JP2002504165A - シロキサン系のためのｕｖ−安定化剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 本発明の主題は、ヒドロキシベンズトリアゾールとエポキシド基を有する加水分解性シランとを含有するシロキサン−ラッカー系のための不揮発性ＵＶ−安定化用混合物である。従ってＵＶ−安定化剤されたラッカー系は熱可塑性プラスチック、特に芳香族ポリカーボネートのためのＵＶ−保護層として特に適する。

Description

【発明の詳細な説明】 シロキサン系のためのＵＶ−安定化剤 本発明は、ＵＶ−安定化作用構造が所定のヒドロキシベンズトリアゾールであ り、従って熱可塑性プラスチック、特に芳香族ポリカーボネートのＵＶ−安定化 に特に適するシロキサン−ラッカー系のための不揮発性ＵＶ−安定化用混合物に 関するものである。 有害な環境作用に対し材料を保護するため、これら材料にはしばしば保護表面 が設けられる。その際、材料に対し特に耐引掻性の表面を付与するシロキサンに 基づくラッカーが特に適すると認められる。 これらラッカーは、ラッカー自身および有害なＵＶ−照射に対し下側の材料（ いわゆる支持体）を保護する、いわゆるＵＶ−安定化用物質を含有することがで きる。長時間にわたり作用するＵＶ＝保護の他に、これらがラッカー層に均質分 配され続けると共に硬化の際もラッカーのその後の導入の際もラッカー層から逸 散しないよう揮発性でないことも特に必要とされる。さらにＵＶ−安定化用物質 は急速分解してはならず、ラッカーと持続的に均質混合されねばならず、さらに ＵＶ−安定化用物質を含有するラッカーは透明でなければならない。 ＵＳ−Ａ ４ ２７８ ８０４号およびＵＳ−Ａ ４ ０５１ １６１号は、 ＵＶ−安定化用活性物質およびこれを含有するラッカーに関するものである。し かしながら、そこに開示された物質は、そのＵＶ−保護が不充分であり、急速分 解し、かつ／または安定化剤を含有するシロキサン系が黄変すると言う欠点を有 する。 さらにＵＳ−Ａ ５ ４３８ １４２号からはＵＶ−安定化活性物質、すなわ ち１−（３’−（ベンゾトリアゾール−２”−イル）−４’−ヒドロキシフェニ ル）−１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタンも知られている。しかし ながら、この活性物質はシロキサンに基づくラッカーと持続的に混合しえないと 言う欠点を有する。 従って本発明の課題は、上記欠点を持たないＵＶ−安定化剤系を提供すること にある。 本発明によればこの課題は、下記する一般式（１）のヒドロキシベンズトリア ゾールとエポキシド基を有する加水分解性シランとを含有するＵＶ−安定化用混 合物を提供すことにより解決される。 〔式中、 Ｒ₁：Ｈ、Ｃ₁〜Ｃ₁₈−アルキル、Ｃ₅〜Ｃ₆−シクロアルキルもしくはＣ₆〜Ｃ₁₂ −アリール、 Ｒ₂：Ｈ、ハロゲン、好ましくはＣｌまたはＣ₁〜Ｃ₁₂−アルキル、 Ｒ₃：Ｈ、Ｃ₁〜Ｃ₁₂−アルキル、ハロゲン、好ましくはＣｌもしくはＢｒまたは Ｃ₆〜Ｃ₁₂−アリール、 Ｒ₄：Ｈ、Ｃ₁〜Ｃ₁₈−アルキルもしくはＣ₆〜Ｃ₁₈−アリール。〕 さらに本発明は、シランのエポキシド基と一般式（１）のヒドロキシベンズト リアゾールとのモル比が２．５より大、好ましくは４より大、特に好ましくは１ ６より大であるＵＶ−安定化用混合物を提供する。しかしながらシランのエポキ シド単位と一般式（１）のヒドロキシベンズトリアゾールとのモル比は１：２０ ０を越えてはならない。 本発明による混合物はシロキサン系、特に耐引掻性かつ耐摩耗性のシロキサン 被覆材料のＵＶ−安定化に適している。この種のＵＶ−安定化被覆材料（好まし くはラッカー）はたとえば木材、繊維、紙、石材など全種類の材料の被覆、特に プラスチック、金属、ガラスおよびセラミックの被覆、特に好ましくは熱可塑性 プラスチックの被覆、極めて好ましくはポリカーボネートの被覆に使用すること ができる。 本発明による不揮発性のＵＶ−安定化用混合物につき使用されるヒドロキシベ ンズトリアゾールは一般式（１）の化合物である。 しかしながら１−（３’−（ベンゾトリアゾール−２”−イル）−４’−ヒド ロキシフェニル）−１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン（以下、Ｔ ＨＰＥ−ＢＺＴと略称する）を使用するのが好適である。ＴＨＰＥ−ＢＺＴの製 造についてはＵＳ−Ａ ５ ４３８ １４２号に詳細に記載されており、その一 般的合成方法はこの特許公報の方式１に開示されている。製品はヘキスト／セラ ニーズ社から市販されている。 一般にエポキシド基含有シランとは、少なくとも１個のエポキシド環に有する と同時に加水分解条件下でシラノール構造を形成する基を持った化合物と理解さ れる。 本発明により好適に使用されるエポキシシランはたとえばＵＳ−Ａ ２ ９４ ６ ７０１号に記載されている。これらは一般式（２）もしくは（３）： 〔式中、 Ｒ₅は最高９個の炭素原子を有する二価の炭化水素残基、または最高９個の炭素 原子を有すると共にＣ、ＨおよびＯ原子からなる二価の残基であり、ここで Ｏ原子はエーテル結合残基として存在し、好ましくはＲ₅は−ＣＨ₂ＯＣＨ₂ ＣＨ₂ＣＨ₂−であり、 Ｒ₆は最高４個の炭素原子を有する脂肪族炭化水素残基、最高４個の炭素原子を 有するアシル残基または式（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）_nＺの残基であり、ここでｎは 少なくとも１であり、Ｚは最高４個の炭素原子を有する脂肪族炭化水素残基 を示し、 ｍは０もしくは１である〕 の化合物である。 このエポキシシランの製造もＵＳ−Ａ ２ ９４６ ７０１号に記載されてい る。従って、この特許公報を参考のためここに引用する。特に好適なエポキシシ ランは、Ｒ₆＝メチルもしくはエチルであるような化合物である。これらは特に ユニオン−カーバイド社およびヒュルスＡＧ社から次の商品名として市販入手し うる： Ａ−１８７もしくは ダイナシラン・グリモ ３−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン Ａ−１８６ ２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルト リメトキシシランＵＶ−安定化用混合物の作成 ＵＶ−安定化用混合物の作成は、一般式１のヒドロキシベンズトリアゾールと エポキシド基含有加水分解性シランとの均質混合およびこの混合物の加熱により 行われる。加熱は少なくとも９０℃にて少なくとも３０分間にわたり行うべきで ある。好ましくは温度は１２０℃以上とすべきである。 一般式（１）のヒドロキシベンズトリアゾールにおけるＵＶ−安定化のために 不必要なフェノール性ＯＨ基を両者とも持たないものよりも化学量論上多量のエ ポキシド基が存在する混合比から出発することが特に有利である。シランのエポ キシド単位と一般式１のヒドロキシベンズトリアゾールとのモル比は従って２． ５より大、好ましくは４より大、特に好ましくは１６より大とすべきである。 ＵＶ−安定化用成分は、安定化すべきシロキサン系に添加すべく必ずしも別々 に作成する必要はなく、シロキサン系／シロキサン被覆材料の合成に際し部分過 程としてその場で合成することもできる。シロキサン系／シロキサン被覆材料 シロキサン系は実質的に熱硬化する系であって、好ましくは縮合反応により− Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ−結合まで架橋する。これと並行して他の架橋メカニズムも進行 しうる。この種のシステムはたとえばＵＳ−Ａ ３ ７９０ ５２７号、３ ８ ６５ ７５５号、３ ８８７ ５１４号、４２４３ ７２０号、４ ２７８ ８ ０４号、４ ６８０ ２３２号、４ ００６ ２７１号、４ ４７６ ２８１号 、ＤＥ−Ａ ４ ０１１ ０４５号、４ １２２ ７４３号、４ ０２０ ３１ ６号、３ ９１７ ５３５号、３ ７０６ ７１４号、３ ４０７ ０８７号、 ３ ８３６ ８１５号、２ ９１４ ４２７号、３ １３５ ２４１号、３ １ ３４ ７７７号、３ １００ ５３２号、３ １５１ ３５０号、ＤＥ−Ａ ３ ００５ ５４１号、３ ０１４ ４１１号、２ ８３４ ６０６号、２ ９４ ７ ８７９号、３ ０１６ ０２１号、２ ９１４ ４２７号および４ ３３８ ３６１号に記載されており、本発明の開示の一部と考えられる。 さらに本発明は、本発明によるＵＶ−安定化されたシロキサン系を提供する。 好ましくはＳｉ、Ａｌ、ＳｂおよびＢ並びに遷移金属（好ましくはＴｉ、Ｃｅ 、ＦｅおよびＺｒ）の酸化物、酸化水和物、窒化物および炭化物から選択される と共に１〜１００ｎｍ、好ましくは２〜５０ｍｍの範囲の粒子寸法を有する粒子 状材料を含有するシロキサン系が使用される。 このシロキサン系には、シロキサン系の固形分に対するヒドロキシベンズトリ アゾールの割合が０．３〜２０重量％、好ましくは３〜１５重量％、特に好まし くは５〜１０重量％となるような量のシロキサン系の固形分に対する本発明によ るＵＶ−安定化用混合物を添加すべきである。 耐引掻性の被覆系およびシロキサンに基づくその成分の作成については本発明 の開示の一部であるＤＥ−Ａ２ ９１４ ４２７号およびＤＥ−Ａ ４ ３３８ ３６１号が参照される。支持体材料 本発明によるＵＶ−安定化用混合物を加えるシロキサン系はバルク材料として も被覆材料としても使用することができる。被覆するための支持体材料の選択は 限定されない。好ましくは木材、繊維、紙、石材、金属、ガラス、セラミックお よびプラスチックの被覆、特に熱可塑性プラスチック［たとえばベッカー／ブラ ウン、クンストストッフ・ハンドブーフ、カール・ハンサー・フェアラーク、ミ ュンヘン、ウイーン（１９９２）に記載］の被覆につき、これらＵＶ−安定化さ れた被覆材料が適している。透明な熱可塑性プラスチック、好ましくはポリカー ボネートの被覆につき、これらは極めて適している。 被覆目的には、慣用の被覆法（たとえば浸漬、流し塗り、流し込み、遠心、噴 霧またはブラシ掛け）が用いられる。 コーチングはたとえば２〜２００μｍ、好ましくは２〜３０μｍ、特に好まし くは５〜１５μｍの層厚さで施される。必要に応じコーチングを施す前に支持体 を付着剤層もしくは下塗層により下処理することもできる。 ラッカーの硬化は、好ましくは＞９０℃の温度にて行われる。 本発明の意味にて熱可塑性芳香族ポリカーボネートはホモポリカーボネートお よびコポリカーボネートであり、ポリカーボネートは公知のように線状もしくは 分枝鎖とすることができる。 適するポリカーボネートにおける８０モル％まで、好ましくは２０〜５０モル ％の部分を芳香族ジカルボン酸エステル基で置換することもできる。分枝鎖中に 炭酸の酸残基と芳香族ジカルボン酸の酸残基を組み込んだこの種のポリカーボネ ートは、正確に言えば芳香族ポリエステルカーボネートである。これらは上位概 念である熱可塑性芳香族ポリカーボネートの下位に含まれる。 ポリカーボネートの作成に関する詳細は過去４０年間にわたり多くの特許公報 に記載されている。例として、ここには「シュネメル、ケミストリー・アンド・ フィジークス・オブ・カーボネート」、ポリマー・レビュース、第９巻、インタ ーサイエナス・パブリッシャース、ニューヨーク、ロンドン、シドニー（１９６ ４）；Ｄ．Ｃ．プレボルセク、Ｂ．Ｔ．デボナおよびＹ．ケステ、コーポレート ・リサーチ・センター、アプライド・ケミカル・コーポレーション、モリスタン 、ニュージャジーシー０７９６０；「ポリ（エステルカーボネート）コポリマー の合成」、ジャーナル・オブ・ポリマー・サイエンス、ポリマー・ケミストリー 編、第１９巻、第７５〜９０頁（１９８０）；Ｄ．フライターク、Ｕ．グリゴ、 Ｐ．Ｒ．ミラー、Ｎ．ヌーベルチン、バイエルＡＧ；「ポリカーボネート」、エ ンサイクロペジア・オブ・ポリマー・サイエンス・アンド・エンジニアリング、 第１１巻、第２版（１９８８）、第６４８〜７１８頁；およびＵ．グリゴ、Ｋ． キルヒャーおよびＰ．Ｒ．ミラー「ポリカーボネート」、ベッカー／ブラウン、 クンストストッフ・ハンドブーフ、第３／１巻、ポリカーボネート、ポリアセテ ート、ポリエステル、セルロースエステル、カール・ハンサー・フェアラーク、 ミュンヘン、ウイーン（１９９２）、第１１７〜２９９頁のみを参照する。 熱可塑性ポリカーボネートは１２ ０００〜４００ ０００、好ましくは１８ ＣＨ₂Ｃｌ₂中で２５℃の相対粘度および１００ｍｌのＣＨ₂Ｃｌ₂当たり０．５ｇ の濃度により測定）を有する。 本発明は従って被覆された材料、好ましくはポリカーボネート、特に好ましく は耐引掻性の被覆されたポリカーボネートを提供する。実施例 実施例１： （ａ）ＴＨＰＥ−ＢＺＴおよび３−グリシジルオキシ−プロピルトリメトキシシ ラン（グリモ）からのＵＶ−安定化用混合物 ５０ｇのＴＨＰＥ−ＢＺＴと４５０ｇの３−グリシジルオキシプロピルトリメ トキシシランとを準備し、窒素雰囲気下および撹拌下に１４０〜１５０℃まで加 熱すると共に、この温度に１時間保持した。 この混合物（混合物１）から次の改変を行った： 混合物： ２ １００ｇのＴＨＰＥ−ＢＺＴ ４００ｇのグリモ ３ １５０ｇのＴＨＰＥ−ＢＺＴ ３５０ｇのグリモ ４ ２００ｇのＴＨＰＥ−ＢＺＴ ３００ｇのグリモ ５ １００ｇのＴＨＰＥ−ＢＺＴ ４００ｇのα−（３，４−エポキシシ クロヘキシル）エチルトリメトキシシ ラン （ｂ）ＤＥ−ＯＳ ２ ９１４ ４２７号によるシロキサン被覆材料の作成（被 覆ゾルＩ） （α）３０重量％のＳｉＯ₂含有量を有する３００ｇのコロイド状珪酸に１９ ．８ｇの氷酢酸と２１０ｇの蒸留水と２２７ｇのイソプロパノールとを 添加する。充分混合した後、９００ｇのメチルトリエトキシシランを添 加すると共に、混合物を撹拌下に６０℃まで加温する。混合物を４時間 にわたりこの温度に保持し、次いでさらに１２００ｇのイソプロパノー ルを混合物に添加する。室温まで生成物を冷却した後、僅かに不透明の 溶液を濾過する。 （β）撹拌器と還流冷却器とを設けた容器に、３４０ｇのイソプロパノールと １９０ｇのテトラエトキシシランと３６０ｇのメチルトリエトキシシラ ンとを入れる。この混合物を１８０ｇの０．０５ｎ塩酸と混合し、同時 加水分解を行わせるため還流下に５時間加温する。反応の後、混合物を 室温まで冷却する。その結果、テトラエトキシシラン（ＳｉＯ₂として 計算し、５．１％）の部分加水分解物とメチルトリエトキシシラン（Ｃ Ｈ₃ＳｉＯ_1.5とし計算し、１２．６％）の部分加水分解物とを含有する 溶液が生ずる。 被覆材料として使用する前に、比１：１における両性分（α）および（β）を 互いに混合し、６０重量部のｎ−ブタノールと４０重量部の酢酸と２０重量部の トルエンとからなる混合物に溶解させる。 （ｃ）ＤＥ−ＯＳ ４ ３３８ ３６１号に従うシロキサン被覆材料の作成（被 覆ゾルＩＩ） ベーマイトゾルを作成するため、１２．８２ｇの酢酸安定化（６．４重量％の 酢酸）されたベーマイト粉末を１０４．６２ｇの０．１ｎ ＨＣｌと合した。次 いで超音波処理（２０分間）により無色透明な溶液が生じ、その２４．３ｇを１ １８．１７ｇのＧＰＴＳ（３−グリシジルオキシプロピル−トリメトキシシラン ）と６２．５０ｇのＴＥＯＳ（テトラエチルオルトシリケート）とからなる混合 物と合した。この反応混合物を２時間にわたり室温にて撹拌し、次いで氷冷しな がら１８．９３ｇのアルミニウムトリブトキシエタノラートと合した。得られた 透明ゾルを２時間にわたり室温にて撹拌し、次いで氷冷下に９３．１４ｇの上記 ベーマイトゾルおよび７９．３０ｇのブトキシエタノールと合した。 （ｄ）ＵＶ−安定化された被覆ゾルＩおよびＩＩ それぞれ１０００ｇの被覆ゾルＩおよびＩＩに、それぞれ７５ｇの本発明によ るＵＶ−安定化用混合物２を添加した。この組成物により石英ガラスを被覆する と共に、ＵＶ光透過率をベックマンＤＵ７０フォトメータにて２５０〜６００ｎ ｍの波長範囲で測定した。被覆厚さは５μｍであって、＜３５０ｎｍの波長にて ポリカーボネートにつき臨界的な照射線の＞９８％を吸収した。 （ｅ）支持体の被覆およびコーチングの性質検査 寸法１０５ｘ１５０ｘ４ｍｍを有するビスフェノールＡに基づくポリカーボネ 浄すると共に、３重量％のアミノプロピルトリメトキシシランと９７重量％のブ チルグリコールとからなる混合物に浸漬し、次いで３０分間にわたり１３０℃で 熱処理して下塗りした。次いで、これらプレートをそれぞれ被覆ゾルＩもしくは ＩＩにて浸漬速度Ｖ＝１００ｃｍ／ｍｉｎで２０μｍの層厚さに被覆した。室温 にて１０分間フラッシュさせた後、被覆プレートを１３０℃にて１時間乾燥させ た。耐引掻性ラッカーの層厚さは乾燥後に約５μｍであった。この被覆されたプ レートを次いで硬化させた後、室温にて２日間貯蔵し、次いで所定量のＵＶ照光 に露呈させた。ＵＶ−露光試験 ラッカー処理されたポリカーボネート板の露光試験は、ＤＩＮ ５３３８７− １−Ａ−Ｘに従う次の試験条件下での水噴霧サイクルにより濾光キセノンアーク 照射線により行った： 風化装置： キセノン−ＷＯＭ ３４０ｎｍにおける照射強度： ０．３５Ｗ／ｍ²（好適） フィルター組合せ： 内部：パイレックス 外部：パイレックス 黒色板温度： ６０℃±５℃ 黒色標準温度： ６０℃±３℃ 操作方式： 一定 水噴霧サイクル： １０２：１８ 相対的大気湿度： ６０〜８０％ ラッカー処理されたプレートの風化安定性の基準として、露光時間に応じた黄 色化を用いた。プレートの対応する黄色値はＡＳＴＭ Ｄ１９２５−７０に従い 黄色度指数：Ｙ．Ｉ．として測定した。キセノン−ＷＯＭ１０２：１８風化後のＹ．Ｉ．値 ａ） 亀裂、ラッカー層の剥離。 ｂ） ラッカー層はもはや存在せず。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０９Ｄ 183/04 Ｃ０９Ｄ 183/04 Ｃ０９Ｋ 15/32 Ｃ０９Ｋ 15/32 Ｂ (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ， ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，ＫＥ，Ｌ Ｓ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＺ，ＵＧ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ， ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，Ｅ Ｅ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ，ＧＷ，ＨＵ ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ， ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，Ｍ Ｄ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ， ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，Ｕ Ｚ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＷ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １． （Ａ）一般式（１）： 〔式中、 Ｒ₁：Ｈ、Ｃ₁〜Ｃ₁₈−アルキル、Ｃ₅〜Ｃ₆−シクロアルキルもしくはＣ₆〜Ｃ₁₂ −アリール、 Ｒ₂：Ｈ、ハロゲンもしくはＣ₁〜Ｃ₁₂−アルキル、 Ｒ₃：Ｈ、Ｃ₁〜Ｃ₁₂−アルキル、ハロゲン、好ましくはＣｌもしくはＢｒまたは Ｃ₆〜Ｃ₁₂−アリール、 Ｒ₄：Ｈ、Ｃ₁〜Ｃ₁₈−アルキルもしくはＣ₆〜Ｃ₁₈−アリール。〕 によるヒドロキシベンズトリアゾールと、 （Ｂ）エポキシド基を有する加水分解性シランと を含有するＵＶ−安定化剤混合物。 ２． シランのエポキシド基と一般式（１）のヒドロキシベンズトリアゾールと のモル比が２．５より大であることを特徴とする請求の範囲第１項に記載のＵＶ −安定化剤混合物。 ３． 一般式（１）のヒドロキシベンズトリアゾールが１−（３’−（ベンズト リアゾール−２”−イル）−４’−ヒドロキシフェニル）−１，１−ビス（４− ヒドロキシフェニル）エタンであることを特徴とする請求の範囲第１項または第 ２項に記載のＵＶ−安定化剤混合物。 ４． 一般式（１）のヒドロキシベンズトリアゾールとエポキシド基を有する加 水分解性シランとを混合し、少なくとも３０分間にわたり少なくとも９０℃まで 加熱することを特徴とする請求の範囲第１〜３項のいずれか一項に記載のＵＶ− 安定化剤混合物の製造方法。 ５． 請求の範囲第１〜３項のいずれか一項に記載のＵＶ−安定化剤混合物を含 有するシロキサン系。 ６． 請求の範囲第４項に記載の方法により得られるＵＶ−安定化剤混合物を含 有するシロキサン系。 ７． シロキサン系の固形分に対するヒドロキシベンズトリアゾールの割合が０ ．３〜２０であることを特徴とする請求の範囲第５項または第６項に記載のシロ キサン系。 ８． 請求の範囲第５〜７項のいずれか一項に記載のシロキサン系とＳｉ、Ａｌ 、ＳｂおよびＢ並びに遷移金属、好ましくはＴｉ、Ｃｅ、ＦｅおよびＺｒの酸化 物、酸化水和物、窒化物および炭化物よりなる群から選択される化合物からなる 必要に応じ粒子状材料とを含有し、この材料が１〜１００ｎｍの範囲の粒子寸法 を有することを特徴とするシロキサン被覆材料。 ９． 各種の支持体材料、好ましくは熱可塑性プラスチック、特に好ましくはポ リカーボネートを被覆するための請求の範囲第８項に記載のシロキサン被覆材料 の使用。 １０． 少なくとも照射線に露呈される材料の表面が請求の範囲第８項に記載の シロキサン被覆材料により被覆したことを特徴とする被覆された材料、好ましく はポリカーボネート。