JP2002371196A - 組成物、膜の製造方法、機能素子、機能素子の製造方法、電気光学装置の製造方法、及び電子機器の製造方法 - Google Patents
組成物、膜の製造方法、機能素子、機能素子の製造方法、電気光学装置の製造方法、及び電子機器の製造方法Info
- Publication number
- JP2002371196A JP2002371196A JP2002067729A JP2002067729A JP2002371196A JP 2002371196 A JP2002371196 A JP 2002371196A JP 2002067729 A JP2002067729 A JP 2002067729A JP 2002067729 A JP2002067729 A JP 2002067729A JP 2002371196 A JP2002371196 A JP 2002371196A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- composition
- functional
- organic
- film
- producing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】組成物作成後、及び組成物塗布過程において、
安定な組成物を作製し、更に、この組成物を用いて均一
かつ均質な薄膜を形成する膜の製造方法並びに機能素
子、更にこの機能素子を有する電気光学装置及び電子機
器、特に有機ＥＬ素子を提供する。 【解決手段】１以上の置換基を有し、構成原子として酸
素原子を含有する複素環式化合物の少なくとも１種を含
む溶媒と、有機ＥＬ材料、導電性材料、絶縁性材料及び
半導体材料からなる群より選択される機能材料とからな
る組成物を作製し、この組成物を用いて機能膜並びに機
能素子を作製する。
安定な組成物を作製し、更に、この組成物を用いて均一
かつ均質な薄膜を形成する膜の製造方法並びに機能素
子、更にこの機能素子を有する電気光学装置及び電子機
器、特に有機ＥＬ素子を提供する。 【解決手段】１以上の置換基を有し、構成原子として酸
素原子を含有する複素環式化合物の少なくとも１種を含
む溶媒と、有機ＥＬ材料、導電性材料、絶縁性材料及び
半導体材料からなる群より選択される機能材料とからな
る組成物を作製し、この組成物を用いて機能膜並びに機
能素子を作製する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は機能材料の薄膜形
成、特に吐出装置を使用する機能材料のパターン膜形成
に用いられ、安定して吐出できる組成物（吐出組成
物）、及び該組成物を用いて均一な膜（機能膜）を形成
する膜の製造方法、機能素子、機能素子の製造方法、電
気光学装置の製造方法、及び電子機器の製造方法に関す
る。
成、特に吐出装置を使用する機能材料のパターン膜形成
に用いられ、安定して吐出できる組成物（吐出組成
物）、及び該組成物を用いて均一な膜（機能膜）を形成
する膜の製造方法、機能素子、機能素子の製造方法、電
気光学装置の製造方法、及び電子機器の製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】液相からの薄膜作製方法として、スピン
コート法、ゾルゲル法、ブレード法等が広く知られてい
る。上記の方法では、溶質である材料を溶媒に溶解或い
は分散させた組成物を基材に塗布し、加熱等により溶媒
を取り除くことで機能薄膜を作製する。
コート法、ゾルゲル法、ブレード法等が広く知られてい
る。上記の方法では、溶質である材料を溶媒に溶解或い
は分散させた組成物を基材に塗布し、加熱等により溶媒
を取り除くことで機能薄膜を作製する。
【０００３】機能材料のパターンニングにはフォトリソ
グラフィー法が広く採用されているが、フォトリソグラ
フィー法にはコストが高い、工程が複雑である、材料の
消費量が多い等の問題がある。そこで低コスト、かつ工
程が簡便である吐出装置、特にインクジェットプリンテ
ィング装置を用いた機能材料の微細パターンニング技術
が検討されている。インクジェットプリンティング装置
を用いた機能材料の微細パターンニングの例として、カ
ラーフィルター（特開平９−３２９７０６号公報、特開
平１１−２０２１１４号公報）、有機ＥＬ表示装置（特
開平号７−２３５３７８公報、特開平１０−１２３７７
号公報、特開平号１０−１５３９６７号公報）等が挙げ
られる。また、吐出組成物に関して、簡便かつ短時間で
の高精度な薄膜パターン形成、及び膜設計や発光特性の
最適化を簡単に行うこと目的とした有機ＥＬ素子用組成
物（特開平１１−４０３５８号公報）、飛行曲がりや目
詰りを生じることなく簡便かつ短時間で高精度のパター
ニングを目的とした吐出組成物（特開平１１−５４２７
０号公報）が開示されている。
グラフィー法が広く採用されているが、フォトリソグラ
フィー法にはコストが高い、工程が複雑である、材料の
消費量が多い等の問題がある。そこで低コスト、かつ工
程が簡便である吐出装置、特にインクジェットプリンテ
ィング装置を用いた機能材料の微細パターンニング技術
が検討されている。インクジェットプリンティング装置
を用いた機能材料の微細パターンニングの例として、カ
ラーフィルター（特開平９−３２９７０６号公報、特開
平１１−２０２１１４号公報）、有機ＥＬ表示装置（特
開平号７−２３５３７８公報、特開平１０−１２３７７
号公報、特開平号１０−１５３９６７号公報）等が挙げ
られる。また、吐出組成物に関して、簡便かつ短時間で
の高精度な薄膜パターン形成、及び膜設計や発光特性の
最適化を簡単に行うこと目的とした有機ＥＬ素子用組成
物（特開平１１−４０３５８号公報）、飛行曲がりや目
詰りを生じることなく簡便かつ短時間で高精度のパター
ニングを目的とした吐出組成物（特開平１１−５４２７
０号公報）が開示されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】吐出装置、特にインク
ジェットプリンティング装置によるパターン形成法に
は、無製版、省資源、省力化等の非常に優れた特徴があ
る反面、吐出組成物に用いる材料に関して制限を受ける
という問題点があった。
ジェットプリンティング装置によるパターン形成法に
は、無製版、省資源、省力化等の非常に優れた特徴があ
る反面、吐出組成物に用いる材料に関して制限を受ける
という問題点があった。
【０００５】第一に、非極性または極性の小さな機能材
料、或いは高分子材料の中には、インクジェット法で用
いられる水やアルコール類等の溶媒に不溶、または溶解
度が低いものがあり、更に、水やアルコール類等の溶媒
と反応、或いは分解するような機能材料には上記溶媒は
使用できないという問題点があった。
料、或いは高分子材料の中には、インクジェット法で用
いられる水やアルコール類等の溶媒に不溶、または溶解
度が低いものがあり、更に、水やアルコール類等の溶媒
と反応、或いは分解するような機能材料には上記溶媒は
使用できないという問題点があった。
【０００６】第二に、溶媒に対する材料の溶解度が小さ
い場合、成膜に適した濃度の溶液では、組成物作成後に
内容物の析出や、吐出時に目詰まりを生じるという問題
点があった。一方、吐出時の目詰まりを防ぐために濃度
を希薄にした場合、機能材料の特性を発揮するのに十分
な膜厚の機能膜を作成するためには、組成物の吐出回数
が多くなり、工程数が増える等の問題点があった。
い場合、成膜に適した濃度の溶液では、組成物作成後に
内容物の析出や、吐出時に目詰まりを生じるという問題
点があった。一方、吐出時の目詰まりを防ぐために濃度
を希薄にした場合、機能材料の特性を発揮するのに十分
な膜厚の機能膜を作成するためには、組成物の吐出回数
が多くなり、工程数が増える等の問題点があった。
【０００７】第三に、機能材料の溶媒として蒸気圧の高
い有機溶剤を用いると、吐出時或いは吐出後の膜形成の
際、溶媒の揮発に伴って吐出組成物から気化熱を奪い、
機能材料の析出を促すために、溶媒が蒸発しやすいため
に機能材料の析出し、目詰まりを起こしやすいという問
題点があった。また、機能材料が多成分系の場合、相分
離が生じて不均質な膜となり、機能性膜の機能が損なわ
れるという問題点があった。
い有機溶剤を用いると、吐出時或いは吐出後の膜形成の
際、溶媒の揮発に伴って吐出組成物から気化熱を奪い、
機能材料の析出を促すために、溶媒が蒸発しやすいため
に機能材料の析出し、目詰まりを起こしやすいという問
題点があった。また、機能材料が多成分系の場合、相分
離が生じて不均質な膜となり、機能性膜の機能が損なわ
れるという問題点があった。
【０００８】第四に、インクジェット法による薄膜作製
において、組成物塗布後の乾燥過程で膜の中央が薄く、
端が厚くなるなど膜厚ムラが生じることがあり、膜厚の
制御が困難であるという問題点があった。
において、組成物塗布後の乾燥過程で膜の中央が薄く、
端が厚くなるなど膜厚ムラが生じることがあり、膜厚の
制御が困難であるという問題点があった。
【０００９】本発明の目的は、機能材料の薄膜形成、特
に吐出装置を使用する機能材料のパターン膜形成におい
て、非極性または極性の小さな機能材料、水やアルコー
ル類等の溶媒と反応するような機能材料、或いは高分子
材料を使用できる組成物を提供することにある。また、
本発明の他の目的は、インクジェット法による組成物塗
布において、吐出時の目詰まりや飛行曲がりを防ぎ、安
定な吐出を達成する組成物を提供することにある。更
に、本発明の他の目的は、該組成物を用いて均一かつ均
質な薄膜を形成する膜の製造方法、機能素子、特に有機
ＥＬ素子及びその製造方法、更に当該機能素子を有する
電気光学装置及び電子機器、特に有機ＥＬ表示装置の製
造方法を提供することにある。
に吐出装置を使用する機能材料のパターン膜形成におい
て、非極性または極性の小さな機能材料、水やアルコー
ル類等の溶媒と反応するような機能材料、或いは高分子
材料を使用できる組成物を提供することにある。また、
本発明の他の目的は、インクジェット法による組成物塗
布において、吐出時の目詰まりや飛行曲がりを防ぎ、安
定な吐出を達成する組成物を提供することにある。更
に、本発明の他の目的は、該組成物を用いて均一かつ均
質な薄膜を形成する膜の製造方法、機能素子、特に有機
ＥＬ素子及びその製造方法、更に当該機能素子を有する
電気光学装置及び電子機器、特に有機ＥＬ表示装置の製
造方法を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、１以上
の置換基を有し、構成原子として酸素原子を含有する複
素環式化合物の少なくとも１種を含む溶媒と、有機ＥＬ
材料、導電性材料、絶縁性材料及び半導体材料からなる
群より選択される機能材料とからなることを特徴とする
組成物（特に液状組成物）が提供される。
の置換基を有し、構成原子として酸素原子を含有する複
素環式化合物の少なくとも１種を含む溶媒と、有機ＥＬ
材料、導電性材料、絶縁性材料及び半導体材料からなる
群より選択される機能材料とからなることを特徴とする
組成物（特に液状組成物）が提供される。
【００１１】上記組成物によれば、用いられる機能材料
としては特に制限されるものではなく、非極性、或いは
極性の弱い材料や、水と反応し易い反応性の材料であっ
てもその機能を損なうことなく使用できるという効果を
有する。また、上記組成物によれば、材料の溶解度が大
きいため、組成物作成後の内容物の析出や、インクジェ
ット法における吐出時の目詰まりを防ぐという効果を有
する。
としては特に制限されるものではなく、非極性、或いは
極性の弱い材料や、水と反応し易い反応性の材料であっ
てもその機能を損なうことなく使用できるという効果を
有する。また、上記組成物によれば、材料の溶解度が大
きいため、組成物作成後の内容物の析出や、インクジェ
ット法における吐出時の目詰まりを防ぐという効果を有
する。
【００１２】上記組成物において、好ましくは前記複素
環式化合物がフラン骨格を有する。この場合、組成物に
おいて、材料の溶解度が大きいため、組成物作成後の内
容物の析出や、インクジェット法における吐出時の目詰
まりを防ぐことができ、安定な吐出が可能な組成物を提
供できる。
環式化合物がフラン骨格を有する。この場合、組成物に
おいて、材料の溶解度が大きいため、組成物作成後の内
容物の析出や、インクジェット法における吐出時の目詰
まりを防ぐことができ、安定な吐出が可能な組成物を提
供できる。
【００１３】上記組成物において、好ましくは、前記複
素環式化合物の沸点が１７０℃以上である。この場合、
組成物調製後の溶質の析出や、溶媒の揮発による吐出時
の目詰まりを防ぐことができ、安定な吐出が可能な組成
物を提供できる。
素環式化合物の沸点が１７０℃以上である。この場合、
組成物調製後の溶質の析出や、溶媒の揮発による吐出時
の目詰まりを防ぐことができ、安定な吐出が可能な組成
物を提供できる。
【００１４】上記組成物において、好ましくは、前記複
素環式化合物が、２，３−ジハイドロベンゾフランであ
る。この場合、用いられる機能材料としては特に制限さ
れるものではなく、非極性、或いは極性の弱い材料や、
水と反応し易い反応性の材料であってもその機能を損な
うことなく使用することができるという効果を有する。
また、当該組成物によれば、材料の溶解度が大きいた
め、組成物作成後の内容物の析出や、インクジェット法
における吐出時の目詰まりを防ぐという効果を有する。
素環式化合物が、２，３−ジハイドロベンゾフランであ
る。この場合、用いられる機能材料としては特に制限さ
れるものではなく、非極性、或いは極性の弱い材料や、
水と反応し易い反応性の材料であってもその機能を損な
うことなく使用することができるという効果を有する。
また、当該組成物によれば、材料の溶解度が大きいた
め、組成物作成後の内容物の析出や、インクジェット法
における吐出時の目詰まりを防ぐという効果を有する。
【００１５】上記組成物において、好ましくは、前記含
酸素複素環式化合物を少なくとも含む溶媒が、他の有機
溶剤を含有する。この場合、組成物調製後の内容物の析
出や、溶媒の揮発による吐出時の目詰まりを防ぐことが
でき、安定な吐出が可能な組成物を提供できる。また、
上記組成物によれば、塗布に適した粘度に調整できるた
め、機能膜の設計が容易であるという効果を有する。
酸素複素環式化合物を少なくとも含む溶媒が、他の有機
溶剤を含有する。この場合、組成物調製後の内容物の析
出や、溶媒の揮発による吐出時の目詰まりを防ぐことが
でき、安定な吐出が可能な組成物を提供できる。また、
上記組成物によれば、塗布に適した粘度に調整できるた
め、機能膜の設計が容易であるという効果を有する。
【００１６】上記他の溶媒を含む組成物は、好ましく
は、当該他の溶媒として、ベンゼン誘導体を含有するこ
とを特徴とする。この場合、組成物作成後の内容物の析
出や、溶媒の揮発による吐出時の目詰まりを防ぐことが
でき、安定な吐出が可能な組成物を提供できる。また、
上記組成物によれば、塗布に適した粘度に調整できるた
め、機能膜の設計が容易であるという効果を有する。
は、当該他の溶媒として、ベンゼン誘導体を含有するこ
とを特徴とする。この場合、組成物作成後の内容物の析
出や、溶媒の揮発による吐出時の目詰まりを防ぐことが
でき、安定な吐出が可能な組成物を提供できる。また、
上記組成物によれば、塗布に適した粘度に調整できるた
め、機能膜の設計が容易であるという効果を有する。
【００１７】更に、本発明によれば、上記の組成物をパ
ターン塗布し、薄膜形成することを特徴とする。当該製
造方法によれば、組成物塗布後の乾燥過程で生じる膜厚
ムラや、内容物の相分離を防ぎ、均一かつ均質な機能膜
を提供できる。
ターン塗布し、薄膜形成することを特徴とする。当該製
造方法によれば、組成物塗布後の乾燥過程で生じる膜厚
ムラや、内容物の相分離を防ぎ、均一かつ均質な機能膜
を提供できる。
【００１８】上記膜の製造方法において、好ましくは、
前記塗布を、吐出装置を用いて行う。この場合、低コス
トかつ簡便に微細パターンニングした機能膜を提供する
ことができる。
前記塗布を、吐出装置を用いて行う。この場合、低コス
トかつ簡便に微細パターンニングした機能膜を提供する
ことができる。
【００１９】上記膜の製造方法において、好ましくは、
前記吐出装置がインクジェット装置である。この場合、
無製版、低コストかつ簡便に微細パターンニングした機
能膜を提供することができる。
前記吐出装置がインクジェット装置である。この場合、
無製版、低コストかつ簡便に微細パターンニングした機
能膜を提供することができる。
【００２０】上記の膜の製造方法において、好ましく
は、上記の組成物を基材上に塗布後、該基材を熱処理、
及び又は加圧或いは減圧する。この場合、膜厚ムラや内
容物の相分離を防ぎ、均一かつ均質な機能膜を提供する
ことができる。
は、上記の組成物を基材上に塗布後、該基材を熱処理、
及び又は加圧或いは減圧する。この場合、膜厚ムラや内
容物の相分離を防ぎ、均一かつ均質な機能膜を提供する
ことができる。
【００２１】また、本発明によれば、上記機能薄膜を形
成する工程を有する機能素子の製造方法が提供される。
成する工程を有する機能素子の製造方法が提供される。
【００２２】上記機能素子の製造方法において、好まし
くは、機能薄膜として有機ＥＬ材料からなる膜が形成さ
れる。
くは、機能薄膜として有機ＥＬ材料からなる膜が形成さ
れる。
【００２３】また、本発明によれば、上記の組成物を用
いて形成されたことを特徴とする機能素子が提供され
る。
いて形成されたことを特徴とする機能素子が提供され
る。
【００２４】上記の機能素子は好ましくは有機ＥＬ素子
である。
である。
【００２５】更に本発明によれば、上記機能薄膜を形成
する工程を有する電気光学装置の製造方法が提供され
る。かかる電気光学装置は、特に好ましくは、有機ＥＬ
表示装置である。
する工程を有する電気光学装置の製造方法が提供され
る。かかる電気光学装置は、特に好ましくは、有機ＥＬ
表示装置である。
【００２６】更に本発明によれば、上記機能薄膜を形成
する工程を有する電子機器の製造方法が提供される。
する工程を有する電子機器の製造方法が提供される。
【００２７】
【発明の実施形態】本発明により提供される組成物は、
機能材料のパターン膜形成に用いられる組成物であり、
１以上の置換基を有し、構成原子に酸素原子を含有する
複素環式化合物の少なくとも１種を含む溶媒と、導電性
材料、絶縁性材料及び半導体材料からなる群より選択さ
れる機能材料とからなる。
機能材料のパターン膜形成に用いられる組成物であり、
１以上の置換基を有し、構成原子に酸素原子を含有する
複素環式化合物の少なくとも１種を含む溶媒と、導電性
材料、絶縁性材料及び半導体材料からなる群より選択さ
れる機能材料とからなる。
【００２８】上記組成物に用いられる機能材料としては
特に制限されるものではなく、非極性、或いは極性の弱
い材料や、水と反応し易い反応性の材料であっても使用
することができる。このような機能材料としては、本発
明の組成物の用途に応じた材料が用いられ、例えば、有
機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）材料等の発光材
料、有機金属化合物等の導電性材料、誘電体或いは半導
体材料等が挙げられ、特に、有機ＥＬ材料に好適であ
る。
特に制限されるものではなく、非極性、或いは極性の弱
い材料や、水と反応し易い反応性の材料であっても使用
することができる。このような機能材料としては、本発
明の組成物の用途に応じた材料が用いられ、例えば、有
機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）材料等の発光材
料、有機金属化合物等の導電性材料、誘電体或いは半導
体材料等が挙げられ、特に、有機ＥＬ材料に好適であ
る。
【００２９】本発明により提供される組成物は、機能材
料の薄膜形成、特に吐出装置を使用する機能材料のパタ
ーン膜形成に用いられる。
料の薄膜形成、特に吐出装置を使用する機能材料のパタ
ーン膜形成に用いられる。
【００３０】上記材料を溶質とし、組成物作成後及び組
成物塗布過程において安定である組成物の溶媒として、
１以上の置換基を有し、構成原子に酸素原子を含有する
複素環式化合物の少なくとも１種を含む溶媒が好適であ
る。また、前記複素環式化合物がフラン骨格を有すると
更に好ましい。
成物塗布過程において安定である組成物の溶媒として、
１以上の置換基を有し、構成原子に酸素原子を含有する
複素環式化合物の少なくとも１種を含む溶媒が好適であ
る。また、前記複素環式化合物がフラン骨格を有すると
更に好ましい。
【００３１】前記複素環式化合物は、複素単環式化合
物、縮合複素環式化合物の何れでも良い。更に、酸素原
子、窒素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を含有し、かつ
炭素原子を２以上有するものであっても良い。
物、縮合複素環式化合物の何れでも良い。更に、酸素原
子、窒素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を含有し、かつ
炭素原子を２以上有するものであっても良い。
【００３２】また、置換基としては特に制限が無く、例
えば、直鎖または分岐の脂肪族炭化水素基、脂環式炭化
水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。
えば、直鎖または分岐の脂肪族炭化水素基、脂環式炭化
水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。
【００３３】複素環式化合物の例として、テトラヒドロ
フラン、フラン、オキサゾール、イソオキサゾール、フ
ラザン、ベンゾフラン、２，３−ジハイドロベンゾフラ
ン、１，２−ベンゾイソオキサゾール、２−メチルベン
ゾオキサゾールが挙げられる。
フラン、フラン、オキサゾール、イソオキサゾール、フ
ラザン、ベンゾフラン、２，３−ジハイドロベンゾフラ
ン、１，２−ベンゾイソオキサゾール、２−メチルベン
ゾオキサゾールが挙げられる。
【００３４】更に、溶媒としては、前記複素環式化合物
の1種からなる単一溶媒または前記複素環式化合物の二
種以上からなる混合溶媒でも良く、また、前記複素環式
化合物と該複素環式化合物以外の溶媒との混合物でもよ
い。複素環式化合物以外の溶媒として、ベンゼン誘導体
が好適である。前記ベンゼン誘導体の例として、シメ
ン、テトラリン、クメン、デカリン、ジュレン、シクロ
ヘキシルベンゼン、ジヘキシルベンゼン、テトラメチル
ベンゼン、及びジブチルベンゼンが挙げられる。上記溶
媒を用いることで、組成物を塗布に適した粘度に調整で
きるため、機能膜の設計が容易となる。
の1種からなる単一溶媒または前記複素環式化合物の二
種以上からなる混合溶媒でも良く、また、前記複素環式
化合物と該複素環式化合物以外の溶媒との混合物でもよ
い。複素環式化合物以外の溶媒として、ベンゼン誘導体
が好適である。前記ベンゼン誘導体の例として、シメ
ン、テトラリン、クメン、デカリン、ジュレン、シクロ
ヘキシルベンゼン、ジヘキシルベンゼン、テトラメチル
ベンゼン、及びジブチルベンゼンが挙げられる。上記溶
媒を用いることで、組成物を塗布に適した粘度に調整で
きるため、機能膜の設計が容易となる。
【００３５】上記組成物によれば、材料の溶解度が大き
いため、組成物作成後の内容物の析出を防ぐことができ
る。また、インクジェット法を用いた機能材料のパター
ン膜形成において、溶媒の揮発、或いは内容物の析出に
よる吐出時の目詰まりや飛行曲がりを防ぎ、安定した吐
出を実現するためには、機能材料の溶解度が大きく、高
沸点及び又は低蒸気圧の溶媒が望ましい。このような溶
媒として、沸点が１７０℃以上、室温での蒸気圧が０．
１０〜１０ｍｍHｇであると更に好ましい。
いため、組成物作成後の内容物の析出を防ぐことができ
る。また、インクジェット法を用いた機能材料のパター
ン膜形成において、溶媒の揮発、或いは内容物の析出に
よる吐出時の目詰まりや飛行曲がりを防ぎ、安定した吐
出を実現するためには、機能材料の溶解度が大きく、高
沸点及び又は低蒸気圧の溶媒が望ましい。このような溶
媒として、沸点が１７０℃以上、室温での蒸気圧が０．
１０〜１０ｍｍHｇであると更に好ましい。
【００３６】上記組成物を用いた薄膜の製造方法として
は、スピンコート法、ディッピング法、キャスト法、ブ
レード法等の何れの方法も適用できる。
は、スピンコート法、ディッピング法、キャスト法、ブ
レード法等の何れの方法も適用できる。
【００３７】特に、機能材料の微細パターンニング法と
して、低コスト、かつ工程が簡便である点で、吐出装
置、特にインクジェットプリンティング法が好ましい。
して、低コスト、かつ工程が簡便である点で、吐出装
置、特にインクジェットプリンティング法が好ましい。
【００３８】また、上記組成物を基板上に塗布過程、或
いは塗布後、自然乾燥、加熱、加圧又は減圧、ガスフロ
ー乾燥、またはこれらの組み合わせにより機能膜を作製
する。
いは塗布後、自然乾燥、加熱、加圧又は減圧、ガスフロ
ー乾燥、またはこれらの組み合わせにより機能膜を作製
する。
【００３９】上記製造方法によれば、膜厚ムラや内容物
の相分離が起こらず、均一かつ均質な機能膜を得ること
ができる。また、溶媒除去方法を組み合わせる事で、機
能膜の設計が容易となる。
の相分離が起こらず、均一かつ均質な機能膜を得ること
ができる。また、溶媒除去方法を組み合わせる事で、機
能膜の設計が容易となる。
【００４０】上記機能素子によれば、インクジェット法
を用いた場合には、有機ＥＬ素子のカラー化が可能とな
る。
を用いた場合には、有機ＥＬ素子のカラー化が可能とな
る。
【００４１】
【実施例】次に、本発明の実施形態を有機ＥＬ素子を例
に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
【００４２】（実施例１）緑色発光層用組成物として、
表１に示した組成物（Ｇ１）（溶液）を調製した。
表１に示した組成物（Ｇ１）（溶液）を調製した。
【００４３】青色発光層用組成物として、表２に示した
組成物（Ｂ１）（溶液）を調製した。
組成物（Ｂ１）（溶液）を調製した。
【００４４】赤色発光層用組成物として、表３に示した
組成物（Ｒ１）（溶液）を調製した。
組成物（Ｒ１）（溶液）を調製した。
【００４５】
【表１】
【００４６】
【表２】
【００４７】
【表３】
【００４８】尚、上記組成物中で使用した化合物１〜５
の構造を以下に示す。
の構造を以下に示す。
【００４９】
【化１】
【００５０】
【化２】
【００５１】
【化３】
【００５２】
【化４】
【００５３】
【化５】
【００５４】比較として、表１〜３において２，３−ジ
ハイドロベンゾフランを含まない発光層用組成物（Ｇ
２）、（Ｂ２）、（Ｒ２）（夫々溶液）を調製した。
ハイドロベンゾフランを含まない発光層用組成物（Ｇ
２）、（Ｂ２）、（Ｒ２）（夫々溶液）を調製した。
【００５５】室温における1ヶ月間の保存後、緑色発光
組成物並びに青色発光組成物については６５０ｎｍにお
ける濁度変化を、赤色発光組成物については７００ｎｍ
における濁度変化（調製直後の組成物の濁度に対する変
化）を観察した。表４に組成物の安定性の比較を示す。
組成物並びに青色発光組成物については６５０ｎｍにお
ける濁度変化を、赤色発光組成物については７００ｎｍ
における濁度変化（調製直後の組成物の濁度に対する変
化）を観察した。表４に組成物の安定性の比較を示す。
【００５６】
【表４】
【００５７】 ○：濁度変化無し △：濁度変化有り 組成物（Ｇ２）、（Ｂ２）、（Ｒ２）は、組成物作成後
1週間は非常に安定であったが、1ヶ月経過した後には内
容物の析出が認められた。これに対して、組成物（Ｇ
１）、（Ｂ１）、（Ｒ１）は組成物作成後一ヶ月を経て
も非常に安定であった。
1週間は非常に安定であったが、1ヶ月経過した後には内
容物の析出が認められた。これに対して、組成物（Ｇ
１）、（Ｂ１）、（Ｒ１）は組成物作成後一ヶ月を経て
も非常に安定であった。
【００５８】（実施例２）下記表５に示す処方の正孔注
入／輸送層用組成物（溶液）を調製した。
入／輸送層用組成物（溶液）を調製した。
【００５９】
【表５】
【００６０】緑色発光層用組成物として表１に示す組成
物（溶液）を調製した。
物（溶液）を調製した。
【００６１】次に、これら材料を用いた、インクジェッ
ト法による有機ＥＬ素子の形成方法を説明するが、これ
に先立ち、まず、この有機ＥＬ素子を機能素子とした電
気光学装置として、有機ＥＬパネルの一例の概略構成を
説明する。
ト法による有機ＥＬ素子の形成方法を説明するが、これ
に先立ち、まず、この有機ＥＬ素子を機能素子とした電
気光学装置として、有機ＥＬパネルの一例の概略構成を
説明する。
【００６２】図１は、電気光学装置としての有機ＥＬパ
ネルの一例の平面構造を説明するための図であり。図１
中符号７０は有機ＥＬパネルである。この有機ＥＬパネ
ル７０は、ガラス等からなる基体２と、マトリックス状
に配置された画素７１を形成する多数の有機ＥＬ素子
と、封止基板（図示せず）とを具備して構成されたもの
である。基体２は、例えばガラス等の透明基板からなる
もので、基体２の中央に位置する表示領域２ａと、基体
２の周辺部に位置して表示領域２ａの外側に配置された
非表示領域２ｂとに区画されている。表示領域２ａは、
マトリックス状に配置された有機ＥＬ素子によって形成
された領域であり、有効表示領域とも言われるものであ
る。
ネルの一例の平面構造を説明するための図であり。図１
中符号７０は有機ＥＬパネルである。この有機ＥＬパネ
ル７０は、ガラス等からなる基体２と、マトリックス状
に配置された画素７１を形成する多数の有機ＥＬ素子
と、封止基板（図示せず）とを具備して構成されたもの
である。基体２は、例えばガラス等の透明基板からなる
もので、基体２の中央に位置する表示領域２ａと、基体
２の周辺部に位置して表示領域２ａの外側に配置された
非表示領域２ｂとに区画されている。表示領域２ａは、
マトリックス状に配置された有機ＥＬ素子によって形成
された領域であり、有効表示領域とも言われるものであ
る。
【００６３】有機ＥＬ素子及び隔壁（図示せず）からな
る有機ＥＬ素子部（図示せず）と基板との間には、回路
素子部（図示せず）が設けられており、この回路素子部
には、走査線、信号線、保持容量や、スイッチング素子
となる薄膜トランジスタ等が設けられている。非表示領
域２ｂである基体２の周辺部には、前記画素７１を形成
する有機ＥＬ素子の陰極（対向電極）に連続した陰極線
用配線１２が配設されており、この陰極線用配線１２
は、その端部がフレキシブル基板５上の配線５ａに接続
されている。この配線５ａは、フレキシブル基板５上に
設けられた駆動ＩＣ６（駆動回路）に接続されている。
る有機ＥＬ素子部（図示せず）と基板との間には、回路
素子部（図示せず）が設けられており、この回路素子部
には、走査線、信号線、保持容量や、スイッチング素子
となる薄膜トランジスタ等が設けられている。非表示領
域２ｂである基体２の周辺部には、前記画素７１を形成
する有機ＥＬ素子の陰極（対向電極）に連続した陰極線
用配線１２が配設されており、この陰極線用配線１２
は、その端部がフレキシブル基板５上の配線５ａに接続
されている。この配線５ａは、フレキシブル基板５上に
設けられた駆動ＩＣ６（駆動回路）に接続されている。
【００６４】また、非表示領域２ｂの回路素子部には、
電源線１０３（１０３Ｒ、１０３Ｇ、１０３Ｂ）が配線
されている。表示領域２ａを挟んでその両側には、走査
側駆動回路７３が配置されている。これら走査側駆動回
路７３は、前記の回路素子部内に設けられたものとなっ
ている。回路素子部内には、走査側駆動回路７３に接続
される駆動回路用制御信号配線７３ａと駆動回路用電源
配線７３ｂとが設けられている。また、表示領域２ａの
一方の側には、検査回路７４が配置されている。この検
査回路７４により、製造途中や出荷時の表示装置の品
質、欠陥の検査を行うことができるようになっている。
なお、このような有機ＥＬ素子部の上には、これを覆っ
て封止部（図示せず）が設けられている。この封止部
は、基体２に塗布された封止樹脂と、缶封止基板（封止
基板）とから構成されたものである。
電源線１０３（１０３Ｒ、１０３Ｇ、１０３Ｂ）が配線
されている。表示領域２ａを挟んでその両側には、走査
側駆動回路７３が配置されている。これら走査側駆動回
路７３は、前記の回路素子部内に設けられたものとなっ
ている。回路素子部内には、走査側駆動回路７３に接続
される駆動回路用制御信号配線７３ａと駆動回路用電源
配線７３ｂとが設けられている。また、表示領域２ａの
一方の側には、検査回路７４が配置されている。この検
査回路７４により、製造途中や出荷時の表示装置の品
質、欠陥の検査を行うことができるようになっている。
なお、このような有機ＥＬ素子部の上には、これを覆っ
て封止部（図示せず）が設けられている。この封止部
は、基体２に塗布された封止樹脂と、缶封止基板（封止
基板）とから構成されたものである。
【００６５】このような有機ＥＬパネルの構成要素とな
る有機ＥＬ素子の形成方法を、図２〜図１１を参照して
説明する。なお、本工程では一画素のみを示している
が、図２に示すようにこれらの画素は７０．５μｍピッ
チで配置されている。ＩＴＯ１１がパターンニングされ
たガラス基板１０上にフォトリソグラフィーによりポリ
イミド膜１３およびＳｉＯ2膜１２の積層構造が形成さ
れている。当該積層構造の開口部径（ＳｉＯ2 層の開口
径）は２８μｍ、高さが２μｍである。ポリイミド層最
上部での開口は３２μｍである。正孔注入／輸送材料組
成物を塗布する前に、大気圧プラズマ処理によりポリイ
ミドバンクを撥インク処理した。大気圧プラズマ処理条
件は、大気圧下で、パワー３００Ｗ、電極−基板間距離
１ｍｍ、酸素プラズマ処理では酸素ガス流量８０ｃｃ
ｍ、ヘリウムガス流量１０ＳＬＭ、テーブル搬送速度５
ｍｍ/ｓで行い、続けてＣＦ4 プラズマ処理では、ＣＦ4
ガス流量１００ｃｃｍ、ヘリウムガス流量１０ＳＬ
Ｍ、テーブル搬送速度３ｍｍ/ｓで行った。
る有機ＥＬ素子の形成方法を、図２〜図１１を参照して
説明する。なお、本工程では一画素のみを示している
が、図２に示すようにこれらの画素は７０．５μｍピッ
チで配置されている。ＩＴＯ１１がパターンニングされ
たガラス基板１０上にフォトリソグラフィーによりポリ
イミド膜１３およびＳｉＯ2膜１２の積層構造が形成さ
れている。当該積層構造の開口部径（ＳｉＯ2 層の開口
径）は２８μｍ、高さが２μｍである。ポリイミド層最
上部での開口は３２μｍである。正孔注入／輸送材料組
成物を塗布する前に、大気圧プラズマ処理によりポリイ
ミドバンクを撥インク処理した。大気圧プラズマ処理条
件は、大気圧下で、パワー３００Ｗ、電極−基板間距離
１ｍｍ、酸素プラズマ処理では酸素ガス流量８０ｃｃ
ｍ、ヘリウムガス流量１０ＳＬＭ、テーブル搬送速度５
ｍｍ/ｓで行い、続けてＣＦ4 プラズマ処理では、ＣＦ4
ガス流量１００ｃｃｍ、ヘリウムガス流量１０ＳＬ
Ｍ、テーブル搬送速度３ｍｍ/ｓで行った。
【００６６】基板の表面処理後、図３〜５に示すよう
に、表５に示した処方の正孔注入／輸送材料組成物（溶
液）１５をインクジェットプリント装置ヘッド１４から
１５ｐｌ吐出し、パターン塗布した。真空中（１ｔｏｒ
ｒ）室温２０分という条件で溶媒を除去し、その後大気
中２００℃（ホットプレート上）１０分の熱処理により
正孔注入／輸送層１６を形成した。
に、表５に示した処方の正孔注入／輸送材料組成物（溶
液）１５をインクジェットプリント装置ヘッド１４から
１５ｐｌ吐出し、パターン塗布した。真空中（１ｔｏｒ
ｒ）室温２０分という条件で溶媒を除去し、その後大気
中２００℃（ホットプレート上）１０分の熱処理により
正孔注入／輸送層１６を形成した。
【００６７】次に、図６〜７に示すように、表１に示し
た緑色発光層用組成物１７をインクジェットプリント装
置のヘッド１４から２０ｐｌ吐出し、基板上にパターン
塗布した。更に、基板をホットプレート上で６０℃に加
熱して溶媒を除去し、緑色発光層１８を形成した。蒸着
により陰極を形成し、最後にエポキシ樹脂による封止を
行い、素子（１）を作製した。
た緑色発光層用組成物１７をインクジェットプリント装
置のヘッド１４から２０ｐｌ吐出し、基板上にパターン
塗布した。更に、基板をホットプレート上で６０℃に加
熱して溶媒を除去し、緑色発光層１８を形成した。蒸着
により陰極を形成し、最後にエポキシ樹脂による封止を
行い、素子（１）を作製した。
【００６８】表１において２，３−ジハイドロベンゾフ
ランを含まない発光層用組成物を作製し、その他は上記
同様の条件で素子（２）を作製した。図８及び９に有機
ＥＬ薄膜の断面図を示す。
ランを含まない発光層用組成物を作製し、その他は上記
同様の条件で素子（２）を作製した。図８及び９に有機
ＥＬ薄膜の断面図を示す。
【００６９】作製した薄膜の中央部、及び端部の膜厚を
接触式膜厚計により測定した。素子（１）における中央
部と端部の膜厚差をｘ（図８）、素子（２）における中
央部と端部の膜厚差をｙ（図９）とすると、 ｘ＜ｙ であり、素子（１）では非常により均一な膜厚に成膜す
ることができた。
接触式膜厚計により測定した。素子（１）における中央
部と端部の膜厚差をｘ（図８）、素子（２）における中
央部と端部の膜厚差をｙ（図９）とすると、 ｘ＜ｙ であり、素子（１）では非常により均一な膜厚に成膜す
ることができた。
【００７０】図１０に素子（１）、（２）の電圧−発光
輝度特性の比較を示す。同じ電圧に対し、素子（１）の
方が高い輝度並びに均一な発光を示し、発光特性の優れ
た有機ＥＬ素子が得られた。
輝度特性の比較を示す。同じ電圧に対し、素子（１）の
方が高い輝度並びに均一な発光を示し、発光特性の優れ
た有機ＥＬ素子が得られた。
【００７１】（実施例３）実施例２と同様にして、ＩＴ
Ｏ電極、所定開口形状を有するＳｉＯ膜及びポリイミド
膜の積層構造を形成し、続いて正孔注入・輸送層、緑色
発光層組成物（表１に示す処方）を塗布した基板を、塗
布後直ちに減圧下（２ｍｍＨｇ）で溶媒を除去しながら
６０℃に加熱しながら緑色発光層を作製した。その他乾
燥条件以外は実施例２と同様の条件で素子（３）を作製
し、その電圧−発光輝度特性を測定した。その結果、実
施例２と同様の結果が得られた。
Ｏ電極、所定開口形状を有するＳｉＯ膜及びポリイミド
膜の積層構造を形成し、続いて正孔注入・輸送層、緑色
発光層組成物（表１に示す処方）を塗布した基板を、塗
布後直ちに減圧下（２ｍｍＨｇ）で溶媒を除去しながら
６０℃に加熱しながら緑色発光層を作製した。その他乾
燥条件以外は実施例２と同様の条件で素子（３）を作製
し、その電圧−発光輝度特性を測定した。その結果、実
施例２と同様の結果が得られた。
【００７２】（実施例４）実施例２と同様にして、ＩＴ
Ｏ電極、所定開口形状を有するＳｉＯ膜及びポリイミド
膜の積層構造を形成し、続いて正孔注入・輸送層（表５
に示す処方）を塗布した基板に対し、次に表２に示した
処方の青色発光層用組成物をインクジェットプリント装
置のヘッドから１５ｐｌ吐出し、基板上にパターン塗布
した。更に、基板をホットプレート上で６０℃に加熱し
て溶媒を除去し、青色発光層を形成した。続いて、実施
例２と同様の方法、条件で陰極を形成、封止を行い、素
子（４）を形成した。
Ｏ電極、所定開口形状を有するＳｉＯ膜及びポリイミド
膜の積層構造を形成し、続いて正孔注入・輸送層（表５
に示す処方）を塗布した基板に対し、次に表２に示した
処方の青色発光層用組成物をインクジェットプリント装
置のヘッドから１５ｐｌ吐出し、基板上にパターン塗布
した。更に、基板をホットプレート上で６０℃に加熱し
て溶媒を除去し、青色発光層を形成した。続いて、実施
例２と同様の方法、条件で陰極を形成、封止を行い、素
子（４）を形成した。
【００７３】比較として、表２において２，３−ジハイ
ドロベンゾフランを含まない発光層用組成物を調製し、
その他は上記同様の条件で素子（５）を作製した。素子
（４）と素子（５）の電圧−発光輝度特性を比較したと
ころ、実施例２と同様に、２，３−ジハイドロベンゾフ
ランを含む組成物を用いた素子（４）の方が均一で高い
輝度を示した。
ドロベンゾフランを含まない発光層用組成物を調製し、
その他は上記同様の条件で素子（５）を作製した。素子
（４）と素子（５）の電圧−発光輝度特性を比較したと
ころ、実施例２と同様に、２，３−ジハイドロベンゾフ
ランを含む組成物を用いた素子（４）の方が均一で高い
輝度を示した。
【００７４】また、図１１に素子（４）及び（５）の電
圧−電流特性の比較を示す。素子（５）に比べて、素子
（４）の方が電流量は少なく、高効率の優れた素子であ
った。
圧−電流特性の比較を示す。素子（５）に比べて、素子
（４）の方が電流量は少なく、高効率の優れた素子であ
った。
【００７５】（実施例５）実施例２と同様にして、ＩＴ
Ｏ電極、所定開口形状を有するＳｉＯ膜及びポリイミド
膜の積層構造を形成し、続いて正孔注入・輸送層（表５
に示す処方）を塗布した基板に対し、次に表２に示した
処方の青色発光層用組成物をインクジェットプリント装
置のヘッドから１５ｐｌ吐出し、基板上にパターン塗布
した。更に、基板をホットプレート上で６０℃に加熱し
て溶媒を除去し、赤色発光層を形成した。続いて、実施
例２と同条件で陰極を形成、封止を行い、素子（６）を
形成した。
Ｏ電極、所定開口形状を有するＳｉＯ膜及びポリイミド
膜の積層構造を形成し、続いて正孔注入・輸送層（表５
に示す処方）を塗布した基板に対し、次に表２に示した
処方の青色発光層用組成物をインクジェットプリント装
置のヘッドから１５ｐｌ吐出し、基板上にパターン塗布
した。更に、基板をホットプレート上で６０℃に加熱し
て溶媒を除去し、赤色発光層を形成した。続いて、実施
例２と同条件で陰極を形成、封止を行い、素子（６）を
形成した。
【００７６】比較として、表３において２，３−ジハイ
ドロベンゾフランを含まない発光層用組成物を作製し、
その他は上記同様の条件で素子（７）を作製した。素子
（６）と素子（７）の電圧−発光輝度特性を比較したと
ころ、実施例２並びに４と同様に、２，３−ジハイドロ
ベンゾフランを含む組成物を用いた素子（６）の方が均
一で高い輝度を示した。
ドロベンゾフランを含まない発光層用組成物を作製し、
その他は上記同様の条件で素子（７）を作製した。素子
（６）と素子（７）の電圧−発光輝度特性を比較したと
ころ、実施例２並びに４と同様に、２，３−ジハイドロ
ベンゾフランを含む組成物を用いた素子（６）の方が均
一で高い輝度を示した。
【００７７】また、上記実施例に示した３種類の各組成
物をインクジェット法により打ち分けてパターン形成す
れば、高輝度のカラー有機ＥＬ素子の作製が可能とな
る。更に、上記のような組成物を用いた有機ＥＬ層の形
成を用いて、優れた輝度を有するカラー有機ＥＬ表示装
置を製造することができる。
物をインクジェット法により打ち分けてパターン形成す
れば、高輝度のカラー有機ＥＬ素子の作製が可能とな
る。更に、上記のような組成物を用いた有機ＥＬ層の形
成を用いて、優れた輝度を有するカラー有機ＥＬ表示装
置を製造することができる。
【００７８】次に、本発明の電子機器について説明す
る。本発明の電子機器は、前記の有機ＥＬパネル（カラ
ー有機ＥＬ表示装置）を表示手段として用いたものであ
る。図１２（ａ）は、携帯電話の一例を示した斜視図で
ある。図１２（ａ）において、５００は携帯電話本体を
示し、５０１は前記の有機ＥＬパネルからなる表示装置
（表示手段）を示している。図１２（ｂ）は、ワープ
ロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した
斜視図である。図１２（ｂ）において、６００は情報処
理装置、６０１はキーボードなどの入力部、６０３は情
報処理本体、６０２は前記の有機ＥＬパネルからなる表
示装置（表示手段）を示している。図１２（ｃ）は、腕
時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図１２
（ｃ）において、７００は時計本体を示し、７０１は前
記の有機ＥＬパネルからなる表示装置（表示手段）を示
している。図１２（ａ）〜（ｃ）に示す電子機器は、前
記の有機ＥＬパネルを表示装置（表示手段）として用い
たものであるので、均一かつ均質な薄膜からなる有機Ｅ
Ｌ素子（機能素子）を備えた良好なものとなる。
る。本発明の電子機器は、前記の有機ＥＬパネル（カラ
ー有機ＥＬ表示装置）を表示手段として用いたものであ
る。図１２（ａ）は、携帯電話の一例を示した斜視図で
ある。図１２（ａ）において、５００は携帯電話本体を
示し、５０１は前記の有機ＥＬパネルからなる表示装置
（表示手段）を示している。図１２（ｂ）は、ワープ
ロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した
斜視図である。図１２（ｂ）において、６００は情報処
理装置、６０１はキーボードなどの入力部、６０３は情
報処理本体、６０２は前記の有機ＥＬパネルからなる表
示装置（表示手段）を示している。図１２（ｃ）は、腕
時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図１２
（ｃ）において、７００は時計本体を示し、７０１は前
記の有機ＥＬパネルからなる表示装置（表示手段）を示
している。図１２（ａ）〜（ｃ）に示す電子機器は、前
記の有機ＥＬパネルを表示装置（表示手段）として用い
たものであるので、均一かつ均質な薄膜からなる有機Ｅ
Ｌ素子（機能素子）を備えた良好なものとなる。
【００７９】
【発明の効果】以上述べたように、本発明により提供さ
れる組成物によれば、インクジェット法による組成物塗
布において、吐出時の目詰まりや飛行曲がりを防ぎ、安
定な吐出を達成することができる。更に、本発明により
提供される膜の製造方法によれば、該組成物を用いて均
一かつ均質な薄膜の形成、並びに機能素子、特に有機Ｅ
Ｌ素子、有機ＥＬ表示装置等の電気光学装置、各種の電
子機器を作製することができる。
れる組成物によれば、インクジェット法による組成物塗
布において、吐出時の目詰まりや飛行曲がりを防ぎ、安
定な吐出を達成することができる。更に、本発明により
提供される膜の製造方法によれば、該組成物を用いて均
一かつ均質な薄膜の形成、並びに機能素子、特に有機Ｅ
Ｌ素子、有機ＥＬ表示装置等の電気光学装置、各種の電
子機器を作製することができる。
【図１】 電気光学装置としての有機ＥＬパネルの一例
の平面構造を説明するための図である。
の平面構造を説明するための図である。
【図２】 本発明の一実施例に用いた基板の構造を示す
断面図。
断面図。
【図３】 本発明の一実施例にかかる有機ＥＬ素子の製
造方法の一工程を示す断面図。
造方法の一工程を示す断面図。
【図４】 本発明の一実施例にかかる有機ＥＬ素子の製
造方法の一工程を示す断面図。
造方法の一工程を示す断面図。
【図５】 本発明の一実施例にかかる有機ＥＬ素子の製
造方法の一工程を示す断面図。
造方法の一工程を示す断面図。
【図６】 本発明の一実施例にかかる有機ＥＬ素子の製
造方法の一工程を示す断面図。
造方法の一工程を示す断面図。
【図７】 本発明の一実施例にかかる有機ＥＬ素子の製
造方法の一工程を示す断面図。
造方法の一工程を示す断面図。
【図８】 本発明の一実施例で得られた有機ＥＬ素子の
発光層断面を模式的に示す断面図。
発光層断面を模式的に示す断面図。
【図９】本発明の一実施例に対する比較として得られた
有機ＥＬ素子の発光層断面を模式的に示す断面図。
有機ＥＬ素子の発光層断面を模式的に示す断面図。
【図１０】 本発明の一実施例及び比較として得られた
有機ＥＬ素子の電圧−発光輝度特性を示す線図。
有機ＥＬ素子の電圧−発光輝度特性を示す線図。
【図１１】 本発明の一実施例及び比較として得られた
有機ＥＬ素子の電圧−電流特性を示す線図。
有機ＥＬ素子の電圧−電流特性を示す線図。
【図１２】 有機ＥＬパネルを用いた電子機器の具体例
を示す図であり、（ａ）は携帯電話に適用した場合の一
例を示す斜視図、（ｂ）は情報処理装置に適用した場合
の一例を示す斜視図、（ｃ）は腕時計型電子機器に適用
した場合の一例を示す斜視図である。
を示す図であり、（ａ）は携帯電話に適用した場合の一
例を示す斜視図、（ｂ）は情報処理装置に適用した場合
の一例を示す斜視図、（ｃ）は腕時計型電子機器に適用
した場合の一例を示す斜視図である。
１０．ガラス基板 １１．透明陰極ＩＴＯ １２．ＳｉＯ2 膜 １３．有機物（ポリイミド）膜 １４．インクジェットヘッド １５．正孔注入／輸送材料組成物 １６．正孔注入／輸送層 １７．緑色発光層組成物 １８．緑色発光層 １９．陰極 ２０．封止層
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０５Ｂ 33/14 Ｈ０５Ｂ 33/14 Ａ (72)発明者 森井 克行 長野県諏訪市大和３丁目３番５号 セイコ ーエプソン株式会社内 Ｆターム(参考） 3K007 AB18 BA07 BB01 BB02 DB03 EA02 FA01 4D075 AC08 AC09 BB24Z BB56Z CA22 CA23 CA48 CB08 DA06 DB13 DC21 DC24 EA07 EB14 EB33 EC07 EC30 EC52 4J039 BC03 BC12 BC31 BC33 BC50 BC51 BC55 BC69 BC73 BC74 BE12 EA03 EA24 EA27 EA41 EA44 GA24
Claims (16)
- 【請求項１】 １以上の置換基を有し、構成原子として
酸素原子を含有する複素環式化合物の少なくとも１種を
含む溶媒と、導電性材料、絶縁性材料及び半導体材料か
らなる群より選択される機能材料とからなることを特徴
とする組成物。 - 【請求項２】 前記複素環式化合物が、フラン骨格を有
することを特徴とする請求項１記載の組成物。 - 【請求項３】 前記複素環式化合物の沸点が、１７０℃
以上であることを特徴とする請求項１または２に記載の
組成物。 - 【請求項４】 前記複素環式化合物が、２，３−ジハイ
ドロベンゾフランであることを特徴とする請求項１乃至
３の何れかに記載の組成物。 - 【請求項５】 前記複素環式化合物を含む溶媒が、他の
有機溶剤を含有することを特徴とする請求項１乃至４の
何れかに記載の組成物。 - 【請求項６】 前記複素環式化合物を含む溶媒が、ベン
ゼン誘導体を含有することを特徴とする請求項５記載の
組成物。 - 【請求項７】 請求項１乃至６の何れかに記載の組成物
をパターン塗布し、薄膜形成することを特徴とする膜の
製造方法。 - 【請求項８】 前記塗布を、吐出装置を用いて行うこと
を特徴とする請求項７記載の膜の製造方法。 - 【請求項９】 前記吐出装置が、インクジェット装置で
ある請求項８記載の膜の製造方法。 - 【請求項１０】 請求項１乃至６の何れかに記載の組成
物を基材上に塗布後、該基材を熱処理、及び又は加圧或
いは減圧することを特徴とする請求項７乃至９何れかに
記載の膜の製造方法。 - 【請求項１１】 請求項７乃至１０のいずれかに記載の
方法により機能薄膜を形成する工程を有する機能素子の
製造方法。 - 【請求項１２】 前記機能薄膜が有機ＥＬ（エレクトロ
ルミネッセンス）材料からなる膜である請求項１１記載
の機能素子の製造方法。 - 【請求項１３】 請求項１乃至６の何れかに記載の組成
物を用いて形成されたことを特徴とする機能素子。 - 【請求項１４】 有機ＥＬ素子である請求項１３記載の
機能素子。 - 【請求項１５】 請求項７乃至１０のいずれかに記載の
方法により機能薄膜を形成する工程を有する電気光学装
置の製造方法。 - 【請求項１６】 請求項７乃至１０のいずれかに記載の
方法により機能薄膜を形成する工程を有する電子機器の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002067729A JP3896876B2 (ja) | 2001-03-12 | 2002-03-12 | 膜の製造方法、機能素子の製造方法、電気光学装置の製造方法、及び電子機器の製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001-69337 | 2001-03-12 | ||
| JP2001069337 | 2001-03-12 | ||
| JP2002067729A JP3896876B2 (ja) | 2001-03-12 | 2002-03-12 | 膜の製造方法、機能素子の製造方法、電気光学装置の製造方法、及び電子機器の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002371196A true JP2002371196A (ja) | 2002-12-26 |
| JP3896876B2 JP3896876B2 (ja) | 2007-03-22 |
Family
ID=26611095
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002067729A Expired - Fee Related JP3896876B2 (ja) | 2001-03-12 | 2002-03-12 | 膜の製造方法、機能素子の製造方法、電気光学装置の製造方法、及び電子機器の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3896876B2 (ja) |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006156824A (ja) * | 2004-11-30 | 2006-06-15 | Seiko Epson Corp | 発光材料及び有機ｅｌ装置とその製造方法 |
| WO2006087945A1 (ja) * | 2005-02-15 | 2006-08-24 | Pioneer Corporation | 成膜用組成物及び有機電界発光素子 |
| JP2006245305A (ja) * | 2005-03-03 | 2006-09-14 | Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd | 有機ｅｌ表示装置及びその製造方法 |
| JP2007061674A (ja) * | 2005-08-29 | 2007-03-15 | Seiko Epson Corp | 機能膜の形成方法、有機ｅｌ表示パネルの製造方法、液晶表示パネルの製造方法、プラズマディスプレイパネルの製造方法、カラーフィルタの製造方法、及び電子機器 |
| KR100732652B1 (ko) * | 2005-06-02 | 2007-06-27 | 삼성에스디아이 주식회사 | 평판표시장치 및 그 제조방법 |
| US7737631B2 (en) | 2005-06-02 | 2010-06-15 | Samsung Mobile Display Co., Ltd. | Flat panel display with repellant and border areas and method of manufacturing the same |
| WO2010110280A1 (ja) * | 2009-03-27 | 2010-09-30 | 富士フイルム株式会社 | 有機電界発光素子用塗布液 |
| US7807741B2 (en) | 2004-06-17 | 2010-10-05 | Sharp Kabushiki Kaisha | Coating liquid, film production method, production method of functional device, and functional device |
| WO2015128979A1 (ja) * | 2014-02-27 | 2015-09-03 | 株式会社石井表記 | 塗布膜形成乾燥方法および塗布膜形成乾燥装置 |
| JP2015204371A (ja) * | 2014-04-14 | 2015-11-16 | 株式会社石井表記 | 塗布膜形成乾燥装置 |
| WO2015194429A1 (ja) * | 2014-06-17 | 2015-12-23 | 株式会社ダイセル | 有機ｅｌ素子製造用溶剤 |
| TWI643682B (zh) * | 2014-04-14 | 2018-12-11 | 石井表記股份有限公司 | 塗佈膜形成乾燥裝置以及塗佈膜形成乾燥方法 |
-
2002
- 2002-03-12 JP JP2002067729A patent/JP3896876B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7807741B2 (en) | 2004-06-17 | 2010-10-05 | Sharp Kabushiki Kaisha | Coating liquid, film production method, production method of functional device, and functional device |
| JP2006156824A (ja) * | 2004-11-30 | 2006-06-15 | Seiko Epson Corp | 発光材料及び有機ｅｌ装置とその製造方法 |
| KR101237264B1 (ko) * | 2005-02-15 | 2013-02-27 | 미쓰비시 가가꾸 가부시키가이샤 | 막형성용 조성물 및 유기 전계 발광 소자 |
| WO2006087945A1 (ja) * | 2005-02-15 | 2006-08-24 | Pioneer Corporation | 成膜用組成物及び有機電界発光素子 |
| JP2016054311A (ja) * | 2005-02-15 | 2016-04-14 | パイオニア株式会社 | 有機電界発光素子 |
| JP2015092602A (ja) * | 2005-02-15 | 2015-05-14 | パイオニア株式会社 | 成膜用組成物及び有機電界発光素子 |
| KR101415586B1 (ko) * | 2005-02-15 | 2014-08-06 | 파이오니아 가부시키가이샤 | 막형성용 조성물 및 유기 전계 발광 소자 |
| JP5194787B2 (ja) * | 2005-02-15 | 2013-05-08 | パイオニア株式会社 | 成膜用組成物及び有機電界発光素子 |
| US8053973B2 (en) | 2005-02-15 | 2011-11-08 | Pioneer Corporation | Film forming composition and organic electroluminescent device |
| JP2006245305A (ja) * | 2005-03-03 | 2006-09-14 | Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd | 有機ｅｌ表示装置及びその製造方法 |
| KR100732652B1 (ko) * | 2005-06-02 | 2007-06-27 | 삼성에스디아이 주식회사 | 평판표시장치 및 그 제조방법 |
| US7737631B2 (en) | 2005-06-02 | 2010-06-15 | Samsung Mobile Display Co., Ltd. | Flat panel display with repellant and border areas and method of manufacturing the same |
| JP4631609B2 (ja) * | 2005-08-29 | 2011-02-16 | セイコーエプソン株式会社 | 機能膜の形成方法、有機ｅｌ表示パネルの製造方法、液晶表示パネルの製造方法、プラズマディスプレイパネルの製造方法、カラーフィルタの製造方法 |
| JP2007061674A (ja) * | 2005-08-29 | 2007-03-15 | Seiko Epson Corp | 機能膜の形成方法、有機ｅｌ表示パネルの製造方法、液晶表示パネルの製造方法、プラズマディスプレイパネルの製造方法、カラーフィルタの製造方法、及び電子機器 |
| WO2010110280A1 (ja) * | 2009-03-27 | 2010-09-30 | 富士フイルム株式会社 | 有機電界発光素子用塗布液 |
| WO2015128979A1 (ja) * | 2014-02-27 | 2015-09-03 | 株式会社石井表記 | 塗布膜形成乾燥方法および塗布膜形成乾燥装置 |
| JP2015204371A (ja) * | 2014-04-14 | 2015-11-16 | 株式会社石井表記 | 塗布膜形成乾燥装置 |
| TWI643682B (zh) * | 2014-04-14 | 2018-12-11 | 石井表記股份有限公司 | 塗佈膜形成乾燥裝置以及塗佈膜形成乾燥方法 |
| WO2015194429A1 (ja) * | 2014-06-17 | 2015-12-23 | 株式会社ダイセル | 有機ｅｌ素子製造用溶剤 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3896876B2 (ja) | 2007-03-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7198814B2 (en) | Compositions, methods for producing films, functional elements, methods for producing functional elements, method for producing electro-optical devices and methods for producing electronic apparatus | |
| JP4731629B2 (ja) | 有機ｅｌデバイスの製造方法 | |
| JP4148933B2 (ja) | 機能膜の製造方法、機能膜形成用塗液、機能素子、電子デバイス及び表示装置 | |
| KR100547501B1 (ko) | 유기 일렉트로루미네선스 장치의 제조 방법, 박막 트랜지스터의 제조 방법 및 전자 기기 | |
| JP4239560B2 (ja) | 組成物とこれを用いた有機導電性膜の製造方法 | |
| US7470976B2 (en) | Organic electroluminescent device, manufacturing method therefor, and electronic devices therewith | |
| US20090128020A1 (en) | Method for manufacturing organic electroluminescent device and organic electroluminescent device | |
| TW200301666A (en) | Display apparatus, electric device, and manufacturing method of display apparatus | |
| JP2002371196A (ja) | 組成物、膜の製造方法、機能素子、機能素子の製造方法、電気光学装置の製造方法、及び電子機器の製造方法 | |
| KR100706093B1 (ko) | 발광 재료 및 유기 ｅｌ 장치와 그 제조 방법 | |
| US20060159841A1 (en) | Liquid composition, electro-optic device and method for manufacturing the same, organic electroluminescent device and method for manufacturing the same | |
| JP2005197027A (ja) | 有機ｅｌ装置の製造方法、有機ｅｌ装置、及び電子機器 | |
| JP2004335180A (ja) | 電気光学装置、電気光学装置用基板、及び電気光学装置の製造方法 | |
| JP4374197B2 (ja) | 機能性素子の製造方法およびその製造装置 | |
| JP2005158584A (ja) | パターン形成方法及び表示装置の製造方法 | |
| JP2001279134A (ja) | 吐出組成物及び機能膜作製法 | |
| JP2001291584A (ja) | 電気光学装置部品の製造方法 | |
| JP4961694B2 (ja) | 有機ｅｌ素子の製造方法 | |
| JP2008000726A (ja) | 機能性膜の製造方法 | |
| JP5430070B2 (ja) | 機能性膜の製造方法 | |
| US7619243B2 (en) | Color organic electroluminescent display and method for fabricating the same | |
| WO2004107472A1 (en) | High-resolution patterning |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040708 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060724 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060801 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060810 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060905 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061102 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20061128 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20061211 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 3896876 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100105 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110105 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110105 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120105 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120105 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130105 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130105 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140105 Year of fee payment: 7 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |