JP2002371076A - 2−アルキル−3−アシルベンゾフラン類の製造方法 - Google Patents
2−アルキル−3−アシルベンゾフラン類の製造方法Info
- Publication number
- JP2002371076A JP2002371076A JP2001179457A JP2001179457A JP2002371076A JP 2002371076 A JP2002371076 A JP 2002371076A JP 2001179457 A JP2001179457 A JP 2001179457A JP 2001179457 A JP2001179457 A JP 2001179457A JP 2002371076 A JP2002371076 A JP 2002371076A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- alkyl
- chloride
- carbon atoms
- butyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Furan Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 O−アリールオキシム類から得られる2−ア
ルキルベンゾフラン類を原料として用いて、2−アルキ
ル−3−アシルベンゾフラン類を工業的に安価に製造す
る方法を提供すること。 【解決手段】 下記一般式(1); (式中、R1は、炭素数2〜5のアルキル基を表し、R
2は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、
ホルミル基、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数2〜5
のアルキルカルボニル基、炭素数1〜4のアルコキシ基
または炭素数1〜4のアルキルスルホニル基を表す。)
で表されるO−アリールオキシム類を酸の存在下で環化
して得られる、粗2−アルキルベンゾフラン類をルイス
酸の存在下にアシルクロライドと反応させる下記一般式
(2); (式中、R1およびR2は一般式(1)と同様であり、
R3は、炭素数1〜4のアルキル基、または置換あるい
は無置換のフェニル基を表す。)で表される2−アルキ
ル−3−アシルベンゾフラン類の製造方法。
ルキルベンゾフラン類を原料として用いて、2−アルキ
ル−3−アシルベンゾフラン類を工業的に安価に製造す
る方法を提供すること。 【解決手段】 下記一般式(1); (式中、R1は、炭素数2〜5のアルキル基を表し、R
2は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、
ホルミル基、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数2〜5
のアルキルカルボニル基、炭素数1〜4のアルコキシ基
または炭素数1〜4のアルキルスルホニル基を表す。)
で表されるO−アリールオキシム類を酸の存在下で環化
して得られる、粗2−アルキルベンゾフラン類をルイス
酸の存在下にアシルクロライドと反応させる下記一般式
(2); (式中、R1およびR2は一般式(1)と同様であり、
R3は、炭素数1〜4のアルキル基、または置換あるい
は無置換のフェニル基を表す。)で表される2−アルキ
ル−3−アシルベンゾフラン類の製造方法。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、2−アルキル−3−ア
シルベンゾフラン類の製造方法に関する。2−アルキル
−3−アシルベンゾフラン類は、医薬、農薬、機能性材
料等の製造中間体として有用な化合物である。
シルベンゾフラン類の製造方法に関する。2−アルキル
−3−アシルベンゾフラン類は、医薬、農薬、機能性材
料等の製造中間体として有用な化合物である。
【0002】
【従来の技術】2−アルキル−3−アシルベンゾフラン
類の製造方法としては、従来より種々の方法が知られて
いるが、例えば、2−アルキルベンゾフラン類の3位を
アシルクロライドによりアシル化する方法で製造されて
いる(特表平10−504297号公報)。
類の製造方法としては、従来より種々の方法が知られて
いるが、例えば、2−アルキルベンゾフラン類の3位を
アシルクロライドによりアシル化する方法で製造されて
いる(特表平10−504297号公報)。
【0003】上記方法において、原料として用いられる
2−アルキルベンゾフラン類は、合成が容易でないが、
O−アリールオキシム類を酸の存在下で環化する方法が
知られている(Synthesis,192(198
7))。しかしながら、この方法では、下記式で表され
るように、通常、生成物である2−アルキルベンゾフラ
ン類の他に2−メチル−3−アルキルベンゾフラン類が
20〜40重量%程度副生する。
2−アルキルベンゾフラン類は、合成が容易でないが、
O−アリールオキシム類を酸の存在下で環化する方法が
知られている(Synthesis,192(198
7))。しかしながら、この方法では、下記式で表され
るように、通常、生成物である2−アルキルベンゾフラ
ン類の他に2−メチル−3−アルキルベンゾフラン類が
20〜40重量%程度副生する。
【0004】
【化3】
【0005】したがって、従来は、副生した2−メチル
−3−アルキルベンゾフラン類を除去した2−アルキル
ベンゾフラン類を原料に用いてアシル化が行われてい
る。しかしながら、2−アルキルベンゾフラン類と2−
メチル−3−アルキルベンゾフラン類の分離は難しく、
通常、シリカゲルクロマトグラフィー等で分離しなけれ
ばならない。そのため、O−アリールオキシム類から得
られる2−アルキルベンゾフラン類を原料とする2−ア
ルキル−3−アシルベンゾフラン類の製造方法は、工業
的に適した方法とは言い難い。
−3−アルキルベンゾフラン類を除去した2−アルキル
ベンゾフラン類を原料に用いてアシル化が行われてい
る。しかしながら、2−アルキルベンゾフラン類と2−
メチル−3−アルキルベンゾフラン類の分離は難しく、
通常、シリカゲルクロマトグラフィー等で分離しなけれ
ばならない。そのため、O−アリールオキシム類から得
られる2−アルキルベンゾフラン類を原料とする2−ア
ルキル−3−アシルベンゾフラン類の製造方法は、工業
的に適した方法とは言い難い。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、O−アリー
ルオキシム類から得られる2−アルキルベンゾフラン類
を原料として用いて、2−アルキル−3−アシルベンゾ
フラン類を工業的に安価に製造する方法を提供すること
を目的とする。
ルオキシム類から得られる2−アルキルベンゾフラン類
を原料として用いて、2−アルキル−3−アシルベンゾ
フラン類を工業的に安価に製造する方法を提供すること
を目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意検討した結果、O−アリールオキシム
類を酸の存在下で環化する際に副生する2−メチル−3
−アルキルベンゾフラン類は、アシルクロライドとは反
応しないこと、2−メチル−3−アルキルベンゾフラン
類は、目的物である2−アルキル−3−アシルベンゾフ
ラン類と容易に分離できることを見出した。その結果、
O−アリールオキシム類を酸の存在下で環化して得られ
る粗2−アルキルベンゾフラン類を精製することなく、
そのまま原料として用いて、アシルクロライドと反応さ
せて2−アルキル−3−アシルベンゾフラン類を工業的
に安価に製造することができることを見出し本発明を完
成した。
を解決すべく鋭意検討した結果、O−アリールオキシム
類を酸の存在下で環化する際に副生する2−メチル−3
−アルキルベンゾフラン類は、アシルクロライドとは反
応しないこと、2−メチル−3−アルキルベンゾフラン
類は、目的物である2−アルキル−3−アシルベンゾフ
ラン類と容易に分離できることを見出した。その結果、
O−アリールオキシム類を酸の存在下で環化して得られ
る粗2−アルキルベンゾフラン類を精製することなく、
そのまま原料として用いて、アシルクロライドと反応さ
せて2−アルキル−3−アシルベンゾフラン類を工業的
に安価に製造することができることを見出し本発明を完
成した。
【0008】すなわち、本発明は、下記一般式(1);
【0009】
【化4】 (式中、R1は、炭素数2〜5のアルキル基を表し、R
2は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、
ホルミル基、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数2〜5
のアルキルカルボニル基、炭素数1〜4のアルコキシ基
または炭素数1〜4のアルキルスルホニル基を表す。)
2は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、
ホルミル基、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数2〜5
のアルキルカルボニル基、炭素数1〜4のアルコキシ基
または炭素数1〜4のアルキルスルホニル基を表す。)
【0010】で表されるO−アリールオキシム類を酸の
存在下で環化して得られる、粗2−アルキルベンゾフラ
ン類をルイス酸の存在下にアシルクロライドと反応させ
る下記一般式(2);
存在下で環化して得られる、粗2−アルキルベンゾフラ
ン類をルイス酸の存在下にアシルクロライドと反応させ
る下記一般式(2);
【0011】
【化5】 (式中、R1およびR2は一般式(1)と同様であり、
R3は、炭素数1〜4のアルキル基、または置換あるい
は無置換のフェニル基を表す。)で表される2−アルキ
ル−3−アシルベンゾフラン類の製造方法に関する。
R3は、炭素数1〜4のアルキル基、または置換あるい
は無置換のフェニル基を表す。)で表される2−アルキ
ル−3−アシルベンゾフラン類の製造方法に関する。
【0012】
【発明の実施の形態】本発明においては、まず、O−ア
リールオキシム類を酸の存在下で環化して、粗2−アル
キルベンゾフラン類を製造する。ここで、得られる粗2
−アルキルベンゾフラン類とは、O−アリールオキシム
類を酸の存在下で環化する際に副生する2−メチル−3
−アルキルベンゾフラン類を含むものである。
リールオキシム類を酸の存在下で環化して、粗2−アル
キルベンゾフラン類を製造する。ここで、得られる粗2
−アルキルベンゾフラン類とは、O−アリールオキシム
類を酸の存在下で環化する際に副生する2−メチル−3
−アルキルベンゾフラン類を含むものである。
【0013】本発明で用いられるO−アリールオキシム
類は、下記一般式(1)で表される化合物である。
類は、下記一般式(1)で表される化合物である。
【0014】
【化6】
【0015】式中、R1は、炭素数2〜5のアルキル基
を表し、その具体例としては、エチル基、n−プロピル
基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル
基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基
等を挙げることができる。
を表し、その具体例としては、エチル基、n−プロピル
基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル
基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基
等を挙げることができる。
【0016】式中、R2は、水素原子、ハロゲン原子、
シアノ基、ニトロ基、ホルミル基、炭素数1〜4のアル
キル基、炭素数2〜5のアルキルカルボニル基、炭素数
1〜4のアルコキシ基または炭素数1〜4のアルキルス
ルホニル基を表す。
シアノ基、ニトロ基、ホルミル基、炭素数1〜4のアル
キル基、炭素数2〜5のアルキルカルボニル基、炭素数
1〜4のアルコキシ基または炭素数1〜4のアルキルス
ルホニル基を表す。
【0017】上記ハロゲン原子の具体例としては、フッ
素原子、塩素原子、臭素原子等を挙げることができる。
素原子、塩素原子、臭素原子等を挙げることができる。
【0018】上記炭素数1〜4のアルキル基の具体例と
しては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプ
ロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert
−ブチル基等を挙げることができる。
しては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプ
ロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert
−ブチル基等を挙げることができる。
【0019】上記炭素数2〜5のアルキルカルボニル基
の具体例としては、アセチル基、エチルカルボニル基、
n−プロピルカルボニル基、イソプロピルカルボニル
基、n−ブチルカルボニル基、sec−ブチルカルボニ
ル基、tert−ブチルカルボニル基等を挙げることが
できる。
の具体例としては、アセチル基、エチルカルボニル基、
n−プロピルカルボニル基、イソプロピルカルボニル
基、n−ブチルカルボニル基、sec−ブチルカルボニ
ル基、tert−ブチルカルボニル基等を挙げることが
できる。
【0020】上記炭素数1〜4のアルコキシ基の具体例
としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ
基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、sec−ブト
キシ基、tert−ブトキシ基等を挙げることができ
る。
としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ
基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、sec−ブト
キシ基、tert−ブトキシ基等を挙げることができ
る。
【0021】上記炭素数1〜4のアルキルスルホニル基
の具体例としては、メチルスルホニル基、エチルスルホ
ニル基、n−プロピルスルホニル基、イソプロピルスル
ホニル基、n−ブチルスルホニル基、sec−ブチルス
ルホニル基、tert−ブチルスルホニル基等を挙げる
ことができる。
の具体例としては、メチルスルホニル基、エチルスルホ
ニル基、n−プロピルスルホニル基、イソプロピルスル
ホニル基、n−ブチルスルホニル基、sec−ブチルス
ルホニル基、tert−ブチルスルホニル基等を挙げる
ことができる。
【0022】上記一般式(1)で表されるO−アリール
オキシム類の具体例としては、O−フェニル−2−ブタ
ノンオキシム、O−(4−ニトロフェニル)−2−ブタ
ノンオキシム、O−(4−メチルフェニル)−2−ブタ
ノンオキシム、O−(4−ニトロフェニル)−2−ペン
タノンオキシム、O−(4−アセチルフェニル)−2−
ペンタノンオキシム、O−(4−シアノフェニル)−2
−ペンタノンオキシム、O−(4−クロロフェニル)−
2−ペンタノンオキシム、O−(4−メトキシフェニ
ル)−2−ペンタノンオキシム、O−(4−ホルミルフ
ェニル)−2−ペンタノンオキシム、O−(3−ニトロ
フェニル)−2−ペンタノンオキシム、O−フェニル−
2−ヘキサノンオキシム、O−(4−ニトロフェニル)
−2−ヘキサノンオキシム、O−(3−ニトロフェニ
ル)−2−ヘキサノンオキシム、O−(2−ニトロフェ
ニル)−2−ヘキサノンオキシム、O−(4−アセチル
フェニル)−2−ヘキサノンオキシム、O−(2−アセ
チルフェニル)−2−ヘキサノンオキシム、O−(3−
クロロフェニル)−2−ヘキサノンオキシム、O−(4
−クロロフェニル)−2−ヘキサノンオキシム、O−
(4−メトキシフェニル)−2−ヘキサノンオキシム、
O−(4−ホルミルフェニル)−2−ヘキサノンオキシ
ム、O−(4−シアノフェニル)−2−ヘキサノンオキ
シム、O−(2−シアノフェニル)−2−ヘキサノンオ
キシム、O−(4−ニトロフェニル)−2−ヘプタノン
オキシム、O−(4−クロロフェニル)−2−ヘプタノ
ンオキシム、O−(4−シアノフェニル)−2−ヘプタ
ノンオキシム、O−(4−ニトロフェニル)−5−メチ
ル−2−ヘキサノンオキシム、O−(4−ニトロフェニ
ル)−4−メチル−2−ペンタノンオキシム等を挙げる
ことができる。
オキシム類の具体例としては、O−フェニル−2−ブタ
ノンオキシム、O−(4−ニトロフェニル)−2−ブタ
ノンオキシム、O−(4−メチルフェニル)−2−ブタ
ノンオキシム、O−(4−ニトロフェニル)−2−ペン
タノンオキシム、O−(4−アセチルフェニル)−2−
ペンタノンオキシム、O−(4−シアノフェニル)−2
−ペンタノンオキシム、O−(4−クロロフェニル)−
2−ペンタノンオキシム、O−(4−メトキシフェニ
ル)−2−ペンタノンオキシム、O−(4−ホルミルフ
ェニル)−2−ペンタノンオキシム、O−(3−ニトロ
フェニル)−2−ペンタノンオキシム、O−フェニル−
2−ヘキサノンオキシム、O−(4−ニトロフェニル)
−2−ヘキサノンオキシム、O−(3−ニトロフェニ
ル)−2−ヘキサノンオキシム、O−(2−ニトロフェ
ニル)−2−ヘキサノンオキシム、O−(4−アセチル
フェニル)−2−ヘキサノンオキシム、O−(2−アセ
チルフェニル)−2−ヘキサノンオキシム、O−(3−
クロロフェニル)−2−ヘキサノンオキシム、O−(4
−クロロフェニル)−2−ヘキサノンオキシム、O−
(4−メトキシフェニル)−2−ヘキサノンオキシム、
O−(4−ホルミルフェニル)−2−ヘキサノンオキシ
ム、O−(4−シアノフェニル)−2−ヘキサノンオキ
シム、O−(2−シアノフェニル)−2−ヘキサノンオ
キシム、O−(4−ニトロフェニル)−2−ヘプタノン
オキシム、O−(4−クロロフェニル)−2−ヘプタノ
ンオキシム、O−(4−シアノフェニル)−2−ヘプタ
ノンオキシム、O−(4−ニトロフェニル)−5−メチ
ル−2−ヘキサノンオキシム、O−(4−ニトロフェニ
ル)−4−メチル−2−ペンタノンオキシム等を挙げる
ことができる。
【0023】本発明で用いられる酸としては、例えば、
塩酸、硫酸、リン酸、硝酸等の鉱酸等を挙げることがで
きる。これらの中でも、比較的短時間に反応が進行する
観点から、硫酸が好適に用いられる。
塩酸、硫酸、リン酸、硝酸等の鉱酸等を挙げることがで
きる。これらの中でも、比較的短時間に反応が進行する
観点から、硫酸が好適に用いられる。
【0024】上記酸の使用量は、O−アリールオキシム
類に対して0.1〜40倍モル、好ましくは0.3〜2
4倍モル、より好ましくは0.5〜15倍モルであるこ
とが望ましい。酸の使用量が0.1倍モル未満の場合、
反応が完結しにくく、収率が低下するおそれがある。ま
た、酸の使用量が40倍モルを超える場合、使用量に見
合う効果がなく経済的でない。
類に対して0.1〜40倍モル、好ましくは0.3〜2
4倍モル、より好ましくは0.5〜15倍モルであるこ
とが望ましい。酸の使用量が0.1倍モル未満の場合、
反応が完結しにくく、収率が低下するおそれがある。ま
た、酸の使用量が40倍モルを超える場合、使用量に見
合う効果がなく経済的でない。
【0025】反応溶媒としては、上記酸を溶媒として用
いても良いが、例えば、メタノール、エタノール、イソ
プロパノール等のアルコール類;ジエチルエーテル、t
ert−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサン等のエーテル類;ヘキサン、ヘプタン等の脂
肪族炭化水素類;トルエン、キシレン、モノクロロベン
ゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族炭化水素類;塩化メ
チレン、ジクロロエタン等の塩素化炭化水素類;ジメチ
ルスルホキシド、N,N−ジメチルホルムアミド等の非
プロトン性極性溶媒等を用いることができる。
いても良いが、例えば、メタノール、エタノール、イソ
プロパノール等のアルコール類;ジエチルエーテル、t
ert−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサン等のエーテル類;ヘキサン、ヘプタン等の脂
肪族炭化水素類;トルエン、キシレン、モノクロロベン
ゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族炭化水素類;塩化メ
チレン、ジクロロエタン等の塩素化炭化水素類;ジメチ
ルスルホキシド、N,N−ジメチルホルムアミド等の非
プロトン性極性溶媒等を用いることができる。
【0026】上記反応溶媒の使用量は、通常、O−アリ
ールオキシム類に対して50倍重量以下、好ましくは3
0倍重量以下であることが望ましい。反応溶媒が50倍
重量を超える場合、経済的でないばかりか容積効率が悪
化するおそれがある。
ールオキシム類に対して50倍重量以下、好ましくは3
0倍重量以下であることが望ましい。反応溶媒が50倍
重量を超える場合、経済的でないばかりか容積効率が悪
化するおそれがある。
【0027】反応温度は、−10〜150℃、好ましく
は0〜130℃、より好ましくは20〜100℃である
ことが望ましい。反応温度が−10℃未満の場合、反応
速度が遅くなり、反応に長時間を要するおそれがある。
また、反応温度が150℃を超える場合、副反応が起こ
りやすく、収率および純度が低下するおそれがある。反
応時間は、反応温度により異なるが、通常、1〜10時
間である。
は0〜130℃、より好ましくは20〜100℃である
ことが望ましい。反応温度が−10℃未満の場合、反応
速度が遅くなり、反応に長時間を要するおそれがある。
また、反応温度が150℃を超える場合、副反応が起こ
りやすく、収率および純度が低下するおそれがある。反
応時間は、反応温度により異なるが、通常、1〜10時
間である。
【0028】上記方法で得られた2−アルキルベンゾフ
ラン類には、通常、2−メチル−3−アルキルベンゾフ
ラン類が副生成物として含まれている。本発明において
は、2−メチル−3−アルキルベンゾフラン類を含む粗
2−アルキルベンゾフラン類をルイス酸の存在下にアシ
ルクロライドと反応させて2−アルキル−3−アシルベ
ンゾフラン類を製造する。
ラン類には、通常、2−メチル−3−アルキルベンゾフ
ラン類が副生成物として含まれている。本発明において
は、2−メチル−3−アルキルベンゾフラン類を含む粗
2−アルキルベンゾフラン類をルイス酸の存在下にアシ
ルクロライドと反応させて2−アルキル−3−アシルベ
ンゾフラン類を製造する。
【0029】本発明で用いられるアシルクロライドの具
体例としては、2−ブロモベンゾイルクロライド、4−
ニトロベンゾイルクロライド、4−N−ジメチルアミノ
ベンゾイルクロライド、2−ホルミルベンゾイルクロラ
イド、アセチルクロライド、ブタノイルクロライド、ベ
ンゾイルクロライド、4−アセチルベンゾイルクロライ
ド、4−メチルベンゾイルクロライド、2−クロロベン
ゾイルクロライド、3−クロロベンゾイルクロライド、
4−メチルチオベンゾイルクロライド、4−メトキシベ
ンゾイルクロライド、4−(3’−N−ジブチルアミノ
プロポキシ)ベンゾイルクロライド、4−(2’−N−
ジエチルアミノエトキシ)ベンゾイルクロライド、3−
(2’−N−ジエチルアミノエトキシ)ベンゾイルクロ
ライド、2−ニトロベンゾイルクロライド、3−ニトロ
ベンゾイルクロライド、2−シアノベンゾイルクロライ
ド、4−シアノベンゾイルクロライド、3−シアノベン
ゾイルクロライド等を挙げることができる。
体例としては、2−ブロモベンゾイルクロライド、4−
ニトロベンゾイルクロライド、4−N−ジメチルアミノ
ベンゾイルクロライド、2−ホルミルベンゾイルクロラ
イド、アセチルクロライド、ブタノイルクロライド、ベ
ンゾイルクロライド、4−アセチルベンゾイルクロライ
ド、4−メチルベンゾイルクロライド、2−クロロベン
ゾイルクロライド、3−クロロベンゾイルクロライド、
4−メチルチオベンゾイルクロライド、4−メトキシベ
ンゾイルクロライド、4−(3’−N−ジブチルアミノ
プロポキシ)ベンゾイルクロライド、4−(2’−N−
ジエチルアミノエトキシ)ベンゾイルクロライド、3−
(2’−N−ジエチルアミノエトキシ)ベンゾイルクロ
ライド、2−ニトロベンゾイルクロライド、3−ニトロ
ベンゾイルクロライド、2−シアノベンゾイルクロライ
ド、4−シアノベンゾイルクロライド、3−シアノベン
ゾイルクロライド等を挙げることができる。
【0030】上記アシルクロライドの使用量は、O−ア
リールオキシム類に対して0.5〜10倍モル、好まし
くは0.6〜8倍モル、より好ましくは0.8〜5倍モ
ルであることが望ましい。アシルクロライドの使用量が
0.5倍モル未満の場合、反応が完結しにくく、収率が
低下するおそれがある。また、アシルクロライドの使用
量が10倍モルを超える場合、使用量に見合う効果がな
く経済的でない。
リールオキシム類に対して0.5〜10倍モル、好まし
くは0.6〜8倍モル、より好ましくは0.8〜5倍モ
ルであることが望ましい。アシルクロライドの使用量が
0.5倍モル未満の場合、反応が完結しにくく、収率が
低下するおそれがある。また、アシルクロライドの使用
量が10倍モルを超える場合、使用量に見合う効果がな
く経済的でない。
【0031】本発明で用いられるルイス酸としては、例
えば、塩化アルミニウム、塩化第二鉄、三フッ化ホウ
素、塩化亜鉛、臭化亜鉛、塩化チタン、塩化マグネシウ
ム、四塩化スズ、第二塩化銅等を挙げることができる。
これらの中から、比較的副反応を制御し、高収率で反応
が進行しやすい観点から、臭化亜鉛または四塩化スズが
好適に用いられる。
えば、塩化アルミニウム、塩化第二鉄、三フッ化ホウ
素、塩化亜鉛、臭化亜鉛、塩化チタン、塩化マグネシウ
ム、四塩化スズ、第二塩化銅等を挙げることができる。
これらの中から、比較的副反応を制御し、高収率で反応
が進行しやすい観点から、臭化亜鉛または四塩化スズが
好適に用いられる。
【0032】上記ルイス酸の使用量は、O−アリールオ
キシム類に対して0.01〜20倍モル、好ましくは
0.1〜15倍モル、より好ましくは0.5〜10倍モ
ルであることが望ましい。ルイス酸の使用量が0.01
倍モル未満の場合、反応が完結しにくく、収率が低下す
るおそれがある。また、ルイス酸の使用量が20倍モル
を超える場合、使用量に見合う効果がなく経済的でな
い。
キシム類に対して0.01〜20倍モル、好ましくは
0.1〜15倍モル、より好ましくは0.5〜10倍モ
ルであることが望ましい。ルイス酸の使用量が0.01
倍モル未満の場合、反応が完結しにくく、収率が低下す
るおそれがある。また、ルイス酸の使用量が20倍モル
を超える場合、使用量に見合う効果がなく経済的でな
い。
【0033】反応溶媒としては、上記ルイス酸を溶媒と
して用いても良いが、例えば、ジエチルエーテル、te
rt−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン等のエーテル類;ヘキサン、ヘプタン等の脂肪
族炭化水素類;トルエン、キシレン、モノクロロベンゼ
ン、ジクロロベンゼン等の芳香族炭化水素類;塩化メチ
レン、ジクロロエタン等の塩素化炭化水素類;ニトロメ
タン、ニトロベンゼン等のニトロ化炭化水素類等を用い
ることができる。
して用いても良いが、例えば、ジエチルエーテル、te
rt−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン等のエーテル類;ヘキサン、ヘプタン等の脂肪
族炭化水素類;トルエン、キシレン、モノクロロベンゼ
ン、ジクロロベンゼン等の芳香族炭化水素類;塩化メチ
レン、ジクロロエタン等の塩素化炭化水素類;ニトロメ
タン、ニトロベンゼン等のニトロ化炭化水素類等を用い
ることができる。
【0034】上記反応溶媒の使用量は、O−アリールオ
キシム類に対して50倍重量以下、好ましくは30倍重
量以下であることが望ましい。反応溶媒が50倍重量を
超える場合、経済的でないばかりか容積効率が悪化する
おそれがある。
キシム類に対して50倍重量以下、好ましくは30倍重
量以下であることが望ましい。反応溶媒が50倍重量を
超える場合、経済的でないばかりか容積効率が悪化する
おそれがある。
【0035】反応温度は、−50〜150℃、好ましく
は−30〜130℃、より好ましくは0〜100℃であ
ることが望ましい。反応温度が−50℃未満の場合、反
応速度が遅くなり、反応に長時間を要するおそれがあ
る。また、反応温度が150℃を超える場合、副反応が
起こりやすく、収率および純度が低下するおそれがあ
る。反応時間は、反応温度により異なるが、通常、1〜
40時間である。
は−30〜130℃、より好ましくは0〜100℃であ
ることが望ましい。反応温度が−50℃未満の場合、反
応速度が遅くなり、反応に長時間を要するおそれがあ
る。また、反応温度が150℃を超える場合、副反応が
起こりやすく、収率および純度が低下するおそれがあ
る。反応時間は、反応温度により異なるが、通常、1〜
40時間である。
【0036】かくして得られた2−アルキル−3−ベン
ゾフラン類は、通常の晶析等の方法により、反応液中に
残存する2−メチル−3−アルキルベンゾフラン類と容
易に分離することができる。
ゾフラン類は、通常の晶析等の方法により、反応液中に
残存する2−メチル−3−アルキルベンゾフラン類と容
易に分離することができる。
【0037】本発明により得られる2−アルキル−3−
ベンゾフラン類は、下記一般式(2)で表される化合物
である。
ベンゾフラン類は、下記一般式(2)で表される化合物
である。
【0038】
【化7】
【0039】式中、R1およびR2は一般式(1)と同
様であり、R3は、炭素数1〜4のアルキル基、または
置換あるいは無置換のフェニル基を表す。
様であり、R3は、炭素数1〜4のアルキル基、または
置換あるいは無置換のフェニル基を表す。
【0040】上記炭素数1〜4のアルキル基の具体例と
しては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプ
ロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert
−ブチル基等を挙げることができる。
しては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプ
ロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert
−ブチル基等を挙げることができる。
【0041】上記置換あるいは無置換のフェニル基の具
体例としては、フェニル基、2−クロロフェニル基、3
−クロロフェニル基、4−クロロフェニル基、2−ブロ
モフェニル基、3−ブロモフェニル基、4−ブロモフェ
ニル基、2−フルオロフェニル基、4−フルオロフェニ
ル基、2−メチルフェニル基、4−メチルフェニル基、
2−ニトロフェニル基、3−ニトロフェニル基、4−ニ
トロフェニル基、2−N−ジメチルアミノフェニル基、
4−N−ジメチルアミノフェニル基、2−ホルミルフェ
ニル基、3−ホルミルフェニル基、4−ホルミルフェニ
ル基、2−アセチルフェニル基、4−アセチルフェニル
基、2−メトキシフェニル基、3−メトキシフェニル
基、4−メトキシフェニル基、2−(2’−メトキシエ
トキシ)フェニル基、4−(2’−メトキシエトキシ)
フェニル基、2−(2’−N−ジエチルアミノエトキ
シ)フェニル基、3−(2’−N−ジエチルアミノエト
キシ)フェニル基、4−(2’−N−ジエチルアミノエ
トキシ)フェニル基、2−(3’−N−ジブチルアミノ
プロポキシ)フェニル基、4−(3’−N−ジブチルア
ミノプロポキシ)フェニル基、2−メチルチオフェニル
基、3−メチルチオフェニル基、4−メチルチオフェニ
ル基、2−シアノフェニル基、3−シアノフェニル基、
4−シアノフェニル基等を挙げることができる。
体例としては、フェニル基、2−クロロフェニル基、3
−クロロフェニル基、4−クロロフェニル基、2−ブロ
モフェニル基、3−ブロモフェニル基、4−ブロモフェ
ニル基、2−フルオロフェニル基、4−フルオロフェニ
ル基、2−メチルフェニル基、4−メチルフェニル基、
2−ニトロフェニル基、3−ニトロフェニル基、4−ニ
トロフェニル基、2−N−ジメチルアミノフェニル基、
4−N−ジメチルアミノフェニル基、2−ホルミルフェ
ニル基、3−ホルミルフェニル基、4−ホルミルフェニ
ル基、2−アセチルフェニル基、4−アセチルフェニル
基、2−メトキシフェニル基、3−メトキシフェニル
基、4−メトキシフェニル基、2−(2’−メトキシエ
トキシ)フェニル基、4−(2’−メトキシエトキシ)
フェニル基、2−(2’−N−ジエチルアミノエトキ
シ)フェニル基、3−(2’−N−ジエチルアミノエト
キシ)フェニル基、4−(2’−N−ジエチルアミノエ
トキシ)フェニル基、2−(3’−N−ジブチルアミノ
プロポキシ)フェニル基、4−(3’−N−ジブチルア
ミノプロポキシ)フェニル基、2−メチルチオフェニル
基、3−メチルチオフェニル基、4−メチルチオフェニ
ル基、2−シアノフェニル基、3−シアノフェニル基、
4−シアノフェニル基等を挙げることができる。
【0042】上記一般式(2)で表される2−アルキル
−3−アシルベンゾフラン類の具体例としては、2−エ
チル−3−ブタノイルベンゾフラン、2−エチル−3−
(2’−ブロモベンゾイル)ベンゾフラン、2−エチル
−3−(4’−ニトロベンゾイル)−5−ニトロベンゾ
フラン、2−エチル−3−アセチル−5−ニトロベンゾ
フラン、2−エチル−3−(4’−N−ジメチルアミノ
ベンゾイル)−5−メチルベンゾフラン、2−プロピル
−3−(2’−ホルミルベンゾイル)−5−ニトロベン
ゾフラン、2−プロピル−3−アセチルベンゾフラン、
2−プロピル−3−ベンゾイル−5−シアノベンゾフラ
ン、2−プロピル−3−(4’−アセチルベンゾイル)
−5−クロロベンゾフラン、2−プロピル−3−(4’
−メチルベンゾイル)−5−メトキシベンゾフラン、2
−プロピル−3−(2’−クロロベンゾイル)−5−ホ
ルミルベンゾフラン、2−プロピル−3−(3’−クロ
ロベンゾイル)−4−ニトロベンゾフラン、2−ブチル
−3−(4’−メチルチオベンゾイル)ベンゾフラン、
2−ブチル−3−(4’−メトキシベンゾイル)−5−
ニトロベンゾフラン、2−ブチル−3−[4’−(3−
N−ジブチルアミノプロポキシ)ベンゾイル]−5−ニ
トロベンゾフラン、2−ブチル−3−[4’−(2−N
−ジエチルアミノエトキシ)ベンゾイル]−4−ニトロ
ベンゾフラン、2−ブチル−3−[3’−(2−N−ジ
エチルアミノエトキシ)ベンゾイル]−7−ニトロベン
ゾフラン、2−ブチル−3−(2’−ニトロベンゾイ
ル)−5−アセチルベンゾフラン、2−ブチル−3−
(3’−ニトロベンゾイル)−7−アセチルベンゾフラ
ン、2−ブチル−3−(2’−シアノベンゾイル)−4
−クロロベンゾフラン、2−ブチル−3−(4’−シア
ノベンゾイル)−5−クロロベンゾフラン、2−ブチル
−3−[4’−(2−N−ジエチルアミノエトキシ)ベ
ンゾイル]−5−メトキシベンゾフラン、2−ブチル−
3−[4’−(3−N−ジブチルアミノプロポキシ)ベ
ンゾイル]−5−ホルミルベンゾフラン、2−ブチル−
3−ベンゾイル−5−シアノベンゾフラン、2−ブチル
−3−ベンゾイル−7−シアノベンゾフラン、2−ブチ
ル−3−(4’−メトキシベンゾイル)−7−シアノベ
ンゾフラン、2−ブチル−3−[4’−(3−N−ジブ
チルアミノプロポキシ)ベンゾイル]−5−ニトロベン
ゾフラン、2−ペンチル−3−(3’−シアノベンゾイ
ル)−5−クロロベンゾフラン、2−ペンチル−3−ベ
ンソイル−5−シアノベンゾフラン、2−(3’−メチ
ルブチル)−3−(2’−ブロモベンゾイル)−5−ニ
トロベンゾフラン、2−(2’−メチルプロピル)−3
−(4’−メトキシベンゾイル)−5−ニトロベンゾフ
ラン、2−ブチル−3−(2’−クロロベンゾイル)−
5−クロロニトロベンゾフラン、2−ブチル−3−ベン
ゾイル−5−ニトロベンゾフラン、2−ブチル−3−
(4’−メトキシベンゾイル)−5−シアノベンゾフラ
ン等を挙げることができる。
−3−アシルベンゾフラン類の具体例としては、2−エ
チル−3−ブタノイルベンゾフラン、2−エチル−3−
(2’−ブロモベンゾイル)ベンゾフラン、2−エチル
−3−(4’−ニトロベンゾイル)−5−ニトロベンゾ
フラン、2−エチル−3−アセチル−5−ニトロベンゾ
フラン、2−エチル−3−(4’−N−ジメチルアミノ
ベンゾイル)−5−メチルベンゾフラン、2−プロピル
−3−(2’−ホルミルベンゾイル)−5−ニトロベン
ゾフラン、2−プロピル−3−アセチルベンゾフラン、
2−プロピル−3−ベンゾイル−5−シアノベンゾフラ
ン、2−プロピル−3−(4’−アセチルベンゾイル)
−5−クロロベンゾフラン、2−プロピル−3−(4’
−メチルベンゾイル)−5−メトキシベンゾフラン、2
−プロピル−3−(2’−クロロベンゾイル)−5−ホ
ルミルベンゾフラン、2−プロピル−3−(3’−クロ
ロベンゾイル)−4−ニトロベンゾフラン、2−ブチル
−3−(4’−メチルチオベンゾイル)ベンゾフラン、
2−ブチル−3−(4’−メトキシベンゾイル)−5−
ニトロベンゾフラン、2−ブチル−3−[4’−(3−
N−ジブチルアミノプロポキシ)ベンゾイル]−5−ニ
トロベンゾフラン、2−ブチル−3−[4’−(2−N
−ジエチルアミノエトキシ)ベンゾイル]−4−ニトロ
ベンゾフラン、2−ブチル−3−[3’−(2−N−ジ
エチルアミノエトキシ)ベンゾイル]−7−ニトロベン
ゾフラン、2−ブチル−3−(2’−ニトロベンゾイ
ル)−5−アセチルベンゾフラン、2−ブチル−3−
(3’−ニトロベンゾイル)−7−アセチルベンゾフラ
ン、2−ブチル−3−(2’−シアノベンゾイル)−4
−クロロベンゾフラン、2−ブチル−3−(4’−シア
ノベンゾイル)−5−クロロベンゾフラン、2−ブチル
−3−[4’−(2−N−ジエチルアミノエトキシ)ベ
ンゾイル]−5−メトキシベンゾフラン、2−ブチル−
3−[4’−(3−N−ジブチルアミノプロポキシ)ベ
ンゾイル]−5−ホルミルベンゾフラン、2−ブチル−
3−ベンゾイル−5−シアノベンゾフラン、2−ブチル
−3−ベンゾイル−7−シアノベンゾフラン、2−ブチ
ル−3−(4’−メトキシベンゾイル)−7−シアノベ
ンゾフラン、2−ブチル−3−[4’−(3−N−ジブ
チルアミノプロポキシ)ベンゾイル]−5−ニトロベン
ゾフラン、2−ペンチル−3−(3’−シアノベンゾイ
ル)−5−クロロベンゾフラン、2−ペンチル−3−ベ
ンソイル−5−シアノベンゾフラン、2−(3’−メチ
ルブチル)−3−(2’−ブロモベンゾイル)−5−ニ
トロベンゾフラン、2−(2’−メチルプロピル)−3
−(4’−メトキシベンゾイル)−5−ニトロベンゾフ
ラン、2−ブチル−3−(2’−クロロベンゾイル)−
5−クロロニトロベンゾフラン、2−ブチル−3−ベン
ゾイル−5−ニトロベンゾフラン、2−ブチル−3−
(4’−メトキシベンゾイル)−5−シアノベンゾフラ
ン等を挙げることができる。
【0043】
【実施例】以下に、実施例により本発明をさらに詳しく
説明するが、本発明は、これらの実施例に何等限定され
るものではない。
説明するが、本発明は、これらの実施例に何等限定され
るものではない。
【0044】実施例1 撹拌機、温度計、滴下ロートおよびリービッヒ冷却管を
備え付けた500ml容の四つ口フラスコに、O−(4
−ニトロフェニル)−2−ブタノンオキシム20.8g
(0.10モル)、エタノール100gを仕込み、氷水
浴で冷却しながら98重量%硫酸39.2g(0.40
モル)を10℃以下で2時間を要して滴下した。滴下終
了後、80℃に昇温して還流下4時間反応させた。この
ときの反応液を高速液体クロマトグラフィーで分析した
ところ、2−エチル−5−ニトロベンゾフランと2,3
−ジメチル−5−ニトロベンゾフランの比は、72:2
8であった。
備え付けた500ml容の四つ口フラスコに、O−(4
−ニトロフェニル)−2−ブタノンオキシム20.8g
(0.10モル)、エタノール100gを仕込み、氷水
浴で冷却しながら98重量%硫酸39.2g(0.40
モル)を10℃以下で2時間を要して滴下した。滴下終
了後、80℃に昇温して還流下4時間反応させた。この
ときの反応液を高速液体クロマトグラフィーで分析した
ところ、2−エチル−5−ニトロベンゾフランと2,3
−ジメチル−5−ニトロベンゾフランの比は、72:2
8であった。
【0045】反応終了後、氷水中に反応液および塩化メ
チレンを添加して抽出、分液し、塩化メチレン層を得
た。得られた塩化メチレン層を硫酸マグネシウムで脱水
後、4−ニトロベンゾイルクロライド18.6g(0.
10モル)を添加し、氷浴上で四塩化スズ26g(0.
10モル)を2時間要して滴下した。滴下終了後、さら
に10時間反応させた。
チレンを添加して抽出、分液し、塩化メチレン層を得
た。得られた塩化メチレン層を硫酸マグネシウムで脱水
後、4−ニトロベンゾイルクロライド18.6g(0.
10モル)を添加し、氷浴上で四塩化スズ26g(0.
10モル)を2時間要して滴下した。滴下終了後、さら
に10時間反応させた。
【0046】反応終了後、反応液を氷水100gに添加
して分液し、塩化メチレン層を得た。得られた塩化メチ
レン層から結晶が析出するまで塩化メチレンを留去した
後、5℃まで冷却した。析出した目的物を塩化メチレン
に溶解している2,3−ジメチル−4−ニトロベンゾフ
ランから、ろ別、乾燥して、2−エチル−3−(4’−
ニトロベンゾイル)−5−ニトロベンゾフラン24.1
g(0.071モル)を得た。O−(4−ニトロフェニ
ル)−2−ブタノンオキシムに対する収率は、70.8
%であった。得られた2−エチル−3−(4’−ニトロ
ベンゾイル)−5−ニトロベンゾフランの純度は、高速
液体クロマトグラフィーで測定した結果、99.7%で
あった。
して分液し、塩化メチレン層を得た。得られた塩化メチ
レン層から結晶が析出するまで塩化メチレンを留去した
後、5℃まで冷却した。析出した目的物を塩化メチレン
に溶解している2,3−ジメチル−4−ニトロベンゾフ
ランから、ろ別、乾燥して、2−エチル−3−(4’−
ニトロベンゾイル)−5−ニトロベンゾフラン24.1
g(0.071モル)を得た。O−(4−ニトロフェニ
ル)−2−ブタノンオキシムに対する収率は、70.8
%であった。得られた2−エチル−3−(4’−ニトロ
ベンゾイル)−5−ニトロベンゾフランの純度は、高速
液体クロマトグラフィーで測定した結果、99.7%で
あった。
【0047】実施例2 実施例1において、O−(4−ニトロフェニル)−2−
ブタノンオキシム20.8gの代わりにO−(4−ニト
ロフェニル)−2−ヘキサノンオキシム23.6g
(0.10モル)を、4−ニトロベンゾイルクロライド
18.6gの代わりに4−メトキシベンゾイルクロライ
ド17.1g(0.10モル)用いた以外は実施例1と
同様に反応を行った。O−(4−ニトロフェニル)−2
−ヘキサノンオキシムを環化した時の反応液を高速液体
クロマトグラフィーで分析したところ、2−ブチル−5
−ニトロベンゾフランと2−メチル−3−プロピル−5
−ニトロベンゾフランの比は、80:20であった。
ブタノンオキシム20.8gの代わりにO−(4−ニト
ロフェニル)−2−ヘキサノンオキシム23.6g
(0.10モル)を、4−ニトロベンゾイルクロライド
18.6gの代わりに4−メトキシベンゾイルクロライ
ド17.1g(0.10モル)用いた以外は実施例1と
同様に反応を行った。O−(4−ニトロフェニル)−2
−ヘキサノンオキシムを環化した時の反応液を高速液体
クロマトグラフィーで分析したところ、2−ブチル−5
−ニトロベンゾフランと2−メチル−3−プロピル−5
−ニトロベンゾフランの比は、80:20であった。
【0048】引き続き、実施例1と同様にして、2−ブ
チル−3−(4’−メトキシベンゾイル)−5−ニトロ
ベンゾフラン23.7g(0.067モル)を得た。O
−(4−ニトロフェニル)−2−ヘキサノンオキシムに
対する収率は、67.1%であった。得られた2−ブチ
ル−3−(4’−メトキシベンゾイル)−5−ニトロベ
ンゾフランの純度は、高速液体クロマトグラフィーで測
定した結果、99.6%であった。
チル−3−(4’−メトキシベンゾイル)−5−ニトロ
ベンゾフラン23.7g(0.067モル)を得た。O
−(4−ニトロフェニル)−2−ヘキサノンオキシムに
対する収率は、67.1%であった。得られた2−ブチ
ル−3−(4’−メトキシベンゾイル)−5−ニトロベ
ンゾフランの純度は、高速液体クロマトグラフィーで測
定した結果、99.6%であった。
【0049】実施例3 実施例1において、4−ニトロベンゾイルクロライド1
8.6gの代わりにアセチルクロライド7.9g(0.
10モル)を用いた以外は実施例1と同様にして、2−
エチル−3−アセチル−5−ニトロベンゾフラン13.
2g(0.057モル)を得た。O−(4−ニトロフェ
ニル)−2−ブタノンオキシムに対する収率は、56.
6%であった。得られた2−エチル−3−アセチル−5
−ニトロベンゾフランの純度は、高速液体クロマトグラ
フィーで測定した結果、99.9%であった。
8.6gの代わりにアセチルクロライド7.9g(0.
10モル)を用いた以外は実施例1と同様にして、2−
エチル−3−アセチル−5−ニトロベンゾフラン13.
2g(0.057モル)を得た。O−(4−ニトロフェ
ニル)−2−ブタノンオキシムに対する収率は、56.
6%であった。得られた2−エチル−3−アセチル−5
−ニトロベンゾフランの純度は、高速液体クロマトグラ
フィーで測定した結果、99.9%であった。
【0050】実施例4 撹拌機、温度計、滴下ロートおよびリービッヒ冷却管を
備え付けた500ml容の四つ口フラスコに、O−(4
−ニトロフェニル)−2−ヘキサノンオキシム23.6
g(0.10モル)、エタノール50gを仕込み、氷水
浴で冷却しながら濃硫酸9.8g(0.10モル)を1
0℃以下で2時間を要して滴下した。滴下終了後、80
℃に昇温して還流下4時間反応させた。この時の反応液
を高速液体クロマトグラフィーで分析したところ、2−
ブチル−5−ニトロベンゾフランと2−メチル−3−プ
ロピル−5−ニトロベンゾフランの比は、81:19で
あった。
備え付けた500ml容の四つ口フラスコに、O−(4
−ニトロフェニル)−2−ヘキサノンオキシム23.6
g(0.10モル)、エタノール50gを仕込み、氷水
浴で冷却しながら濃硫酸9.8g(0.10モル)を1
0℃以下で2時間を要して滴下した。滴下終了後、80
℃に昇温して還流下4時間反応させた。この時の反応液
を高速液体クロマトグラフィーで分析したところ、2−
ブチル−5−ニトロベンゾフランと2−メチル−3−プ
ロピル−5−ニトロベンゾフランの比は、81:19で
あった。
【0051】反応終了後、氷水中に反応液および塩化メ
チレンを添加して抽出、分液し、塩化メチレン層を得
た。得られた塩化メチレン層を硫酸マグネシウムで脱水
後、4−(3’−N−ジブチルアミノプロポキシ)ベン
ゾイルクロライド32.6g(0.10モル)を添加
し、氷浴上で臭化亜鉛の10重量%塩化メチレン溶液2
15g(0.10モル)を2時間を要して滴下した。滴
下終了後、さらに10時間反応させた。
チレンを添加して抽出、分液し、塩化メチレン層を得
た。得られた塩化メチレン層を硫酸マグネシウムで脱水
後、4−(3’−N−ジブチルアミノプロポキシ)ベン
ゾイルクロライド32.6g(0.10モル)を添加
し、氷浴上で臭化亜鉛の10重量%塩化メチレン溶液2
15g(0.10モル)を2時間を要して滴下した。滴
下終了後、さらに10時間反応させた。
【0052】反応終了後、10重量%水酸化ナトリウム
水溶液100gを添加して分液し、塩化メチレン層を得
た。得られた塩化メチレン層から結晶が析出するまで塩
化メチレンを留去した後、5℃に冷却した。析出した目
的物を塩化メチレンに溶解している2−メチル−3−プ
ロピル−5−ニトロベンゾフランから、ろ別、乾燥し
て、2−ブチル−3−[4’−(3−N−ジブチルアミ
ノプロポキシ)ベンゾイル]−5−ニトロベンゾフラン
36.6g(0.072モル)を得た。O−(4−ニト
ロフェニル)−2−ヘキサノンオキシムに対する収率
は、71.9%であった。得られた2−ブチル−3−
[4’−(3−N−ジブチルアミノプロポキシ)ベンゾ
イル]−5−ニトロベンゾフランの純度は、高速液体ク
ロマトグラフィーで測定した結果、99.7%であっ
た。
水溶液100gを添加して分液し、塩化メチレン層を得
た。得られた塩化メチレン層から結晶が析出するまで塩
化メチレンを留去した後、5℃に冷却した。析出した目
的物を塩化メチレンに溶解している2−メチル−3−プ
ロピル−5−ニトロベンゾフランから、ろ別、乾燥し
て、2−ブチル−3−[4’−(3−N−ジブチルアミ
ノプロポキシ)ベンゾイル]−5−ニトロベンゾフラン
36.6g(0.072モル)を得た。O−(4−ニト
ロフェニル)−2−ヘキサノンオキシムに対する収率
は、71.9%であった。得られた2−ブチル−3−
[4’−(3−N−ジブチルアミノプロポキシ)ベンゾ
イル]−5−ニトロベンゾフランの純度は、高速液体ク
ロマトグラフィーで測定した結果、99.7%であっ
た。
【0053】実施例5 実施例4において、O−(4−ニトロフェニル)−2−
ヘキサノンオキシム23.6gの代わりにO−(4−メ
トキシフェニル)−2−ヘキサノンオキシム22.1g
(0.10モル)を、また4−(3’−N−ジブチルア
ミノプロポキシ)ベンゾイルクロライド32.6gの代
わりに4−(2’−N−ジエチルアミノエトキシ)ベン
ゾイルクロライド22.6g(0.10モル)を用いた
以外は実施例4と同様に反応を行った。O−(4−メト
キシフェニル)−2−ヘキサノンオキシムを環化した時
の反応液を、高速液体クロマトグラフィーで分析したと
ころ、2−ブチル−5−メトキシベンゾフランと2−メ
チル−3−プロピル−5−メトキシベンゾフランの比は
67:33であった。
ヘキサノンオキシム23.6gの代わりにO−(4−メ
トキシフェニル)−2−ヘキサノンオキシム22.1g
(0.10モル)を、また4−(3’−N−ジブチルア
ミノプロポキシ)ベンゾイルクロライド32.6gの代
わりに4−(2’−N−ジエチルアミノエトキシ)ベン
ゾイルクロライド22.6g(0.10モル)を用いた
以外は実施例4と同様に反応を行った。O−(4−メト
キシフェニル)−2−ヘキサノンオキシムを環化した時
の反応液を、高速液体クロマトグラフィーで分析したと
ころ、2−ブチル−5−メトキシベンゾフランと2−メ
チル−3−プロピル−5−メトキシベンゾフランの比は
67:33であった。
【0054】引き続き、実施例4と同様にして2−ブチ
ル−3−[4’−(2−N−ジエチルアミノエトキシ)
ベンゾイル]−5−メトキシベンゾフラン27.1g
(0.064モル)を得た。O−(4−メトキシフェニ
ル)−2−ヘキサノンオキシムに対する収率は、64.
0%であった。得られた2−ブチル−3−[4’−(2
−N−ジエチルアミノエトキシ)ベンゾイル]−5−メ
トキシベンゾフランの純度は、高速液体クロマトグラフ
ィーで測定した結果、99.8%であった。
ル−3−[4’−(2−N−ジエチルアミノエトキシ)
ベンゾイル]−5−メトキシベンゾフラン27.1g
(0.064モル)を得た。O−(4−メトキシフェニ
ル)−2−ヘキサノンオキシムに対する収率は、64.
0%であった。得られた2−ブチル−3−[4’−(2
−N−ジエチルアミノエトキシ)ベンゾイル]−5−メ
トキシベンゾフランの純度は、高速液体クロマトグラフ
ィーで測定した結果、99.8%であった。
【0055】実施例6 実施例4において、O−(4−ニトロフェニル)−2−
ヘキサノンオキシム23.6gの代わりにO−(2−シ
アノフェニル)−2−ヘキサノンオキシム21.6g
(0.10モル)を、4−(3’−N−ジブチルアミノ
プロポキシ)ベンゾイルクロライド32.6gの代わり
にベンゾイルクロライド14.0g(0.10モル)を
用いた以外は実施例4と同様に反応を行った。O−(2
−シアノフェニル)−2−ヘキサノンオキシムを環化し
た時の反応液を、高速液体クロマトグラフィーで分析し
たところ、2−ブチル−7−シアノベンゾフランと2−
メチル−3−プロピル−7−シアノベンゾフランの比は
67:33であった。
ヘキサノンオキシム23.6gの代わりにO−(2−シ
アノフェニル)−2−ヘキサノンオキシム21.6g
(0.10モル)を、4−(3’−N−ジブチルアミノ
プロポキシ)ベンゾイルクロライド32.6gの代わり
にベンゾイルクロライド14.0g(0.10モル)を
用いた以外は実施例4と同様に反応を行った。O−(2
−シアノフェニル)−2−ヘキサノンオキシムを環化し
た時の反応液を、高速液体クロマトグラフィーで分析し
たところ、2−ブチル−7−シアノベンゾフランと2−
メチル−3−プロピル−7−シアノベンゾフランの比は
67:33であった。
【0056】引き続き、実施例4と同様にして2−ブチ
ル−3−ベンゾイル−7−シアノベンゾフラン18.6
g(0.061モル)を得た。O−(2−シアノフェニ
ル)−2−ヘキサノンオキシムに対する収率は、61.
2%であった。得られた2−ブチル−3−ベンゾイル−
7−シアノベンゾフランの純度は、高速液体クロマトグ
ラフィーで測定した結果、99.8%であった。
ル−3−ベンゾイル−7−シアノベンゾフラン18.6
g(0.061モル)を得た。O−(2−シアノフェニ
ル)−2−ヘキサノンオキシムに対する収率は、61.
2%であった。得られた2−ブチル−3−ベンゾイル−
7−シアノベンゾフランの純度は、高速液体クロマトグ
ラフィーで測定した結果、99.8%であった。
【0057】実施例7 実施例4において、O−(4−ニトロフェニル)−2−
ヘキサノンオキシム23.6gの代わりにO−(4−ク
ロロフェニル)−2−ヘプタノンオキシム24.0g
(0.10モル)を、4−(3’−N−ジブチルアミノ
プロポキシ)ベンゾイルクロライド32.6gの代わり
に3−シアノベンゾイルクロライド16.6g(0.1
0モル)を用いた以外は実施例4と同様に反応を行っ
た。O−(4−クロロフェニル)−2−ヘプタノンオキ
シムを環化した時の反応液を、高速液体クロマトグラフ
ィーで分析したところ、2−ペンチル−5−クロロベン
ゾフランと2−メチル−3−ブチル−5−クロロベンゾ
フランの比は60:40であった。
ヘキサノンオキシム23.6gの代わりにO−(4−ク
ロロフェニル)−2−ヘプタノンオキシム24.0g
(0.10モル)を、4−(3’−N−ジブチルアミノ
プロポキシ)ベンゾイルクロライド32.6gの代わり
に3−シアノベンゾイルクロライド16.6g(0.1
0モル)を用いた以外は実施例4と同様に反応を行っ
た。O−(4−クロロフェニル)−2−ヘプタノンオキ
シムを環化した時の反応液を、高速液体クロマトグラフ
ィーで分析したところ、2−ペンチル−5−クロロベン
ゾフランと2−メチル−3−ブチル−5−クロロベンゾ
フランの比は60:40であった。
【0058】引き続き、実施例4と同様にして2−ペン
チル−3−(3’−シアノベンゾイル)−5−クロロベ
ンゾフランは26.7g(0.076モル)を得た。O
−(4−クロロフェニル)−2−ヘプタノンオキシムに
対する収率は、75.9%であった。得られた2−ペン
チル−3−(3’−シアノベンゾイル)−5−クロロベ
ンゾフランの純度は、高速液体クロマトグラフィーで測
定した結果、99.5%であった。
チル−3−(3’−シアノベンゾイル)−5−クロロベ
ンゾフランは26.7g(0.076モル)を得た。O
−(4−クロロフェニル)−2−ヘプタノンオキシムに
対する収率は、75.9%であった。得られた2−ペン
チル−3−(3’−シアノベンゾイル)−5−クロロベ
ンゾフランの純度は、高速液体クロマトグラフィーで測
定した結果、99.5%であった。
【0059】
【発明の効果】本発明によると、医薬、農薬、機能性材
料等の製造中間体として有用な2−アルキル−3−アシ
ルベンゾフラン類を、O−アリールオキシム類から得ら
れる2−アルキルベンゾフラン類を原料として用いて、
工業的に安価に製造できる。
料等の製造中間体として有用な2−アルキル−3−アシ
ルベンゾフラン類を、O−アリールオキシム類から得ら
れる2−アルキルベンゾフラン類を原料として用いて、
工業的に安価に製造できる。
Claims (3)
- 【請求項1】下記一般式(1); 【化1】 (式中、R1は、炭素数2〜5のアルキル基を表し、R
2は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、
ホルミル基、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数2〜5
のアルキルカルボニル基、炭素数1〜4のアルコキシ基
または炭素数1〜4のアルキルスルホニル基を表す。)
で表されるO−アリールオキシム類を酸の存在下で環化
して得られる、粗2−アルキルベンゾフラン類をルイス
酸の存在下にアシルクロライドと反応させる下記一般式
(2); 【化2】 (式中、R1およびR2は一般式(1)と同様であり、
R3は、炭素数1〜4のアルキル基、または置換あるい
は無置換のフェニル基を表す。)で表される2−アルキ
ル−3−アシルベンゾフラン類の製造方法。 - 【請求項2】酸が、硫酸である請求項1に記載の2−ア
ルキル−3−アシルベンゾフラン類の製造方法。 - 【請求項3】ルイス酸が、四塩化スズまたは臭化亜鉛で
ある請求項1または2に記載の2−アルキル−3−アシ
ルベンゾフラン類の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001179457A JP2002371076A (ja) | 2001-06-14 | 2001-06-14 | 2−アルキル−3−アシルベンゾフラン類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001179457A JP2002371076A (ja) | 2001-06-14 | 2001-06-14 | 2−アルキル−3−アシルベンゾフラン類の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002371076A true JP2002371076A (ja) | 2002-12-26 |
Family
ID=19020013
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001179457A Withdrawn JP2002371076A (ja) | 2001-06-14 | 2001-06-14 | 2−アルキル−3−アシルベンゾフラン類の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2002371076A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009044143A3 (en) * | 2007-10-02 | 2009-06-25 | Cambrex Karlskoga Ab | Process for preparing benzofurans |
WO2010038029A1 (en) * | 2008-10-02 | 2010-04-08 | Cambrex Karlskoga Ab | New process for preparing diketones and medicaments |
JP2012523401A (ja) * | 2009-04-08 | 2012-10-04 | カンブレックス カルルスクーガ アクチ ボラケット | ヒドロキシルアミンおよび薬剤を調製するための新規のプロセス |
-
2001
- 2001-06-14 JP JP2001179457A patent/JP2002371076A/ja not_active Withdrawn
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009044143A3 (en) * | 2007-10-02 | 2009-06-25 | Cambrex Karlskoga Ab | Process for preparing benzofurans |
EP2388256A1 (en) | 2007-10-02 | 2011-11-23 | Cambrex Karlskoga AB | Process for preparing benzofurans |
US8519165B2 (en) | 2007-10-02 | 2013-08-27 | Cambrex Karlskoga Ab | Process for preparing benzofurans |
EP2636670A1 (en) * | 2007-10-02 | 2013-09-11 | Cambrex Karlskoga AB | Process for preparing benzofurans |
CN103342633A (zh) * | 2007-10-02 | 2013-10-09 | 坎布雷卡尔斯库加公司 | 用于制备苯并呋喃类化合物的方法 |
US8779201B2 (en) | 2007-10-02 | 2014-07-15 | Cambrex Karlskoga Ab | Process for preparing benzofurans |
WO2010038029A1 (en) * | 2008-10-02 | 2010-04-08 | Cambrex Karlskoga Ab | New process for preparing diketones and medicaments |
JP2012523401A (ja) * | 2009-04-08 | 2012-10-04 | カンブレックス カルルスクーガ アクチ ボラケット | ヒドロキシルアミンおよび薬剤を調製するための新規のプロセス |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7312345B2 (en) | Process for the preparation of dronedarone | |
US8124810B2 (en) | Preparation of isoxazolin-3-ylacylbenzenes | |
US8129560B2 (en) | Process for the synthesis of mandipropamid and derivatives thereof | |
US20120065411A1 (en) | Process for the production of benzofurans | |
HU204753B (en) | Process for producing acylated cyclic diketone derivatives | |
JP6944519B2 (ja) | シクロプロピル置換アセトフェノン類を製造する方法 | |
US5354905A (en) | N-alkoxymethyl benzamide derivative and manufacturing method therefor, and manufacturing method for benzamide derivative using this N-alkoxymethyl benzamide derivative | |
JP2002371076A (ja) | 2−アルキル−3−アシルベンゾフラン類の製造方法 | |
JP2012516868A (ja) | 2−ハロゲノメチルフェニル酢酸誘導体の製造方法 | |
CZ294050B6 (cs) | Způsob přípravy diketonových sloučenin | |
KR20230117260A (ko) | 1-(3,5-디클로로페닐)-2,2,2-트리플루오로에타논 및그의 유도체의 제조 방법 | |
JPH10139770A (ja) | 2−(3−シアノフェニル)チアゾール誘導体の製造法 | |
JP3915063B2 (ja) | N−メチル−メトキシイミノ酢酸アミド誘導体の製造方法およびその中間体 | |
KR20040039430A (ko) | (2-니트로페닐)아세토니트릴 유도체의 제조방법 및 그합성중간체 | |
JP2002293776A (ja) | 2−アルキルベンゾフラン類の製造方法 | |
US5977414A (en) | 2,3-Dihalogeno-6-trifluoromethylbenzene derivatives and processes for the preparation thereof | |
JP4194984B2 (ja) | フェニルナフチルイミダゾール化合物 | |
JP2004262863A (ja) | オルトベンジジン化合物の製造法 | |
JP4187777B2 (ja) | フェニルグリオキシル酸エステル類 | |
JP2801647B2 (ja) | 6―フルオロクロモン―2―カルボン酸誘導体の製造法 | |
JP2006008522A (ja) | 2,3−ジヒドロキシ−4−アルコキシ−アシルベンゼン類の製造方法 | |
US10807962B2 (en) | Process for the synthesis of firocoxib | |
JP4398636B2 (ja) | N−[3−(アシルアミノ)−4−オキソ−6−フェノキシ−4h−クロメン−7−イル]アルキルスルホンアミド誘導体またはその塩の製造法並びに中間体 | |
WO1992012957A1 (en) | Trisubstituted benzoic acid intermediates | |
JP4104697B2 (ja) | フェニルグリオキシル酸エステル類の製造法、それを用いたメトキシイミノアセトアミド誘導体の製造法およびそれらの中間体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080422 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20080422 |
|
A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20090210 |