JP2002361446A - レーザマーキング制御方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 レーザマーキングにおいてマーキング品位の
向上とマーキング所要時間の短縮とを両立させる。 【解決手段】 マーキング領域２１０を構成する、“○
△市役所”等の文字列Ｃ１、シンボルマーク等の画像Ｇ
１、“環境課”等の文字列Ｃ２、模様等の画像Ｇ２、枠
等の線画Ｌ、の各々の要素を含むように、矩形領域２１
１、矩形領域２１２、矩形領域２１３、矩形領域２１
４、矩形領域２１５、を設定し、文字列Ｃ１、Ｃ２、線
画Ｌの矩形領域２１１、２１３、２１５ではベクタマー
キングによるレーザマーキングを実施し、画像Ｇ１，Ｇ
２の矩形領域２１２、２１４ではラスタマーキングによ
るレーザマーキングを実施することで、マーキング品位
の向上とマーキング所要時間の短縮とを両立させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザマーキング
制御技術に関し、特に、情報処理機器に対するレーザマ
ーキング技術等に適用して有効な技術に関する。

【０００２】

【従来の技術】たとえば、パーソナルコンピュータや周
辺機器、さらには携帯電話、ＰＤＡ等の情報処理機器で
は、製品筐体に対するユーザ固有のロゴやシリアル番号
等の管理情報の刻印（マーキング）による個性化サービ
スが普及してきている。

【０００３】ところで、製品筐体に対するロゴ等の刻印
方法としては、樹脂あるいは金属等の対象物の材質を問
わずに安定なマーキングが可能なレーザマーキング技術
を用いることが考えられる。

【０００４】すなわち、文字や図形や画像から構成され
るマーキングデータをレーザーパルスに対応するビット
イメージに展開し、刻印（マーキング）領域を、水平方
向のラスタ走査（主走査）と、垂直方向における主走査
開始位置のステップ移動（副走査）にてラスタ順にスキ
ャンして、レーザーマーキングを行うものである。

【０００５】この場合、従来から、非マーキング（空
白）領域も一様にスキャンすることに因りマーキング時
間がかかるの防ぐため、マーキング領域の左右あるいは
上下の端部の非マーキング領域を認識し、この領域は主
走査によるスキャンを行わないようにして、マーキング
時間を短縮することが行われていた。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】上述の従来技術のよう
に、非マーキング領域でスキャンを抑止する方法では、
主走査方向のスキャン長が図形等の輪郭形状に応じて変
化するため、隣り合うラスタ走査間のスキャン時間間隔
が不均一になり、実スキャン長の短い領域、すなわち副
走査方向に細長い領域ほどラスタ走査間の時間間隔が短
くなりマーキング領域が相対的に高温化してマーキング
濃度が濃くなり、マーキング品位にばらつきを生じると
いう技術的課題がある。特に、文字領域等の場合には、
領域内部での濃度ムラが発生しやすい。

【０００７】このような技術的課題は、特に、プラスチ
ック等の素材にレーザを照射して、材料を加熱・変色さ
せてマーキングをおこなう場合に顕著となる。

【０００８】また、文字を主体としたマーキングでは、
文字形状の複雑さ等に関係なく、文字領域を包含する矩
形領域の面積等にて決まる所要時間より以下には、マー
キングの高速化を実現できないという技術的課題もあ
る。

【０００９】本発明の目的は、マーキング内容に影響さ
れることなく、濃度等の均一な高いマーキング品位にて
レーザマーキングを行うことが可能な技術を提供するこ
とにある。

【００１０】本発明の他の目的は、レーザマーキングの
所要時間を短縮することが可能な技術を提供することに
ある。

【００１１】本発明の他の目的は、マーキング品位の向
上とマーキング所要時間の短縮とを両立させることが可
能な技術を提供することにある。

【００１２】本発明の他の目的は、マーキング対象物の
加工性に影響されることなく高いマーキング品位にてレ
ーザマーキングを行うことが可能な技術を提供すること
にある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明は、マーキング対
象物にレーザを走査してマーキングを行うレーザマーキ
ング制御方法であって、マーキング対象物のマーキング
領域を複数の矩形領域に区分する第１工程と、個々の矩
形領域に対するレーザのラスタ走査およびベクタ走査の
少なくとも一方にてマーキングを実行する第２工程とを
含むものである。

【００１４】より具体的には、一例として、パーソナル
コンピュータ等のロゴ刻印サービス等において、文字・
図形・画像が混在する刻印データをマーキングする制御
方法に関し、刻印データを文字・図形・画像等の種別や
ブロック（矩形領域）ごとに区分し、個別にマーキング
をおこなうようにするとともに、文字や枠等の図形の領
域ではベクタスキャン（一筆書き風の走査）によるマー
キングをおこない、画像等の領域ではラスタスキャンに
よるマーキングを行うことで、高品位・高速度のレーザ
ーマーキングを実現する。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照しながら詳細に説明する。

【００１６】図１は、本発明の一実施の形態であるレー
ザマーキング制御方法にてロゴマーキングが実施された
情報処理機器の一例を示す斜視図であり、図２は、本発
明の一実施の形態であるレーザマーキング制御方法が実
施されるレーザマーキング装置の構成の一例を示すブロ
ック図、図３は、本実施の形態のレーザマーキング装置
におけるレーザ照射系の構成の一例を示す斜視図であ
る。

【００１７】図１に例示されるように、本実施の形態に
おいてレーザマーキングが実施される情報処理機器は、
一例として、ノートブックタイプのパーソナルコンピュ
ータ１００からなる。このパーソナルコンピュータ１０
０は、キーボード１０２等が設けられた本体１０１と、
ヒンジ１０３を介して、この本体１０１に折り畳み可能
に接続され、内面側に液晶ディスプレイ１０５が設けら
れた蓋体１０４からなる。

【００１８】本実施の形態の場合、樹脂等で構成される
蓋体１０４の外面には、後述のような本実施の形態のレ
ーザマーキング技術にてマーキングが施されたマーキン
グ領域２１０およびマーキング領域２２０が設けられて
いる。

【００１９】マーキング領域２１０は、一例として当該
パーソナルコンピュータ１００の所有者に固有の名称が
図形、画像等からなるロゴ情報がマーキングされ、マー
キング領域２２０には、当該所有者における資産管理番
号等のユーザシリアル番号情報がマーキングされてい
る。

【００２０】一方、図２に例示されるように、本実施の
形態のレーザマーキング装置３００は、レーザ照射系３
１０、上述のパーソナルコンピュータ１００のような製
品あるいは部品等のマーキング対象物４００が載置され
る加工テーブル３２０、レーザ照射系３１０および加工
テーブル３２０等の制御を行う制御コンピュータ３３
０、制御コンピュータ３３０に入力される制御プログラ
ムやマーキングデータ等が格納される記憶装置３４０、
等で構成されている。

【００２１】加工テーブル３２０は、レーザ照射系３１
０の光軸方向に対する移動（上下動）と、この光軸方向
に直交する平面内でのｘ−ｙ方向における水平水平移動
が可能な図示しない移動機構を備えており、制御コンピ
ュータ３３０の指令等に応じて上記各方向における変位
が制御される。

【００２２】本実施の形態のレーザ照射系３１０は、一
例として図３に例示されるように、制御コンピュータ３
３０にて発振動作が制御されレーザ３１２を出射するレ
ーザ光源３１１を備えている。

【００２３】レーザ３１２の光路上には、制御コンピュ
ータ３３０にて回動動作が制御されるモータ３１３ａに
て揺動することで加工テーブル３２０のｘ方向における
レーザ３１２の走査位置を制御するガルバノミラー３１
３が配置されている。

【００２４】ガルバノミラー３１３を経由したレーザ３
１２の光路上には、制御コンピュータ３３０にて回動動
作が制御されるモータ３１４ａにて揺動することで加工
テーブル３２０にのｙ方向におけるレーザ３１２の走査
位置を制御するガルバノミラー３１４が配置されてい
る。

【００２５】ガルバノミラー３１４を経由したレーザ３
１２の光路上には、当該レーザ３１２を収束してマーキ
ング対象物４００に照射するｆθレンズ３１５が配置さ
れている。

【００２６】そして、ガルバノミラー３１３およびガル
バノミラー３１４の揺動制御の組み合わせにより、図４
（ａ）に例示されるようなレーザ３１２のラスタスキャ
ン（ｘ方向（主走査方向）の走査を１つ終える毎にｙ方
向（副走査方向）をステップ移動して新しい走査点から
ｘ方向の走査を行なう）によるラスタマーキング、およ
び図４（ｂ）に例示されるようなレーザ３１２のベクタ
スキャン（一筆書き風の走査）によるベクタマーキン
グ、の双方を行うことが可能である。

【００２７】ここで、ラスタマーキングおよびベクタマ
ーキングの各々におけるマーキング特性の相違について
説明する。

【００２８】図４（ａ）に例示されるように、ラスタマ
ーキングでは、マーキングデータを水平方向のラスタ
スキャンベクトルＲ１〜Ｒ１２に分解した後、上から
下、左から右へとレーザ３１２を照射して行く。

【００２９】このラスタマーキングの場合、全域に渡っ
てほぼ均一にマーキングが可能である。ただし、ラスタ
スキャンベクトルＲ３，Ｒ４等のように短いラスタスキ
ャンベクトルが縦方向に連続する領域、すなわち、縦方
向に細長い領域では、ラスタスキャンベクトルＲ１，Ｒ
２等の他の長いラスタスキャンベクトルが連続する領域
に比較して相対的に各走査間の照射時間間隔が短くなる
ので相対的に濃くマーキングされる。また、文字データ
の場合、文字の輪郭でラスタスキャンベクトルが間欠す
るので文字間隔が詰まったり、輪郭が不鮮明になる場合
がある。

【００３０】従って、ラスタマーキングは、文字、枠等
の線画よりも画像のマーキングに適している。

【００３１】一方、図４（ｂ）に例示されるように、ベ
クタマーキングでは、マーキングデータを縦、横、斜
め等の任意方向のベクタスキャンベクトルＶ１〜Ｖ１１
に分解した後、一筆書き風に走査して行く。

【００３２】このベクタマーキングの場合、描画領域の
輪郭をなぞるように走査するため描画領域の輪郭が鮮明
になる。また、ラスタマーキングのような左端（走査開
始位置）への戻り時間がなく、文字や、枠等の線画の場
合にはラスタマーキングよりも高速なマーキングが可能
である。

【００３３】従って、ベクタマーキングは、文字や、枠
等の線画のマーキングに適している。

【００３４】図５に、上述のような、文字および線画
や、画像等のデータ種別と、マーキング方式の種別との
間におけるマーキング品質の関係の一例を纏めて示す。

【００３５】上述のような文字、線画、画像等のデータ
種別に応じたラスタマーキングおよびベクタマーキング
のマーキング特性の相違を踏まえて、図６（ａ）および
（ｂ）等に例示されるように、本実施の形態では、マー
キング対象物４００におけるマーキング領域４０１を文
字および線画や、画像等のデータ種別毎に、複数の矩形
領域に区分して、各矩形領域毎にラスタマーキングやベ
クタマーキングによるマーキングを実施する。

【００３６】すなわち、図６（ａ）の例では、マーキン
グ対象物４００におけるマーキング領域４０１を、画像
Ｇを含む矩形領域４０１ａ、および文字列Ｃを含む矩形
領域４０１ｂに区分し、各矩形領域毎に、マーキングを
実施する。たとえば、画像Ｇを含む矩形領域４０１ａで
はラスタマーキングを実施し、文字列Ｃを含む矩形領域
４０１ｂではベクタマーキングを実施する。あるいは、
矩形領域４０１ａおよび矩形領域４０１ｂの双方ともに
ラスタマーキングを実施してもよい。

【００３７】また、図６（ｂ）の例では、マーキング対
象物４００におけるマーキング領域４０２を、画像Ｇを
含む矩形領域４０２ａ、および文字列Ｃを含む矩形領域
４０２ｂに区分し、各矩形領域毎に、マーキングを実施
する。たとえば、画像Ｇを含む矩形領域４０２ａではラ
スタマーキングを実施し、文字列Ｃを含む矩形領域４０
２ｂではベクタマーキングを実施する。あるいは、矩形
領域４０２ａおよび矩形領域４０２ｂの双方ともにラス
タマーキングを実施してもよい。

【００３８】ここで、図６（ａ）の場合、矩形領域４０
１ａおよび矩形領域４０１ｂがラスタ方向に重なり合わ
ないので、データ種別に応じた矩形領域の設定が、すべ
ての矩形領域をラスタマーキングする場合でも、マーキ
ング速度の観点からも最適な区分となる。

【００３９】一方、図６（ｂ）のマーキング領域４０２
の例では、ラスタスキャン方向からみて矩形領域４０２
ｂと、矩形領域４０２ａが重なり合うので、すべの矩形
領域でラスタマーキングを実施する場合には、マーキン
グ速度の観点からは、データ種別で矩形領域を設定する
場合と、すべての矩形領域をラスタマーキングする場合
で、最適な矩形領域の設定が異なってくる。

【００４０】このことを図７を参照して説明する。すな
わち、図７（ａ）のマーキング領域４０２は、従来技術
のように、区分設定を行わずに全体をラスタマーキング
を実施すると、図７（ｂ）の多角形領域４０３ようなラ
スタスキャン状態となり、ラスタスキャンベクトルの長
さが異なる領域で、画質にばらつきを生じ、たとえば画
像Ｇは、ラスタスキャンベクトルの短い上側が濃くマー
キングされ、下側が薄くなる。

【００４１】一方、本実施の形態の場合には、すべの矩
形領域をラスタマーキングする場合には、速度を優先し
て、図７（ｃ）のように、画像Ｇの領域を分断するよう
に、矩形領域４０２−１ａおよび矩形領域４０２−１ｂ
を設定し、各矩形領域毎にラスタマーキングを実施す
る。この場合、矩形領域４０２−１ａのラスタマーキン
グではマーキングが薄くなるように照射条件を設定する
ことで、結果的に画像Ｇの全体を均一な濃さにマーキン
グできる。

【００４２】また、画質を優先する場合には、図６
（ｂ）と同様に、図７（ｄ）のように、データ種別に応
じた矩形領域４０２ａおよび矩形領域４０２ｂの設定を
行う。この場合、すべての矩形領域をラスタマーキング
する場合でも、各矩形領域内でラスタスキャンベクトル
の長さが揃うので、矩形領域毎に、すなわちデータ種別
毎に均一な画質が得られる。

【００４３】また、画像Ｇの矩形領域４０２ａはラスタ
マーキングを実施し、文字列Ｃの矩形領域４０２ｂでは
ベクタマーキングを実施することで、各データ種別毎に
最適なマーキング品質が得られる。

【００４４】図８を参照して、本実施の形態のマーキン
グ対象物４００として、上述のパーソナルコンピュータ
１００のマーキング領域２１０にマーキングを行う場合
の矩形領域の区分例を説明する。

【００４５】本実施の形態のマーキング領域２１０は、
一例として、“○△市役所”等の文字列Ｃ１、シンボル
マーク等の画像Ｇ１、“環境課”等の文字列Ｃ２、模様
等の画像Ｇ２、枠等の線画Ｌ、を含んでおり、これらの
各々の要素を含むように、矩形領域２１１、矩形領域２
１２、矩形領域２１３、矩形領域２１４、矩形領域２１
５、が設定される。

【００４６】そして、文字列Ｃ１、Ｃ２、線画Ｌの矩形
領域２１１、２１３、２１５ではベクタマーキングを実
施し、画像Ｇ１，Ｇ２の矩形領域２１２、２１４ではラ
スタマーキングを実施する。これにより、各データ種別
に応じた最適なマーキング品質が得られる。

【００４７】なお、金属のような難加工素材の場合にお
いて、ラスタマーキングが実施される画像等を含む領域
のラスタスキャン方向の長さが長い（たとえば矩形領域
２１４）場合には、当該方向に複数の矩形領域にさらに
区分して、各矩形領域毎にラスタマーキングを実施する
ことで加工性を高めるようにしてもよい。

【００４８】図９は、本実施の形態における上述のよう
な矩形領域の設定（条件出し）工程、および設定後のマ
ーキング工程のフローチャートが例示されている。

【００４９】すなわち、マーキング領域２１０の全体を
示すマーキングデータを取り込み（ステップ５０１）、
マーキング領域を複数の矩形領域に分割する（ステップ
５０２）。

【００５０】そして、各矩形領域毎に、当該矩形領域
が、画像か、あるいはそれ以外の文字列、線画を含むか
を判別し（ステップ５０３）、画像を含む矩形領域の場
合にはラスタマーキング用データを生成し（ステップ５
０４）、それ以外の文字列、線画を含む矩形領域の場合
にはベクタマーキング用データを生成する（ステップ５
０５）処理を、全矩形領域について反復する（ステップ
５０６）。

【００５１】その後、ラスタマーキング用データ、ある
いはベクタマーキング用データを用いたレーザマーキン
グを実施する（ステップ５０７）。

【００５２】なお、このステップ５０７のマーキング工
程では、マーキング対象物が、たとえば図１に例示した
パーソナルコンピュータ１００の場合、当該図１に例示
した完成状態の製品の蓋体１０４に対してマーキングを
実施してもよいし、蓋体１０４が単独の部品状態におい
てマーキングを実施してもよい。

【００５３】以上説明したように、本実施の形態のレー
ザマーキング制御技術によれば、マーキング領域内にお
ける画像、文字列、線画等の構成要素に応じて矩形領域
を設定し、各矩形領域毎に適したラスタマーキングやベ
クタマーキングを適用するので、マーキング内容に影響
されることなく、濃度等の均一な高いマーキング品位に
てレーザマーキングを行うことができるとともに、レー
ザマーキングの所要時間を短縮することが可能となる。

【００５４】従って、マーキング品位の向上とマーキン
グ所要時間の短縮とを両立させることが可能となる。

【００５５】また、樹脂等に比較して難加工性の金属等
の素材にラスタマーキングを適用する場合、ラスタスキ
ャン方向に矩形領域をさらに分割することで、レーザマ
ーキングの加工性が向上し、鮮明なマーキング結果が得
られ、マーキング品位が向上する。

【００５６】以上本発明者によってなされた発明を実施
の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施
の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しな
い範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。

【００５７】マーキング対象物の情報処理機器として
は、上述の実施の形態で例示したパーソナルコンピュー
タにかぎらず、その周辺機器、さらには携帯電話、ＰＤ
Ａ等の一般の情報処理機器に広く適用することができ
る。

【００５８】

【発明の効果】本発明によれば、マーキング内容に影響
されることなく、濃度等の均一な高いマーキング品位に
てレーザマーキングを行うことができる、という効果が
得られる。

【００５９】本発明によれば、レーザマーキングの所要
時間を短縮することができる、という効果が得られる。

【００６０】本発明によれば、マーキング品位の向上と
マーキング所要時間の短縮とを両立させることができ
る、という効果が得られる。

【００６１】本発明によれば、マーキング対象物の加工
性に影響されることなく高いマーキング品位にてレーザ
マーキングを行うことができる、という効果が得られ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施の形態であるレーザマーキング
制御方法にてロゴマーキングが実施された情報処理機器
の一例を示す斜視図である。

【図２】本発明の一実施の形態であるレーザマーキング
制御方法が実施されるレーザマーキング装置の構成の一
例を示すブロック図である。

【図３】本発明の一実施の形態であるレーザマーキング
装置におけるレーザ照射系の構成の一例を示す斜視図で
ある。

【図４】（ａ）および（ｂ）は、ラスタマーキングおよ
びベクタマーキングの作用を比較対照して示す説明図で
ある。

【図５】文字、線画、画像等のデータ種別と、マーキン
グ方式の種別との間におけるマーキング品質の関係の一
例を示す説明図である。

【図６】（ａ）および（ｂ）は、本発明の一実施の形態
であるレーザマーキング制御方法のマーキング領域にお
ける矩形領域の設定方法の一例を示す概念図である。

【図７】（ａ）〜（ｄ）は、本発明の一実施の形態であ
るレーザマーキング制御方法のマーキング領域における
矩形領域の設定方法とラスタマーキングによるマーキン
グ特性の関係の一例を説明する説明図である。

【図８】本発明の一実施の形態であるレーザマーキング
制御方法におけるマーキング領域での矩形領域の設定方
法の一例を示す説明図である。

【図９】本発明の一実施の形態であるレーザマーキング
制御方法の作用の一例を示すフローチャートである。

【符号の説明】

１００…パーソナルコンピュータ、１０１…本体、１０
２…キーボード、１０３…ヒンジ、１０４…蓋体、１０
５…液晶ディスプレイ、２１０…マーキング領域、２１
１…矩形領域、２１２…矩形領域、２１３…矩形領域、
２１４…矩形領域、２１５…矩形領域、２２０…マーキ
ング領域、３００…レーザマーキング装置、３１０…レ
ーザ照射系、３１１…レーザ光源、３１２…レーザ、３
１３…ガルバノミラー、３１３ａ…モータ、３１４…ガ
ルバノミラー、３１４ａ…モータ、３１５…ｆθレン
ズ、３２０…加工テーブル、３３０…制御コンピュー
タ、３４０…記憶装置、４００…マーキング対象物、４
０１…マーキング領域、４０１ａ…矩形領域、４０１ｂ
…矩形領域、４０２…マーキング領域、４０２−１ａ…
矩形領域、４０２−１ｂ…矩形領域、４０２ａ…矩形領
域、４０２ｂ…矩形領域、４０３…多角形領域、Ｃ…文
字列、Ｃ１…文字列、Ｃ２…文字列、Ｇ…画像、Ｇ１…
画像、Ｇ２…画像、Ｌ…線画、Ｒ１〜Ｒ１２…ラスタス
キャンベクトル、Ｖ１〜Ｖ１１…ベクタスキャンベクト
ル。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０４Ｎ 1/40 Ｂ４１Ｊ 3/00 Ｑ // Ｂ２３Ｋ 101:36 Ｈ０４Ｎ 1/40 Ｆ (72)発明者 福地 春雄 神奈川県海老名市下今泉810番地 株式会 社日立製作所インターネットプラットフォ ーム事業部内 (72)発明者 瀬筒 一豪 神奈川県海老名市下今泉810番地 株式会 社日立製作所インターネットプラットフォ ーム事業部内 (72)発明者 村松 文一 愛知県尾張旭市晴丘町池上１番地 株式会 社日立旭エレクトロニクス内 Ｆターム(参考） 2C362 CB62 CB67 4E068 AB01 CE03 DA09 DB01 DB10 5C076 AA01 AA14 AA16 AA36 BA02 BA06 5C077 LL19 PP27 PP28 PP58 TT03

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 マーキング対象物にレーザを走査してマ
   ーキングを行うレーザマーキング制御方法であって、 前記マーキング対象物のマーキング領域を複数の矩形領
   域に区分する第１工程と、 個々の前記矩形領域に対する前記レーザのラスタ走査お
   よびベクタ走査の少なくとも一方にてマーキングを実行
   する第２工程とを含むことを特徴とするレーザマーキン
   グ制御方法。
2. 【請求項２】 請求項１記載のレーザマーキング制御方
   法において、 前記第１工程では、前記マーキング領域に含まれる文字
   領域および画像領域および枠線等の図形領域の各々毎
   に、個々の前記矩形領域に区分し、 前記第２工程では、前記文字領域および前記枠線等の図
   形領域に対して前記レーザの前記ベクタ走査によるマー
   キングを実行し、前記画像領域に対して前記レーザの前
   記ラスタ走査によるマーキングを実行することを特徴と
   するレーザマーキング制御方法。
3. 【請求項３】 請求項１記載のレーザマーキング制御方
   法において、 前記第２工程にてすべての前記矩形領域に対して前記レ
   ーザのラスタ走査にて前記マーキングを実行する場合、 前記第１工程では、前記ラスタ走査の方向における辺の
   長さが最大の前記矩形領域を優先して前記マーキング領
   域から切り出し、 前記第２工程では、分割した前記矩形領域の幅長比率か
   らレーザ照射条件を設定し、マーキングすることを特徴
   とするレーザマーキング制御方法。
4. 【請求項４】 請求項１，２または３記載のレーザマー
   キング制御方法において、 前記マーキング対象物は、情報処理機器の製品または部
   品であり、前記マーキング領域は、個々の前記製品また
   は部品の所有者に固有の前記文字および画像および枠形
   状の少なくとも一つを含むことを特徴とするレーザマー
   キング制御方法。