JP2002373452A

JP2002373452A - 光記録媒体

Info

Publication number: JP2002373452A
Application number: JP2001179950A
Authority: JP
Inventors: Nobuaki Onaki; 伸晃小名木; Kazunori Ito; 和典伊藤; Hajime Yuzurihara; 肇譲原
Original assignee: Ricoh Co Ltd
Current assignee: Ricoh Co Ltd
Priority date: 2001-06-14
Filing date: 2001-06-14
Publication date: 2002-12-26

Abstract

(57)【要約】【課題】優れたオーバーライト特性を有する相変化型
光ディスクを得る。【解決手段】透明なプラスチック基板１上に第１保護
層２、相変化型記録層３、第２保護層４、反射放熱層５
をこの順に設けた光記録媒体であって、第１保護層２で
は、記録再生光の波長での屈折率を１．８以下とし、か
つ厚さを５０ｎｍ以上、７５ｎｍ以下とする。実施例で
は、トラックピッチ０．７４μｍでグルーブが形成され
ているポリカーボネート基板上に、ＺｎＳ−ＳｉＯ₂ の
第１保護層、Ａｇ₁ Ｉｎ₁₀Ｓｂ₆₄Ｔｅ₂₃Ｇｅ₂ の相変化
型記録層、ＺｎＳ−ＳｉＯ₂ の第２保護層、ＳｉＣの透
明保護膜、ＡｇにＣｕを添加した材料からなる反射放熱
層をこの順に積層し、このディスクに紫外線硬化樹脂コ
ートした後、ダミー盤と貼り合せてＤＶＤ＋ＲＷディス
クとした。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は光記録媒体に関し、
特に、優れたオーバーライト特性を有する相変化型光デ
ィスクに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】基板／第１保護層／相変化型記録層／第
２保護層／反射放熱層なる構成の通常の光記録媒体で
は、第１保護層の膜厚を振ると、図４のように反射率が
変化する。また反射率の変化状況は、第１保護層の屈折
率ｎにより異なる。例えば、屈折率ｎを２．１から１．
８に変えると、図４中のＢ点がＢａ点にシフトする。言
い換えると、例えば、反射率を２０％に維持するという
前提条件において、屈折率ｎを上記のように変化させる
と、第１保護層の膜厚を屈折率変化前に比べて厚くする
必要がある。

【０００３】ところで、一般的には図４のＡ点を用いて
光記録媒体（光記録ディスク）を作製する。図４中のＡ
点では、グルーブよりもランドのほうが変調度が取れ、
特性が良好である。グルーブで特性を出すには、図４の
ＢまたはＣ点を用いることが光学的には好ましい。光記
録ディスクでは、グルーブ記録で大きな変調度が取れる
ことが好ましい。さらにＢ点ではトラッキングサーボに
関わるプッシュプル信号ＰＰの振幅も大きく取れる。こ
のため同じＰＰでよければグルーブを浅くすることが出
来、このため、同一の変調度を保ったままで反射率が大
きくなる。また、反射率が大きくなると、プレーヤーで
再生しやすくなる。

【０００４】しかし、Ｃ点は保護層の厚さがとても厚い
ために材料費が高く、また成膜時の熱の害が大きく、基
板が変形しやすくなり製造が困難である。Ｂ点は初回記
録時の特性は上記したように良好であるが、記録時に高
温になる記録層とプラスチック基板の距離が、第１保護
層が薄いために近くなりすぎ、くり返し書き換えで基板
が熱変形し、すぐに記録再生不能になってしまう問題点
がある。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記問題点に
鑑みなされたもので、その目的は、グルーブ記録を用い
る、ＣＤ−ＲＷ，ＤＶＤ＋ＲＷなどの光ディスクにおい
て記録感度、トラッキングサーボ信号、反射率などを大
きくし、もって優れたオーバーライト特性を有する相変
化型光ディスクを提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、基板上に少なくも、第１保護層と相変化型記録層と
第２保護層と反射放熱層とをこの順に設けてなる光記録
媒体において、前記第１保護層は、記録再生光の波長で
の屈折率が１．８以下であり、かつ厚さが５０ｎｍ以
上、７５ｎｍ以下であることを特徴とする光記録媒体で
ある。

【０００７】請求項２に記載の発明は、基板が透明樹脂
からなり、相変化型記録層がＳｂとＴｅを主成分とし、
他にＧｅ，Ｉｎ，Ａｇのいずれか少なくとも一種を含む
材料からなり、前記第２保護層は厚さが１９ｎｍ以下で
あることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体であ
る。

【０００８】請求項３に記載の発明は、基板が透明樹脂
からなり、相変化型記録層はＳｂとＴｅを主成分とし、
他にＧｅ，Ｉｎ，Ａｇのいずれか少なくとも一種を含む
材料からなり、前記第２保護層は厚さが１９ｎｍ以下で
あり、さらに反射放熱層は、熱伝導率がＡｌよりも高い
反射放熱材料からなることを特徴とする請求項１に記載
の光記録媒体である。

【０００９】請求項４に記載の発明は、基板が透明樹脂
からなり、相変化型記録層はＳｂとＴｅを主成分とし、
他にＧｅ，Ｉｎ，Ａｇのいずれか少なくとも一種を含む
材料からなり、前記第２保護層は厚さが１９ｎｍ以下で
あり、さらに反射放熱層は、Ａｇを主成分とする材料か
らなることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体で
ある。

【００１０】請求項５に記載の発明は、グルーブに記録
することを特徴とする請求項３または４に記載の光記録
媒体である。

【００１１】請求項６に記載の発明は、記録再生光に対
する反射率が１８％以上で、変調度が６０％以上である
ことを特徴とする請求項５に記載の光記録媒体である。

【００１２】請求項７に記載の発明は、未記録時のプッ
シュプル信号ＰＰが０．２８以上、０．５６以下である
ことを特徴とする請求項６に記載の光記録媒体である。
ただし、前記プッシュプル信号ＰＰは、光検出器の受光
素子を半径方向に２分割した場合において、各々の出力
をＩ１，Ｉ２としたとき、（Ｉ１−Ｉ２）ｐｐ／
［｛（Ｉ１＋Ｉ２）ｍａｘ＋（Ｉ１＋Ｉ２）ｍｉｎ｝／
２］であり、またｐｐはピーク対ピーク、ｍａｘは最大
値、ｍｉｎは最小値をそれぞれ表す。

【００１３】請求項８に記載の発明は、Ａｇ合金からな
る反射放熱層と、ＺｎＳ−ＳｉＯ₂からなる第２保護層
との間に、ＺｎＳ−ＳｉＯ₂ によるＡｇ合金の硫化劣化
防止用の透明保護膜が形成されていることを特徴とする
請求項１に記載の光記録媒体である。

【００１４】本発明では、基板／第１保護層／相変化型
記録層／第２保護層／反射放熱層なる構成の光記録媒体
において、記録再生光での第１保護層の屈折率を１．８
以下とし、第１保護層の厚さに対する光記録媒体（相変
化型記録層における結晶部分）の反射率変化の周期を長
するべく、図４におけるＢ点をＢａ点とし、かつ、第１
保護層の厚さを５０ｎｍ以上、７５ｎｍ以下とする。ま
た、第２保護層の厚さを薄めにし、反射放熱層に熱伝導
率がより良い材料を用いることで、記録消去の熱が基板
に流れる量を減らす。相変化型ディスクの保護層はＺｎ
Ｓ−ＳｉＯ₂ が一般的でＳｉＯ₂ は２０ａｔ％程度が使
われるが、本発明ではＳｉＯ₂ を５０ａｔ％程度として
屈折率を下げる。

【００１５】本発明によれば、第１保護層が従来のＺｎ
Ｓ−ＳｉＯ₂ の屈折率２．１程度に比べて１．８以下と
低いために、同じ光学膜厚になるための実際の膜厚を厚
くすることができ、これにより基板への熱応力が緩和さ
れる。さらに、第２保護層を薄めにし、反射放熱層の熱
伝導率を高くしたため、記録時の熱が反射放熱層に流れ
ることで、基板への伝熱量が更に減少する。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照して説明する。本発明は、光を基板を透過させて
記録再生する、グルーブ記録タイプ構造の光記録媒体
（光記録ディスク）について、熱による基板変形などの
劣化を防止するのに特に有効である。本発明の光記録デ
ィスクでは、基板として、ポリカーボネートに代表され
る透明プラスチック材料からなるものを用いる。

【００１７】例えば、図１に示す本発明の光記録ディス
クは、透明なプラスチック基板１上に、第１保護層２、
相変化型記録層３、第２保護層４、反射放熱層５をこの
順に積層するとともに、この反射放熱層５上に、貼り合
わせ用基板７を樹脂接着層６で接合して構成されてい
る。

【００１８】相変化型記録層３に対する第１保護層２
は、ＺｎＳ−ＳｉＯ₂ 混合膜が一般的である。本発明で
は第１保護層２の屈折率を、ＺｎＳ−ＳｉＯ₂ における
のＳｉＯ₂ 比率を大きくすることで下げている。一般的
なディスクではＳｉＯ₂ 比率が２０ａｔ％であるが、本
発明では５０ａｔ％付近としている。また、第１保護層
２の膜厚は５０ｎｍ〜７５ｎｍとする。さらに、最適な
変調度や反射率が得られるように、保護層材料の組成を
調整して屈折率でディスク特性を合わせ込む。

【００１９】従来の設計法では、保護層材料の組成が固
定され、屈折率が固定されていたため、第１保護層２の
膜厚で光学膜厚を調整していた。このため、図４のＢ点
のようなところを使いたい場合、実際の物理的な膜厚が
薄くなり、基板が熱ダメージを受ける問題点があった。

【００２０】これに対し本発明では、膜厚をある目標範
囲内に設定し、保護層材料の組成を振ることで所望の反
射率などの光学特性を合わせ込む。こうして第１保護層
２の物理的な膜厚を５０ｎｍ以上に維持する。これによ
り記録消去時の基板の熱ダメージが避けられ、くり返し
書き換えに強く、グルーブでの記録再生特性に優れたデ
ィスクを得ることができる。ただし、膜厚が７５ｎｍを
超えると、再び変調度が減少するので好ましくない。ま
た、スパッタ成膜に時間がかかり、タクトタイム短縮に
逆行する。

【００２１】相変化型記録層３の構成材料はＧｅＳｂＴ
ｅ，ＡｇＩｎＳｂＴｅが一般的であるが、ＣＤ−ＲＷ，
ＤＶＤ−ＲＷ，ＤＶＤ＋ＲＷのグルーブ記録ディスクで
は、ジッターが低いという特徴から、ＳｂＴｅ基である
ＡｇＩｎＳｂＴｅを用いる。相変化型記録層３の膜厚は
１４ｎｍ〜３０ｎｍ程度とする。

【００２２】第２保護層４の材料としては、ＺｎＳ−Ｓ
ｉＯ₂ やＧｅＣｒＮｘ（ｘの値は任意）などを用いる。
この第２保護層４には、保護の役割と共に、記録時は一
旦断熱して相変化型記録層３を融かした後、前記反射放
熱層５で一気に急冷することが求められる。また、光学
的には変調度を大きくするために、屈折率は大きな方が
良い。したがって第１保護層２とは異なり、ＳｉＯ₂ 比
率を例えば２０ａｔ％と、通常のディスクと同等にす
る。第２保護層４の膜厚は通常は１５ｎｍ〜３５ｎｍ程
度であるが、本発明では１９ｎｍ以下とする。こうする
ことで、反射放熱層５への熱の流れを早くし、基板１の
温度上昇を抑える。

【００２３】反射放熱層５には、ＡｌＣｕやＡｌＴｉの
ようなＡｌ合金や、ＡｇＣｕなどのＡｇ合金を用いる。
第２保護層４の項で述べたように、相変化型記録層３は
これをその融点以上まで加熱して記録するものである
が、記録後はすみやかに冷やすことが求められる。した
がって、反射放熱層５には熱伝導性の良いことが必要で
ある。反射放熱層５の耐蝕性を高めるため、一般的にＡ
ｌ合金が用いられるが、Ａｌ合金を調製するためのＡｌ
への添加材料としては、添加することでＡｌ本来の熱伝
導が落ちないものが良く、具体例としてＡｌＣｕが挙げ
られる。

【００２４】また、反射放熱層５をＡｇで形成すれば、
熱伝導性がＡｌよりもさらに良くなって好ましいうえ、
繰り返し書き換え特性が向上する。なお、Ａｇの場合で
も、添加物が多くなると、熱伝導率がＡｇ合金並みに低
下するので、添加元素の種類と添加量には配慮が必要で
ある。添加元素としてはＣｕ，Ａｕなどが好ましい。反
射放熱層５の膜厚は１００ｎｍ〜２００ｎｍ程度とす
る。膜厚が１２０ｎｍを超えるとオーバーライト特性が
更に良好になる。しかし、逆に厚すぎると生産性が低下
するため、膜厚は１２０ｎｍ以上１６０ｎｍ以下が特に
好ましい。

【００２５】なお、反射放熱層５をＡｇ合金で形成した
場合は、これが第２保護層４の材料であるＺｎＳ−Ｓｉ
Ｏ₂ のＳによって硫化劣化するおそれがある。これを防
止するには、何らかの透明保護層をＺｎＳ−ＳｉＯ₂
（第２保護層４）とＡｇ合金（反射放熱層５）の間に介
在させる必要がある。たとえば、ＳｉＣからなる透明保
護層の場合には、この透明保護層の膜厚は３ｎｍ〜５ｎ
ｍあれば良い。

【００２６】反射放熱層５の成膜には、マグネトロンス
パッタリング装置を用いるのが一般的である。なお、本
発明の実施例では、すべてバルザース社製のビッグスプ
リンター枚葉スパッタ装置を用いた。ＣＤの場合にあっ
ては、反射放熱層５の成膜後に紫外線硬化樹脂によるオ
ーバーコートを施すことで光記録媒体が完成する。ま
た、ＤＶＤでは、ダミー盤と貼り合せることで完成す
る。

【００２７】できあがったディスクについてＤＶＤ系は
再生信号の反射率が１８％以上で、かつ変調度６０％以
上であると、再生専用型ＤＶＤの信号規格の一部を満足
させることができ、記録型ディスクであるにもかかわら
ず、記録後に再生専用型プレーヤーで再生することがで
きるようになる。

【００２８】

【実施例】実施例１断面構造が図１に示される光ディスクを作製した。トラ
ックピッチ０．７４μｍでグルーブが形成されているＤ
ＶＤ＋ＲＷ用０．６ｍｍポリカーボネート基板上にマグ
ネトロンスパッタリングで５層の膜を形成した。基板１
上の第１層（第１保護層２）はＺｎＳ−ＳｉＯ₂ で、Ｓ
ｉＯ₂ 比率５０ａｔ％、屈折率１．８、膜厚５５ｎｍで
ある。

【００２９】第２層（相変化型記録層３）はＡｇ₁ Ｉｎ
₁₀Ｓｂ₆₄Ｔｅ₂₃Ｇｅ₂ （数字はａｔ％を示す。以下同
様）からなり、膜厚は１８ｎｍである。第３層（第２保
護層４）はＺｎＳ−ＳｉＯ₂ でＳｉＯ₂ 比率は２０ａｔ
％、屈折率２．１で、膜厚は１１ｎｍである。第４層
（透明保護膜：図１では略されている）はＳｉＣで、膜
厚は３ｎｍである。第５層（反射放熱層５）はＡｇにＣ
ｕを２ａｔ％添加したもので、膜厚は１４０ｎｍであ
る。このディスクに紫外線硬化樹脂（大日本インキ製：
ＳＤ３１８）を１０μｍにコート（図１には略してあ
る）した後、接着剤で厚さ０．６ｍｍのダミー盤と貼り
合せてＤＶＤ＋ＲＷディスクとした。

【００３０】このディスクを日立コンピュータ社製のレ
ーザー初期化装置にて全面結晶化し、パルステック社製
のテスターでグルーブを記録再生して評価した。記録再
生には６６０ｎｍ、ＮＡ０．６５の光ヘッドを用いた。
記録再生条件は以下のとおりである。

【００３１】・記録線速度：８．５ｍ／ｓ・記録クロック：６６ＭＨｚ・信号はランダムデータをＥＦＭ＋変調した・記録密度：０．２６７μｍ／ｂｉｔ・記録パワーピーク：１４ｍＷ・消去パワー：７．５ｍＷ・ボトムパワー：０．１ｍＷ・再生線速度：３．５ｍ／ｓ・再生パワー：０．７ｍＷ

【００３２】その結果、オーバーライト１０００回後の
ジッターは９％未満、反射率は２０％、変調度は６８％
であった。トラッキング信号ＰＰも規格内であった。し
たがって、この記録済みディスクはＤＶＤ＋ＲＷ規格を
満足した。

【００３３】実施例２トラックピッチ１．６μｍでグルーブが形成されている
ＣＤ−ＲＷ用１．２ｍｍポリカーボネート基板上にマグ
ネトロンスパッタリングで４層の膜を形成した。第１層
はＺｎＳ−ＳｉＯ₂ で、ＳｉＯ₂ 比率３０ａｔ％、屈折
率２．０、膜厚５５ｎｍである。第２層は、Ａｇ₅ Ｉｎ
₆ Ｓｂ₆₄Ｔｅ₂₃Ｇｅ₂ の相変化型記録層２０ｎｍであ
る。第３層はＺｎＳ−ＳｉＯ₂ で、ＳｉＯ₂ 比率２０ａ
ｔ％、屈折率２．１、膜厚１７ｎｍである。第４層は、
ＡｌにＣｕを２ａｔ％添加したもので、膜厚は１２０ｎ
ｍである。このディスクに紫外線硬化樹脂（大日本イン
キ製：ＳＤ３１８）を１０μｍコートした後、ＣＤ＋Ｒ
Ｗディスクとした。

【００３４】このディスクを日立コンピュータ社製レー
ザー初期化装置にて全面結晶化し、パルステック社製の
テスターでグルーブを記録再生して評価した。記録再生
は７８０ｎｍ、ＮＡ０．５の光ヘッドを用いた。記録再
生条件は以下のとおりである。

【００３５】・記録線速度：２．４ｍ／ｓ・記録クロック：８．６ＭＨｚ・信号はランダムデータをＥＦＭ＋変調した・記録密度：０．８３μｍ／ｂｉｔ・記録パワーピーク：１２ｍＷ・消去パワー：６．５ｍＷ・ボトムパワー：０．１ｍＷ・再生線速度：２．４ｍ／ｓ・再生パワー：１．０ｍＷ

【００３６】その結果、オーバーライト１０００回後の
ジッターは２２ｎｓｅｃ未満であった。反射率は２０
％、変調度は６３％であった。トラッキング信号ＰＰも
規格内であった。したがって、このディスクはＣＤ−Ｒ
Ｗ規格を満足した。

【００３７】実施例３トラックピッチ０．７４μｍでグルーブが形成されてい
るＤＶＤ＋ＲＷ用０．６ｍｍポリカーボネート基板上に
マグネトロンスパッタリングで５層の膜を形成した。

【００３８】第１層はＺｎＳ−ＳｉＯ₂ で、ＳｉＯ₂ 比
率５０ａｔ％、屈折率１．８、膜厚５５ｎｍである。第
２層はＡｇ₁ Ｉｎ₁₀Ｓｂ₆₄Ｔｅ₂₃Ｇｅ₂ の相変化型記録
層で、膜厚は１８ｎｍである。第３層はＺｎＳ−ＳｉＯ
₂ で、ＳｉＯ₂ 比率２０ａｔ％、屈折率２．１、膜厚１
５ｎｍである。第４層はＳｉＣで膜厚３ｎｍである。第
５層はＡｇにＣｕを２ａｔ％添加したもので、膜厚は１
４０ｎｍである。このディスクに紫外線硬化樹脂（大日
本インキ製：ＳＤ３１８）を１０μｍコートした後、接
着剤で０．６ｍｍのダミー盤と貼り合せてＤＶＤ＋ＲＷ
ディスクとした。

【００３９】このディスクを日立コンピュータ社製レー
ザー初期化装置にて全面結晶化し、パルステック社製の
テスターでグルーブを記録再生して評価した。記録再生
は６６０ｎｍ、ＮＡ０．６５の光ヘッドを用いた。記録
再生条件は以下のとおりである。

【００４０】・記録線速度：８．５ｍ／ｓ・記録クロック：６６ＭＨｚ・信号はランダムデータをＥＦＭ＋変調した・記録密度：０．２６７μｍ／ｂｉｔ・記録パワーピーク：１４ｍＷ・消去パワー：７．５ｍＷ・ボトムパワー：０．１ｍＷ・再生線速度：３．５ｍ／ｓ・再生パワー：０．７ｍＷ

【００４１】図２に第１保護層の厚さと、ジッター９％
以下を保てるオーバーライト回数の関係を示す。この図
２では第３層を１５ｎｍに固定した。図２から第１保護
層が５０ｎｍ以下になると急激にオーバーライト劣化が
激しくなることがわかる。

【００４２】次に図３で、第２保護層の厚さとオーバー
ライト回数の関係を見た。図２と同様にジッター９％以
下を保てる書き換え回数でオーバーライト回数を定義し
た。第１保護層を薄めにした場合、第２保護層も少し薄
くしたほうが、書き換え回数が伸びることが分かる。

【００４３】このように反射放熱層側に熱をより多く流
すほうが、第１層が薄いディスクには特に有効である。
したがって、反射放熱層には熱伝導率の大きな材料が好
ましい。この意味でＡｌ合金よりもＡｇ合金のほうが好
ましい。ただし、ＺｎＳ−ＳｉＯ₂ によるＡｇの硫化劣
化の可能性があるので、バリア層を挿入する必要があ
り、製造コストなどを考慮してＡｌ合金を用いるか、Ａ
ｇ合金を用いるかを決定する必要がある。

【００４４】ＣＤ−ＲＷの場合は記録密度が低く、レー
ザー光のパワー密度も低いためにオーバーライト時の熱
ダメージが小さいので、この場合、Ａｇ反射層は必須で
はなく、Ａｌ合金でも実用的な特性が得られる。しか
し、Ａｇ系にしたほうが、オーバーライト特性がより向
上する。

【００４５】比較例１トラックピッチ０．７４μｍでグルーブが形成されてい
るＤＶＤ−ＲＷ用０．６ｍｍポリカーボネート基板上に
マグネトロンスパッタリングで４層の膜を形成した。第
１層はＺｎＳ−ＳｉＯ₂ で、ＳｉＯ₂ 比率２０ａｔ％、
屈折率２．１、膜厚４０ｎｍである。第２層はＡｇ₁ Ｉ
ｎ₁₀Ｓｂ₆₄Ｔｅ₂₃Ｇｅ₂ の相変化型記録層で、膜厚は１
８ｎｍである。第３層はＺｎＳ−ＳｉＯ₂ で、ＳｉＯ₂
比率２０ａｔ％、屈折率２．１、膜厚２０ｎｍである。
第４層はＡｇにＣｕを２ａｔ％添加したもので、膜厚は
１４０ｎｍである。このディスクに紫外線硬化樹脂（大
日本インキ製：ＳＤ３１８）を１０μｍコートした後、
接着剤で０．６ｍｍのダミー盤と貼り合せてＤＶＤ−Ｒ
Ｗディスクとした。

【００４６】このディスクを日立コンピュータ社製レー
ザー初期化装置にて全面結晶化し、パルステック社製の
テスターでグルーブを記録再生して評価した。記録再生
は６６０ｎｍ、ＮＡ０．６５の光ヘッドを用いた。記録
再生条件は以下のとおりである。

【００４７】・記録線速度：７．０ｍ／ｓ・記録クロック：５２ＭＨｚ・信号はランダムデータをＥＦＭ＋変調した・記録密度：０．２６７μｍ／ｂｉｔ・記録パワーピーク：１３．５ｍＷ・消去パワー：７．０ｍＷ・ボトムパワー：０．１ｍＷ・再生線速度：３．５ｍ／ｓ・再生パワー：０．７ｍＷ

【００４８】その結果、オーバーライト２０回後のジッ
ターは９％であった。その後１０００回ではＰＬＬがロ
ックできないほど信号が劣化した。また、トッラッキン
グエラー信号の振幅も低下し、基板のグルーブが変形し
たことは明らかであった。なお、このディスクは初期に
は反射率１８％、変調度７０％で、トラッキング信号も
規格内であった。したがって、オーバーライトの熱ダメ
ージのみが問題である。

【００４９】

【発明の効果】（１）以上の説明で明らかなように、請
求項１の発明によれば、従来より薄い第１保護層の厚さ
でＣＤ−ＲＷ，ＤＶＤ＋ＲＷ，ＤＶＤ−ＲＷなどのディ
スクにおいて反射率、変調度を規格内に入れたディスク
を得ることができる。（２）請求項２の発明によれば、第２保護層を薄めにす
ることで基板への熱の流れを小さくしてオーバーライト
特性を向上させることが可能である。（３）請求項３，４の発明によれば、反射放熱層が従来
のＡｌ合金に比べて熱伝導率の高い材料からなるため、
薄い第１保護層を持つにもかかわらず、良好なオーバー
ライト特性を持つことができる。（４）請求項５の発明によれば、グルーブ記録のＤＶＤ
＋ＲＷ，ＤＶＤ−ＲＷに関して光の位相がグルーブに最
適化されることにより、良好な反射率と変調度が得られ
る。

【００５０】このように、従来では基板の熱ダメージ発
生のために使うことのできなかった、薄い第１保護層の
膜厚を、図４のＢ点からＢａ点近傍にシフトすること
で、初めて実用性のある光記録ディスクを作製すること
ができる。また前記Ｂ点は、グルーブ記録に特に有効で
あって、グルーブ記録の光ディスクであるＣＤ−ＲＷ，
ＤＶＤ＋ＲＷ，ＤＶＤ−ＲＷには特に有効である。

【００５１】（５）請求項６，７の発明によれば、特に
優れた性能を持つグルーブ記録タイプのディスクを提供
できる。また、請求項７の発明に係るディスクでは、未
記録時のプッシュプル信号ＰＰが０．２８以上０．５６
以下であるため、トラッキングサーボ機構を的確に動作
させることができる。

【００５２】（６）請求項８の発明によれば、ＺｎＳ−
ＳｉＯ₂ からなる第２保護層による、Ａｇ合金からなる
反射放熱層の硫化劣化が防止される。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る光ディスクの構造を示す断面図で
ある。

【図２】第１保護層の厚さとオーバーライト回数の関係
を示す図である。

【図３】第２保護層の厚さとオーバーライト回数の関係
を示す図である。

【図４】第１保護層の厚さと光ディスクの反射率の関係
を示す図である。

【符号の説明】

１プラスチック基板２第１保護層３相変化型記録層４第２保護層５反射放熱層６樹脂接着層７貼り合わせ基板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ１１Ｂ 7/24 Ｇ１１Ｂ 7/24 ５３５Ｈ５３８５３８Ｃ５３８ＥＢ４１Ｍ 5/26 Ｂ４１Ｍ 5/26 ＸＦターム(参考） 2H111 EA04 EA12 EA23 EA31 FA01 FA12 FA14 FA18 FA23 FA25 FA27 FB05 FB09 FB12 FB17 FB21 5D029 HA04 JA01 JB18 JB35 JC02 JC20 KB03 LA12 LB01 LB02 LB03 LB07 LC06 LC21 MA17

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に少なくも、第１保護層と相変化
型記録層と第２保護層と反射放熱層とをこの順に設けて
なる光記録媒体において、前記第１保護層は、記録再生
光の波長での屈折率が１．８以下であり、かつ厚さが５
０ｎｍ以上、７５ｎｍ以下であることを特徴とする光記
録媒体。
【請求項２】基板が透明樹脂からなり、相変化型記録
層がＳｂとＴｅを主成分とし、他にＧｅ，Ｉｎ，Ａｇの
いずれか少なくとも一種を含む材料からなり、前記第２
保護層は厚さが１９ｎｍ以下であることを特徴とする請
求項１に記載の光記録媒体。
【請求項３】基板が透明樹脂からなり、相変化型記録
層はＳｂとＴｅを主成分とし、他にＧｅ，Ｉｎ，Ａｇの
いずれか少なくとも一種を含む材料からなり、前記第２
保護層は厚さが１９ｎｍ以下であり、さらに反射放熱層
は、熱伝導率がＡｌよりも高い反射放熱材料からなるこ
とを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体。
【請求項４】基板が透明樹脂からなり、相変化型記録
層はＳｂとＴｅを主成分とし、他にＧｅ，Ｉｎ，Ａｇの
いずれか少なくとも一種を含む材料からなり、前記第２
保護層は厚さが１９ｎｍ以下であり、さらに反射放熱層
は、Ａｇを主成分とする材料からなることを特徴とする
請求項１に記載の光記録媒体。
【請求項５】グルーブに記録することを特徴とする請
求項３または４に記載の光記録媒体。
【請求項６】記録再生光に対する反射率が１８％以
上、かつ、変調度が６０％以上であることを特徴とする
請求項５に記載の光記録媒体。
【請求項７】未記録時のプッシュプル信号ＰＰが０．
２８以上０．５６以下であることを特徴とする請求項６
に記載の光記録媒体。（ただし、前記プッシュプル信号
ＰＰは、光検出器の受光素子を半径方向に２分割した場
合において、各々の出力をＩ１，Ｉ２としたとき、（Ｉ
１−Ｉ２）ｐｐ／［｛（Ｉ１＋Ｉ２）ｍａｘ＋（Ｉ１＋
Ｉ２）ｍｉｎ｝／２］であり、またｐｐはピーク対ピー
ク、ｍａｘは最大値、ｍｉｎは最小値をそれぞれ表
す。）
【請求項８】Ａｇ合金からなる反射放熱層と、ＺｎＳ
−ＳｉＯ₂ からなる第２保護層との間に、ＺｎＳ−Ｓｉ
Ｏ₂ によるＡｇ合金の硫化劣化防止用の透明保護膜が形
成されていることを特徴とする請求項１に記載の光記録
媒体。