JP2002507768A - フォトブランク用の保持装置 - Google Patents
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- H01J2237/30—Electron or ion beam tubes for processing objects
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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- Plasma & Fusion (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
フォトブランク用の保持装置が、フォトブランク（４）のための支持面（３）を備えた保持体（１）と、フォトブランクの導電性の層（６）と電気的に接続可能なアースエレメント（１０）とを有している。アースエレメント（１０）は接触接続錐体（１５）を有しており、この接触接続錐体（１５）は、保持装置内に挿入されたフォトブランク（４）に対する側方への相対運動を実質的に生ぜしめることなしに該フォトブランク（４）に向かって下降可能であるように、操作可能である。
Description
【０００１】 本発明は、フォトブランク用の保持装置及び、このような装置に挿入されたフ
ォトブランクをアースする方法に関する。
ォトブランクをアースする方法に関する。
【０００２】 フォトリソグラフィーのプロセスのためのフォトマスクを製造する場合、出発
材料としていわゆるフォトブランクが使用される。このフォトブランクというの
は、クローム層とその上に配置されたフォトラック層とを被着された研磨された
石英板である。フォトラックは電子ビーム書込み装置（Elektronenstrahlschrei
ber）において電子ビームを照射され、この際に所望のマスクパターンがフォト ブランクに転写される。このビーム照射時にフォトブランクはアースされねばな
らない。それというのは、さもないと、フォトブランクの表面領域において静電
荷が形成され、このような静電荷はパターン書込み時に電子ビームに対して不都
合な影響を与えることがあるからである。
材料としていわゆるフォトブランクが使用される。このフォトブランクというの
は、クローム層とその上に配置されたフォトラック層とを被着された研磨された
石英板である。フォトラックは電子ビーム書込み装置（Elektronenstrahlschrei
ber）において電子ビームを照射され、この際に所望のマスクパターンがフォト ブランクに転写される。このビーム照射時にフォトブランクはアースされねばな
らない。それというのは、さもないと、フォトブランクの表面領域において静電
荷が形成され、このような静電荷はパターン書込み時に電子ビームに対して不都
合な影響を与えることがあるからである。
【０００３】 フォトブランクをアースするためにアースばねを使用することは、既に公知で
ある。この場合アースばねは、フォトブランクが照射時に挿入されているカセッ
トに取り付けられている。カセットにフォトブランクを装入する場合に、フォト
ブランクはアースばねの下に押し込まれ、この際にばねは、フォトラック層及び
クローム層を局所的に破壊しながらクローム層と電気的に接触接続する。この場
合、フォトラック層及びクローム層の破壊時に粒子が形成されるという欠点があ
る。これらの粒子は、電子ビームの歪みやカバーを生ぜしめ、ひいてはクローム
スポット（Chromspots）の形成や位置エラーの発生の原因となる。そしてこのよ
うなエラーのあるマスクの修理は、面倒な手間をかけてしか又はまったく不可能
である。発生したクロームスポットはそのために構成された修理装置においてレ
ーザビームを用いて気化によりなお除去することができる（しかしながらこの場
合には隣接するストラクチャを損傷する高いリスクを伴う）が、これに対して電
子ビームの歪みによって生ぜしめられた位置エラーは修理不能である。
ある。この場合アースばねは、フォトブランクが照射時に挿入されているカセッ
トに取り付けられている。カセットにフォトブランクを装入する場合に、フォト
ブランクはアースばねの下に押し込まれ、この際にばねは、フォトラック層及び
クローム層を局所的に破壊しながらクローム層と電気的に接触接続する。この場
合、フォトラック層及びクローム層の破壊時に粒子が形成されるという欠点があ
る。これらの粒子は、電子ビームの歪みやカバーを生ぜしめ、ひいてはクローム
スポット（Chromspots）の形成や位置エラーの発生の原因となる。そしてこのよ
うなエラーのあるマスクの修理は、面倒な手間をかけてしか又はまったく不可能
である。発生したクロームスポットはそのために構成された修理装置においてレ
ーザビームを用いて気化によりなお除去することができる（しかしながらこの場
合には隣接するストラクチャを損傷する高いリスクを伴う）が、これに対して電
子ビームの歪みによって生ぜしめられた位置エラーは修理不能である。
【０００４】 公知のアースばねの別の欠点としては、次のことが挙げられる。すなわち公知
のアースばねでは、規定されない電気的な接点がたびたび生じてしまい、このよ
うな接点は不良なアースの原因となり得る。これによってまた、電子ビームの誤
った位置決めが生じたり、ひいてはマスクにおける修理不能な欠陥が生じてしま
う。
のアースばねでは、規定されない電気的な接点がたびたび生じてしまい、このよ
うな接点は不良なアースの原因となり得る。これによってまた、電子ビームの誤
った位置決めが生じたり、ひいてはマスクにおける修理不能な欠陥が生じてしま
う。
【０００５】 ゆえに本発明の課題は、冒頭に述べた形式のフォトブランク用の保持装置を改
良して、エラーなしに製造されるマスクの高い歩留まりを可能にする保持装置を
提供することである。本発明の別の課題は、製造時におけるエラーのないマスク
の歩留まりを高めることができる、フォトブランクをアースする方法を提供する
ことである。
良して、エラーなしに製造されるマスクの高い歩留まりを可能にする保持装置を
提供することである。本発明の別の課題は、製造時におけるエラーのないマスク
の歩留まりを高めることができる、フォトブランクをアースする方法を提供する
ことである。
【０００６】 この課題を解決するために本発明では、請求項１及び請求項１１記載のように
した。
した。
【０００７】 接触接続錐体の下降時に該接触接続錐体とフォトブランクとの間における側方
への相対運動が回避されていることによって、フォトブランクの表面層への接触
接続錐体の載着及び進入時に、層構成部分の剥離ひいては不都合な粒子形成を十
分に回避することができる。アース接点の形成は、フォトブランクの表面層領域
への接触接続錐体の損傷の少ない押込みによって行われ、この場合表面における
いかなる「引っ掻き動作」をも回避することができる。
への相対運動が回避されていることによって、フォトブランクの表面層への接触
接続錐体の載着及び進入時に、層構成部分の剥離ひいては不都合な粒子形成を十
分に回避することができる。アース接点の形成は、フォトブランクの表面層領域
への接触接続錐体の損傷の少ない押込みによって行われ、この場合表面における
いかなる「引っ掻き動作」をも回避することができる。
【０００８】 本発明の別の大きな利点としては次のことが挙げられる。すなわちこの場合、
本発明によるアースエレメントによって、規定された確実な電気的な接点形成が
、ひいては引き続き良好なアースが得られる。
本発明によるアースエレメントによって、規定された確実な電気的な接点形成が
、ひいては引き続き良好なアースが得られる。
【０００９】 本発明の有利な構成では、アースエレメントが、一方の端部において保持体に
固定可能でありかつ他方の端部に接触接続錐体を備えているばね板として形成さ
れている。この場合、ばね板が応力無しの弛緩した状態において屈曲部を有して
おり、該屈曲部においてばね板がその長手方向で見て、直線的な経過に対して角
度αを成して曲げられていると、有利である。この場合、角度αの適宜な選択、
板ばねの適宜な寸法設定及び適宜な材料選択によって、板ばねのばね特性を所望
のように調節することができる。
固定可能でありかつ他方の端部に接触接続錐体を備えているばね板として形成さ
れている。この場合、ばね板が応力無しの弛緩した状態において屈曲部を有して
おり、該屈曲部においてばね板がその長手方向で見て、直線的な経過に対して角
度αを成して曲げられていると、有利である。この場合、角度αの適宜な選択、
板ばねの適宜な寸法設定及び適宜な材料選択によって、板ばねのばね特性を所望
のように調節することができる。
【００１０】 本発明の別の有利な構成では、ばね板に、保持体における調整可能なストッパ
を形成する位置調節部材が設けられている。このように構成されていると、フォ
トブランクの上における接触接続錐体の行程を、規定されているように所定する
ことができ、かつまた、位置調節部材の操作によって接触接続錐体の下降をコン
トロールすることも可能になる。
を形成する位置調節部材が設けられている。このように構成されていると、フォ
トブランクの上における接触接続錐体の行程を、規定されているように所定する
ことができ、かつまた、位置調節部材の操作によって接触接続錐体の下降をコン
トロールすることも可能になる。
【００１１】 本発明の別の有利な構成では、接触接続錐体が、良好な導電性をもつ硬質材料
、特に硬質メタルから形成されている。これによって、接触接続錐体の高い耐摩
耗性及び形状安定性並びに接触接続錐体の小さな電気抵抗が、保証される。
、特に硬質メタルから形成されている。これによって、接触接続錐体の高い耐摩
耗性及び形状安定性並びに接触接続錐体の小さな電気抵抗が、保証される。
【００１２】 本発明のさらに別の有利な構成では、接触接続錐体が多角形錐体として形成さ
れていて、少なくとも１つの縁部がカッティングエッジである。このように構成
されていると、一方では、縁部の間において比較的大きな面積の接触接続面を得
ることができ、これによって電気的な接触抵抗を小さく保つことができ、かつこ
のような小さな接触抵抗の再現可能性を高めることができる。また他方では、カ
ッティングエッジの鋭角形状によって、表面層への接触接続錐体の切込みによる
進入が保証され、これによって、材料が側部に押し退けられることによって層構
成成分が移動させられるおそれが、著しく減じられる。
れていて、少なくとも１つの縁部がカッティングエッジである。このように構成
されていると、一方では、縁部の間において比較的大きな面積の接触接続面を得
ることができ、これによって電気的な接触抵抗を小さく保つことができ、かつこ
のような小さな接触抵抗の再現可能性を高めることができる。また他方では、カ
ッティングエッジの鋭角形状によって、表面層への接触接続錐体の切込みによる
進入が保証され、これによって、材料が側部に押し退けられることによって層構
成成分が移動させられるおそれが、著しく減じられる。
【００１３】 基本的には既に１つのアースエレメントで、実地において十分なアースが得ら
れるが、複数のアースエレメントを設けることによって、アースの確実性をさら
に高めること、及びアース障害に対する冗長性を得ることができる。
れるが、複数のアースエレメントを設けることによって、アースの確実性をさら
に高めること、及びアース障害に対する冗長性を得ることができる。
【００１４】 本発明による方法の有利な方法では、フォトブランクをまず初めにその最終位
置で保持装置に固定し、アースエレメントの接触接続錐体を次いで支持面の平面
に対してほぼ垂直な方向で下降させるようにした。
置で保持装置に固定し、アースエレメントの接触接続錐体を次いで支持面の平面
に対してほぼ垂直な方向で下降させるようにした。
【００１５】 本発明の別の有利な構成及び方法は、その他の従属請求項に記載されている。
【００１６】 次に図面を参照しながら本発明の実施例を説明する。
【００１７】 図１に示されているように、マスク書込み装置（Maskenzeichner）（電子ビー
ム書込み装置 ＭＥＢＥＳ）にフォトブランクを保持するカセットは、中央に凹
設部２を備えた保持プレート１を有している。中央の凹設部２の表面はフォトブ
ランク４のための支持面３を形成している。フォトブランク４は研磨された石英
板５から成っており、この石英板５の表面には厚さ約１００ｎｍの金属層、例え
ばクローム層６とその上に配置された厚さ約４００ｎｍのフォトラック層７とが
被着されている。矢印Ｘは、マスク書込みのために電子ビームがフォトブランク
４に向けられる方向を示している。
ム書込み装置 ＭＥＢＥＳ）にフォトブランクを保持するカセットは、中央に凹
設部２を備えた保持プレート１を有している。中央の凹設部２の表面はフォトブ
ランク４のための支持面３を形成している。フォトブランク４は研磨された石英
板５から成っており、この石英板５の表面には厚さ約１００ｎｍの金属層、例え
ばクローム層６とその上に配置された厚さ約４００ｎｍのフォトラック層７とが
被着されている。矢印Ｘは、マスク書込みのために電子ビームがフォトブランク
４に向けられる方向を示している。
【００１８】 フォトブランク４は、保持プレート１に固定された抑え体８を用いて支持面３
への圧着によって位置適正に固定される。抑え体８はそのために保持プレート１
から離れている方の端部にドーム状の固定エレメント９を有しており、この固定
エレメント９は例えばサファイアから成っていて、フォトブランク４の表面との
ほぼ点状の接触領域を形成している。
への圧着によって位置適正に固定される。抑え体８はそのために保持プレート１
から離れている方の端部にドーム状の固定エレメント９を有しており、この固定
エレメント９は例えばサファイアから成っていて、フォトブランク４の表面との
ほぼ点状の接触領域を形成している。
【００１９】 図示はされていないが、このような抑え体８を保持プレート１に複数設けるこ
とも可能である。
とも可能である。
【００２０】 フォトブランク４のクローム層６と保持プレート１との電気的な接触接続のた
めに、アースばね（Erdungsfeder）１０が設けられている。アースばね１０は主
としてばね板１２から成っており、このばね板１２は２つのねじ結合部材１１を
介して機械的にしっかりとかつ良好な電気接点を成して、金属製の保持プレート
１に固定されている。ばね板１２は、保持プレート１の表面１３に対してほぼ平
行に延びていて、その自由端部１４において保持プレート１の中央の凹設部２を
越えて突出している。この自由端部１４には接触接続錐体（Kontaktierungsspit
ze）１５が設けられており、この接触接続錐体１５は例えば円錐形に又は図１に
示されているように多角形錐体として形成されていることができ、かつクローム
層６と良好に電気的に接触している。その結果クローム層６はアースばね１０を
介して保持プレート１のアース電位になる。
めに、アースばね（Erdungsfeder）１０が設けられている。アースばね１０は主
としてばね板１２から成っており、このばね板１２は２つのねじ結合部材１１を
介して機械的にしっかりとかつ良好な電気接点を成して、金属製の保持プレート
１に固定されている。ばね板１２は、保持プレート１の表面１３に対してほぼ平
行に延びていて、その自由端部１４において保持プレート１の中央の凹設部２を
越えて突出している。この自由端部１４には接触接続錐体（Kontaktierungsspit
ze）１５が設けられており、この接触接続錐体１５は例えば円錐形に又は図１に
示されているように多角形錐体として形成されていることができ、かつクローム
層６と良好に電気的に接触している。その結果クローム層６はアースばね１０を
介して保持プレート１のアース電位になる。
【００２１】 中央の凹設部２への段形成部１６の近傍において、ばね板１２はさらにねじ山
付孔１７を備えており、このねじ山付孔１７にはテフロン被覆された調節ねじ１
８がねじ込まれている。この調節ねじ１８はそのねじ山側の端部で、保持プレー
ト１の表面１３に接触しているので、調節ねじ１８の回転位置によって石英板５
の表面の上における接触接続錐体１５の高さは極めて正確に調節可能である。
付孔１７を備えており、このねじ山付孔１７にはテフロン被覆された調節ねじ１
８がねじ込まれている。この調節ねじ１８はそのねじ山側の端部で、保持プレー
ト１の表面１３に接触しているので、調節ねじ１８の回転位置によって石英板５
の表面の上における接触接続錐体１５の高さは極めて正確に調節可能である。
【００２２】 図２には、図１に示された保持装置が平面図で示されている。ここでは抑え体
８とアースばね１０とが隣り合って配置されているが、これらのエレメントを互
いの間に大きな間隔をおいて配置することも同様に可能である。
８とアースばね１０とが隣り合って配置されているが、これらのエレメントを互
いの間に大きな間隔をおいて配置することも同様に可能である。
【００２３】 本発明による保持装置の作用形式は以下の通りである： まず初めにフォトブランク４が保持プレート１の凹設部２に挿入される。その
ために予め抑え体８とアースばね１０とは保持プレート１から取り外されており
、その結果凹設部２は自由に接近可能である。フォトブランク４の挿入後にフォ
トブランク４は、抑え体８の取付けによって保持プレート１に対するその位置を
固定される。次いでフォトブランク４のアースがアースばね１０の取付けによっ
て行われる。そのためにばね板１２が両ねじ結合部材１１を介して保持プレート
１に、又は保持プレート１上に設けられたスペーサ支台２０にねじ結合される。
この場合、この時点では接触接続錐体１５がまだフォトブランク４の表面と接触
していないように、注意が払われる。このことは例えば次のことによって保証す
ることができる。すなわちこの場合、調節ねじ１８は組立て前に間隔を保証する
ためにねじ山付孔１７内に十分深くねじ込まれている。また別の可能性としては
次のことが挙げられる。すなわちこの別の可能性では、ばね板１２の弾性度を利
用し、接触接続錐体１５を組立て中に適宜な補助手段によってフォトブランク４
の表面から遠ざけておくことができる。
ために予め抑え体８とアースばね１０とは保持プレート１から取り外されており
、その結果凹設部２は自由に接近可能である。フォトブランク４の挿入後にフォ
トブランク４は、抑え体８の取付けによって保持プレート１に対するその位置を
固定される。次いでフォトブランク４のアースがアースばね１０の取付けによっ
て行われる。そのためにばね板１２が両ねじ結合部材１１を介して保持プレート
１に、又は保持プレート１上に設けられたスペーサ支台２０にねじ結合される。
この場合、この時点では接触接続錐体１５がまだフォトブランク４の表面と接触
していないように、注意が払われる。このことは例えば次のことによって保証す
ることができる。すなわちこの場合、調節ねじ１８は組立て前に間隔を保証する
ためにねじ山付孔１７内に十分深くねじ込まれている。また別の可能性としては
次のことが挙げられる。すなわちこの別の可能性では、ばね板１２の弾性度を利
用し、接触接続錐体１５を組立て中に適宜な補助手段によってフォトブランク４
の表面から遠ざけておくことができる。
【００２４】 ねじ結合部材１１の取付け後に、接触接続錐体１５はコントロールされてフォ
トブランク４の表面に向かって下降させられる。最初に述べた場合には、このこ
とは次のことによって、すなわち調節ねじ１８を回して所定の値だけねじ山付孔
１７から引き出すことによって、行われる。これによって接触接続錐体１５はフ
ォトブランク４の表面に向かって下降し、フォトブランク４の両上側層６，７へ
と進入する。この場合の押込み圧はばね板１２の形状弾性度（Formelastizitaet
）によって規定され、この形状弾性度は、ばね板１２の材料、寸法及び最適な形
状付与（図３ａ参照）に関連しており、これらのパラメータの変化によって所定
することができる。圧着圧が比較的小さな場合でもクローム層６は持続的にかつ
再現可能に接触接続可能であることが、判明している。このことは重要である。
それというのは、特に薄いフォトブランクでは、圧力を加えることによってフォ
トブランクが不都合に屈曲してしまう可能性があるからである。したがって圧着
圧は、使用されるフォトブランクの厚さ又は耐屈曲性もしくは曲げ強さに応じて
、フォトブランクの屈曲が確実に回避されるように、常に小さく調節されるよう
になっている。
トブランク４の表面に向かって下降させられる。最初に述べた場合には、このこ
とは次のことによって、すなわち調節ねじ１８を回して所定の値だけねじ山付孔
１７から引き出すことによって、行われる。これによって接触接続錐体１５はフ
ォトブランク４の表面に向かって下降し、フォトブランク４の両上側層６，７へ
と進入する。この場合の押込み圧はばね板１２の形状弾性度（Formelastizitaet
）によって規定され、この形状弾性度は、ばね板１２の材料、寸法及び最適な形
状付与（図３ａ参照）に関連しており、これらのパラメータの変化によって所定
することができる。圧着圧が比較的小さな場合でもクローム層６は持続的にかつ
再現可能に接触接続可能であることが、判明している。このことは重要である。
それというのは、特に薄いフォトブランクでは、圧力を加えることによってフォ
トブランクが不都合に屈曲してしまう可能性があるからである。したがって圧着
圧は、使用されるフォトブランクの厚さ又は耐屈曲性もしくは曲げ強さに応じて
、フォトブランクの屈曲が確実に回避されるように、常に小さく調節されるよう
になっている。
【００２５】 ２番目に挙げた可能性（補助手段による接触接続錐体１５の下降）には次のよ
うな利点がある。すなわちこの場合には、この動作のために調節ねじ１８を回動
させる必要がない。したがって調節ねじ１８の正確な前位置決めによって、接触
接続錐体１５の所望の最終位置行程を極めて寸法正確に維持することができる。
うな利点がある。すなわちこの場合には、この動作のために調節ねじ１８を回動
させる必要がない。したがって調節ねじ１８の正確な前位置決めによって、接触
接続錐体１５の所望の最終位置行程を極めて寸法正確に維持することができる。
【００２６】 両方の作業形式においてフォトブランク４と接触接続錐体１５との間における
側方への相対運動が接触接続錐体１５の装着時に有効に阻止されることが、重要
である。
側方への相対運動が接触接続錐体１５の装着時に有効に阻止されることが、重要
である。
【００２７】 図３ａには、弛緩された状態における適宜なばね板１２に与えられる形状の１
例が示されている。この場合、ねじ結合部材１１のために設けられた穿孔２１と
ねじ山付孔１７との間に屈曲部１９が形成されており、この屈曲部１９において
ばね板１２は、その真っ直ぐな経過に対して例えば５°の角度αだけ曲げられて
いる。
例が示されている。この場合、ねじ結合部材１１のために設けられた穿孔２１と
ねじ山付孔１７との間に屈曲部１９が形成されており、この屈曲部１９において
ばね板１２は、その真っ直ぐな経過に対して例えば５°の角度αだけ曲げられて
いる。
【００２８】 ばね板１２は例えば、Ｓｎを６％含有するＣｕＳｎ６合金のようなＣｕＳｎ合
金（青銅）、又はＣｕＢｅ合金から成っていることができる。
金（青銅）、又はＣｕＢｅ合金から成っていることができる。
【００２９】 図４ａ又は図４ｂには、ばね板１２の自由端部１４が拡大されて示されている
。ばね板１２はその自由端部１４に孔２２を有しており、この孔２２にはピン状
の接触接続錐体１５が押し嵌められている。接触接続錐体１５は孔２２の領域に
おいて導電接着剤（Leitkleber）によって固定されていてもよい。プレス嵌めと
場合によっては付加的に設けられている導電接着剤とによって、ばね板１２と接
触接続錐体１５との間における抵抗の小さな電気接続部が得られる。
。ばね板１２はその自由端部１４に孔２２を有しており、この孔２２にはピン状
の接触接続錐体１５が押し嵌められている。接触接続錐体１５は孔２２の領域に
おいて導電接着剤（Leitkleber）によって固定されていてもよい。プレス嵌めと
場合によっては付加的に設けられている導電接着剤とによって、ばね板１２と接
触接続錐体１５との間における抵抗の小さな電気接続部が得られる。
【００３０】 接触接続錐体１５はその前方領域において三角錐体として形成されており、こ
の場合３つの縁部はそれぞれ互いに１２０°の角度を成して配置されている。接
触接続錐体１５は鋭角的でかつばりのない精密研磨部を備えている。２つのカッ
ティングエッジの間に形成されたカッティング面２３はこの場合、接触接続錐体
１５の中心軸線に対して約３０°の角度βを成して傾斜されている。
の場合３つの縁部はそれぞれ互いに１２０°の角度を成して配置されている。接
触接続錐体１５は鋭角的でかつばりのない精密研磨部を備えている。２つのカッ
ティングエッジの間に形成されたカッティング面２３はこの場合、接触接続錐体
１５の中心軸線に対して約３０°の角度βを成して傾斜されている。
【００３１】 接触接続錐体１５は有利にはタイプＧＴＤの硬質メタルから成っており、この
硬質メタルは高い硬度と良好な導電性とを有していて、さらにビームジオメトリ
に対して不都合な磁性分を含有していない。
硬質メタルは高い硬度と良好な導電性とを有していて、さらにビームジオメトリ
に対して不都合な磁性分を含有していない。
【図１】 フォトブランクを挿入され、かつ、ばね板と接触接続錐体とを備えたアースば
ねを取り付けられたカセットを示す横断面図である。
ねを取り付けられたカセットを示す横断面図である。
【図２】 図１に示された配置形式を上から見た平面図である。
【図３】 図３ａは図１に示されたばね板を示す断面図であり、図３ｂは図３ａに示され
たばね板を上から見た平面図である。
たばね板を上から見た平面図である。
【図４】 図４ａは図示に示されたアースばねを接触接続錐体の領域において上から見た
平面図であり、図４ｂはアースばねの、図４ａに示された接触接続錐体区分を示
す側面図である。
平面図であり、図４ｂはアースばねの、図４ａに示された接触接続錐体区分を示
す側面図である。
１ 保持プレート、 ２ 凹設部、 ３ 支持面、 ４ フォトブランク、
５ 石英板、 ６ クローム層、 ７ フォトラック層、 ８ 抑え体、 ９
固定エレメント、 １０ アースばね、 １１ ねじ結合部材、 １２ ばね板
、 １３ 表面、 １４ 自由端部、 １５ 接触接続錐体、 １６ 段形成部
、 １７ ねじ山付孔、 １８ 調節ねじ、 １９ 屈曲部、 ２０ スペーサ
支台、 ２１ 穿孔、 ２２ 孔、 ２３ カッティング面
５ 石英板、 ６ クローム層、 ７ フォトラック層、 ８ 抑え体、 ９
固定エレメント、 １０ アースばね、 １１ ねじ結合部材、 １２ ばね板
、 １３ 表面、 １４ 自由端部、 １５ 接触接続錐体、 １６ 段形成部
、 １７ ねじ山付孔、 １８ 調節ねじ、 １９ 屈曲部、 ２０ スペーサ
支台、 ２１ 穿孔、 ２２ 孔、 ２３ カッティング面
【手続補正書】特許協力条約第３４条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成１２年４月５日（２０００．４．５）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ゲルト ウンガー ドイツ連邦共和国 ミュンヘン シュタウ ダッハー シュトラーセ ８ (72)発明者 ヴォルフガング ベーゼンベック ドイツ連邦共和国 ミュンヘン フォン− ロイター−シュトラーセ ２ (72)発明者 アロイス ライター ドイツ連邦共和国 ミュンヘン アルフレ ート−シュミット−シュトラーセ ２ Ｆターム(参考） 2H095 BB10 BC30 5C001 AA01 BB07 CC06
Claims (14)
- 【請求項１】 フォトブランク用の保持装置であって、フォトブランク（４
）のための支持面（３）を備えた保持体（１）と、フォトブランク（４）の導電
性の層（６）と電気的に接続可能なアースエレメント（１０）とが、設けられて
いる形式のものにおいて、アースエレメント（１０）が接触接続錐体（１５）を
有しており、該接触接続錐体（１５）が、保持装置内に挿入されたフォトブラン
ク（４）に対して側方への相対運動を実質的に生ぜしめることなしに該フォトブ
ランク（４）に向かって下降できるように、操作可能であることを特徴とする、
フォトブランク用の保持装置。 - 【請求項２】 アースエレメント（１０）が、一方の端部において保持体（
１）に固定可能でありかつ他方の端部（１４）に接触接続錐体（１５）を備えて
いるばね板（１２）として形成されている、請求項１記載の保持装置。 - 【請求項３】 ばね板（１２）が応力無しの弛緩した状態において屈曲部（
１９）を有しており、該屈曲部（１９）においてばね板（１２）がその長手方向
で見て、直線的な経過に対して角度αを成して曲げられている、請求項２記載の
保持装置。 - 【請求項４】 角度αが２°〜１５°の間、特に約５°である、請求項３記
載の保持装置。 - 【請求項５】 ばね板（１２）が、Ｃｕ／Ｓｎ合金又はＣｕ／Ｂｅ合金から
形成されている、請求項２から４までのいずれか１項記載の保持装置。 - 【請求項６】 ばね板（１２）が、保持体（１）における調整可能なストッ
パを形成する位置調節部材（１８）を備えている、請求項２から５までのいずれ
か１項記載の保持装置。 - 【請求項７】 接触接続錐体（１５）が、良好な導電性をもつ硬質材料、特
に硬質メタルから成っている、請求項１から６までのいずれか１項記載の保持装
置。 - 【請求項８】 接触接続錐体（１５）が多角形錐体であり、少なくとも１つ
の縁部がカッティングエッジとして形成されている、請求項１から７までのいず
れか１項記載の保持装置。 - 【請求項９】 接触接続錐体（１５）のカッティング面（２３）が、該接触
接続錐体（１５）の中心軸線に対して２０°〜４０°の間、特に３０°の角度β
を成して方向付けられている、請求項８記載の保持装置。 - 【請求項１０】 複数のアースエレメント（１０）が設けられている、請求
項１から９までのいずれか１項記載の保持装置。 - 【請求項１１】 フォトブランク（４）のための支持面（３）を備えた保持
体（１）と、フォトブランク（４）の導電性の層（６）に電気的に接続可能でか
つ接触接続錐体（１５）を備えたアースエレメント（１０）とを有している保持
装置において、フォトブランクをアースする方法であって、 まず初めに、フォトブランク（４）を保持体（１）の支持面（３）において位
置決めし、 次いで、接触接続錐体（１５）をフォトブランク（４）に向かって、該フォト
ブランク（４）に対して側方への相対運動を実質的に生ぜしめることなしに下降
させる ことを特徴とする、フォトブランクをアースする方法。 - 【請求項１２】 フォトブランク（４）を支持面（３）における位置決め時
に最終位置で保持装置に固定し、フォトブランク（４）に向かってのアースエレ
メント（１０）の接触接続錐体（１５）の下降動作を、支持面（３）の平面に対
してほぼ垂直な方向で行う、請求項１１記載の方法。 - 【請求項１３】 フォトブランク（４）を位置適正に固定するために、少な
くとも１つの抑え体（８）を保持体（１）に設け、該抑え体（８）を用いてフォ
トブランク（４）の表面を支持面（３）に対して押圧することによって、フォト
ブランク（４）をクランプ固定する、請求項１２記載の方法。 - 【請求項１４】 位置決めステップの後で、ばね板（１２）として形成され
たアースエレメント（１０）を保持体（１）に取り付け、次いで接触接続錐体（
１５）をばね力の方向でコントロールしながらフォトブランク（４）に向かって
下降させる、請求項１１から１３までのいずれか１項記載の方法。
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| DE19811081A DE19811081C1 (de) | 1998-03-13 | 1998-03-13 | Haltevorrichtung für Photoblanks |
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| PCT/DE1999/000675 WO1999047977A1 (de) | 1998-03-13 | 1999-03-11 | Haltevorrichtung für photoblanks |
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|---|---|---|---|
| JP2000537112A Withdrawn JP2002507768A (ja) | 1998-03-13 | 1999-03-11 | フォトブランク用の保持装置 |
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| US5843623A (en) * | 1996-09-10 | 1998-12-01 | International Business Machines Corporation | Low profile substrate ground probe |
-
1998
- 1998-03-13 DE DE19811081A patent/DE19811081C1/de not_active Expired - Fee Related
-
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- 1999-03-11 CN CNB998060275A patent/CN1187655C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1999-03-11 WO PCT/DE1999/000675 patent/WO1999047977A1/de not_active Application Discontinuation
- 1999-03-11 KR KR1020007010135A patent/KR20010041845A/ko not_active Application Discontinuation
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- 2000-09-13 US US09/660,899 patent/US6972832B1/en not_active Expired - Fee Related
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20070315 |