JP2002367239A

JP2002367239A - 送り装置及びレーザビームレコーダ

Info

Publication number: JP2002367239A
Application number: JP2001167955A
Authority: JP
Inventors: Kazuhiko Sano; 一彦佐野; Hidehiro Yoshida; 英博吉田; Hirokazu Sato; 宏和佐藤
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 2001-06-04
Filing date: 2001-06-04
Publication date: 2002-12-20
Anticipated expiration: 2021-06-04
Also published as: JP3840918B2

Abstract

(57)【要約】【課題】振動あるいは、駆動力やダンパー力によりス
テージを高精度に送ることが出来なかった。【解決手段】ステージ１の重心と駆動点、および記録
レンズ２と計測部８を同一直線状に配置し、記録レンズ
２の位置変位を入力として、外乱オブザーバ制御にてス
テージを駆動する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は半導体や液晶用のス
テッパー方式の露光装置に用いる高精度の送りが要求さ
れる移動ステージの送り装置と、光ディスクの原盤を作
製するマスタリング工程で使われるレーザビームレコー
ダに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】ＤＶＤなどの光ディスクはサブミクロン
のトラックピッチで小さなピットと呼ばれる信号が螺旋
状に記録されている。その原盤をレーザで記録する装置
は一般にレーザビームレコーダと呼ばれており、ナノメ
ータ単位の送り精度でステージを移動させ、ステージ上
の記録レンズによって、回転する原盤に塗布されたレジ
スト層を露光して信号を書き込むものである。記録レン
ズはレーザビームをサブミクロンの大きさに絞り、回転
する原盤上に焦点を結ぶように制御されている。原盤が
１回転する間にステージが進む距離が信号トラックのト
ラックピッチになり、ＣＤでは１．６ミクロン、ＤＶＤ
では０．７４ミクロンである。さらに高密度の光ディス
クではますますトラックピッチは小さくなる。ＤＶＤで
はトラックピッチの変動許容値は±０．０３ミクロン以
下と決められている。次世代の高密度ディスクではその
許容値はさらに厳しくなり、トラックピッチが０．４ミ
クロン以下では変動のばらつき幅は標準偏差σで３ナノ
メータ程度が要求される。

【０００３】トラックピッチに変動を与える要因として
は、外部振動、ステージの速度制御むら、原盤回転軸の
非同期ふれ、記録ビームの光軸変動などが考えられる。
それらの中で大きな要因は外部振動とステージの送り制
御むらであった。

【０００４】外部振動については、記録装置全体を空気
除振台の上に設置し、床から伝わってくる振動を除去す
ることが一般に行われている。ステージの送りむらを極
力なくすためには、接触抵抗のない静圧空気軸受けをガ
イドにしたステージを用い、ステージに取りつけた高分
解能の位置計測手段からの位置情報を基に、ステージに
取り付けられた非接触のリニアモータを比例積分微分制
御方法であるＰＩＤ制御で駆動することが行われてき
た。図３に従来例のレーザビームレコーダを示す。

【０００５】図３において、１０８は空気により振動を
除去する除振台で、除振台１０８の基台上にレーザ発振
器１０１、一点鎖線で省略して示されている固定光学系
１０５、回転駆動部１０２、ステージ１０６をガイドす
るステージガイド１０３が設置されている。除振台１０
８の固有振動数は２〜３Ｈｚ付近にあり、その√２倍以
上の周波数の振動に対して除振効果がある。このステー
ジ１０６の上には移動光学系が搭載されているが、図中
では記録レンズ１０４のみが示されている。レーザ発振
器１０１から出射されたレーザビームは図中の一点鎖線
のように進み、記録レンズ１０４に到達する。ここでは
示していないが、固定光学系１０５でビームは最適な径
に整形され、記録すべき信号に従って変調されている。
記録レンズ１０４を出たビームはサブミクロンの大きさ
に絞られ、回転駆動系１０２のターンテーブル上に載置
された原盤１０７の表面に焦点を結ぶようにフォーカス
制御される。原盤１０７の表面にはレーザビームで感光
するフォトレジストが塗布されている。

【０００６】また図３には示されてないが、外乱による
ステージの位置変動を抑えるために、ステージに機械的
なダンピングをかけることが行われてきた。前述したよ
うな静圧空気軸受けのガイドはスティックスリップのよ
うな送り抵抗変動はないが、送り方向の剛性がないため
に、外乱振動によって送りむらを生じやすい。それを無
くすために、シリコングリースなどの高粘度のダンピン
グ部材をステージ可動部に絡ませて送り方向に抵抗を与
えるなどの方法が採られていた。

【０００７】また図示されないが、ステージ１０６の下
側にはリニアモータが設けられており、空気軸受け支持
されたステージ１０６をＰＩＤ制御で駆動していた。

【０００８】図４にＰＩＤ制御のブロックダイアグラム
を示す。図４において２０１は位置計測器でボイスコイ
ルモータ１０９により駆動されるステージ１０６の位置
を計測し、パルス列または正弦波で位置情報を出力す
る。２０２は位置制御部で位置計測器２０１の出力をカ
ウントし、位置指令とカウントした値の偏差より速度指
令を算出する。２０３は速度制御部で、位置制御部２０
２で算出した指令と前記カウント値の差分を取って算出
した速度との偏差を求め、電流アンプ２０４に対する指
令を算出し、指令を与える。電流アンプ２０４はボイス
コイルモータ１０９に速度制御部２０３により与えられ
た指令の電流を流すようにモータへの印加電圧を制御す
る。モータの制御特性は位置制御部２０２および速度制
御部２０３に含まれるパラメータにより調整している。

【０００９】上記構成でのステージの送りむらはＤＶＤ
のトラックピッチ０．７４μｍにおいて標準偏差σで５
〜６ｎｍ程度であった。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】上記のようなレーザビ
ームレコーダでは床からの振動はかなり除去できるが、
空気除振台１０８の上にある振動源には防振効果がな
い。レーザ発振器としてはアルゴンレーザやクリプトン
レーザなどが一般的に使われるが、これらのガスレーザ
は冷却水を流してレーザチューブを冷却する構成になっ
ている。その冷却水の脈動が空気除振台上の装置基台を
通じてステージ駆動系に伝わりステージの送り速度むら
の原因になっていた。特に空気軸受けガイドでは送り方
向の機械的剛性がないためその外乱によるピッチむらは
無視できない値になっていた。

【００１１】またステージにダンピングを与える方法と
してシリコングリースなどの高粘性流体を用いてステー
ジの動きに抵抗を与える方法は、信号記録時のステージ
低速移動時にはあまり効果がなく、逆にステージを記録
位置に移動させる早送り時にその抵抗が大きくなって移
動時間がかかりすぎるなどの問題があった。

【００１２】本発明者は、従来のレーザビームレコーダ
に対しより高精度の送りを得るために従来のＰＩＤ制御
に加え、ステージに加わる外乱力によるステージ移動の
変動誤差を推定して補償する外乱オブザーバ制御を採用
した。図２にそのブロックダイアグラムを示す。

【００１３】図２は図４のＰＩＤ制御にステージに加わ
る外乱力を検出する外乱オブザーバ２０５を追加した形
となっている。８は位置計測器でボイスコイルモータ３
により駆動されるステージ１の位置を計測し、パルス列
または正弦波で位置情報を出力する。外乱オブザーバ２
０５は電流アンプ２０４への指令と位置計測器２０１の
出力からボイスコイルモータ３にかかる外乱力を演算に
より推定する。オブザーバの構成は特性や演算量に応じ
て同一次元オブザーバ、最小次元オブザーバ等で構成
し、外乱力の推定の特性を内部のパラメータで調整して
いる。推定した外乱力を解消する指令を電流アンプ２０
４の指令に加えることで外乱力の影響を補償している。

【００１４】この外乱オブザーバ制御を採用した結果、
ステージの送り精度は少し改善されたが、目標である標
準偏差σで３ｎｍには至らなかった。その原因を図５に
示す。

【００１５】図５は、図３に示した一般的なレーザビー
ムレコーダの送り機構の平面図である。図５においてガ
イドバー１０３に沿ってステージ１０６が矢印方向に移
動する。ステージ１０６の下には点線で示すボイスコイ
ルモータ１０９があり、これがステージ１０６を駆動さ
せる。１０４はステージ１０６上に取り付けられた記録
レンズである。ステージ１０６の右側にはステージ１０
６の位置計測のためのスケール１１２が取り付けられて
いる。基台に固定された読み取りヘッド１１３でステー
ジ１０６の位置が読み取られる。

【００１６】ステージ１０６の左側にはダンパーロッド
１１１が取り付けられている。ダンパーロッド１１１は
基台に固定されたダンパーシリンダー１１０の中に挿入
され、その先端部にピストンを有している。ダンパーシ
リンダー１１０の中にはシリコングリースなどの粘性流
体が入っておりダンパーロッド１１１の先端のピストン
の動きに抵抗を与える。図のＧはステージ１０６の重心
を表し、駆動点であるボイスコイルモータ１０９の中心
からＬＡの距離、ダンパーシリンダー１１０の中心から
はＬＢ、記録レンズ１０４からはＬＣの距離だけ離れて
いる。またスケール１１２と記録レンズ１０４はＬＤだ
け離れている。いまここで、外乱オブザーバー制御によ
りボイスモータ１０９に位置補償のための駆動電流が流
れステージ１０６にＦの力が作用したとする。力Ｆの立
ち上がり速度がステージ１０６の持つ振動系の１次共振
周波数より十分早い場合、ステージ１０６の重心Ｇとボ
イスコイルモータ１０９の駆動点が同一直線上にないた
め、重心Ｇとボイスコイルモータ１０９の駆動点の距離
をＬＡとすると、Ｆ×ＬＡのモーメントが重心Ｇのまわ
りに働く。ここで言う１次共振とはステージの質量とダ
ンパーのばね成分で決定される共振である。同時にダン
パーシリンダー１１０によりステージ１０６の動きを制
限する向きに抵抗力Ｒが働き、ステージ１０６の重心Ｇ
とダンパーシリンダー１１０の軸心の距離をＬＢとする
と、Ｒ×ＬＢのモーメントがＦ×ＬＡのモーメントの逆
向きに作用する。結果としてステージ１０６にはＭ＝
（Ｆ×ＬＡ）＋（Ｒ×ＬＢ）のモーメントが働き、記録
レンズ１０４は重心Ｇの周りに弧を描くように変位す
る。抵抗力Ｒは変位速度に比例するので、力Ｆの大きさ
が同じでもモーメントＭは異なる値をとる。つまり同じ
指令値であっても速度により記録レンズ１０４の変位す
る値がその都度異なることになり結果として正しく制御
されないことになる。また、その時の変位角度をθ、ス
テージ１０６の重心Ｇと記録レンズ１０４の中心の距離
をＬＣ、記録レンズ１０４の中心とスケール１１２の軸
心の距離をＬＤとすると、記録レンズ１０４の位置では
ＬＣ×θ変位し、スケール１１２は逆向きに（ＬＤ−Ｌ
Ｃ）×θだけ変位する。つまり外乱オブザーバー制御で
補償されるのはスケール１１２の位置であるため、記録
レンズ１０４のところではまったく異なった位置補正が
なされることになる。このためステージの送り精度は、
目標である標準偏差σで３ｎｍ以下には至らなかった。

【００１７】

【課題を解決するための手段】上記の問題点を解決する
ために本発明の請求項１に記載の送り装置は、ステージ
と、前記ステージの重心上に駆動力が伝達するように前
記ステージの下に配置した駆動部と、前記ステージに配
置した測定子と、前記ステージの測定子を検出し前記ス
テージの位置を計測する計測部と、前記測定子の移動方
向の延長線上または前記測定子の移動方向の延長線と前
記駆動部の延長線の間に配置した位置計測対象部と、前
記ステージに発生する外乱力を検出し外乱力を解消する
力を前記ステージに与え前記ステージを駆動する制御部
とを設けたことを特徴とする。

【００１８】また、制御部は、前記計測部により測定し
た前記ステージの位置と前記ステージの駆動指令値とか
ら前記外乱力を推定する機能も併せ持ってもよい。

【００１９】また、位置計測対象部がレンズであっても
よい。

【００２０】さらに、本発明の請求項４に記載のレーザ
ビームレコーダは、請求項３に記載の送り装置と、除振
台と、前記除振台に載置したレーザ発振機と、前記除振
台に載置し原盤を回転する回転駆動部と、前記レーザ発
振機から出射したレーザ光を前記レンズに導く光学系と
により構成し、前記外乱力に応じステージを駆動する前
記制御部の応答周波数が前記レーザ発振機から発生する
周波数より大きいことを特徴とする。

【００２１】請求項１に記載の発明では、ＰＩＤ制御に
変わって外乱オブザーバ制御をステージの送りに用いた
場合でも、その外乱オブザーバが理想的に作用し、高精
度の送りが可能な構成の送りステージ装置が実現でき
る。

【００２２】また、請求項４に記載の発明では、空気除
振台では除ききれないレーザ冷却水などの外乱を有する
レーザビームレコーダにおいても高精度のトラックピッ
チを実現できる新しい構成のレーザビームレコーダが実
現できる。

【００２３】

【発明の実施の形態】図１に本発明の実施の形態を示
す。図１において、（ａ）と（ｃ）は本発明の送り装置
の側面図、（ｂ）は本発明の送り装置の平面図である。
ステージ１の下側中央のステージ重心付近にはステージ
１の駆動部であるボイスコイルモータ３がある。このボ
イスコイルモータ３の原理を説明すると、まず駆動子で
あるボイスコイル３ａがステージ１の中央付近下に取り
つけられていて、装置ベース２１に固定された中心ヨー
ク５がボイスコイル３ａを貫通している。中心ヨーク５
は同じく装置ベース２１に固定された左右のヨーク６
ａ、６ｂと両端部で連結されていて、ヨーク６ａ、６ｂ
に固定された永久磁石４ａ、４ｂの磁束を通す磁気回路
を形成している。磁石４ａ，４ｂと中心ヨーク５が形成
する磁気空隙中をボイスコイル３ａが移動可能になって
いる。そこでボイスコイル３ａに電流を流すと、フレミ
ングの左手の法則に従って図１の紙面に垂直な方向にボ
イスコイル３ａつまりステージ１が移動する。

【００２４】ヨーク６ａの外側には位置計測部８が設け
られている。位置計測部８は測定子であるスケール固定
台７に固定されたスケール８ａと装置ベース２１上のス
テージベース１３に固定されたヘッド部８ｂからなり、
ステージ１の移動に伴って変化する位置情報を与える。
図１（ｂ）の平面図において、位置計測部８の延長線上
と、駆動点である前記ボイスコイル３ａの中心の延長線
上の間で、ステージ１の先端部に位置計測対象部である
記録レンズユニット２が取りつけられている。記録レン
ズユニット２は記録レンズと記録レンズの焦点が常に回
転駆動部１９によって回転している原盤１８上に結ぶよ
うに記録レンズを追従させるアクチュエータから成って
いる。位置計測部と記録レンズは同一線上に配置しても
よい。位置計測部と記録レンズが同一直線上にあるのは
アッベの法則による誤差を最小限にするためである。

【００２５】位置計測部８の反対側にステージ１を水平
方向に位置規制する水平方向ガイドが設けられている。
水平方向ガイドは位置計測部と同じ側に配置してもよ
い。水平方向ガイドはステージベース１３に取りつけら
れた平行ガイド９と、平行ガイド９を挟み込むようにス
テージ１に取りつけられた軸受けブロック１０，１１か
ら成っている。図示されないが、軸受けブロック１０お
よび１１は平行ガイド９と対向する面にオリフィスなど
の空気軸受け形成部を有していて、平行ガイド９との間
に空気軸受けを形成する（矢印部）。本発明の構成は、
ステージ１の重心と駆動点がほぼ一致しているため、ガ
イドが片側でもステージがヨーイングを起こさないので
ある。

【００２６】軸受けブロック１０および位置計測部８の
外側に位置する軸受けブロック１２はその下面に空気軸
受け形成部を有しており、ステージベース１３との間に
空気軸受けを構成する（矢印部）。２０は軸受けブロッ
ク１０，１１，１２に空気を供給する配管である。軸受
けブロック１０および１２の１対の空気軸受けは垂直方
向にステージ１を位置規制する垂直方向ガイドを形成し
ている。軸受けブロック１０および１２の外側には吸着
磁石１４、１６がそれぞれ取りつけられていて、ステー
ジベース１３に固定された磁性部材１５，１７が夫々対
向している。そのためこのマグネットの吸着力によりス
テージ１は強力にステージベース１３に引っ張られ、前
記軸受けブロック１０および１２が形成する空気軸受け
に軸受け圧力を与えている。軸受けブロック１０，１２
のガイド面はステージベース１３である。

【００２７】図１の平面図（ｂ）で明らかなように、記
録レンズユニット２は、記録レンズが原盤１８の最内周
に来た時でもボイスコイル３ａや位置計測部８のスケー
ル８ａが原盤１８と干渉しないようにステージ１の先端
部に取りつけられている。そのためステージ１の移動時
に、軸受けブロック１１と軸受けブロック１２の間を原
盤１８が通ることが出来る。その時、記録レンズが原盤
１８の中心線上を半径方向に走査して原盤１８に信号を
記録する。本発明の構成ではステージ送り装置の横方向
の幅は、原盤の直径に軸受けブロック１０，１１、１２
および平行ガイド９および両端の吸着マグネット１４，
１６の幅だけである。またボイスコイルモータ３、中心
ヨーク５などの駆動部を出来る限り細く作り、駆動点、
位置計測点、加工点（記録点）を出来る限り同一直線上
に配置している。

【００２８】したがって、従来例で説明したような外乱
オブザーバー制御によりステージ１の位置補償をする力
が比較的高い周波数で作用しても、重心位置と駆動点が
ほぼ同一直線上にあるためステージ１にヨーイングを起
こす回転モーメントが働かない。また重心と記録レンズ
位置もほぼ同一直線上に配置されているので、水平ガイ
ド９と軸受けブロック１０，１１で形成する静圧空気軸
受け部で軸受け共振があり、ステージが重心まわりに動
いても記録レンズ位置での送り方向の変位はほとんど無
視できトラックピッチへの影響はない。

【００２９】また位置計測点と記録レンズもほぼ同一直
線上にあるため、いわゆるアッベの誤差をなくし、記録
位置で外乱オブザーバ制御の位置補償が正確になされ
る。

【００３０】ＤＶＤ記録には波長が３６４ｎｍのアルゴ
ンレーザや３５１ｎｍのクリプトンレーザなどが使われ
る。またさらに高密度のディスクには波長が３００ｎｍ
以下の遠紫外線レーザが用いられる。それらの多くは冷
却水を必要とするガスレーザであり、冷却チラーから冷
却水を送出するポンプの振動が脈流となってレーザ本体
まで伝わってくる。その振動は記録レーザを固定した装
置ベース２１に伝わり、送り系の外乱振動になる。この
振動は空気除振台の上に直接作用するので空気ばねによ
る減衰効果はない。測定ではレーザ発振機から発生する
外乱成分の脈動周波数は約６０ヘルツを中心としたもの
であった。従って外乱オブザーバ制御での制御帯域の応
答周波数を１００ヘルツまで広げ、この成分の振動変位
を補償する設定を行った。ここで外乱成分の周波数をＦ
０Ｈｚとし、外乱オブザーバ制御での制御帯域の応答周
波数をＦ１Ｈｚとすると、外乱成分の周波数帯域にもよ
るが一般的にＦ０＜Ｆ１の場合に外乱振動を外乱オブザ
ーバ制御で補償することが可能になる。

【００３１】上記構成でのＤＶＤ記録において、ステー
ジ１の送りむらはトラックピッチ０．７４μｍに対して
標準偏差σで０．５ｎｍ以下であった。

【００３２】また、本発明による構成の送り装置では、
送り方向の制御剛性が大きくとれるため、機械的なダン
ピング機構を設けなくても記録レーザ冷却水の脈流のよ
うな比較的定常的な振動はほとんど除去できる。ただ
し、突発的な外乱に対してはダンピング部は効果が期待
できるため、そのような振動対策が必要な場合には本発
明にダンピング部を併用するとよい。この場合ダンピン
グ作用点は重心に可能な限り近づけるのが望ましい。

【００３３】上記の説明は送りの駆動をボイスコイルモ
ータで説明したが、これ以外のリニアモータおよび静圧
ネジ駆動などのスティックスリップのない高精度な駆動
方式であれば本発明は同じく適用できる。

【００３４】また本発明の実施の形態では、送り装置の
具体例としてレーザビームレコーダに用いる送り装置を
示したが、半導体や液晶用のステッパー方式の露光装置
などの高精度の送りが要求される装置の送り装置として
用いることもできる。

【００３５】

【発明の効果】本発明による送り装置では、スライダー
の重心点近くをボイスコイルモータが駆動するのでステ
ージを回転させるモーメントが発生しない構造である。
そのため水平方向のガイドが片側のみでも移動時にヨー
イングやピッチングを起こすことがなく、安定した位置
姿勢を保つことができる。さらに本発明による構成で
は、ステージの位置を計測して送り速度を所定の値に制
御するための計測部の測定子と記録レンズ（位置計測対
象部）がほぼ直線上に配置されているので、アッベの誤
差がなく、制御される位置と記録される位置が等しい。
従って外乱オブザーバ制御を行った時に、記録部分の位
置情報を入力とし、重心部分を駆動制御することが出来
るので、位置補正のためのステージ駆動時にステージに
回転モーメント力が作用してステージが回転するという
ことがない。そのため補償値がそのまま記録位置に反映
され、高精度のステージの移動が実現できる。

【００３６】また本発明によるレーザビームレコーダで
は、空気除振台では除ききれないレーザ冷却水などの外
乱を有しても高精度のトラックピッチを実現し、次世代
の高密度ディスクに対応できる新しい構成のレーザビー
ムレコーダを実現することが可能になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態の装置構成を示す図

【図２】本発明の実施の形態の制御部のブロックダイア
グラムを示す図

【図３】従来のレーザビームレコーダを示す図

【図４】従来のＰＩＤ制御のブロックダイアグラムを示
す図

【図５】従来の送り機構を示す平面図

【符号の説明】１ステージ２記録レンズユニット（記録レンズ）３ボイスコイルモータ４ａ磁石４ｂ磁石５中心ヨーク６ａヨーク６ｂヨーク７スケール固定台８計測部８ａスケール８ｂヘッド９平行ガイド１０軸受けブロック１１軸受けブロック１２軸受けブロック１３ステージベース１８原盤１９回転駆動部材２０空気供給配管２１装置ベース２０２位置制御部２０３速度制御部２０４電流アンプ２０５外乱オブザーバー

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｈ０１Ｌ 21/68 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５０３Ａ (72)発明者佐藤宏和大阪府門真市大字門真1006番地松下電器産業株式会社内Ｆターム(参考） 2H097 AA03 AB07 BA10 CA17 KA01 LA10 LA12 LA20 5D121 BB21 BB38 JJ03 JJ09 5F031 CA01 HA53 HA55 JA14 JA32 LA03 LA07 LA08 LA12 MA27 5F046 CC16 CC17 DB05

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ステージと、前記ステージの重心上に駆
動力が伝達するように前記ステージの下に配置したステ
ージの駆動部と、前記ステージに配置した測定子と、前
記ステージの測定子を検出し前記ステージの位置を計測
する計測部と、前記測定子の移動方向の延長線上または
前記測定子の移動方向の延長線と前記駆動部の駆動子中
心の移動方向の延長線の間に配置した位置計測対象部
と、前記ステージに発生する外乱力を検出し外乱力を解
消する力を前記ステージに与え前記ステージを駆動する
制御部とを設けたことを特徴とする送り装置。
【請求項２】制御部は、前記計測部により測定した前
記ステージの位置と前記ステージの駆動指令値とから前
記外乱力を検出する機能も併せ持つことを特徴とする請
求項１に記載の送り装置。
【請求項３】位置計測対象部がレンズである請求項１
あるいは２に記載の送り装置。
【請求項４】請求項３に記載の送り装置と、除振台
と、前記除振台に載置したレーザ発振機と、前記除振台
に載置し原盤を回転する回転駆動部と、前記レーザ発振
機から出射したレーザ光を前記レンズに導く光学系とに
より構成し、前記外乱力に応じステージを駆動する前記
制御部の応答周波数が前記レーザ発振機から発生する周
波数より大きいことを特徴とし、回転する原盤にレーザ
を用い信号を記録するレーザビームレコーダ。
【請求項５】前記レンズの移動の軌跡がステージの重
心上にあることを特徴とする請求項４に記載のレーザビ
ームレコーダ。