JP2002373832A - 固体電解コンデンサの製造方法 - Google Patents
固体電解コンデンサの製造方法Info
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G11/00—Hybrid capacitors, i.e. capacitors having different positive and negative electrodes; Electric double-layer [EDL] capacitors; Processes for the manufacture thereof or of parts thereof
- H01G11/52—Separators
-
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- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 固体電解コンデンサの製造方法において、高
い容量達成率と高耐圧の固体電解コンデンサが得られる
製造方法の提供を目的とする。 【解決手段】 陽極酸化皮膜が形成された陽極箔や陰極
箔と導電性高分子層の間に導電性組成物層を設けること
により、被覆性が向上するために容量達成率の高い固体
電解コンデンサが得られる。また、アルキルナフタレン
スルホン酸アニオンをドーパントとして用いた場合、少
なくとも水を含む化成溶液中で修復化成を施す際、化成
溶液中に溶けだしたアルキルナフタレンスルホン酸アニ
オンの影響によって酸化皮膜が腐食され難く、また化成
電流が大きくならず、強い酸化皮膜を形成できるため
に、かつ導電性組成物層には絶縁性のバインダーが含ま
れているために、耐圧の高い固体電解コンデンサが得ら
れる。
い容量達成率と高耐圧の固体電解コンデンサが得られる
製造方法の提供を目的とする。 【解決手段】 陽極酸化皮膜が形成された陽極箔や陰極
箔と導電性高分子層の間に導電性組成物層を設けること
により、被覆性が向上するために容量達成率の高い固体
電解コンデンサが得られる。また、アルキルナフタレン
スルホン酸アニオンをドーパントとして用いた場合、少
なくとも水を含む化成溶液中で修復化成を施す際、化成
溶液中に溶けだしたアルキルナフタレンスルホン酸アニ
オンの影響によって酸化皮膜が腐食され難く、また化成
電流が大きくならず、強い酸化皮膜を形成できるため
に、かつ導電性組成物層には絶縁性のバインダーが含ま
れているために、耐圧の高い固体電解コンデンサが得ら
れる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、固体電解コンデン
サの製造方法に関し、特にアルキルナフタレンスルホン
酸アニオンをドーパントとする導電性高分子層を固体電
解質として備えた固体電解コンデンサの製造方法に関す
るものである。
サの製造方法に関し、特にアルキルナフタレンスルホン
酸アニオンをドーパントとする導電性高分子層を固体電
解質として備えた固体電解コンデンサの製造方法に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】一般的に、ポリアニリン、ポリピロール
やポリチオフェンに代表される導電性高分子は、化学重
合及び電解重合で作製することができる。係る導電性高
分子を固体電解コンデンサの陰極導電層として応用する
場合には、陽極酸化皮膜からなる誘電体層に損傷を与え
難いドーパントを用いて、漏れ電流が低く、耐熱・耐湿
性の高いコンデンサを得ることが重要である。誘電体層
に損傷を与えにくい嵩の大きなアルキルナフタレンスル
ホン酸アニオンを含む遷移金属塩からなる酸化剤を用い
て、その場化学重合により、アルキルナフタレンスルホ
ン酸アニオンがドープされた導電性高分子からなる陰極
導電層を形成する固体電解コンデンサの製造方法が提供
されている(特開平10−94320号公報参照)。
やポリチオフェンに代表される導電性高分子は、化学重
合及び電解重合で作製することができる。係る導電性高
分子を固体電解コンデンサの陰極導電層として応用する
場合には、陽極酸化皮膜からなる誘電体層に損傷を与え
難いドーパントを用いて、漏れ電流が低く、耐熱・耐湿
性の高いコンデンサを得ることが重要である。誘電体層
に損傷を与えにくい嵩の大きなアルキルナフタレンスル
ホン酸アニオンを含む遷移金属塩からなる酸化剤を用い
て、その場化学重合により、アルキルナフタレンスルホ
ン酸アニオンがドープされた導電性高分子からなる陰極
導電層を形成する固体電解コンデンサの製造方法が提供
されている(特開平10−94320号公報参照)。
【0003】また、誘電体層上に導電性高分子層を形成
した後に、誘電体層の欠陥部分を修復する修復化成の方
法が知られている。
した後に、誘電体層の欠陥部分を修復する修復化成の方
法が知られている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、アルキ
ルナフタレンスルホン酸アニオンを含む遷移金属塩を酸
化剤に用いて化学重合により誘電体層上に導電性高分子
層からなる陰極導電層を形成した場合、遷移金属塩ある
いはドーパントの嵩が大きいために高い容量達成率が得
られないという課題を抱えていた。
ルナフタレンスルホン酸アニオンを含む遷移金属塩を酸
化剤に用いて化学重合により誘電体層上に導電性高分子
層からなる陰極導電層を形成した場合、遷移金属塩ある
いはドーパントの嵩が大きいために高い容量達成率が得
られないという課題を抱えていた。
【0005】また、嵩の小さな例えばパラトルエンスル
ホン酸第二鉄やナフタレンスルホン酸第二鉄を酸化剤と
して化学重合により導電性高分子層を形成した場合、導
電性高分子層形成後に化成溶液中での修復化成を実施す
る際に導電性高分子層中の酸化剤が溶けだし、水系の化
成溶液であると酸化皮膜が腐食されて化成電流が大きく
なり修復化成を施すことができないという課題があっ
た。
ホン酸第二鉄やナフタレンスルホン酸第二鉄を酸化剤と
して化学重合により導電性高分子層を形成した場合、導
電性高分子層形成後に化成溶液中での修復化成を実施す
る際に導電性高分子層中の酸化剤が溶けだし、水系の化
成溶液であると酸化皮膜が腐食されて化成電流が大きく
なり修復化成を施すことができないという課題があっ
た。
【0006】本発明は、上記従来技術の課題を解決する
もので、高い容量達成率と高耐圧の固体電解コンデンサ
を得ることを目的とする。
もので、高い容量達成率と高耐圧の固体電解コンデンサ
を得ることを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
に本発明は、陽極箔と陰極箔とをセパレータを介して巻
回したコンデンサ素子を用意する工程と、可溶性導電性
高分子が溶媒に溶解された溶液組成物にバインダーを添
加、または導電性高分子微粒子が分散媒中に分散された
分散液状組成物にバインダーを添加して導電性組成物前
駆体を用意する工程と、前記コンデンサ素子に前記導電
性組成物前駆体を含浸させる工程と、前記導電性組成物
前駆体から前記溶媒または前記分散媒を除去して導電性
組成物層を形成する工程と、前記コンデンサ素子内に化
学重合によりアルキルナフタレンスルホン酸アニオンを
ドーパントとする導電性高分子層を形成する工程とを有
する構成である。
に本発明は、陽極箔と陰極箔とをセパレータを介して巻
回したコンデンサ素子を用意する工程と、可溶性導電性
高分子が溶媒に溶解された溶液組成物にバインダーを添
加、または導電性高分子微粒子が分散媒中に分散された
分散液状組成物にバインダーを添加して導電性組成物前
駆体を用意する工程と、前記コンデンサ素子に前記導電
性組成物前駆体を含浸させる工程と、前記導電性組成物
前駆体から前記溶媒または前記分散媒を除去して導電性
組成物層を形成する工程と、前記コンデンサ素子内に化
学重合によりアルキルナフタレンスルホン酸アニオンを
ドーパントとする導電性高分子層を形成する工程とを有
する構成である。
【0008】陽極酸化皮膜が形成された陽極箔や陰極箔
と導電性高分子層の間に導電性組成物層を設けることに
より、被覆性が向上するために容量達成率の高い固体電
解コンデンサが得られる。そしてアルキルナフタレンス
ルホン酸アニオンをドーパントとして用いた場合、陽極
酸化皮膜からなる誘電体層に損傷を与え難く、かつ導電
性組成物層には絶縁性のバインダーが含まれているため
に、漏れ電流が低く、耐湿性の高い固体電解コンデンサ
が得られる。
と導電性高分子層の間に導電性組成物層を設けることに
より、被覆性が向上するために容量達成率の高い固体電
解コンデンサが得られる。そしてアルキルナフタレンス
ルホン酸アニオンをドーパントとして用いた場合、陽極
酸化皮膜からなる誘電体層に損傷を与え難く、かつ導電
性組成物層には絶縁性のバインダーが含まれているため
に、漏れ電流が低く、耐湿性の高い固体電解コンデンサ
が得られる。
【0009】また、本発明は、陽極箔と陰極箔とをセパ
レータを介して巻回したコンデンサ素子を用意する工程
と、可溶性導電性高分子が溶媒に溶解された溶液組成物
にバインダーを添加、または導電性高分子微粒子が分散
媒中に分散された分散液状組成物にバインダーを添加し
て導電性組成物前駆体を用意する工程と、前記コンデン
サ素子に前記導電性組成物前駆体を含浸させる工程と、
前記導電性組成物前駆体から前記溶媒または前記分散媒
を除去して導電性組成物層を形成する工程と、前記コン
デンサ素子内に化学重合によりアルキルナフタレンスル
ホン酸アニオンをドーパントとする導電性高分子層を形
成する工程と、少なくとも溶媒として水を含む化成溶液
を用いて修復化成を施す工程とを有する構成である。
レータを介して巻回したコンデンサ素子を用意する工程
と、可溶性導電性高分子が溶媒に溶解された溶液組成物
にバインダーを添加、または導電性高分子微粒子が分散
媒中に分散された分散液状組成物にバインダーを添加し
て導電性組成物前駆体を用意する工程と、前記コンデン
サ素子に前記導電性組成物前駆体を含浸させる工程と、
前記導電性組成物前駆体から前記溶媒または前記分散媒
を除去して導電性組成物層を形成する工程と、前記コン
デンサ素子内に化学重合によりアルキルナフタレンスル
ホン酸アニオンをドーパントとする導電性高分子層を形
成する工程と、少なくとも溶媒として水を含む化成溶液
を用いて修復化成を施す工程とを有する構成である。
【0010】アルキルナフタレンスルホン酸アニオンを
ドーパントとして用いた場合、導電性高分子層形成後に
少なくとも水を含む化成溶液中で修復化成を施す際、化
成溶液中に溶けだしたアルキルナフタレンスルホン酸ア
ニオンの影響によって酸化皮膜が腐食され難く、また化
成電流が大きくならず、強い酸化皮膜を形成できるため
に、かつ導電性組成物層には絶縁性のバインダーが含ま
れているために、耐圧の高い固体電解コンデンサが得ら
れる。また、陽極酸化皮膜が形成された陽極箔や陰極箔
と導電性高分子層の間に導電性組成物層を設けることに
より、被覆性が向上するために容量達成率の高い固体電
解コンデンサが得られる。
ドーパントとして用いた場合、導電性高分子層形成後に
少なくとも水を含む化成溶液中で修復化成を施す際、化
成溶液中に溶けだしたアルキルナフタレンスルホン酸ア
ニオンの影響によって酸化皮膜が腐食され難く、また化
成電流が大きくならず、強い酸化皮膜を形成できるため
に、かつ導電性組成物層には絶縁性のバインダーが含ま
れているために、耐圧の高い固体電解コンデンサが得ら
れる。また、陽極酸化皮膜が形成された陽極箔や陰極箔
と導電性高分子層の間に導電性組成物層を設けることに
より、被覆性が向上するために容量達成率の高い固体電
解コンデンサが得られる。
【0011】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態につ
いて説明する。
いて説明する。
【0012】(実施の形態1)本発明の請求項1記載の
発明は、陽極箔と陰極箔とをセパレータを介して巻回し
たコンデンサ素子を用意する工程と、可溶性導電性高分
子が溶媒に溶解された溶液組成物にバインダーを添加、
または導電性高分子微粒子が分散媒中に分散された分散
液状組成物にバインダーを添加して導電性組成物前駆体
を用意する工程と、前記コンデンサ素子に前記導電性組
成物前駆体を含浸させる工程と、前記導電性組成物前駆
体から前記溶媒または前記分散媒を除去して導電性組成
物層を形成する工程と、前記コンデンサ素子内に化学重
合によりアルキルナフタレンスルホン酸アニオンをドー
パントとする導電性高分子層を形成する工程とを有する
固体電解コンデンサの製造方法としたものであり、陽極
酸化皮膜が形成された陽極箔や陰極箔と導電性高分子層
の間に導電性組成物層を設けることにより、被覆性が向
上するために容量達成率の高い固体電解コンデンサが得
られる。そしてアルキルナフタレンスルホン酸アニオン
をドーパントとして用いた場合、陽極酸化皮膜からなる
誘電体層に損傷を与え難く、かつ導電性組成物層には絶
縁性のバインダーが含まれているために、漏れ電流が低
く、耐湿性の高い固体電解コンデンサが得られる。
発明は、陽極箔と陰極箔とをセパレータを介して巻回し
たコンデンサ素子を用意する工程と、可溶性導電性高分
子が溶媒に溶解された溶液組成物にバインダーを添加、
または導電性高分子微粒子が分散媒中に分散された分散
液状組成物にバインダーを添加して導電性組成物前駆体
を用意する工程と、前記コンデンサ素子に前記導電性組
成物前駆体を含浸させる工程と、前記導電性組成物前駆
体から前記溶媒または前記分散媒を除去して導電性組成
物層を形成する工程と、前記コンデンサ素子内に化学重
合によりアルキルナフタレンスルホン酸アニオンをドー
パントとする導電性高分子層を形成する工程とを有する
固体電解コンデンサの製造方法としたものであり、陽極
酸化皮膜が形成された陽極箔や陰極箔と導電性高分子層
の間に導電性組成物層を設けることにより、被覆性が向
上するために容量達成率の高い固体電解コンデンサが得
られる。そしてアルキルナフタレンスルホン酸アニオン
をドーパントとして用いた場合、陽極酸化皮膜からなる
誘電体層に損傷を与え難く、かつ導電性組成物層には絶
縁性のバインダーが含まれているために、漏れ電流が低
く、耐湿性の高い固体電解コンデンサが得られる。
【0013】ここで、陽極箔と陰極箔には、アルミニウ
ム箔、タンタル箔、ニオブ箔、チタン箔等の弁金属にエ
ッチング処理が施され、陽極箔にはさらに陽極酸化皮膜
が形成されたものが用いられる。また、薄い陽極酸化皮
膜が形成されたものを陰極箔として用いることもでき
る。
ム箔、タンタル箔、ニオブ箔、チタン箔等の弁金属にエ
ッチング処理が施され、陽極箔にはさらに陽極酸化皮膜
が形成されたものが用いられる。また、薄い陽極酸化皮
膜が形成されたものを陰極箔として用いることもでき
る。
【0014】また、セパレータには、マニラ紙、クラフ
ト紙、合成繊維紙、ポリアミド、ポリプロピレン、ポリ
エチレン、ポリエチレンテレフタレート等からなる合成
繊維不織布、ガラスペーパー等が用いられる。
ト紙、合成繊維紙、ポリアミド、ポリプロピレン、ポリ
エチレン、ポリエチレンテレフタレート等からなる合成
繊維不織布、ガラスペーパー等が用いられる。
【0015】また、可溶性導電性高分子が溶媒に溶解さ
れた溶液組成物または導電性高分子微粒子が分散媒中に
分散された分散液状組成物は、製造方法が種々開示され
ており、それらを用いて容易に製造することができる。
れた溶液組成物または導電性高分子微粒子が分散媒中に
分散された分散液状組成物は、製造方法が種々開示され
ており、それらを用いて容易に製造することができる。
【0016】例えば、ポリピロール類については、特開
平6−206986号公報およびE.E.Having
a他著ケミストリーオブマテリアル誌(アメリカンケミ
カルソサイアティ1989年発行)1巻6号650頁に
記載されている方法で作製することができる。
平6−206986号公報およびE.E.Having
a他著ケミストリーオブマテリアル誌(アメリカンケミ
カルソサイアティ1989年発行)1巻6号650頁に
記載されている方法で作製することができる。
【0017】また、ポリチオフェン類については、S.
Hotta他著シンシテックメタルズ誌(エルゼビア発
行)26巻267頁およびF.Jonas他著シンシテ
ックメタルズ誌(エルゼビア発行)85巻1397頁に
開示されている。
Hotta他著シンシテックメタルズ誌(エルゼビア発
行)26巻267頁およびF.Jonas他著シンシテ
ックメタルズ誌(エルゼビア発行)85巻1397頁に
開示されている。
【0018】また、ポリアニリン溶液の作製法について
は、米国特許5232631号公報およびS.Shim
izu他著シンシテックメタルズ誌(エルゼビア発行)
85巻1337頁に記載されている。また、ポリアニリ
ン溶液は三菱レイヨン社より、アクアセーブという商品
名で市販されている。
は、米国特許5232631号公報およびS.Shim
izu他著シンシテックメタルズ誌(エルゼビア発行)
85巻1337頁に記載されている。また、ポリアニリ
ン溶液は三菱レイヨン社より、アクアセーブという商品
名で市販されている。
【0019】また、バインダーには媒体に分散する高分
子や結着剤を用いることができる。例えば、ポリビニル
ピロリドン、ポリビニルアルコール、水溶性ポリエステ
ル、水溶性アクリル樹脂、カルボキシメチルセルロー
ス、ポリビニルスルホン酸塩、ポリスチレンスルホン酸
塩、アルコキシシラン等が挙げられる。
子や結着剤を用いることができる。例えば、ポリビニル
ピロリドン、ポリビニルアルコール、水溶性ポリエステ
ル、水溶性アクリル樹脂、カルボキシメチルセルロー
ス、ポリビニルスルホン酸塩、ポリスチレンスルホン酸
塩、アルコキシシラン等が挙げられる。
【0020】また、導電性高分子層としては、化学重合
により形成されたポリチオフェン、ポリピロール、ポリ
アニリンまたは、それらの誘導体が用いられる。
により形成されたポリチオフェン、ポリピロール、ポリ
アニリンまたは、それらの誘導体が用いられる。
【0021】アルキルナフタレンスルホン酸アニオンの
アルキル基としては、炭素総数3以上のものが用いう
る。
アルキル基としては、炭素総数3以上のものが用いう
る。
【0022】(実施の形態2)本発明の請求項2記載の
発明は、陽極箔と陰極箔とをセパレータを介して巻回し
たコンデンサ素子を用意する工程と、可溶性導電性高分
子が溶媒に溶解された溶液組成物にバインダーを添加、
または導電性高分子微粒子が分散媒中に分散された分散
液状組成物にバインダーを添加して導電性組成物前駆体
を用意する工程と、前記コンデンサ素子に前記導電性組
成物前駆体を含浸させる工程と、前記導電性組成物前駆
体から前記溶媒または前記分散媒を除去して導電性組成
物層を形成する工程と、前記コンデンサ素子内に化学重
合によりアルキルナフタレンスルホン酸アニオンをドー
パントとする導電性高分子層を形成する工程と、少なく
とも溶媒として水を含む化成溶液を用いて修復化成を施
す工程とを有する固体電解コンデンサの製造方法とした
ものであり、アルキルナフタレンスルホン酸アニオンを
ドーパントとして用いた場合、導電性高分子層形成後に
少なくとも水を含む化成溶液中で修復化成を施す際、化
成溶液中に溶けだしたアルキルナフタレンスルホン酸ア
ニオンの影響によって酸化皮膜が腐食され難く、また化
成電流が大きくならず、強い酸化皮膜を形成できるため
に、かつ導電性組成物層には絶縁性のバインダーが含ま
れているために、耐圧の高い固体電解コンデンサが得ら
れる。また、陽極酸化皮膜が形成された陽極箔や陰極箔
と導電性高分子層の間に導電性組成物層を設けることに
より、被覆性が向上するために容量達成率の高い固体電
解コンデンサが得られる。
発明は、陽極箔と陰極箔とをセパレータを介して巻回し
たコンデンサ素子を用意する工程と、可溶性導電性高分
子が溶媒に溶解された溶液組成物にバインダーを添加、
または導電性高分子微粒子が分散媒中に分散された分散
液状組成物にバインダーを添加して導電性組成物前駆体
を用意する工程と、前記コンデンサ素子に前記導電性組
成物前駆体を含浸させる工程と、前記導電性組成物前駆
体から前記溶媒または前記分散媒を除去して導電性組成
物層を形成する工程と、前記コンデンサ素子内に化学重
合によりアルキルナフタレンスルホン酸アニオンをドー
パントとする導電性高分子層を形成する工程と、少なく
とも溶媒として水を含む化成溶液を用いて修復化成を施
す工程とを有する固体電解コンデンサの製造方法とした
ものであり、アルキルナフタレンスルホン酸アニオンを
ドーパントとして用いた場合、導電性高分子層形成後に
少なくとも水を含む化成溶液中で修復化成を施す際、化
成溶液中に溶けだしたアルキルナフタレンスルホン酸ア
ニオンの影響によって酸化皮膜が腐食され難く、また化
成電流が大きくならず、強い酸化皮膜を形成できるため
に、かつ導電性組成物層には絶縁性のバインダーが含ま
れているために、耐圧の高い固体電解コンデンサが得ら
れる。また、陽極酸化皮膜が形成された陽極箔や陰極箔
と導電性高分子層の間に導電性組成物層を設けることに
より、被覆性が向上するために容量達成率の高い固体電
解コンデンサが得られる。
【0023】ここで、化成溶液の電解質には、リン酸、
アジピン酸、ホウ酸、酢酸、またはそれらの塩を用いる
ことができる。
アジピン酸、ホウ酸、酢酸、またはそれらの塩を用いる
ことができる。
【0024】
【実施例】次に、本発明の実施例について説明する。
【0025】(実施例1)最初に、本発明の第1の実施
例について図1を参照しながら説明する。
例について図1を参照しながら説明する。
【0026】厚さ0.1mmのエッチドアルミニウム箔
を70℃のアジピン酸アンモニウム3%水溶液に浸し、
まず20mV/secの速度で0から90Vまで上げ、
続けて90Vの定電圧を30分間印加して陽極酸化皮膜
を形成し、2.3×155mmの寸法に切断後アルミニ
ウムタブ1を介して陽極リード2を取り付けた陽極箔3
を用意した。また、0.05mmのエッチドアルミニウ
ムを2.3×180mmの寸法に切断し、アルミニウム
タブ4を介して陰極リード5を取り付けた陰極箔6を用
意した。
を70℃のアジピン酸アンモニウム3%水溶液に浸し、
まず20mV/secの速度で0から90Vまで上げ、
続けて90Vの定電圧を30分間印加して陽極酸化皮膜
を形成し、2.3×155mmの寸法に切断後アルミニ
ウムタブ1を介して陽極リード2を取り付けた陽極箔3
を用意した。また、0.05mmのエッチドアルミニウ
ムを2.3×180mmの寸法に切断し、アルミニウム
タブ4を介して陰極リード5を取り付けた陰極箔6を用
意した。
【0027】図1のように、両箔を2.5×220mm
のポリアミド不織布製セパレータ7を介して巻回した
後、終末部を粘着テープ8で止めた。そして、70℃の
アジピン酸アンモニウム3%水溶液に浸し、まず20m
V/secの速度で0から80Vまで上げ、続けて80
Vの定電圧を30分間印加して、再度陽極酸化皮膜形成
処理を行った。このコンデンサ素子9の液中容量は、2
5μFであった。
のポリアミド不織布製セパレータ7を介して巻回した
後、終末部を粘着テープ8で止めた。そして、70℃の
アジピン酸アンモニウム3%水溶液に浸し、まず20m
V/secの速度で0から80Vまで上げ、続けて80
Vの定電圧を30分間印加して、再度陽極酸化皮膜形成
処理を行った。このコンデンサ素子9の液中容量は、2
5μFであった。
【0028】次に、約1重量%のコロイド状ポリ(3,
4−エチレンジオキシチオフェン)微粒子が含まれる水
分散液状組成物を用意した。これは、F.Jonas他
著シンシテックメタルズ誌(エルゼビア発行)85巻1
397頁に開示されている方法に準じて作製した。この
水分散液状組成物に、バインダーの水溶性アクリル樹脂
を3重量%添加して、導電性組成物前駆体を作製した。
4−エチレンジオキシチオフェン)微粒子が含まれる水
分散液状組成物を用意した。これは、F.Jonas他
著シンシテックメタルズ誌(エルゼビア発行)85巻1
397頁に開示されている方法に準じて作製した。この
水分散液状組成物に、バインダーの水溶性アクリル樹脂
を3重量%添加して、導電性組成物前駆体を作製した。
【0029】次に、コンデンサ素子9を導電性組成物前
駆体に浸漬して減圧含浸後、引き上げてから50℃で6
0分、さらに130℃で20分加熱して媒体を除去し、
ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)とバイン
ダーからなる導電性組成物層を形成した。これを、陰極
導電層の下地層として用いた。
駆体に浸漬して減圧含浸後、引き上げてから50℃で6
0分、さらに130℃で20分加熱して媒体を除去し、
ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)とバイン
ダーからなる導電性組成物層を形成した。これを、陰極
導電層の下地層として用いた。
【0030】次に、トリイソプロピルナフタレンスルホ
ン酸第二鉄0.6mol/lをメタノールの中に入れて
溶かしてから、3,4−エチレンジオキシチオフェンモ
ノマ−1mol/lを加えて混合した重合溶液にコンデ
ンサ素子9を浸漬して減圧含浸後、50℃で30分、9
0℃で30分の熱処理と洗浄・乾燥を施し、ポリ(3,
4−エチレンジオキシチオフェン)層からなる導電性高
分子層を形成した。このようにして、下地層と導電性高
分子層からなる陰極導電層を形成した。
ン酸第二鉄0.6mol/lをメタノールの中に入れて
溶かしてから、3,4−エチレンジオキシチオフェンモ
ノマ−1mol/lを加えて混合した重合溶液にコンデ
ンサ素子9を浸漬して減圧含浸後、50℃で30分、9
0℃で30分の熱処理と洗浄・乾燥を施し、ポリ(3,
4−エチレンジオキシチオフェン)層からなる導電性高
分子層を形成した。このようにして、下地層と導電性高
分子層からなる陰極導電層を形成した。
【0031】次に、アルミケースの中に封口ゴムを取り
付けたコンデンサ素子を入れてから封止した。
付けたコンデンサ素子を入れてから封止した。
【0032】次に、エージングを施して10個のコンデ
ンサを完成させた。
ンサを完成させた。
【0033】このコンデンサの容量、漏れ電流を測定し
た結果の平均値を(表1)に示す。また、アルミケース
に入れずに裸のコンデンサ素子を相対湿度が90%で6
0℃の雰囲気中で25Vを印加した負荷寿命試験を行っ
た結果、数十時間では容量や等価直列抵抗がほとんど劣
化せず高い耐湿性を示した。
た結果の平均値を(表1)に示す。また、アルミケース
に入れずに裸のコンデンサ素子を相対湿度が90%で6
0℃の雰囲気中で25Vを印加した負荷寿命試験を行っ
た結果、数十時間では容量や等価直列抵抗がほとんど劣
化せず高い耐湿性を示した。
【0034】
【表1】
【0035】本実施例によれば、陽極箔や陰極箔と導電
性高分子層の間に導電性組成物層を設けることにより被
覆性が向上するため、(表1)に示すように容量達成率
の高い固体電解コンデンサが得られる。
性高分子層の間に導電性組成物層を設けることにより被
覆性が向上するため、(表1)に示すように容量達成率
の高い固体電解コンデンサが得られる。
【0036】そしてアルキルナフタレンスルホン酸アニ
オンをドーパントとして用いた場合、陽極酸化皮膜から
なる誘電体層に損傷を与え難く、かつ導電性組成物層に
は絶縁性のバインダーが含まれているために、(表1)
に示すように漏れ電流が低く、耐湿性の高い固体電解コ
ンデンサが得られる。
オンをドーパントとして用いた場合、陽極酸化皮膜から
なる誘電体層に損傷を与え難く、かつ導電性組成物層に
は絶縁性のバインダーが含まれているために、(表1)
に示すように漏れ電流が低く、耐湿性の高い固体電解コ
ンデンサが得られる。
【0037】(比較例1)比較例1として、下地層の導
電性組成物層を形成しないで、導電性高分子層のみを陰
極導電層として形成した以外、実施例1と同様にしてコ
ンデンサを作製した。なお、導電性高分子層は、実施例
1と同様にして形成した。
電性組成物層を形成しないで、導電性高分子層のみを陰
極導電層として形成した以外、実施例1と同様にしてコ
ンデンサを作製した。なお、導電性高分子層は、実施例
1と同様にして形成した。
【0038】容量と漏れ電流を測定した結果を前述の
(表1)に示す。比較例1では、陽極箔や陰極箔と導電
性高分子層の間に導電性組成物層を設けていないため
に、導電性高分子層の被覆性が悪く、(表1)に示すよ
うに容量達成率の高いコンデンサを得ることができな
い。また、導電性組成物層を設けていない場合には、重
合溶液の減圧含浸と熱処理を繰り返しても、遷移金属塩
の嵩が大きいために高い容量達成率を得ることはできな
かった。さらに、絶縁性のバインダーを含む導電性組成
物層を設けていない場合には、(表1)に示すように、
実施例1のように漏れ電流の低いコンデンサを得ること
ができない。
(表1)に示す。比較例1では、陽極箔や陰極箔と導電
性高分子層の間に導電性組成物層を設けていないため
に、導電性高分子層の被覆性が悪く、(表1)に示すよ
うに容量達成率の高いコンデンサを得ることができな
い。また、導電性組成物層を設けていない場合には、重
合溶液の減圧含浸と熱処理を繰り返しても、遷移金属塩
の嵩が大きいために高い容量達成率を得ることはできな
かった。さらに、絶縁性のバインダーを含む導電性組成
物層を設けていない場合には、(表1)に示すように、
実施例1のように漏れ電流の低いコンデンサを得ること
ができない。
【0039】(実施例2)以下、本発明の第2の実施例
について説明する。
について説明する。
【0040】本実施例では、ポリ(3,4−エチレンジ
オキシチオフェン)微粒子が含まれる水分散液状組成物
に替えて、スルホン化ポリアニリン水溶液組成物を用い
た以外、実施例1と同様にしてコンデンサを作製した。
スルホン化ポリアニリン水溶液組成物は、シンシテック
メタルズ誌(エルゼビア発行)85巻1337頁に開示
されている方法で、約5重量%の可溶性導電性高分子が
溶解されたスルホン化ポリアニリン水溶液組成物を作製
した。
オキシチオフェン)微粒子が含まれる水分散液状組成物
に替えて、スルホン化ポリアニリン水溶液組成物を用い
た以外、実施例1と同様にしてコンデンサを作製した。
スルホン化ポリアニリン水溶液組成物は、シンシテック
メタルズ誌(エルゼビア発行)85巻1337頁に開示
されている方法で、約5重量%の可溶性導電性高分子が
溶解されたスルホン化ポリアニリン水溶液組成物を作製
した。
【0041】実施例1と同様の測定を行い、結果を前述
の(表1)に示した。
の(表1)に示した。
【0042】本実施例によるコンデンサは比較例1と比
較して、容量達成率が高く、かつ漏れ電流が低く、本発
明の優れた効果が実証された。
較して、容量達成率が高く、かつ漏れ電流が低く、本発
明の優れた効果が実証された。
【0043】(実施例3)以下、本発明の第3の実施例
について説明する。
について説明する。
【0044】本実施例では、トリイソプロピルナフタレ
ンスルホン酸第二鉄の酸化剤に替えて、n−ブチルナフ
タレンスルホン酸第二鉄を用いて導電性高分子層を形成
した以外、実施例1と同様にしてコンデンサを作製し
た。導電性高分子層の作製方法を説明する。n−ブチル
ナフタレンスルホン酸第二鉄0.6mol/lをメタノ
ールの中に入れて溶かしてから、3,4−エチレンジオ
キシチオフェンモノマ−1mol/lを加えて混合した
重合溶液にコンデンサ素子を浸漬して減圧含浸後、50
℃で30分、90℃で30分の熱処理と洗浄・乾燥を施
し、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)層か
らなる導電性高分子層を形成した。
ンスルホン酸第二鉄の酸化剤に替えて、n−ブチルナフ
タレンスルホン酸第二鉄を用いて導電性高分子層を形成
した以外、実施例1と同様にしてコンデンサを作製し
た。導電性高分子層の作製方法を説明する。n−ブチル
ナフタレンスルホン酸第二鉄0.6mol/lをメタノ
ールの中に入れて溶かしてから、3,4−エチレンジオ
キシチオフェンモノマ−1mol/lを加えて混合した
重合溶液にコンデンサ素子を浸漬して減圧含浸後、50
℃で30分、90℃で30分の熱処理と洗浄・乾燥を施
し、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)層か
らなる導電性高分子層を形成した。
【0045】実施例1と同様の測定を行い、結果を前述
の(表1)に示した。
の(表1)に示した。
【0046】本実施例によるコンデンサは比較例1と比
較して、容量達成率が高く、かつ漏れ電流が低く、本発
明の優れた効果が実証された。
較して、容量達成率が高く、かつ漏れ電流が低く、本発
明の優れた効果が実証された。
【0047】(実施例4)以下、本発明の第4の実施例
について説明する。
について説明する。
【0048】本実施例では、ポリ(3,4−エチレンジ
オキシチオフェン)層からなる導電性高分子層に替え
て、ポリピロール層からなる導電性高分子層を用いた以
外、実施例1と同様にしてコンデンサを作製した。ポリ
ピロール層からなる導電性高分子層の作製方法を説明す
る。トリイソプロピルナフタレンスルホン酸第二鉄0.
6mol/lをメタノールの中に入れて溶かしてから−
20℃に冷却した。それに、−20℃に冷却したピロー
ルモノマ−1mol/lを加えて混合した重合溶液にコ
ンデンサ素子9を浸漬して減圧含浸後、40℃で30
分、90℃で30分の熱処理と洗浄・乾燥を施し、ポリ
ピロール層からなる導電性高分子層を形成した。
オキシチオフェン)層からなる導電性高分子層に替え
て、ポリピロール層からなる導電性高分子層を用いた以
外、実施例1と同様にしてコンデンサを作製した。ポリ
ピロール層からなる導電性高分子層の作製方法を説明す
る。トリイソプロピルナフタレンスルホン酸第二鉄0.
6mol/lをメタノールの中に入れて溶かしてから−
20℃に冷却した。それに、−20℃に冷却したピロー
ルモノマ−1mol/lを加えて混合した重合溶液にコ
ンデンサ素子9を浸漬して減圧含浸後、40℃で30
分、90℃で30分の熱処理と洗浄・乾燥を施し、ポリ
ピロール層からなる導電性高分子層を形成した。
【0049】実施例1と同様の測定を行い、結果を前述
の(表1)に示した。
の(表1)に示した。
【0050】本実施例によるコンデンサは比較例1と比
較して、容量達成率が高く、かつ漏れ電流が低く、本発
明の優れた効果が実証された。
較して、容量達成率が高く、かつ漏れ電流が低く、本発
明の優れた効果が実証された。
【0051】(実施例5)以下、本発明の第5の実施例
について説明する。
について説明する。
【0052】本実施例では、実施例1と同様にして下地
層と導電性高分子層からなる陰極導電層を形成し、熱処
理と洗浄・乾燥を施した後に、水を溶媒とした化成溶液
中で修復化成を施してコンデンサを作製した。修復化成
を説明する。70℃のアジピン酸アンモニウム6%水溶
液に浸し、まず20mV/secの速度で0から60V
まで上げ、続けて60Vの定電圧を30分間印加して修
復化成を施した。修復化成後に洗浄、乾燥を施した。
層と導電性高分子層からなる陰極導電層を形成し、熱処
理と洗浄・乾燥を施した後に、水を溶媒とした化成溶液
中で修復化成を施してコンデンサを作製した。修復化成
を説明する。70℃のアジピン酸アンモニウム6%水溶
液に浸し、まず20mV/secの速度で0から60V
まで上げ、続けて60Vの定電圧を30分間印加して修
復化成を施した。修復化成後に洗浄、乾燥を施した。
【0053】アルミケースの中に封口ゴムを取り付けた
コンデンサ素子を入れてから封止し、エージングを施し
てコンデンサを完成させた。
コンデンサ素子を入れてから封止し、エージングを施し
てコンデンサを完成させた。
【0054】105℃雰囲気中にコンデンサを入れて、
0.1V/secで電圧をスイープさせ、破壊電圧を測
定した。10個の平均値が約67.3Vであった。
0.1V/secで電圧をスイープさせ、破壊電圧を測
定した。10個の平均値が約67.3Vであった。
【0055】本実施例によれば、アルキルナフタレンス
ルホン酸アニオンをドーパントとして用いた場合、導電
性高分子層形成後に少なくとも水を含む化成溶液中で修
復化成を施す際、化成溶液中に溶けだしたアルキルナフ
タレンスルホン酸アニオンの影響によって酸化皮膜が腐
食され難く、また化成電流が大きくならず、強い酸化皮
膜を形成できるために、かつ導電性組成物層には絶縁性
のバインダーが含まれているために、耐圧の高い固体電
解コンデンサを得られる。また、陽極酸化皮膜が形成さ
れた陽極箔や陰極箔と導電性高分子層の間に導電性組成
物層を設けることにより、被覆性が向上するために容量
達成率の高い固体電解コンデンサを得られる。
ルホン酸アニオンをドーパントとして用いた場合、導電
性高分子層形成後に少なくとも水を含む化成溶液中で修
復化成を施す際、化成溶液中に溶けだしたアルキルナフ
タレンスルホン酸アニオンの影響によって酸化皮膜が腐
食され難く、また化成電流が大きくならず、強い酸化皮
膜を形成できるために、かつ導電性組成物層には絶縁性
のバインダーが含まれているために、耐圧の高い固体電
解コンデンサを得られる。また、陽極酸化皮膜が形成さ
れた陽極箔や陰極箔と導電性高分子層の間に導電性組成
物層を設けることにより、被覆性が向上するために容量
達成率の高い固体電解コンデンサを得られる。
【0056】また、化成溶液の溶媒として、エチレング
リコール100%ならびにエチレングリコール50重量
%と水50重量%を用いた場合、破壊電圧は約45.1
Vと約58.6Vであった。化成溶液の溶媒として水の
割合を多くした方が強い酸化皮膜が形成され、耐圧が高
くなるものと考えられる。
リコール100%ならびにエチレングリコール50重量
%と水50重量%を用いた場合、破壊電圧は約45.1
Vと約58.6Vであった。化成溶液の溶媒として水の
割合を多くした方が強い酸化皮膜が形成され、耐圧が高
くなるものと考えられる。
【0057】(比較例2)比較例2として、トリイソプ
ロピルナフタレンスルホン酸第二鉄に替えてパラトルエ
ンスルホン酸第二鉄を酸化剤として用いた以外、実施例
1と同様にして下地層と導電性高分子層からなる陰極導
電層を形成し、熱処理と洗浄・乾燥を施した後に、水を
溶媒とした化成溶液中で実施の形態5と同様にして修復
化成を施した。導電性高分子層の作製方法を説明する。
パラトルエンスルホン酸第二鉄0.6mol/lをメタ
ノールの中に入れて溶かしてから、3,4−エチレンジ
オキシチオフェンモノマ−1mol/lを加えて混合し
た重合溶液にコンデンサ素子を浸漬して減圧含浸後、5
0℃で30分、90℃で30分の熱処理と洗浄・乾燥を
施し、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)層
からなる導電性高分子層を形成した。
ロピルナフタレンスルホン酸第二鉄に替えてパラトルエ
ンスルホン酸第二鉄を酸化剤として用いた以外、実施例
1と同様にして下地層と導電性高分子層からなる陰極導
電層を形成し、熱処理と洗浄・乾燥を施した後に、水を
溶媒とした化成溶液中で実施の形態5と同様にして修復
化成を施した。導電性高分子層の作製方法を説明する。
パラトルエンスルホン酸第二鉄0.6mol/lをメタ
ノールの中に入れて溶かしてから、3,4−エチレンジ
オキシチオフェンモノマ−1mol/lを加えて混合し
た重合溶液にコンデンサ素子を浸漬して減圧含浸後、5
0℃で30分、90℃で30分の熱処理と洗浄・乾燥を
施し、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)層
からなる導電性高分子層を形成した。
【0058】比較例2では、パラトルエンスルホン酸ア
ニオンをドーパントとして用いた場合、導電性高分子層
形成後に水を溶媒とした化成溶液中で修復化成を施す
際、溶けだしたパラトルエンスルホン酸アニオンの影響
により酸化皮膜が腐食されて化成電流が大きくなり、極
端なものではショートが生じ、耐圧の高い固体電解コン
デンサを得ることはできなかった。
ニオンをドーパントとして用いた場合、導電性高分子層
形成後に水を溶媒とした化成溶液中で修復化成を施す
際、溶けだしたパラトルエンスルホン酸アニオンの影響
により酸化皮膜が腐食されて化成電流が大きくなり、極
端なものではショートが生じ、耐圧の高い固体電解コン
デンサを得ることはできなかった。
【0059】なお、実施の形態及び実施例ではアルキル
ナフタレンスルホン酸アニオンとしてトリイソプロピル
ナフタレンスルホン酸アニオンとn−ブチルナフタレン
スルホン酸アニオンを用いた場合について述べたが、そ
れ以外のモノイソプロピルナフタレンスルホン酸アニオ
ン、ジブチルナフタレンスルホン酸アニオン、トリイソ
プロピルナフタレンジスルホン酸アニオン等も用いるこ
ともでき、本発明はその種類に限定されない。
ナフタレンスルホン酸アニオンとしてトリイソプロピル
ナフタレンスルホン酸アニオンとn−ブチルナフタレン
スルホン酸アニオンを用いた場合について述べたが、そ
れ以外のモノイソプロピルナフタレンスルホン酸アニオ
ン、ジブチルナフタレンスルホン酸アニオン、トリイソ
プロピルナフタレンジスルホン酸アニオン等も用いるこ
ともでき、本発明はその種類に限定されない。
【0060】また、実施の形態及び実施例では修復化成
の化成溶液の電解質としてアジピン酸アンモニウムを用
いた場合について述べたが、リン酸、ホウ酸、酢酸、ま
たはそれらの塩を用いることができ、本発明はその種類
に限定されない。
の化成溶液の電解質としてアジピン酸アンモニウムを用
いた場合について述べたが、リン酸、ホウ酸、酢酸、ま
たはそれらの塩を用いることができ、本発明はその種類
に限定されない。
【0061】また、実施の形態及び実施例では陽極箔と
陰極箔とをセパレータを介して巻回した場合について述
べたが、平板状のアルミニウムエッチド箔をセパレータ
を介して積層したコンデンサにも適用でき、本発明は電
極形状に限定されない。
陰極箔とをセパレータを介して巻回した場合について述
べたが、平板状のアルミニウムエッチド箔をセパレータ
を介して積層したコンデンサにも適用でき、本発明は電
極形状に限定されない。
【0062】また、実施の形態及び実施例では弁金属が
アルミニウムの場合についてのみ述べたが、その他タン
タル、ジルコニウム、ニオブ、ハフニウム、及びチタン
さらにはそれらの金属間化合物等も使用可能である。
アルミニウムの場合についてのみ述べたが、その他タン
タル、ジルコニウム、ニオブ、ハフニウム、及びチタン
さらにはそれらの金属間化合物等も使用可能である。
【0063】また、実施の形態及び実施例では可溶性導
電性高分子としてスルホン化ポリアニリンを、導電性高
分子微粒子としてポリ(3,4−エチレンジオキシチオ
フェン)を用いたが、可溶性の、あるいは分散可能な導
電性高分子であればそれ以外の材料も用いることもで
き、本発明はその種類に限定されない。
電性高分子としてスルホン化ポリアニリンを、導電性高
分子微粒子としてポリ(3,4−エチレンジオキシチオ
フェン)を用いたが、可溶性の、あるいは分散可能な導
電性高分子であればそれ以外の材料も用いることもで
き、本発明はその種類に限定されない。
【0064】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、陽極箔や
陰極箔と導電性高分子層の間に導電性組成物層を設ける
ことにより被覆性が向上するため、容量達成率の高い固
体電解コンデンサを得ることができるという有利な効果
が得られる。
陰極箔と導電性高分子層の間に導電性組成物層を設ける
ことにより被覆性が向上するため、容量達成率の高い固
体電解コンデンサを得ることができるという有利な効果
が得られる。
【0065】また、アルキルナフタレンスルホン酸アニ
オンをドーパントとして用いた場合、陽極酸化皮膜から
なる誘電体層に損傷を与え難く、かつ導電性組成物層に
は絶縁性のバインダーが含まれているために、漏れ電流
が低く、耐湿性の高い固体電解コンデンサを得ることが
できるという有利な効果が得られる。
オンをドーパントとして用いた場合、陽極酸化皮膜から
なる誘電体層に損傷を与え難く、かつ導電性組成物層に
は絶縁性のバインダーが含まれているために、漏れ電流
が低く、耐湿性の高い固体電解コンデンサを得ることが
できるという有利な効果が得られる。
【0066】さらに、本発明によれば、アルキルナフタ
レンスルホン酸アニオンをドーパントとして用いた場
合、導電性高分子層形成後に少なくとも水を含む化成溶
液中で修復化成を施す際、化成溶液中に溶けだしたアル
キルナフタレンスルホン酸アニオンの影響によって酸化
皮膜が腐食され難く、また化成電流が大きくならず、強
い酸化皮膜を形成できるために、かつ導電性組成物層に
は絶縁性のバインダーが含まれているために、耐圧の高
い固体電解コンデンサを得ることができるという有利な
効果が得られる。
レンスルホン酸アニオンをドーパントとして用いた場
合、導電性高分子層形成後に少なくとも水を含む化成溶
液中で修復化成を施す際、化成溶液中に溶けだしたアル
キルナフタレンスルホン酸アニオンの影響によって酸化
皮膜が腐食され難く、また化成電流が大きくならず、強
い酸化皮膜を形成できるために、かつ導電性組成物層に
は絶縁性のバインダーが含まれているために、耐圧の高
い固体電解コンデンサを得ることができるという有利な
効果が得られる。
【図1】本発明の一実施例によるコンデンサ素子を示す
外観図
外観図
1 アルミニウムタブ 2 陽極リード 3 陽極箔 4 アルミニウムタブ 5 陰極リード 6 陰極箔 7 セパレータ 8 粘着テープ 9 コンデンサ素子
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松家 安恵 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内
Claims (2)
- 【請求項1】 陽極箔と陰極箔とをセパレータを介して
巻回したコンデンサ素子を用意する工程と、可溶性導電
性高分子が溶媒に溶解された溶液組成物にバインダーを
添加、または導電性高分子微粒子が分散媒中に分散され
た分散液状組成物にバインダーを添加して導電性組成物
前駆体を用意する工程と、前記コンデンサ素子に前記導
電性組成物前駆体を含浸させる工程と、前記導電性組成
物前駆体から前記溶媒または前記分散媒を除去して導電
性組成物層を形成する工程と、前記コンデンサ素子内に
化学重合によりアルキルナフタレンスルホン酸アニオン
をドーパントとする導電性高分子層を形成する工程とを
有する固体電解コンデンサの製造方法。 - 【請求項2】 陽極箔と陰極箔とをセパレータを介して
巻回したコンデンサ素子を用意する工程と、可溶性導電
性高分子が溶媒に溶解された溶液組成物にバインダーを
添加、または導電性高分子微粒子が分散媒中に分散され
た分散液状組成物にバインダーを添加して導電性組成物
前駆体を用意する工程と、前記コンデンサ素子に前記導
電性組成物前駆体を含浸させる工程と、前記導電性組成
物前駆体から前記溶媒または前記分散媒を除去して導電
性組成物層を形成する工程と、前記コンデンサ素子内に
化学重合によりアルキルナフタレンスルホン酸アニオン
をドーパントとする導電性高分子層を形成する工程と、
少なくとも溶媒として水を含む化成溶液を用いて修復化
成を施す工程とを有する固体電解コンデンサの製造方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001179712A JP2002373832A (ja) | 2001-06-14 | 2001-06-14 | 固体電解コンデンサの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001179712A JP2002373832A (ja) | 2001-06-14 | 2001-06-14 | 固体電解コンデンサの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002373832A true JP2002373832A (ja) | 2002-12-26 |
Family
ID=19020240
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001179712A Pending JP2002373832A (ja) | 2001-06-14 | 2001-06-14 | 固体電解コンデンサの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2002373832A (ja) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007096284A (ja) * | 2005-08-29 | 2007-04-12 | Nec Tokin Corp | 固体電解コンデンサ |
JP2008078641A (ja) * | 2006-08-24 | 2008-04-03 | Nec Tokin Corp | 固体電解コンデンサ |
JP2011151410A (ja) * | 2011-03-29 | 2011-08-04 | Panasonic Corp | 電解コンデンサ |
JP2011216752A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-27 | Nippon Chemicon Corp | 固体電解コンデンサ |
US8339770B2 (en) | 2006-02-21 | 2012-12-25 | Shin-Etsu Polymer Co., Ltd. | Capacitor and method for producing thereof |
EP2698802A1 (en) * | 2004-09-07 | 2014-02-19 | Panasonic Corporation | Electrolytic capacitor comprising a separtor comprising a conductive polymer containing a p-dopant on its surface |
WO2015029693A1 (ja) * | 2013-08-28 | 2015-03-05 | Hoya株式会社 | マスクブランク、マスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法 |
JP2018504785A (ja) * | 2015-02-06 | 2018-02-15 | 肇慶緑宝石電子科技股▲フン▼有限公司 | 高電圧の固体アルミニウム電解コンデンサの製造方法 |
CN114496577A (zh) * | 2020-10-26 | 2022-05-13 | 丰宾电子(深圳)有限公司 | 一种导电性高分子混合型铝电解电容及其制造方法 |
CN114505483A (zh) * | 2021-11-19 | 2022-05-17 | 桂林理工大学 | 掺杂化成盐的混合浆料制备铝电解电容器阳极箔的方法 |
-
2001
- 2001-06-14 JP JP2001179712A patent/JP2002373832A/ja active Pending
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2698802A1 (en) * | 2004-09-07 | 2014-02-19 | Panasonic Corporation | Electrolytic capacitor comprising a separtor comprising a conductive polymer containing a p-dopant on its surface |
JP4739148B2 (ja) * | 2005-08-29 | 2011-08-03 | Necトーキン株式会社 | 固体電解コンデンサ |
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WO2015029693A1 (ja) * | 2013-08-28 | 2015-03-05 | Hoya株式会社 | マスクブランク、マスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法 |
JPWO2015029693A1 (ja) * | 2013-08-28 | 2017-03-02 | Hoya株式会社 | マスクブランク、マスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法 |
US9927697B2 (en) | 2013-08-28 | 2018-03-27 | Hoya Corporation | Mask blank, method of manufacturing mask blank and method of manufacturing transfer mask |
JP2018504785A (ja) * | 2015-02-06 | 2018-02-15 | 肇慶緑宝石電子科技股▲フン▼有限公司 | 高電圧の固体アルミニウム電解コンデンサの製造方法 |
CN114496577A (zh) * | 2020-10-26 | 2022-05-13 | 丰宾电子(深圳)有限公司 | 一种导电性高分子混合型铝电解电容及其制造方法 |
CN114496577B (zh) * | 2020-10-26 | 2023-10-20 | 丰宾电子科技股份有限公司 | 一种导电性高分子混合型铝电解电容及其制造方法 |
CN114505483A (zh) * | 2021-11-19 | 2022-05-17 | 桂林理工大学 | 掺杂化成盐的混合浆料制备铝电解电容器阳极箔的方法 |
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