JP2002363661A - スポンジチタン製造装置 - Google Patents
スポンジチタン製造装置Info
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Abstract
の純度を高める。高純度チタンの収率を高める。 【解決手段】 反応容器Aの容器本体10を、内面側が
炭素鋼、外面側がステンレス鋼の複合材により構成す
る。蓋体20に強制冷却機構26を設ける。蓋体20を
構成する部材のうちの、少なくとも反応雰囲気に接する
部材の一部又は全部を、反応雰囲気に対して表面側が炭
素鋼、裏面側が炭素鋼の複合材により構成する。
Description
素材として使用されるスポンジチタンの製造装置に関す
る。
スポンジチタンは、通常はクロール法と呼ばれる方法で
製造される。この方法では、スポンジチタンが還元、真
空分離の2工程を経て反応容器内に製造される。
融Mgに対して四塩化チタンが滴下され、その四塩化チ
タンをMgで還元することによりスポンジチタンが製造
される。真空分離工程では、反応容器を加熱し、更に、
その反応容器に接続された別の反応容器内を減圧するこ
とにより、スポンジチタンに取り込まれていた未反応の
Mg及び副生した塩化Mgが分離し、別の反応容器内に
回収される。
000℃を超える。このため、反応容器の熱対策が重要
であり、その対策の一つとしてステンレス鋼の使用が有
効とされている。ところが、ステンレス鋼は高温強度確
保のために多量のCr及びNiを含んでいる。これらの
重金属は、容器内の溶融Mg中へ容易に溶出し、容器内
に製造されるスポンジチタンを直接・間接に汚染する大
きな原因になる。
容器本体を、内面側が炭素鋼、外面側がステンレス鋼の
複合材により構成することが、特公平7−24759号
公報及び特開平9−287035号公報等に記載されて
いる。
り、容器内に製造されるスポンジチタンのCr・Niに
よる汚染が防止される。また、外面側のステンレス鋼に
より高温強度が確保される。
製品に要求される純度は年々向上し、これに伴ってスポ
ンジチタンに要求される純度も非常に高くなっている。
容器本体の直胴部、望ましくはその全部を前記複合材に
より構成することにより、製造されるスポンジチタン中
のCr・Ni含有量は、塊平均で20ppm程度まで下
げることが可能となる。しかしながら、最近は更なる高
純度化が要求され、Cr・Ni含有量をそれぞれ3pp
m以下に抑えることが求められている。
ジチタンの塊平均では、到底達成不可能である。このた
め、スポンジチタン中で不純物が少ない中心部を部分的
に採取して製品化することが行われているが、要求品質
を満足できる部分は塊全体の15%に満たず、要求品質
が更に向上してきていることから、高純度チタンの採取
量は減少する一方にある。
化を図り、高純度チタンの収率を向上させることができ
るスポンジチタン製造装置を提供することにある。
に、本発明者らは、クロール法で製造したスポンジチタ
ンの不純物汚染について、種々の検討を加えた結果、以
下の知見を得ることができた。
汚染経路は、反応容器内の溶融Mgを介するもの、及び
反応容器の内面と接する部分からの固相拡散によるもの
の2つと考えられている。つまり、前者は、反応容器か
ら同容器内に保持された溶融Mgに不純物が溶出し、こ
の不純物を含んだ溶融Mgによって四塩化チタンが還元
されることによる間接的な汚染現象であり、後者は、容
器の内面に接した部分で、容器からスポンジチタン中へ
重金属が固相拡散することによる直接的な汚染現象であ
る。
る容器本体と、その上面開口部を閉じる蓋体とからな
り、蓋体は、容器内を真空排気するための排気管、四塩
化チタンを滴下するための原料供給管、圧抜き管等を装
備している。ここで、上述した汚染経路のいずれもが関
係するのは、容器本体だけである。このため、内面側を
炭素鋼、外面側をステンレス鋼とする複合材の適用は、
反応容器のうちの容器本体に限定されていた。
gとの接触がなく、上述した汚染経路に関係しない上
に、熱遮蔽体と呼ばれる炭素鋼の円盤が蓋体の下方に配
置されることもあって温度が低く、ステンレス鋼製の場
合も、容器本体内に保持された溶融Mgやスポンジチタ
ンに不純物を溶出させる危険はないと考えられていた。
加えて、複合材は、ステンレス鋼や炭素鋼の単体物と比
べて非常に高価である。これらのため、前記複合材を容
器本体に適用する場合にあっても、蓋体に適用すること
はなかった。
査・解析によると、メカニズムは異なるものの、蓋体も
又、汚染原因の一つであることが判明した。すなわち、
反応容器内の反応温度は800℃以上と高く、一方、反
応物である四塩化チタンの沸点は百数十℃、Mgの融点
は約650℃と低い。このため、反応容器内の溶融Mg
より上の空間は、これらの物質の蒸気で充満している。
ここで、蓋体の温度が比較的高い場合は問題ないが、一
部の蓋体は空冷、水冷による強制冷却を受けて、比較的
低温に維持されている。
は、蓋体の下面を始めとする、反応雰囲気に接する部材
表面にスポンジチタンやその低級塩化物が多量に析出
し、蓋体がステンレス鋼の場合は、その析出物がCr及
びNiにより汚染されることになる。この析出物は、基
本的に蓋体の表面に止まっており、その限り、問題は生
じない。
生成されるスポンジチタンの表層部がしばしば局部的な
汚染を受ける。この経験から、蓋体の表面に析出したチ
タンやその低級塩化物が落下しているおそれがあり、こ
の落下物を介して反応容器内のスポンジチタンが蓋体中
のNiやCrにより汚染されていることが予想された。
たところ、蓋体の表面に析出し汚染されたチタンやその
低級塩化物の落下による汚染経路も無視できないことが
判明し、水冷、空冷を問わず、強制冷却を受ける蓋体に
ついては、その表面に析出する物質の汚染を防止する必
要のあることが明らかになった。以下、NiやCrの汚
染経路について詳細に説明する。
めに、反応容器内の雰囲気より低温であるが、冷却が強
すぎると反応容器のMg(浴面)より上の空間にあるガ
スも冷却されるため、低級塩化物が大量に発生し、反応
率の低下や排気配管の閉塞などの問題が生じる。この問
題のため、蓋体下面の表面温度がMgの融点を超える温
度(650℃以上)程度に維持されるように、強制冷却
を制御される場合が多い。このため、例えば蓋体下面に
結露したMgは液体、つまり溶融Mgとなる。溶融Mg
はNiとの親和性が強いため、ステンレス鋼中のNiを
溶融Mgに取り込み、Niに汚染される。この汚染され
た溶融Mgと四塩化チタンガスが反応して蓋体下面にN
iで汚染されたチタンが析出する。溶融Mg自体が反応
域へ落下して、Mg全体を汚染する場合もある。また、
析出したチタン中へはステンレス鋼の成分であるFe,
Ni,Cr等が拡散し汚染される。析出したチタンが時
々剥離して落下し、製品であるスポンジチタンを汚染す
る。また、Mg蒸気の場合も同じようにNiに汚染さ
れ、結果的にスポンジチタンの汚染も進行する。蓋体か
らの剥離物の製品への落下を防止するため、及び反応容
器内の浴面での反応熱による蓋体への輻射熱を遮断する
ために、蓋体の下方に熱遮蔽板と呼ばれる炭素鋼の円盤
を設ける場合もあるが、この熱遮蔽板には四塩化チタン
を供給するために比較的大きな開口部が必要であるた
め、やはりこの開口部から剥離物が落下・混入するので
ある。
る知見に基づいて完成されたものであり、容器本体に蓋
体を組み合わせた反応容器を使用するクロール法による
スポンジチタン製造装置において、前記反応容器の容器
本体が、内面側が炭素鋼で外面側がステンレス鋼の複合
材からなり、蓋体が強制冷却機構を有ると共に、蓋体を
構成する部材のうちの少なくとも反応雰囲気に臨む部材
の一部又は全部が、反応雰囲気に対して表面側が炭素
鋼、裏面側がステンレス鋼の複合材からなるものであ
る。
応雰囲気に臨む部材としては、容器本体内に直接臨む下
面部材(底板)、真空分離等のために容器内を排気する
排気管、圧抜き管、原料供給管等があり、これらの部材
の1又は複数を前記複合材により構成する。汚染防止効
率の点からは、まず下面部材(底板)に前記複合材を使
用するのがよく、これに加えて、排気管、圧抜き管を適
宜複合材化するのがよい。原料供給管は比較的表面積が
小さいので、ステンレス管を用いても不純物に与える影
響は大木はないが、複合材若しくは炭素鋼を用いる方が
より望ましい。また、蓋体だけでなく、反応容器の容器
本体や、容器本体に連結される塩化Mgの汲み出し管に
複合材を用いるのも、有効な汚染防止策である。また、
反応雰囲気に臨む部材に限らず、それ以外の蓋体構成部
材に複合材を用いることも可能である。複合材を用いな
い部材は、高温強度の点からステンレス鋼が望ましい
が、炭素鋼でもよい。
M,SB等のいずれでもよい。ステンレス鋼としては、
高温強度の高いSUS304,SUS316等のオース
テナイト系ステンレス鋼が好ましい。ステンレス鋼の厚
みは必要とする機械的強度等に基づいて適宜選択される
が、炭素鋼の厚みは主に汚染防止の点から1mm以上が
望ましい。
いずれでもよく、その種類を問わない。
基づいて説明する。図1は本発明の1実施形態を示すス
ポンジチタン製造装置の主要部の縦断面図、その主要部
である蓋体の縦断面図である。
クロール法によるスポンジチタンの製造に使用される。
このスポンジチタン製造装置は、円筒形状の反応容器A
と、還元工程で反応容器Aを加熱する加熱炉Bと、真空
分離工程で反応容器Aを別の反応容器と接続するのに使
用される連結管Cとを備えている。
円筒形状の容器本体10と、容器本体10上面開口部に
装着される蓋体20とを有している。
がステンレス鋼の複合材からなる。容器本体10には、
上部外面から外面側へフランジ状に張り出した環状の支
持部11と、支持部11を上端部が貫通し、下端部が容
器本体10の底部に接続された汲み出し管12とが設け
られている。支持部11及び汲み出し管12は、容器本
体10と異なり、ステンレス鋼からなる。複合材は、肉
盛りクラッド材でも圧延や爆着、熱間押出によるクラッ
ド材でもよい。
周縁部が係合する円板状の天板21と、天板21の外周
部下面から下方へ延出した円筒形状の周壁22と、周壁
22の下面開口部を塞ぐ底板23と、主に底板23を冷
却するために蓋体20内に配置された環状の冷却配管2
6とを有している。周壁22は、容器本体10の開口縁
部に嵌合し、ここでは底板23と一体化されている。
23を貫通して排気管24が設けられている。排気管2
4の側方には、圧抜き管25が傾斜して設けられてい
る。圧抜き管25の上部は天板21を貫通して上方に突
出し、下部は排気管24の下部を斜めに貫通してその下
方に突出している。そして、圧抜き管25の中心部に原
料供給管29が固定されている。
で排気管24を包囲しており、天板21を貫通して蓋体
20内に投入された給気管27を介して、図示されない
外部のブロワーと接続されている。給気管27を介して
冷却配管26に供給された冷却用空気は、冷却配管26
に設けられた多数の開口部から底板23に向けて噴出さ
れ、天板21に取り付けられた排気管28を介して外部
へ排出される。
3、排気管24、圧抜き管25及び原料供給管29を除
き、ステンレス鋼からなる。周壁22、底板23、排気
管24及び圧抜き管25は、炭素鋼とステンレス鋼の複
合材からなる。また、原料供給管29は、管内側がステ
ンレス鋼、外側が炭素鋼である複合材若しくは炭素鋼か
らなる。
面及び圧抜き管25の内面は、反応容器A内に対しては
反応雰囲気に臨む表面であり、これらの表面側は炭素鋼
とされている。反対の裏面側はステンレス鋼とされてい
る。底板23と一体化された周壁22については、底板
23の下面(表面)に連続する外面の側は炭素鋼、底板
23の上面(裏面)に連続する内面の側はステンレス鋼
である。
置を用いてスポンジチタンを製造する方法について説明
する。
容器本体10内に所定量の溶融Mgを投入する。ここ
で、溶融Mgは、電解セルで製造される。製造された溶
融Mgは、金属製の小型搬送鍋により保温炉に搬送さ
れ、ここに一時的に収容される。そして、必要時に必要
量の溶融Mgが、金属製の大型搬送鍋を用いて保温炉か
ら容器本体10内へ移される。保温炉は、大型搬送鍋よ
りも更に巨大な鍋状の金属容器であり、前記大型搬送鍋
と同様、蓋に取り付けたヒータにより、容器内の溶融M
gを融点以上の所定温度に維持する。
と、容器本体10に蓋体20を装着して、容器本体10
の上面開口部を塞ぐ。また、加熱炉B内のヒータによ
り、容器本体10内の溶融Mgを所定温度に加熱維持す
る。この状態で、蓋体20の原料供給管29から容器本
体10内に四塩化チタンを滴下する。これにより、還元
反応が始まり、容器本体10内にスポンジチタンが生成
される。
冷却用空気を供給し、主に底板23を強制空冷する。こ
こで、容器本体10は、反応雰囲気に臨む内面側が炭素
鋼、外面側がステンレス鋼の複合材である。このため、
優れた高温強度を維持しつつ、容器本体10に起因する
スポンジチタンの重金属汚染が防止される。
の部分は、Mg及び四塩化チタンの蒸気で充満してお
り、容器上部の蓋体20は強制空冷されている。このた
め、これらの蒸気が、反応容器内の反応雰囲気に臨む底
板23の下面、排気管24の内面、圧抜き管25の内面
及び原料供給管29の外面で凝縮し、スポンジチタンや
その低級塩化物が析出し、その析出物の一部は容器本体
10内に落下する。しかし、これらの面は炭素鋼である
ので、析出物はNiやCrで汚染されない。このため、
析出物の一部が容器内に落下しても、容器本体10内の
スポンジチタンが汚染されることはない。これらの部材
の裏面側はステンレス鋼であり、他の部材もステンレス
鋼であるので、蓋体20の高温強度が高いことはいうま
でもない。原料供給管29においては、反応雰囲気に対
して表面側とは管外側であり、裏面側とは反応雰囲気に
曝されない管内側を指す。この原料供給管29は、原料
である低温の四塩化チタン液が管内を通過するために、
結果的に冷却される。
し管12から適宜抜き取るが、反応開始時、汲み出し管
12内には容器本体10内と同じレベルまで溶融Mgが
侵入している。この溶融Mgは、基本的には容器本体1
0内に侵入することはなく、従って汲み出し管12をス
テンレス鋼で作製していても汚染の問題は生じない。し
かし、操業手順、操業条件等によっては、汲み出し管1
2内に初期滞留する溶融Mgが容器本体10内に侵入す
る場合があり、この場合は、汲み出し管12も内面炭素
鋼、外面ステンレス鋼の複合材とするのがよい。
続された別の反応容器内を減圧する。これにより、反応
容器A内のスポンジチタンに取り込まれていた未反応の
Mg及び副生した塩化Mgが分離し、別の反応容器内に
回収される。
製造装置を使用すると、容器本体10からの直接的な汚
染だけでなく、蓋体20を介した間接的な汚染も効果的
に防止されることにより、製造されるスポンジチタンの
不純物レベルが大幅に下がる。
材を用いたが、その全部に複合材を用いることもでき
る。また、連結管Cや、電解セルで製造された溶融Mg
を反応容器へ搬送する際に使用される前述した大型搬送
鍋、保温炉、小型搬送鍋等に複合材を使用することも可
能である。前述した大型搬送鍋、保温炉、小型搬送鍋等
に複合材を使用すると、高い高温強度が確保されつつ、
これらから溶融Mgへの重金属溶出が防止され、製造さ
れるスポンジチタンの純度が一層向上する。
タンを製造する場合、容器本体10にステンレス鋼(S
US304)を使用し、強制空冷式の蓋体20に同じス
テンレス鋼使用すると、製造されるスポンジチタンか
ら、Cr,Ni含有量がいずれも3ppm以下を満たす
高純度スポンジチタンを採取できる比率は0%であっ
た。
とステンレス鋼(SUS304)の複合材を使用する
と、上記の高純度チタン採取比率は12%になった。
10に臨む底板部に上記複合材を使用すると、上記の高
純度チタン採取比率は18%になった。
器本体10に臨む全ての部分に上記複合材を使用した場
合は、上記の高純度チタン採取比率は20%になった。
20に複合材を使用することの高純度化、高純度チタン
収率上のメリットは多大である。
チタン製造装置は、強制冷却機構を有する蓋体の構成部
材のうちの少なくとも反応雰囲気に接する部材の一部又
は全部を、前記反応雰囲気に対して表面側が炭素鋼、裏
面側がステンレス鋼の複合材で構成することにより、蓋
材を介した間接的な汚染を低減できる。従って、製造チ
タンの高純度化を図り、合わせて高純度チタンの収率を
向上させることができる。
装置の主要部の縦断面図である。
る知見に基づいて完成されたものであり、容器本体に蓋
体を組み合わせた反応容器を使用するクロール法による
スポンジチタン製造装置において、前記反応容器の容器
本体が、内面側が炭素鋼で外面側がステンレス鋼の複合
材からなり、蓋体が強制冷却機構を有すると共に、蓋体
を構成する部材のうちの少なくとも反応雰囲気に臨む部
材の一部又は全部が、反応雰囲気に対して表面側が炭素
鋼、裏面側がステンレス鋼の複合材からなるものであ
る。
応雰囲気に臨む部材としては、容器本体内に直接臨む下
面部材(底板)、真空分離等のために容器内を排気する
排気管、圧抜き管、原料供給管等があり、これらの部材
の1又は複数を前記複合材により構成する。汚染防止効
率の点からは、まず下面部材(底板)に前記複合材を使
用するのがよく、これに加えて、排気管、圧抜き管を適
宜複合材化するのがよい。原料供給管は比較的表面積が
小さいので、ステンレス管を用いても不純物に与える影
響は大きくはないが、複合材若しくは炭素鋼を用いる方
がより望ましい。また、蓋体だけでなく、反応容器の容
器本体や、容器本体に連結される塩化Mgの汲み出し管
に複合材を用いるのも、有効な汚染防止策である。ま
た、反応雰囲気に臨む部材に限らず、それ以外の蓋体構
成部材に複合材を用いることも可能である。複合材を用
いない部材は、高温強度の点からステンレス鋼が望まし
いが、炭素鋼でもよい。
タンを製造する場合、容器本体10にステンレス鋼(S
US304)を使用し、強制空冷式の蓋体20に同じス
テンレス鋼を使用すると、製造されるスポンジチタンか
ら、Cr,Ni含有量がいずれも3ppm以下を満たす
高純度スポンジチタンを採取できる比率は0%であっ
た。
Claims (2)
- 【請求項1】 容器本体に蓋体を組み合わせた反応容器
を使用するクロール法によるスポンジチタン製造装置に
おいて、前記反応容器の容器本体が、内面側が炭素鋼で
外面側がステンレス鋼の複合材からなり、蓋体が強制冷
却機構を有ると共に、蓋体を構成する部材のうちの少な
くとも反応雰囲気に接する部材の一部又は全部が、前記
反応雰囲気に対して表面側が炭素鋼、裏面側がステンレ
ス鋼の複合材からなることを特徴とするスポンジチタン
製造装置。 - 【請求項2】 前記反応雰囲気に接する部材のうちの少
なくとも容器本体内に臨む底板が前記複合材からなる請
求項1に記載のスポンジチタン製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001169835A JP3515541B2 (ja) | 2001-06-05 | 2001-06-05 | スポンジチタン製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001169835A JP3515541B2 (ja) | 2001-06-05 | 2001-06-05 | スポンジチタン製造装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002363661A true JP2002363661A (ja) | 2002-12-18 |
JP3515541B2 JP3515541B2 (ja) | 2004-04-05 |
Family
ID=19011858
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001169835A Expired - Lifetime JP3515541B2 (ja) | 2001-06-05 | 2001-06-05 | スポンジチタン製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP3515541B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019119917A (ja) * | 2018-01-10 | 2019-07-22 | 東邦チタニウム株式会社 | スポンジチタンの製造方法 |
JP2020193376A (ja) * | 2019-05-29 | 2020-12-03 | 東邦チタニウム株式会社 | 金属製還元反応容器の蓋体及び、金属の製造方法 |
-
2001
- 2001-06-05 JP JP2001169835A patent/JP3515541B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2019119917A (ja) * | 2018-01-10 | 2019-07-22 | 東邦チタニウム株式会社 | スポンジチタンの製造方法 |
JP2020193376A (ja) * | 2019-05-29 | 2020-12-03 | 東邦チタニウム株式会社 | 金属製還元反応容器の蓋体及び、金属の製造方法 |
JP7229097B2 (ja) | 2019-05-29 | 2023-02-27 | 東邦チタニウム株式会社 | 金属製還元反応容器の蓋体及び、金属の製造方法 |
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