむ
しろ、流れの歪みが磁場の流動抵抗を逃れる方向で起こるので、これは現在では
使用されていない。

【００１０】 この問題を克服するために、図２ｂ及び２ｃに示されるように、磁場が鋳型の
全幅に水平に分布されている（スイス特許第ＳＥ９，１００，１８４号公報、米
国特許第５，４０４，９３３号公報、及び特開平２−２８４７５０号公報参照）
。しかしながら、これらの方法ではやはり歪み現象が観察されている。

【００１１】 ｄｃ磁場が印加されないとき、浸漬ノズル１１の吐出孔１１ａから吐出された
溶融金属は、図３ａに示されるように流れ場を形成する。しかしながら、磁場が
鋳型の全幅に印加されると、流れが図３ｂに示されるように形成される。すなわ
ち、磁場がある場合と比較して、噴流は鋳型の厚さ方向に著しく広げられる。そ
の結果、鋳型の短面に向けられた噴流の平均速度は遅くなる。 磁場が印加されていない場合と比較して、噴流の速度が遅くなるので、数十〜
数百μの介在物と気泡は下降流域から上昇流域に移動するための長い距離を有す
る。

【００１２】 一方、ノズルを通じて溶融金属に注入された不活性ガスの大部分は、数ｍｍの
大きさであり、短面の間から溶融物のメニスカスに浮上する（浮上距離は、溶融
金属注入速度と注入ガス量に依存し、またこの距離は、最小ガス量が注入される
場合は吐出孔近傍から短面までに相当し、最大ガス量が注入される場合は吐出孔
の直上から短面までに相当するものである）。

【００１３】 主流の速度が速くなれば、主流の方向は不活性ガス気泡の浮上にあまり影響さ
れない。しかしながら、主流の平均速度が磁場を印加することで減少させられれ
ば、主流の方向は不活性ガスの浮力に大きく影響を受ける。不活性ガスの浮力と
、浸漬ノズル直下に形成された磁場の流動抵抗によって、主流は溶融物表面の方
に上昇する。流れが十分に進んだ後、不活性ガスの浮力による影響がなくなると
、流れは図３ｂのようなＳカーブを描いて鋳造方向に下げられる（これは、「浸
漬ノズル近くの非凝固上昇溶融金属流」と呼ぶ）。このようにして、流れは大き
な角度で鋳型の短面に衝突する。

【００１４】 噴流が鋳型の短面に衝突することによって分岐させられるとき、分流の流量は
衝突角度によって決定される。例えば、垂直的な衝突が生じれば、上部及び下部
分流は流量において同じである。しかしながら、衝突角度が下がれば、下部流量
は増加する。

【００１５】 このような状況下で上部流量に対する下部流量の割合は、鋳造速度、ノズル吐
出角度、不活性ガス注入量、及び磁場強度によって決定される。 しかしながら、一般的な操業条件で磁場が印加されなければ、その割合は約６
：４である。磁場が全幅に印加されれば、その割合は８：２になる。

【００１６】 その結果、従来の方法のように磁場が印加されれば、下部流量は増加するが、
上部流量は減少する。従って、溶融金属の速度は溶融物メニスカスの直下で減少
し、溶融物メニスカスの高低差も減少する。このようにして、溶融物表面が安定
化され、表面性質を改善するようになる。

【００１７】 しかしながら、下部流量の増加のため、大量の介在物と気泡が再循環細流中に
含有される。その結果、磁場が全幅に印加されれば、平均速度の減少のために浮
上する機会の増加が減殺される。従って、介在物と微細な不活性ガス気泡が除去
されないという事実から、内部性質の改善は期待できない。

【００１８】 上記問題を解決するために、本発明者等は理論的研究と模擬実験を実施した。
これらの研究と調査に基づき、本発明者等は本発明を提案するに至った。 従って、本発明の目的は、誘導ｄｃ磁場が溶融金属吐出方向と平行に印加され
るため、不活性ガス気泡と、Ａｌ_２Ｏ_３、ＭｎＯ等の非金属介在物の残留量が最
小限に抑えられ、これにより鋳片の内部性質を改善する、連続鋳造法を提供する
ことにある。 また、本発明の別の目的は、上記連続鋳造法に使用される連続鋳造装置を提供
することにある。

【００１９】 上記目的を達成するために、本発明による、連続鋳造法は、溶融金属を浸漬ノ
ズルの吐出孔から鋳型に供給する段階；及び該入ってくる溶融金属に磁場を形成
する段階を含み、磁場の主要な磁束部分を、該溶融金属吐出方向と平行に該浸漬
ノズルの該吐出孔の直上から分布させることを特徴とする。

【００２０】 本発明の別の観点において、本発明による、連続鋳造装置は、据え付けられた
浸漬ノズルを有する鋳型、該鋳型の短面に向けられた一組の吐出孔を持つ該浸漬
ノズル；及び該鋳型内に磁場を形成するための電磁ブレーキルーラーを含み：該
電磁ブレーキルーラーは、該鋳型を取り囲むベースフレーム；該鋳型の長面近傍
から突出し、巻き付けられた誘導コイルを有する鉄心；及び該鉄心に接続され、
該鋳型の該長面から所定の間隔を保ち、該鋳型の短面に向って該溶融金属吐出方
向と平行に、該浸漬ノズルの該吐出孔の直上に配置された一組の磁場変更部材を
含むものである。

【００２１】 また、本発明の装置はさらに該浸漬ノズル近傍の非凝固上昇溶融金属流を制御
するための手段を含むものである。

【００２２】 本発明の上記の目的及び他の利点は、添付図面を参照して本発明の好ましい実
施態様を詳細に記載することにより、より明らかになるであろう。

【００２３】 本発明では基本的に、適切な磁場が、溶融金属吐出方向と平行に、鋳型内に浸
漬ノズルの吐出孔の直上から形成されている。 図４は、本発明による連続鋳造装置の第１の態様の構成を図示し、図４ａは平
面図、図４ｂは側断面図である。

【００２４】 本発明による連続鋳造装置は、形成された一組の吐出孔１１ａを有する浸漬ノ
ズル１１、据え付けられた浸漬ノズルを有する鋳型１０、鋳型１０の短面１３に
向けられている吐出孔１１ａ、及び鋳型１０内に誘導磁場を形成するための電磁
ブレーキルーラー４０を含む。

【００２５】 本発明による連続鋳造装置の主な構成は、電磁ブレーキルーラーである。図４
ｃは電磁ブレーキルーラー（ＥＭＢＲ）を詳細に図示する。 図４ｃに示されるように、本発明の電磁ブレーキルーラー４０は、鋳型１０を
取り囲むベースフレーム４３、鋳型の長面１２近傍から突出している鉄心４４、
及び鉄心４４に接続され、鋳型１０の長面１２から所定の間隔を保たれている一
組の磁場変更部材４１、４２を含む。

【００２６】 ベースフレーム４３は鉄心４４と一体的に形成されてもよい。あるいは、それ
は長面の方向で可動となるように鉄心と別々に形成されてもよい。後者の場合、
誘導コイル４５は容易に巻き付けられる。 鉄心４４は誘導コイル４５で巻き付けられるため、これらは鋳型に誘導電流を
誘導することになる。

【００２７】 さらに、一組の磁場変更部材４１、４２は、鉄心４４に接続され、鋳型の長面
から所定の間隔を保ち、このようにして誘導ｄｃ磁場を鋳型に供給する。本発明
の磁場変更部材４１、４２は、鋳型の短面１３に向って溶融金属吐出方向と平行
に、浸漬ノズルの吐出孔１１ａの直上から始まって配置されている。 すなわち、電磁ブレーキルーラー４０の磁場変更部材４１、４２は、溶融金属
吐出方向と平行に配置されるべきである。磁場変更部材４１、４２は、磁場を鋳
型に移動させる前に、鉄心の磁場の外形分布を変える役割を果たす。従って、そ
れらは一片から構成される必要はなく、複数片であるのがよいだろう。

【００２８】 電磁ブレーキルーラー４０は、浸漬ノズル近傍の非凝固溶融金属上昇流を制御
するための手段である。 ルーラー４０の構造は、溶融金属吐出角度に応じて異なるようにしてもよい。
吐出孔の吐出角度θは１〜９０度の角度で下方に傾けてもよい。磁場変更部材４
１、４２は、吐出角度θが変更される場合でも溶融金属吐出方向と平行に配置さ
れるべきである。

【００２９】 一方、電磁ブレーキルーラー４０では、図４ｂに示されるように、磁場変更部
材４１、４２は鋳型の短面１３まで広げてもよい。しかしながら、その部材４１
、４２が浸漬ノズルに近接する溶融金属噴流の直上の領域（又は、不活性ガスの
浮上が活発な領域）をカバーすることが重要である。

【００３０】 溶融金属噴流の直上の領域では、不活性ガスの浮上が最も活発である。従って
、この領域では多数の気泡が観察され、この領域の大きさは鋳造速度と不活性ガ
ス注入量に依存している。 通常、前述の領域は浸漬ノズルと短面の間に位置する。電磁ブレーキルーラー
４０が溶融金属噴流の直上の領域をカバーする場合は、ベースフレーム５３、鉄
心５４、及び誘導コイル５５の構成は図５ｂに示されるようになっており、図４
ｃの構成と同様である。しかしながら、移動部材５１、５２は、溶融金属噴流の
直上の領域のみカバーするように短くなっている。

【００３１】 すなわち、電磁ブレーキルーラー４０は、少なくとも浸漬ノズルに近接する溶
融金属噴流の直上の領域をカバーすべきであり、最大で鋳型の短面まで広げられ
る。

【００３２】 ここで、上記装置を使用して連続鋳造法を記載する。 一般的に、導電性材料が磁束を横切って動けば、電流が導電性材料に誘導され
る。誘導電流と磁場の相互作用によりローレンツ力が発生するが、これは導電性
材料の動きと反対方向に働き、印加された磁場強度の二乗による導電性材料の移
動速度の合計に比例するものである。ローレンツ力は流速を下げ、流れの方向を
変更するか、流れを複数の細流に分岐する。 従って、磁場が流れに適切に印加されれば、流速と流れの方向は適切に変更さ
れる。

【００３３】 本発明はこの理論に基づくものである。すなわち、金属の連続鋳造の間に、残
留介在物と気泡が最小限に抑えられ、その結果、鋳造産物の内部性質の問題は改
善される。 しかしながら、本発明の方法は、以下に記載するように従来の方法と本質的な
相違がある。

【００３４】 すなわち、鋳造産物内の残留介在物と気泡が最小限に抑えられれば、介在物と
気泡は循環細流の上層で最大限に含有されることになる。つまり、これらは浮上
させられなければならない。 このために、以下の条件を満たさねばならない。

【００３５】 まず、吐出孔から吐出された噴流の速度は、噴流が上昇流と下降流に分岐され
る前に遅くさせなければならない。これによって、下降流に含有される介在物と
気泡が上昇流の表面に向って浮上できるように、十分な時間が確保されなければ
ならない。

【００３６】 第２に、短面で溶融金属の噴流の衝突角度が下がらないように、流れの方向は
制御させられなければならない。従って、上昇流量はもっと増やさなければなら
ず、その結果、より多くの介在物と気泡が上昇流に含有されるようになる。

【００３７】 この目的のために、図４、５の連続鋳造装置において、磁束は溶融金属噴流の
吐出方向と平行に印加させられる。 すなわち、磁場が溶融金属噴流の吐出方向と平行に分布させられれば、噴流は
図７のようになる。その結果として、噴流パターンの平面図は図３ｂの上部に示
すようになり、正面図は図３ａの下部に示されるようになる。このように、全溶
融金属流は減速する。

【００３８】 従って、本発明において、流れは、減速するのと共に、鋳型の厚さ方向に広が
るため、介在物と気泡の浮上時間が十分に確保される。同時に、浮力の働く図４
ｂのＡ部では、流れ上に印加された磁場のため、流れの上昇が流動抵抗によって
妨げられる。 さらに、流れの方向は曲げられず、（短面での）衝突角度は十分に確保される
ため、下降流量は増加しない。 このようにして、下降流に含有される介在物と気泡は最小限に抑えられる。

【００３９】 一方、溶融金属の衝突角度は、浸漬ノズルの吐出角度、印加された磁場の長さ
、及び磁場強度に応じて異なる。衝突角度が不必要に上向きになれば、溶融物表
面の流速は速くなり過ぎる。従って、最大の浮上が最小上昇流量で達成できるよ
うに、浮上時間は設定されなければならない。

【００４０】 電磁ブレーキルーラー４０の長さは、最大で、溶融金属吐出点から短面まで広
がるようにすべきである。磁場の長さに従った溶融金属流の変化が図８に図示さ
れている。 すなわち、図８ａは、活発な浮上が吐出孔１１ａから短面までの長さの１／４
に相当する範囲で起こる場合を図示する。つまり、電磁ブレーキルーラー４０は
この範囲（溶融金属噴流の直上）だけをカバーする。図８ｂは、ルーラー４０が
短面まで広げられる場合を図示する。

【００４１】 ２つの図面では吐出された溶融金属の流れパターンが図示されている。両者の
場合、流れパターンがほとんど同じであることが判る。これは、不活性ガスの大
部分が吐出孔近傍から溶融物表面に浮上し、また不活性ガスの浮上が溶融金属流
をわずかに押し上げるという事実によるものである。 しかしながら、磁場は、短面近傍では溶融金属の流れにあまり影響を及ぼすこ
とができないことが判る。

【００４２】 従って、浮上が活発な領域で斜め上への流れが妨げられれば、溶融金属の全流
れパターンが上記２つの場合において同じものになるだろう。さらに、活発な浮
上領域から離れた短面近傍では、溶融金属は鋳型の厚さ方向に広がり、減速する
。そのため、この範囲ではローレンツ力は無視することができる。

【００４３】 その結果として、電磁ブレーキルーラー４０が、少なくとも不活性ガスの浮上
が活発な領域をカバーすることが重要である。この領域外では磁場の分布はあま
り重要ではない。 従って、複数片の磁場変更部材が、図６に示されるように、妨げられた非凝固
溶融金属流が壊されないようにして、またその磁場変更部材が活発な領域外の短
面まで広がるべくして、設けられてもよい。このように、短面近傍で流れの微調
整が可能となる。

【００４４】 図６は、変更された角度で磁場変更部材が、活発な浮上領域外の短面近傍に配
置されているため、非凝固上昇溶融金属流が妨げられた状態で衝突角度が上方へ
わずかに調整できる場合を図示するものである。

【００４５】 また、図６は、磁場変更部材が、下降流の速度を下げるように短面近傍の流れ
の下に追加されている場合を図示している。短面近傍で微調整を実施するために
、様々な形状の磁場変更部材が、短面近傍で追加されてもよい。

【００４６】 上記鋳造装置を使用して連続鋳造を実施する際、溶融金属吐出量の約３５〜４
０％が上昇させられる。 この際、電磁ブレーキルーラー４０の磁束密度は、好ましくは１０００〜６０
００Ｇａｕｓｓにすべきである。印加された磁束密度が１０００Ｇａｕｓｓより
小さければ、流れの変更が不十分になり、一方６０００Ｇａｕｓｓを超えても、
さらなる流れの変更は期待できない。

【００４７】 ここで、本発明を実施例に基づいて記載する。 （比較例１） 一般的な鋳造条件のように、２．６ｔｏｎｓ／ｍｉｎの溶融金属吐出速度が採
られ、下方吐出角度は０〜２５度に調整された。磁場は印加されず、計算機援用
模擬実験を実施した。上部再循環細流と下部再循環細流で介在物と気泡の数を測
定し、比較した。

【００４８】 磁場が印加されていない場合、吐出された溶融金属の３５〜４０％が上昇流中
に形成され、その残りが下降流を形成した。吐出された噴流が短面に達するまで
の時間は、約０．５５〜１秒であった。このようにして、介在物と気泡の約７０
％が上部再循環細流に含まれ、その残りは下部再循環細流に含まれている。

【００４９】 （比較例２） 比較例１と同じ条件で、図２ｂに示されるように磁場が印加され、計算機援用
模擬実験を実施した。このとき、上部再循環細流と下部再循環細流で介在物と気
泡の数を測定し、比較した。 この場合、吐出された溶融金属の約１０〜２０％しか上昇流中に形成されず、
介在物と気泡の約３４％が上部再循環細流にまで浮上させられたが、その残り６
６％は下部再循環細流に含まれていた。吐出された噴流が短面に達するまでの時
間は、平均して約１．４〜３秒であった。 上記の結果から、これは磁場が印加されなかった場合より悪化していたことが
判る。これは実際の工場の状況に相当するものである。

【００５０】 （本発明例） 比較例１と同じ条件で、図４ｂに示されるように磁場が印加された。次いで、
計算機援用模擬実験が実施され、このとき、上部再循環細流と下部再循環細流で
介在物と気泡の数を測定し、比較した。この際、印加された磁場の磁束密度は、
１０００〜６０００Ｇａｕｓｓの範囲内で変化させた。

【００５１】 この本発明例において、吐出された溶融金属の約３５〜４０％が上昇流中に形
成されていた。吐出された噴流が短面に達するまでの時間は、平均して約１．４
〜３秒であった。また、介在物と気泡の約９３％が上部再循環細流にまで浮上さ
れていたが、それらの約９％しか下部再循環細流に残らなかった。 このように、介在物と気泡の分離が非常に優れていた。

【００５２】 上記のように本発明によれば、非金属介在物及び気泡の分離能は向上する。従
って、非金属介在物及び気泡による鋳片の内部欠陥は著しく減少する。

【図面の簡単な説明】

【図１】 一般的な鋳型内の溶融金属の流れを図示し、図１ａは平面図、図
１ｂは側断面図である。

【図２】 図２ａ、２ｂ及び２ｃは、様々な電磁ブレーキルーラーが据え付
けられた従来の連続鋳造装置の構成を図示する。

【図３】 図３ａ及び３ｂは、従来の電磁ブレーキルーラーの有無に応じた
鋳型内の溶融金属流を図示する。

【図４】 本発明による連続鋳造装置の構成を図示し、図４ａは平面図、図
４ｂは側断面図、図４ｃは重要な部分の斜視図である。

【図５】 本発明による連続鋳造装置の別の態様の構成を図示し、図５ａは
側断面図、図５ｂは重要な部分の斜視図である。

【図６】 第２の態様の磁場変更部材が追加された連続鋳造装置の側断面図
である。

【図７】 本発明の鋳型内の吐出された溶融金属の流れを図示する。

【図８】 図８ａ及び図８ｂは、本発明による連続鋳造装置の異なる態様に
対する溶融金属流を比較して図示する。

【符号の説明】

１０…鋳型、 １１…浸漬ノズル、 １１ａ…吐出孔、 １２…長面、 １３…短面、 １４…鋳型フラックス、 ２０…電磁ブレーキルーラー、 ４０…電磁ブレーキルーラー、 ４１、４２…磁場変更部材、 ４３…ベースフレーム、 ４４…鉄心、 ４５…誘導コイル、 ５０…電磁ブレーキルーラー、 ５１、５２…磁場変更部材、 ５３…ベースフレーム、 ５４…鉄心、 ５５…誘導コイル。 Ｓ…再循環細流の分岐点、 Ｕ…上昇流、 Ｕ１、Ｕ２…上部再循環細流、 Ｄ…下降流、 Ｄ１、Ｄ２…下部再循環細流、 Ａ…浮力の働く部分。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 チョ ミュン ジョン 大韓民国、790−330、キョンサンブック− ド、ポーハング−シ、ナン−ク、ヒョジャ −ドン、サン 32 リサーチ インスティ チュート オブ インダストリアル サイ エンス アンド テクノロジー内 (72)発明者 キム サン ジョーン 大韓民国、790−330、キョンサンブック− ド、ポーハング−シ、ナン−ク、ヒョジャ −ドン、サン 32 リサーチ インスティ チュート オブ インダストリアル サイ エンス アンド テクノロジー内 (72)発明者 キム ジョン ケウン 大韓民国、790−330、キョンサンブック− ド、ポーハング−シ、ナン−ク、ヒョジャ −ドン、サン 32 リサーチ インスティ チュート オブ インダストリアル サイ エンス アンド テクノロジー内 (72)発明者 キム イン チョール 大韓民国、790−330、キョンサンブック− ド、ポーハング−シ、ナン−ク、ヒョジャ −ドン、サン 32 リサーチ インスティ チュート オブ インダストリアル サイ エンス アンド テクノロジー内 Ｆターム(参考） 4E004 AA09 MB11 MB12

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 溶融金属を浸漬ノズルの吐出孔から鋳型に供給する段階；及び
   前記供給された該溶融金属に磁場を形成する段階から成る連続鋳造法において、
   磁場の主要な磁束部分が、該溶融金属吐出方向と平行に、前記浸漬ノズルの前記
   吐出孔の直上から分布させることを特徴とする連続鋳造法。
2. 【請求項２】 前記吐出された溶融金属の３５〜４０％が、磁場によって上昇
   させられる、請求項１に記載の連続鋳造法。
3. 【請求項３】 前記印加された磁場が、１０００〜６０００Ｇａｕｓｓの磁束
   密度を有する、請求項１に記載の連続鋳造法。
4. 【請求項４】 据え付けられた浸漬ノズルを有する鋳型、前記鋳型の短面に向
   けられた一組の吐出孔を持つ前記浸漬ノズル；及び前記鋳型内に磁場を形成する
   ための電磁ブレーキルーラーから成り： 前記電磁ブレーキルーラーは、前記鋳型を取り囲むベースフレーム；前記鋳型
   の長面近傍から突出し、巻き付けられた誘導コイルを有する鉄心；及び前記鉄心
   に接続され、前記鋳型の前記長面から所定の間隔を保ち、前記鋳型の短面に向っ
   て該溶融金属吐出方向と平行に、前記浸漬ノズルの前記吐出孔の直上に配置され
   た一組の磁場変更部材から成る、連続鋳造装置。
5. 【請求項５】 前記浸漬ノズル近傍の非凝固上昇溶融金属流を制御するための
   制御手段を具備する、連続鋳造装置。
6. 【請求項６】 前記制御手段が、磁場を印加するために少なくとも一組の磁場
   変更部材から成り；前記磁場変更部材が（前記浸漬ノズルの前記吐出孔近傍で）
   溶融金属噴流方向と平行に配置され；前記磁場変更部材が該溶融金属の流れに垂
   直で、且つ鋳造ストランドの引抜き方向に垂直である主要な磁場を形成する、請
   求項５に記載の連続鋳造装置。
7. 【請求項７】 前記磁場変更部材が、前記浸漬ノズルに近接する該溶融金属噴
   流の直上の領域をカバーする、請求項５及び６のいずれか１項に記載の連続鋳造
   装置。
8. 【請求項８】 前記磁場変更部材が、不活性ガスの浮上が活発でない領域（す
   なわち、前記浸漬ノズルに近接する該溶融金属噴流の直上の領域外）で任意の形
   状を有する、請求項７に記載の連続鋳造装置。
9. 【請求項９】 該磁場が、１０００〜６０００Ｇａｕｓｓの磁束密度を有する
   、請求項６に記載の連続鋳造装置。
10. 【請求項１０】 前記磁場変更部材の配置された角度が、前記浸漬ノズル近傍
    の溶融金属噴流と平行になるようにするために、１〜９０度の範囲内で変更され
    る、請求項６に記載の連続鋳造装置。
11. 【請求項１１】 前記制御手段が、前記吐出孔と前記短面の間に作用範囲を有
    する、請求項５に記載の連続鋳造装置。
12. 【請求項１２】 請求項５乃至１１の装置を使用して溶融金属を鋳造するため
    の連続鋳造法。