JP3896876B2

JP3896876B2 - 膜の製造方法、機能素子の製造方法、電気光学装置の製造方法、及び電子機器の製造方法

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Publication number: JP3896876B2
Application number: JP2002067729A
Authority: JP
Inventors: 彩映遠藤; 関　　俊一; 克行森井
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 2001-03-12
Filing date: 2002-03-12
Publication date: 2007-03-22
Anticipated expiration: 2022-03-12
Also published as: JP2002371196A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は機能材料の薄膜形成、特に吐出装置を使用する機能材料のパターン膜形成に用いられ、安定して吐出できる組成物（吐出組成物）、及び該組成物を用いて均一な膜（機能膜）を形成する膜の製造方法、機能素子、機能素子の製造方法、電気光学装置の製造方法、及び電子機器の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液相からの薄膜作製方法として、スピンコート法、ゾルゲル法、ブレード法等が広く知られている。上記の方法では、溶質である材料を溶媒に溶解或いは分散させた組成物を基材に塗布し、加熱等により溶媒を取り除くことで機能薄膜を作製する。
【０００３】
機能材料のパターンニングにはフォトリソグラフィー法が広く採用されているが、フォトリソグラフィー法にはコストが高い、工程が複雑である、材料の消費量が多い等の問題がある。そこで低コスト、かつ工程が簡便である吐出装置、特にインクジェットプリンティング装置を用いた機能材料の微細パターンニング技術が検討されている。インクジェットプリンティング装置を用いた機能材料の微細パターンニングの例として、カラーフィルター（特開平９−３２９７０６号公報、特開平１１−２０２１１４号公報）、有機ＥＬ表示装置（特開平号７−２３５３７８公報、特開平１０−１２３７７号公報、特開平号１０−１５３９６７号公報）等が挙げられる。また、吐出組成物に関して、簡便かつ短時間での高精度な薄膜パターン形成、及び膜設計や発光特性の最適化を簡単に行うこと目的とした有機ＥＬ素子用組成物（特開平１１−４０３５８号公報）、飛行曲がりや目詰りを生じることなく簡便かつ短時間で高精度のパターニングを目的とした吐出組成物（特開平１１−５４２７０号公報）が開示されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
吐出装置、特にインクジェットプリンティング装置によるパターン形成法には、無製版、省資源、省力化等の非常に優れた特徴がある反面、吐出組成物に用いる材料に関して制限を受けるという問題点があった。
【０００５】
第一に、非極性または極性の小さな機能材料、或いは高分子材料の中には、インクジェット法で用いられる水やアルコール類等の溶媒に不溶、または溶解度が低いものがあり、更に、水やアルコール類等の溶媒と反応、或いは分解するような機能材料には上記溶媒は使用できないという問題点があった。
【０００６】
第二に、溶媒に対する材料の溶解度が小さい場合、成膜に適した濃度の溶液では、組成物作成後に内容物の析出や、吐出時に目詰まりを生じるという問題点があった。一方、吐出時の目詰まりを防ぐために濃度を希薄にした場合、機能材料の特性を発揮するのに十分な膜厚の機能膜を作成するためには、組成物の吐出回数が多くなり、工程数が増える等の問題点があった。
【０００７】
第三に、機能材料の溶媒として蒸気圧の高い有機溶剤を用いると、吐出時或いは吐出後の膜形成の際、溶媒の揮発に伴って吐出組成物から気化熱を奪い、機能材料の析出を促すために、溶媒が蒸発しやすいために機能材料の析出し、目詰まりを起こしやすいという問題点があった。また、機能材料が多成分系の場合、相分離が生じて不均質な膜となり、機能性膜の機能が損なわれるという問題点があった。
【０００８】
第四に、インクジェット法による薄膜作製において、組成物塗布後の乾燥過程で膜の中央が薄く、端が厚くなるなど膜厚ムラが生じることがあり、膜厚の制御が困難であるという問題点があった。
【０００９】
本発明の目的は、機能材料の薄膜形成、特に吐出装置を使用する機能材料のパターン膜形成において、非極性または極性の小さな機能材料、水やアルコール類等の溶媒と反応するような機能材料、或いは高分子材料を使用できる組成物を提供することにある。また、本発明の他の目的は、インクジェット法による組成物塗布において、吐出時の目詰まりや飛行曲がりを防ぎ、安定な吐出を達成する組成物を提供することにある。更に、本発明の他の目的は、該組成物を用いて均一かつ均質な薄膜を形成する膜の製造方法、機能素子、特に有機ＥＬ素子及びその製造方法、更に当該機能素子を有する電気光学装置及び電子機器、特に有機ＥＬ表示装置の製造方法を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明にかかる組成物は、１以上の置換基を有し、構成原子として酸素原子を含有する複素環式化合物の少なくとも１種を含む溶媒と、導電性材料、絶縁性材料及び半導体材料からなる群より選択される機能材料とからなり、前記複素環式化合物が、２，３−ジハイドロベンゾフランであることを特徴とする。
【００１１】
上記組成物によれば、用いられる機能材料としては特に制限されるものではなく、非極性、或いは極性の弱い材料や、水と反応し易い反応性の材料であってもその機能を損なうことなく使用できるという効果を有する。また、上記組成物によれば、材料の溶解度が大きいため、組成物作成後の内容物の析出や、インクジェット法における吐出時の目詰まりを防ぐという効果を有する。また、前記複素環式化合物が、２，３−ジハイドロベンゾフランである。この場合、用いられる機能材料としては特に制限されるものではなく、非極性、或いは極性の弱い材料や、水と反応し易い反応性の材料であってもその機能を損なうことなく使用することができるという効果を有する。また、当該組成物によれば、材料の溶解度が大きいため、組成物作成後の内容物の析出や、インクジェット法における吐出時の目詰まりを防ぐという効果を有する。
【００１２】
上記組成物において、好ましくは前記複素環式化合物がフラン骨格を有する。この場合、組成物において、材料の溶解度が大きいため、組成物作成後の内容物の析出や、インクジェット法における吐出時の目詰まりを防ぐことができ、安定な吐出が可能な組成物を提供できる。
【００１３】
上記組成物において、好ましくは、前記複素環式化合物の沸点が１７０℃以上である。この場合、組成物調製後の溶質の析出や、溶媒の揮発による吐出時の目詰まりを防ぐことができ、安定な吐出が可能な組成物を提供できる。
【００１５】
上記組成物において、好ましくは、前記含酸素複素環式化合物を少なくとも含む溶媒が、他の有機溶剤を含有する。この場合、組成物調製後の内容物の析出や、溶媒の揮発による吐出時の目詰まりを防ぐことができ、安定な吐出が可能な組成物を提供できる。また、上記組成物によれば、塗布に適した粘度に調整できるため、機能膜の設計が容易であるという効果を有する。
【００１６】
上記他の溶媒を含む組成物は、好ましくは、当該他の溶媒として、ベンゼン誘導体を含有することを特徴とする。この場合、組成物作成後の内容物の析出や、溶媒の揮発による吐出時の目詰まりを防ぐことができ、安定な吐出が可能な組成物を提供できる。また、上記組成物によれば、塗布に適した粘度に調整できるため、機能膜の設計が容易であるという効果を有する。
【００１７】
更に、本発明によれば、上記の組成物をパターン塗布し、薄膜形成することを特徴とする。当該製造方法によれば、組成物塗布後の乾燥過程で生じる膜厚ムラや、内容物の相分離を防ぎ、均一かつ均質な機能膜を提供できる。
【００１８】
上記膜の製造方法において、好ましくは、前記塗布を、吐出装置を用いて行う。この場合、低コストかつ簡便に微細パターンニングした機能膜を提供することができる。
【００１９】
上記膜の製造方法において、好ましくは、前記吐出装置がインクジェット装置である。この場合、無製版、低コストかつ簡便に微細パターンニングした機能膜を提供することができる。
【００２０】
上記の膜の製造方法において、好ましくは、上記の組成物を基材上に塗布後、該基材を熱処理、及び又は加圧或いは減圧する。この場合、膜厚ムラや内容物の相分離を防ぎ、均一かつ均質な機能膜を提供することができる。
【００２１】
また、本発明によれば、上記機能薄膜を形成する工程を有する機能素子の製造方法が提供される。
【００２２】
上記機能素子の製造方法において、好ましくは、機能薄膜として有機ＥＬ材料からなる膜が形成される。
【００２３】
また、本発明によれば、上記の組成物を用いて形成されたことを特徴とする機能素子が提供される。
【００２４】
上記の機能素子は好ましくは有機ＥＬ素子である。
【００２５】
更に本発明によれば、上記機能薄膜を形成する工程を有する電気光学装置の製造方法が提供される。かかる電気光学装置は、特に好ましくは、有機ＥＬ表示装置である。
【００２６】
更に本発明によれば、上記機能薄膜を形成する工程を有する電子機器の製造方法が提供される。
【００２７】
【発明の実施形態】
本発明により提供される組成物は、機能材料のパターン膜形成に用いられる組成物であり、１以上の置換基を有し、構成原子に酸素原子を含有する複素環式化合物の少なくとも１種を含む溶媒と、導電性材料、絶縁性材料及び半導体材料からなる群より選択される機能材料とからなる。
【００２８】
上記組成物に用いられる機能材料としては特に制限されるものではなく、非極性、或いは極性の弱い材料や、水と反応し易い反応性の材料であっても使用することができる。このような機能材料としては、本発明の組成物の用途に応じた材料が用いられ、例えば、有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）材料等の発光材料、有機金属化合物等の導電性材料、誘電体或いは半導体材料等が挙げられ、特に、有機ＥＬ材料に好適である。
【００２９】
本発明により提供される組成物は、機能材料の薄膜形成、特に吐出装置を使用する機能材料のパターン膜形成に用いられる。
【００３０】
上記材料を溶質とし、組成物作成後及び組成物塗布過程において安定である組成物の溶媒として、１以上の置換基を有し、構成原子に酸素原子を含有する複素環式化合物の少なくとも１種を含む溶媒が好適である。また、前記複素環式化合物がフラン骨格を有すると更に好ましい。
【００３１】
前記複素環式化合物は、複素単環式化合物、縮合複素環式化合物の何れでも良い。更に、酸素原子、窒素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を含有し、かつ炭素原子を２以上有するものであっても良い。
【００３２】
また、置換基としては特に制限が無く、例えば、直鎖または分岐の脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。
【００３３】
複素環式化合物の例として、テトラヒドロフラン、フラン、オキサゾール、イソオキサゾール、フラザン、ベンゾフラン、２，３−ジハイドロベンゾフラン、１，２−ベンゾイソオキサゾール、２−メチルベンゾオキサゾールが挙げられる。
【００３４】
更に、溶媒としては、前記複素環式化合物の1種からなる単一溶媒または前記複素環式化合物の二種以上からなる混合溶媒でも良く、また、前記複素環式化合物と該複素環式化合物以外の溶媒との混合物でもよい。複素環式化合物以外の溶媒として、ベンゼン誘導体が好適である。前記ベンゼン誘導体の例として、シメン、テトラリン、クメン、デカリン、ジュレン、シクロヘキシルベンゼン、ジヘキシルベンゼン、テトラメチルベンゼン、及びジブチルベンゼンが挙げられる。上記溶媒を用いることで、組成物を塗布に適した粘度に調整できるため、機能膜の設計が容易となる。
【００３５】
上記組成物によれば、材料の溶解度が大きいため、組成物作成後の内容物の析出を防ぐことができる。また、インクジェット法を用いた機能材料のパターン膜形成において、溶媒の揮発、或いは内容物の析出による吐出時の目詰まりや飛行曲がりを防ぎ、安定した吐出を実現するためには、機能材料の溶解度が大きく、高沸点及び又は低蒸気圧の溶媒が望ましい。このような溶媒として、沸点が１７０℃以上、室温での蒸気圧が０．１０〜１０ｍｍHｇであると更に好ましい。
【００３６】
上記組成物を用いた薄膜の製造方法としては、スピンコート法、ディッピング法、キャスト法、ブレード法等の何れの方法も適用できる。
【００３７】
特に、機能材料の微細パターンニング法として、低コスト、かつ工程が簡便である点で、吐出装置、特にインクジェットプリンティング法が好ましい。
【００３８】
また、上記組成物を基板上に塗布過程、或いは塗布後、自然乾燥、加熱、加圧又は減圧、ガスフロー乾燥、またはこれらの組み合わせにより機能膜を作製する。
【００３９】
上記製造方法によれば、膜厚ムラや内容物の相分離が起こらず、均一かつ均質な機能膜を得ることができる。また、溶媒除去方法を組み合わせる事で、機能膜の設計が容易となる。
【００４０】
上記機能素子によれば、インクジェット法を用いた場合には、有機ＥＬ素子のカラー化が可能となる。
【００４１】
【実施例】
次に、本発明の実施形態を有機ＥＬ素子を例に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００４２】
（実施例１）
緑色発光層用組成物として、表１に示した組成物（Ｇ１）（溶液）を調製した。
【００４３】
青色発光層用組成物として、表２に示した組成物（Ｂ１）（溶液）を調製した。
【００４４】
赤色発光層用組成物として、表３に示した組成物（Ｒ１）（溶液）を調製した。
【００４５】
【表１】

【００４６】
【表２】

【００４７】
【表３】

【００４８】
尚、上記組成物中で使用した化合物１〜５の構造を以下に示す。
【００４９】
【化１】

【００５０】
【化２】

【００５１】
【化３】

【００５２】
【化４】

【００５３】
【化５】

【００５４】
比較として、表１〜３において２，３−ジハイドロベンゾフランを含まない発光層用組成物（Ｇ２）、（Ｂ２）、（Ｒ２）（夫々溶液）を調製した。
【００５５】
室温における1ヶ月間の保存後、緑色発光組成物並びに青色発光組成物については６５０ｎｍにおける濁度変化を、赤色発光組成物については７００ｎｍにおける濁度変化（調製直後の組成物の濁度に対する変化）を観察した。
表４に組成物の安定性の比較を示す。
【００５６】
【表４】

【００５７】
○：濁度変化無し
△：濁度変化有り
組成物（Ｇ２）、（Ｂ２）、（Ｒ２）は、組成物作成後1週間は非常に安定であったが、1ヶ月経過した後には内容物の析出が認められた。これに対して、組成物（Ｇ１）、（Ｂ１）、（Ｒ１）は組成物作成後一ヶ月を経ても非常に安定であった。
【００５８】
（実施例２）
下記表５に示す処方の正孔注入／輸送層用組成物（溶液）を調製した。
【００５９】
【表５】

【００６０】
緑色発光層用組成物として表１に示す組成物（溶液）を調製した。
【００６１】
次に、これら材料を用いた、インクジェット法による有機ＥＬ素子の形成方法を説明するが、これに先立ち、まず、この有機ＥＬ素子を機能素子とした電気光学装置として、有機ＥＬパネルの一例の概略構成を説明する。
【００６２】
図１は、電気光学装置としての有機ＥＬパネルの一例の平面構造を説明するための図であり。図１中符号７０は有機ＥＬパネルである。この有機ＥＬパネル７０は、ガラス等からなる基体２と、マトリックス状に配置された画素７１を形成する多数の有機ＥＬ素子と、封止基板（図示せず）とを具備して構成されたものである。
基体２は、例えばガラス等の透明基板からなるもので、基体２の中央に位置する表示領域２ａと、基体２の周辺部に位置して表示領域２ａの外側に配置された非表示領域２ｂとに区画されている。表示領域２ａは、マトリックス状に配置された有機ＥＬ素子によって形成された領域であり、有効表示領域とも言われるものである。
【００６３】
有機ＥＬ素子及び隔壁（図示せず）からなる有機ＥＬ素子部（図示せず）と基板との間には、回路素子部（図示せず）が設けられており、この回路素子部には、走査線、信号線、保持容量や、スイッチング素子となる薄膜トランジスタ等が設けられている。
非表示領域２ｂである基体２の周辺部には、前記画素７１を形成する有機ＥＬ素子の陰極（対向電極）に連続した陰極線用配線１２が配設されており、この陰極線用配線１２は、その端部がフレキシブル基板５上の配線５ａに接続されている。この配線５ａは、フレキシブル基板５上に設けられた駆動ＩＣ６（駆動回路）に接続されている。
【００６４】
また、非表示領域２ｂの回路素子部には、電源線１０３（１０３Ｒ、１０３Ｇ、１０３Ｂ）が配線されている。
表示領域２ａを挟んでその両側には、走査側駆動回路７３が配置されている。これら走査側駆動回路７３は、前記の回路素子部内に設けられたものとなっている。回路素子部内には、走査側駆動回路７３に接続される駆動回路用制御信号配線７３ａと駆動回路用電源配線７３ｂとが設けられている。
また、表示領域２ａの一方の側には、検査回路７４が配置されている。この検査回路７４により、製造途中や出荷時の表示装置の品質、欠陥の検査を行うことができるようになっている。
なお、このような有機ＥＬ素子部の上には、これを覆って封止部（図示せず）が設けられている。この封止部は、基体２に塗布された封止樹脂と、缶封止基板（封止基板）とから構成されたものである。
【００６５】
このような有機ＥＬパネルの構成要素となる有機ＥＬ素子の形成方法を、図２〜図１１を参照して説明する。
なお、本工程では一画素のみを示しているが、図２に示すようにこれらの画素は７０．５μｍピッチで配置されている。ＩＴＯ１１がパターンニングされたガラス基板１０上にフォトリソグラフィーによりポリイミド膜１３およびＳｉＯ₂ 膜１２の積層構造が形成されている。当該積層構造の開口部径（ＳｉＯ₂ 層の開口径）は２８μｍ、高さが２μｍである。ポリイミド層最上部での開口は３２μｍである。正孔注入／輸送材料組成物を塗布する前に、大気圧プラズマ処理によりポリイミドバンクを撥インク処理した。大気圧プラズマ処理条件は、大気圧下で、パワー３００Ｗ、電極−基板間距離１ｍｍ、酸素プラズマ処理では酸素ガス流量８０ｃｃｍ、ヘリウムガス流量１０ＳＬＭ、テーブル搬送速度５ｍｍ/ｓで行い、続けてＣＦ₄ プラズマ処理では、ＣＦ₄ ガス流量１００ｃｃｍ、ヘリウムガス流量１０ＳＬＭ、テーブル搬送速度３ｍｍ/ｓで行った。
【００６６】
基板の表面処理後、図３〜５に示すように、表５に示した処方の正孔注入／輸送材料組成物（溶液）１５をインクジェットプリント装置ヘッド１４から１５ｐｌ吐出し、パターン塗布した。真空中（１ｔｏｒｒ）室温２０分という条件で溶媒を除去し、その後大気中２００℃（ホットプレート上）１０分の熱処理により正孔注入／輸送層１６を形成した。
【００６７】
次に、図６〜７に示すように、表１に示した緑色発光層用組成物１７をインクジェットプリント装置のヘッド１４から２０ｐｌ吐出し、基板上にパターン塗布した。更に、基板をホットプレート上で６０℃に加熱して溶媒を除去し、緑色発光層１８を形成した。
蒸着により陰極を形成し、最後にエポキシ樹脂による封止を行い、素子（１）を作製した。
【００６８】
表１において２，３−ジハイドロベンゾフランを含まない発光層用組成物を作製し、その他は上記同様の条件で素子（２）を作製した。
図８及び９に有機ＥＬ薄膜の断面図を示す。
【００６９】
作製した薄膜の中央部、及び端部の膜厚を接触式膜厚計により測定した。素子（１）における中央部と端部の膜厚差をｘ（図８）、素子（２）における中央部と端部の膜厚差をｙ（図９）とすると、
ｘ＜ｙ
であり、素子（１）では非常により均一な膜厚に成膜することができた。
【００７０】
図１０に素子（１）、（２）の電圧−発光輝度特性の比較を示す。
同じ電圧に対し、素子（１）の方が高い輝度並びに均一な発光を示し、発光特性の優れた有機ＥＬ素子が得られた。
【００７１】
（実施例３）
実施例２と同様にして、ＩＴＯ電極、所定開口形状を有するＳｉＯ膜及びポリイミド膜の積層構造を形成し、続いて正孔注入・輸送層、緑色発光層組成物（表１に示す処方）を塗布した基板を、塗布後直ちに減圧下（２ｍｍＨｇ）で溶媒を除去しながら６０℃に加熱しながら緑色発光層を作製した。その他乾燥条件以外は実施例２と同様の条件で素子（３）を作製し、その電圧−発光輝度特性を測定した。その結果、実施例２と同様の結果が得られた。
【００７２】
（実施例４）
実施例２と同様にして、ＩＴＯ電極、所定開口形状を有するＳｉＯ膜及びポリイミド膜の積層構造を形成し、続いて正孔注入・輸送層（表５に示す処方）を塗布した基板に対し、次に表２に示した処方の青色発光層用組成物をインクジェットプリント装置のヘッドから１５ｐｌ吐出し、基板上にパターン塗布した。更に、基板をホットプレート上で６０℃に加熱して溶媒を除去し、青色発光層を形成した。
続いて、実施例２と同様の方法、条件で陰極を形成、封止を行い、素子（４）を形成した。
【００７３】
比較として、表２において２，３−ジハイドロベンゾフランを含まない発光層用組成物を調製し、その他は上記同様の条件で素子（５）を作製した。
素子（４）と素子（５）の電圧−発光輝度特性を比較したところ、実施例２と同様に、２，３−ジハイドロベンゾフランを含む組成物を用いた素子（４）の方が均一で高い輝度を示した。
【００７４】
また、図１１に素子（４）及び（５）の電圧−電流特性の比較を示す。
素子（５）に比べて、素子（４）の方が電流量は少なく、高効率の優れた素子であった。
【００７５】
（実施例５）
実施例２と同様にして、ＩＴＯ電極、所定開口形状を有するＳｉＯ膜及びポリイミド膜の積層構造を形成し、続いて正孔注入・輸送層（表５に示す処方）を塗布した基板に対し、次に表２に示した処方の青色発光層用組成物をインクジェットプリント装置のヘッドから１５ｐｌ吐出し、基板上にパターン塗布した。更に、基板をホットプレート上で６０℃に加熱して溶媒を除去し、赤色発光層を形成した。
続いて、実施例２と同条件で陰極を形成、封止を行い、素子（６）を形成した。
【００７６】
比較として、表３において２，３−ジハイドロベンゾフランを含まない発光層用組成物を作製し、その他は上記同様の条件で素子（７）を作製した。
素子（６）と素子（７）の電圧−発光輝度特性を比較したところ、実施例２並びに４と同様に、２，３−ジハイドロベンゾフランを含む組成物を用いた素子（６）の方が均一で高い輝度を示した。
【００７７】
また、上記実施例に示した３種類の各組成物をインクジェット法により打ち分けてパターン形成すれば、高輝度のカラー有機ＥＬ素子の作製が可能となる。更に、上記のような組成物を用いた有機ＥＬ層の形成を用いて、優れた輝度を有するカラー有機ＥＬ表示装置を製造することができる。
【００７８】
次に、本発明の電子機器について説明する。本発明の電子機器は、前記の有機ＥＬパネル（カラー有機ＥＬ表示装置）を表示手段として用いたものである。
図１２（ａ）は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図１２（ａ）において、５００は携帯電話本体を示し、５０１は前記の有機ＥＬパネルからなる表示装置（表示手段）を示している。
図１２（ｂ）は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図１２（ｂ）において、６００は情報処理装置、６０１はキーボードなどの入力部、６０３は情報処理本体、６０２は前記の有機ＥＬパネルからなる表示装置（表示手段）を示している。
図１２（ｃ）は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図１２（ｃ）において、７００は時計本体を示し、７０１は前記の有機ＥＬパネルからなる表示装置（表示手段）を示している。
図１２（ａ）〜（ｃ）に示す電子機器は、前記の有機ＥＬパネルを表示装置（表示手段）として用いたものであるので、均一かつ均質な薄膜からなる有機ＥＬ素子（機能素子）を備えた良好なものとなる。
【００７９】
【発明の効果】
以上述べたように、本発明により提供される組成物によれば、インクジェット法による組成物塗布において、吐出時の目詰まりや飛行曲がりを防ぎ、安定な吐出を達成することができる。更に、本発明により提供される膜の製造方法によれば、該組成物を用いて均一かつ均質な薄膜の形成、並びに機能素子、特に有機ＥＬ素子、有機ＥＬ表示装置等の電気光学装置、各種の電子機器を作製することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】電気光学装置としての有機ＥＬパネルの一例の平面構造を説明するための図である。
【図２】本発明の一実施例に用いた基板の構造を示す断面図。
【図３】本発明の一実施例にかかる有機ＥＬ素子の製造方法の一工程を示す断面図。
【図４】本発明の一実施例にかかる有機ＥＬ素子の製造方法の一工程を示す断面図。
【図５】本発明の一実施例にかかる有機ＥＬ素子の製造方法の一工程を示す断面図。
【図６】本発明の一実施例にかかる有機ＥＬ素子の製造方法の一工程を示す断面図。
【図７】本発明の一実施例にかかる有機ＥＬ素子の製造方法の一工程を示す断面図。
【図８】本発明の一実施例で得られた有機ＥＬ素子の発光層断面を模式的に示す断面図。
【図９】本発明の一実施例に対する比較として得られた有機ＥＬ素子の発光層断面を模式的に示す断面図。
【図１０】本発明の一実施例及び比較として得られた有機ＥＬ素子の電圧−発光輝度特性を示す線図。
【図１１】本発明の一実施例及び比較として得られた有機ＥＬ素子の電圧−電流特性を示す線図。
【図１２】有機ＥＬパネルを用いた電子機器の具体例を示す図であり、（ａ）は携帯電話に適用した場合の一例を示す斜視図、（ｂ）は情報処理装置に適用した場合の一例を示す斜視図、（ｃ）は腕時計型電子機器に適用した場合の一例を示す斜視図である。
【符号の説明】
１０．ガラス基板
１１．透明陰極ＩＴＯ
１２．ＳｉＯ₂ 膜
１３．有機物（ポリイミド）膜
１４．インクジェットヘッド
１５．正孔注入／輸送材料組成物
１６．正孔注入／輸送層
１７．緑色発光層組成物
１８．緑色発光層
１９．陰極
２０．封止層

Claims

１以上の置換基を有し、構成原子として酸素原子を含有する複素環式化合物の少なくとも１種を含む溶媒と、導電性材料、絶縁性材料及び半導体材料からなる群より選択される機能材料とからなり、前記複素環式化合物が、２，３−ジハイドロベンゾフランである組成物を、パターン塗布し、薄膜形成することを特徴とする膜の製造方法。
前記複素環式化合物を含む溶媒が、他の有機溶剤を含有することを特徴とする請求項１に記載の膜の製造方法。
前記塗布を、吐出装置を用いて行うことを特徴とする請求項１または２に記載の膜の製造方法。
前記吐出装置が、インクジェット装置である請求項３に記載の膜の製造方法。
前記組成物を基材上に塗布後、該基材を熱処理、及び又は加圧或いは減圧することを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の膜の製造方法。
請求項１乃至５のいずれかに記載の膜の製造方法により機能薄膜を形成する工程を有する機能素子の製造方法。
前記機能薄膜が有機エレクトロルミネッセンス材料からなる膜である請求項６記載の機能素子の製造方法。
請求項１乃至５のいずれかに記載の膜の製造方法により機能薄膜を形成する工程を有する電気光学装置の製造方法。
請求項１乃至５のいずれかに記載の膜の製造方法により機能薄膜を形成する工程を有する電子機器の製造方法。