JP2002354343A - 固体撮像装置 - Google Patents
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Abstract
D)型アンプを内蔵したMOS型センサにおいて、パル
ス配線数を削減し、以て開口率を向上させる。 【解決手段】 第1の画素の読み出しトランジスタ2へ
の読み出しパルスと、これに対して列方向に隣接する第
2の画素のリセットトランジスタ3へのリセットパルス
とを共通のゲート線16で供給するように構成し、第2
の画素のリセット時の第1の画素のドレイン領域(リセ
ットトランジスタ3を介してFD部へパルス電圧を供給
するための領域)に接続されたドレイン線7のLOWレ
ベル電位を、第1の画素のフォトダイオード1の電位深
さよりも高い電位に設定し、かつ、第1の画素のリセッ
トトランジスタ3のゲートにLOWレベル電圧が与えら
れた場合の当該ゲート下のポテンシャルを、前記ドレイ
ン線7のLOWレベル電位よりも高い電位に設定する。
Description
に使用されるMOS型の固体撮像装置に関するものであ
る。
れた従来の固体撮像装置の一例を示している。この固体
撮像装置は、半導体基板上に、各々フォトダイオード
(PD)1と、読み出しトランジスタ2と、フローティ
ングディフュージョン(FD)部と、リセットトランジ
スタ3と、検出トランジスタ4と、アドレストランジス
タ5とを有する複数の増幅型単位画素を二次元状に配列
した感光領域14を備えた固体撮像装置であって、更に
信号線6、ドレイン線7、読み出しゲート線8、リセッ
トゲート線9、アドレスゲート線10、画素行を選択す
る垂直シフトレジスタ12、画素列を選択する水平シフ
トレジスタ13、両シフトレジスタ12,13に必要な
パルスを供給するタイミング発生回路11などにより構
成されている。
出しトランジスタ2により、信号電荷を蓄えるための蓄
積領域であるFD部に読み出される。このFD部に読み
出された電荷の量によりFD部の電位が決定され、検出
トランジスタ4のゲート電圧が変化し、アドレストラン
ジスタ5が選択されたことを条件として、信号線6に信
号電圧が取り出される。
れば、各単位画素が、縦方向の2配線(信号線6及びド
レイン線7)と、横方向の3配線(読み出しゲート線
8、リセットゲート線9及びアドレスゲート線10)
と、4トランジスタ(読み出しトランジスタ2、リセッ
トトランジスタ3、検出トランジスタ4及びアドレスト
ランジスタ5)を有していた。しかしながら、画素の微
細化が進んだ場合、各画素の開口率向上のためには配線
数の削減が必須である。
た技術によれば、読み出しとリセットを兼ねたゲート線
が採用される。そして、ある画素(第1の画素)の読み
出しパルスと、これに対して列方向に隣接する画素(第
2の画素)のリセットパルスとが共通のゲート線で供給
され、読み出しトランジスタの閾値電圧をリセットトラ
ンジスタの閾値電圧より高くし、読み出しとリセットを
兼ねたゲート線に3値パルスを与えることとしていた。
ルス配線数を削減し、以て開口率を向上させることにあ
る。
に、本発明の第1の固体撮像装置は、第1の画素の読み
出しトランジスタへの読み出しパルスと、これに対して
列方向に隣接する第2の画素のリセットトランジスタへ
のリセットパルスとを共通のゲート線で供給するように
構成し、第2の画素のリセット時の第1の画素のドレイ
ン領域(リセットトランジスタを介してFD部へパルス
電圧を供給するための領域)のLOWレベル電位を、第
1の画素のPDの電位深さよりも高い電位に設定したも
のである。この構成により、第2の画素のリセットの際
に第1の画素の読み出しトランジスタにパルスが与えら
れても、第1の画素におけるFD部からPDへの電荷の
逆流が防止される。
1の画素の読み出しトランジスタへの読み出しパルス
と、これに対して列方向に隣接する第2の画素のリセッ
トトランジスタへのリセットパルスとを共通のゲート線
で供給するように構成し、第2の画素のリセット時の第
1の画素のドレイン領域(リセットトランジスタを介し
てFD部へパルス電圧を供給するための領域)のLOW
レベル電位を、第1の画素のPDの電位深さよりも低い
電位に設定したものである。この構成により、第2の画
素のリセットの際に第1の画素の読み出しトランジスタ
にパルスが与えられると、残像対策のためのいわゆる
「呼び水効果」を発揮することができる。
て、第1の画素のリセットトランジスタのゲートにLO
Wレベル電圧が与えられた場合の当該ゲート下のポテン
シャルを、前記第1の画素のドレイン領域のLOWレベ
ル電位よりも高い電位に設定すれば、各々の効果が確実
になる。
1の画素の読み出しトランジスタへの読み出しパルス
と、これに対して列方向に隣接する第2の画素のリセッ
トトランジスタへのリセットパルスとを共通のゲート線
で供給するように構成し、かつ、各画素の読み出しトラ
ンジスタのゲートに与えられるLOWレベル電圧を、当
該画素のリセットトランジスタのゲートに与えられるL
OWレベル電圧よりも低い電圧となるように設定したも
のである。この構成により、FD部で電荷があふれた時
のPDへの電荷の逆流が防止される。
1の画素の読み出しトランジスタへの読み出しパルス
と、これに対して列方向に隣接する第2の画素のリセッ
トトランジスタへのリセットパルスとを共通のゲート線
で供給するように構成し、第2の画素のリセット時の第
1の画素のドレイン領域(リセットトランジスタを介し
てFD部へパルス電圧を供給するための領域)の電位を
HIGHレベル電位に、第2の画素において光電変換で
得られた信号電荷が読み出しトランジスタにより蓄積領
域に読み出されて検出トランジスタが動作する時の第1
の画素のドレイン領域の電位をLOWレベル電位にそれ
ぞれ設定し、かつ、第1の画素のリセットトランジスタ
のゲートにLOWレベル電圧が与えられた場合の当該ゲ
ート下のポテンシャルを第1の画素のPDの電位深さよ
りも高い電位に設定したものである。この構成により、
第2の画素のリセットの際に第1の画素の読み出しトラ
ンジスタにパルスが与えられても、第1の画素における
FD部からPDへの電荷の逆流が防止される。しかも、
第2の画素の読み出し時の第1の画素のドレイン領域の
電位がLOWレベル電位であるので、第1の画素におけ
る検出トランジスタのオフ状態を確保できる。
数の増幅型単位画素のドレイン領域(リセットトランジ
スタを介してFD部へパルス電圧を供給するための領
域)を、遮光膜を兼ねる単一のドレイン層に接続したも
のである。この構成により、画素毎のドレイン線を削減
できる。
体撮像装置について説明する。
る増幅型単位画素の構成例を示している。図1におい
て、1はフォトダイオード(PD)、2は読み出しトラ
ンジスタ、FDはフローティングディフュージョン部、
3はリセットトランジスタ、4は検出トランジスタ、6
は信号線、7はドレイン線(VDD)、15は増幅型単
位画素、16は読み出しとリセットを兼ねたゲート線、
17はFD部と検出トランジスタ4のゲートとを結ぶF
D配線である。読み出しとリセットを兼ねたゲート線1
6は、Nを整数とするとき、第N行の画素の読み出しト
ランジスタ2のゲートと、第(N+1)行の画素のリセ
ットトランジスタ3のゲートとに接続されている。検出
トランジスタ4は、1列毎に異なる信号線6に接続され
ている。また、横方向のドレイン線7には1行毎に異な
るVDD電源パルスが与えられるようになっている。
縦方向の1配線(信号線6)と、横方向の2配線(ドレ
イン線7と、読み出しとリセットを兼ねたゲート線1
6)と、3トランジスタ(読み出しトランジスタ2、リ
セットトランジスタ3及び検出トランジスタ4)に削減
される。
を示している。Vin、T1及びT2は、タイミング発
生回路11から与えられるタイミングパルスである。シ
フトレジスタの各段にキャパシタ18が設けられてお
り、Sig1、Sig2及びSig3はシフトレジスタ
各段の出力である。
するための駆動回路の構成例を示している。図3におい
て、20は垂直シフトレジスタ12のN段目、21は垂
直シフトレジスタ12の(N+1)段目、22は電荷読
み出しパルス発生回路、23はリセットパルス発生回
路、24はOR回路、25はVDD横配線電源回路であ
る。電荷読み出しパルス発生回路22は、垂直シフトレ
ジスタ12のN段目出力SigNと従来の読み出しパル
スとのAND信号を発生するための回路である。リセッ
トパルス発生回路23は、垂直シフトレジスタ12の
(N+1)段目出力Sig(N+1)と従来のリセット
パルスとのAND信号を発生するための回路である。O
R回路24は、電荷読み出しパルス発生回路22の出力
とリセットパルス発生回路23の出力とのOR信号をゲ
ート線16へ供給するための回路である。VDD横配線
電源回路25は、垂直シフトレジスタ12のN段目出力
SigNと従来の電源パルスとのAND信号をドレイン
線7へ供給するための回路である。
ためのタイミングチャート図である。図4中の「FD2
の電位」は図1の増幅型単位画素(第1の画素)15に
おけるFD部の電位を示す。また、図5(a)は第1の
画素における各ポテンシャルの相対位置を示す図であ
り、図5(b)〜図5(g)は図3の駆動回路の動作に
伴う同画素のポテンシャル図である。図5(b)〜図5
(g)中のタイミングt1〜t6は、図4中のタイミン
グt1〜t6にそれぞれ対応している。ここで、第1の
画素に隣接する第2の画素のリセット時の第1の画素の
ドレイン線7のLOWレベル電位は、第1の画素のPD
1の電位深さよりも高い電位に設定される。また、第1
の画素のリセットトランジスタ3のゲートにLOWレベ
ル電圧が与えられた場合の当該ゲート下のポテンシャル
は、ドレイン線7のLOWレベル電位よりも高い電位に
設定される。したがって、第2の画素のリセットの際に
第1の画素の読み出しトランジスタ2にパルスが与えら
れても、例えば図5(e)に示すように第1の画素にお
けるPD1の不要電荷が効率良く捨てられる結果、FD
部からPD1への電荷の逆流が防止される。しかも、図
5(c)以外の状況で第1の画素の検出トランジスタ4
のオフ状態を確保できるように、同画素の読み出しトラ
ンジスタ2のゲートに与えられるLOWレベル電圧は、
同画素のリセットトランジスタ3のゲートに与えられる
LOWレベル電圧よりも低い電圧となるように設定され
ている。
荷がFD部に蓄えられている期間と、このFD部の信号
電荷をリセットする期間のうち少なくとも1回とは、ド
レイン線7の電位をHIGHレベル電位に設定する必要
がある。電子シャッタ機能の実現のためにPD1で得ら
れた不要電荷を捨てる場合には、PD1から読み出され
た不要電荷がFD部に蓄えられている期間と、このFD
部の不要電荷をリセットする期間とに、ドレイン線7の
電位をHIGHレベル電位に設定すればよい。ただし、
PD1からFD部へ読み出された不要電荷を直ちにリセ
ットする場合には、読み出しトランジスタ2とリセット
トランジスタ3とが同時にオンする期間にドレイン線7
の電位をHIGHレベル電位に設定すればよい。インタ
ーレース表示を実現するためには、列方向に互いに隣接
する2画素以上の信号電荷を検出すべく、1水平ブラン
キング期間内に2行以上のドレイン線7の電位をHIG
Hレベル電位に設定できるように構成する。
素のドレイン線7のLOWレベル電位を、第1の画素の
PD1の電位深さよりも低い電位に設定し、かつ、第1
の画素のリセットトランジスタ3のゲートにLOWレベ
ル電圧が与えられた場合の当該ゲート下のポテンシャル
を、ドレイン線7のLOWレベル電位よりも高い電位に
設定するようにしてもよい。これにより、第2の画素の
リセットの際に第1の画素の読み出しトランジスタ2に
パルスが与えられると、残像対策のためにVDDのLO
Wレベル電位をPDの基準電位とする、いわゆる「呼び
水効果」を発揮することができる。
〜図7(g)は図6に対応した、図5(a)〜図5
(g)の変形例をそれぞれ示している。図6及び図7
(a)〜図7(g)に示すように、VDDのLOWレベ
ル電位とPD1の電位との差を大きくするだけでも、P
D1への電荷の逆流を防ぐことができる。この場合に
は、読み出しトランジスタ2とリセットトランジスタ3
との各々のゲートに与えるLOWレベル電圧を同一にで
き、製造プロセスを簡略化することができる。
ための駆動回路の他の構成例を示している。図8におい
て、30は第1の電源パルス発生回路、31は第2の電
源パルス発生回路、32はVDD横配線電源OR回路で
ある。第1の電源パルス発生回路30は、第1の期間に
おいて垂直シフトレジスタ12のN段目出力SigNと
第1の電源パルスとのAND信号を発生するための回路
である。第2の電源パルス発生回路31は、第1の期間
に続く第2の期間において垂直シフトレジスタ12の
(N+1)段目出力Sig(N+1)と第2の電源パル
スとのAND信号を発生するための回路である。VDD
横配線電源OR回路32は、第1の電源パルス発生回路
30の出力と第2の電源パルス発生回路31の出力との
OR信号をドレイン線7へ供給するための回路である。
ゲート線16を駆動するための回路構成は、図3の場合
と同様である。
ためのタイミングチャート図である。図9中の「FD2
の電位」は図1の増幅型単位画素(第1の画素)15に
おけるFD部の電位を示す。ここで、ドレイン線7のL
OWレベル電位がPD1へ逆流しないようにするため
に、図9中のタイミングt4〜t6において、電荷読み
出しパルス発生回路22の出力とリセットパルス発生回
路23の出力とのOR信号である「OR回路出力2」が
タイミングt4の後にLOWになった後に、VDD電源
パルス(VDD2)がLOWレベルになるようにしてい
る(t5)。また、図10(a)は第1の画素における
各ポテンシャルの相対位置を示す図であり、図10
(b)〜図10(g)は図6の駆動回路の動作に伴う同
画素のポテンシャル図である。図10(b)〜図10
(g)中のタイミングt1〜t6は、図9中のタイミン
グt1〜t6にそれぞれ対応している。ここで、第1の
画素に隣接する第2の画素のリセット時の第1の画素の
ドレイン線7の電位はHIGHレベル電位に、第2の画
素において光電変換で得られた信号電荷が読み出しトラ
ンジスタ2によりFD部に読み出されて検出トランジス
タ4が動作する時(t5)の第1の画素のドレイン線7
の電位はLOWレベル電位(ここではゼロ)にそれぞれ
設定される。また、第1の画素のリセットトランジスタ
3のゲートにLOWレベル電圧が与えられた場合の当該
ゲート下のポテンシャルは、第1の画素のPD1の電位
深さよりも高い電位に設定される。したがって、第2の
画素のリセットの際に第1の画素の読み出しトランジス
タ2にパルスが与えられても、例えば図10(e)に示
すように第1の画素におけるFD部からPD1への電荷
の逆流が防止される。しかも、図10(f)に示すよう
に第2の画素の読み出し時の第1の画素のドレイン線7
の電位がLOWレベル電位であるので、第1の画素にお
ける検出トランジスタ4のオフ状態を確保でき、信号線
6における出力信号の混合を防止できる。なお、リセッ
トトランジスタ3をディプレッション型としてもよい。
また、ドレイン線7のLOWレベル電位をゼロとして
も、検出トランジスタ4のオフ状態を確保できる。
的な構成例を示している。図11において、C1及びC
2はキャパシタ、SW1及びSW2はスイッチ、Tr1
及びTr2は逆流防止用トランジスタである。図11の
構成は、C1、SW1及びTr1からなる第1のAND
回路と、C2、SW2及びTr2からなる第2のAND
回路と、該両AND回路の出力のワイヤードOR接続と
により構成されたダイナミック回路である。例えば、第
1のAND回路が電荷読み出しパルス発生回路22に、
第2のAND回路がリセットパルス発生回路23に、ワ
イヤードOR接続がOR回路24にそれぞれ対応する
(図3参照)。この場合、第1のAND回路の2入力φ
A及びφTがそれぞれ垂直シフトレジスタ12のN段目
出力SigNと従来の読み出しパルスとに相当し、第2
のAND回路の2入力φX及びφRがそれぞれ垂直シフ
トレジスタ12の(N+1)段目出力Sig(N+1)
と従来のリセットパルスとに相当する。第1のAND回
路では、スイッチSW1がキャパシタC1の一端(+
側)に第1のパルス信号φAを印加する。このキャパシ
タC1の他端(−側)には、第2のパルス信号φTが印
加される。トランジスタTr1のゲートはキャパシタC
1の一端(+側)に、ドレインは当該キャパシタC1の
他端(−側)に、ソースはワイヤードOR接続点にそれ
ぞれ結合されている。第2のAND回路も同様の構成を
有する。φB及びφYは、それぞれスイッチSW1及び
SW2の開閉を制御するための信号である。
回路の動作を説明するためのタイミングチャート図であ
る。図12によれば、制御信号φBによりスイッチSW
1が閉じられた状態で、第1のパルス信号φAの立ち上
がりエッジが到来する。これによりキャパシタC1が充
電され、スイッチSW1が開いた後もキャパシタC1は
充電電圧(図11に示した極性を有するHIGHレベル
電圧)を保持する。この状態で第2のパルス信号φTが
到来すると、この信号のHIGHレベル電圧がキャパシ
タC1の充電電圧に重畳される結果、トランジスタTr
1がオンし、当該パルス信号φTがワイヤードOR接続
点へ抜けていく。この後、第1のパルス信号φAの立ち
下がり後にスイッチSW1が再び閉じられる結果、キャ
パシタC1が放電されて、元の状態に戻る。
から入力側への電荷の逆流が防止される。したがって、
図2に示した垂直シフトレジスタ12中のキャパシタ1
8が充電された状態でも、当該垂直シフトレジスタ12
の動作に支障が生じることはない。ただし、図11の逆
流防止機能を有するダイナミック回路は、本実施形態に
係る固体撮像装置に限らず広い応用範囲を有するもので
ある。
ける配線レイアウト例を示している。信号線6とドレイ
ン線7とは、光の洩れ込みを防止すべく、互いに異なる
層で交差するように配線されている。具体的には、ドレ
イン線7とFD配線17とはゲート線16(不図示)よ
り上層の第1層目金属からなり、信号線6はこれより上
層の第2層目金属からなる。ここに、FD配線17は第
1層目の遮光性金属であり、信号線6は第2層目の遮光
性金属である。信号線6の上に更に遮光膜を設けてもよ
い。なお、ドレイン線7とゲート線16とを同一の配線
層、例えばポリシリコン、ポリサイド、シリサイド等で
構成すれば、半導体基板上に積み上げる層を薄くするこ
とができるので、PD1の開口における集光率が改善さ
れる。
ける他の配線レイアウト例を示している。この例でも、
光の洩れ込みを防止すべく、信号線6とドレイン線7と
は互いに異なる層で交差するように配線されている。具
体的には、信号線6とFD配線17とはゲート線16
(不図示)より上層の第1層目金属からなり、ドレイン
線7はこれより上層の第2層目金属からなる。ここに、
FD配線17は第1層目の遮光性金属であり、ドレイン
線7は第2層目の遮光性金属である。ドレイン線7の上
に更に遮光膜を設けてもよい。
の構成例を示している。図15の例では、ポリシリコン
/アルミ配線40の上に、VDD共通配線(単一のドレ
イン層)41が形成される。つまり、図1中の横方向の
ドレイン線7が更に削減されて、各単位画素のドレイン
領域が、遮光膜を兼ねる単一のドレイン層41に接続さ
れる。具体的に説明すると、信号線とFD配線とはゲー
ト線(不図示)より上層のポリシリコン/アルミ配線4
0からなり、ドレイン層41はこれより上層の第2層目
金属からなる。ここに、FD配線は第1層目の遮光性金
属であり、ドレイン層41は第2層目の遮光性金属であ
る。なお、ドレイン層41は、オプティカルブラック部
のセル遮光膜をも兼ねるようにするのがよい。ただし、
図15の構成は、読み出しとリセットを兼ねたゲート線
を有しない固体撮像装置にも適用可能である。
る。図2によれば、垂直シフトレジスタ12を駆動する
ための入力タイミングパルスT1又はT2が、シフトレ
ジスタ各段の出力Sig(N)となることが分かる(N
=1,2,3,…)。図16によれば、垂直シフトレジ
スタ12のN段目出力SigNが、VDD横配線電源回
路25(図3参照)を介さずにドレイン線7を直接駆動
する。つまり、図16の例によれば、VDD横配線電源
回路25を構成するドライバを省略でき、半導体基板の
サイズ縮小と低消費電力化とを実現できる。読み出しと
リセットを兼ねたゲート線16を垂直シフトレジスタ1
2の各段の出力で駆動するようにしてもよい。
MOSの場合を示したが、トランジスタがP型MOSの
場合や、CMOSの場合も同様な原理で動作させること
で、同様な効果を実現できる。また、本発明は上記実施
形態に限定されるものではなく、単位画素、垂直シフト
レジスタとその駆動回路、配線や遮光膜の構造など、様
々な組み合わせを実施形態として採り得る。また、上記
実施形態ではN型フォトダイオードの場合について示し
たが、P型フォトダイオードの場合は各電圧及び電位の
関係が逆になることは言うまでもない。
ば、固体撮像装置においてパルス配線数を削減し、以て
開口率を向上させることができる。
画素の構成例を示す回路図である。
る。
路の構成例を示すブロック図である。
ングチャート図である。
ンシャルの相対位置を示す図であり、(b)〜(g)は
図3の駆動回路の動作に伴う同画素のポテンシャル図で
ある。
図である。
〜図5(g)の変形例を示す図である。
路の他の構成例を示すブロック図である。
ングチャート図である。
テンシャルの相対位置を示す図であり、(b)〜(g)
は図8の駆動回路の動作に伴う同画素のポテンシャル図
である。
示す回路図である。
ングチャート図である。
ト例を示す平面図である。
アウト例を示す平面図である。
す断面図である。
る。
である。
トランジスタとを結ぶ配線 18 キャパシタ 20 シフトレジスタN段目 21 シフトレジスタ(N+1)段目 22 電荷読み出しパルス発生回路 23 リセットパルス発生回路 24 OR回路 25 VDD横配線電源回路 30 第1の電源パルス発生回路 31 第2の電源パルス発生回路 32 VDD横配線電源OR回路 40 ポリシリコン/アルミ配線 41 VDD共通配線[単一のドレイン層] C1,C2 キャパシタ FD フローティングディフュージョン[蓄積領域] SW1,SW2 スイッチ Tr1,Tr2 逆流防止用トランジスタ
Claims (15)
- 【請求項1】 半導体基板上に、各々入射光を光電変換
するための光電変換領域と、前記光電変換で得られた信
号電荷を読み出すための読み出しトランジスタと、前記
読み出された信号電荷を蓄えるための蓄積領域と、前記
蓄積領域の電位がゲートに加わることで前記読み出され
た信号電荷を検出するための検出トランジスタと、前記
蓄積領域の信号電荷をリセットするためのリセットトラ
ンジスタと、前記リセットトランジスタを介して前記蓄
積領域へパルス電圧を供給するためのドレイン領域とを
有する複数の増幅型単位画素を二次元状に配列した固体
撮像装置において、 前記複数の増幅型単位画素のうちの第1の画素の読み出
しトランジスタへの読み出しパルスと、前記第1の画素
に対して列方向に隣接する第2の画素のリセットトラン
ジスタへのリセットパルスとを共通のゲート線で供給す
るように構成され、 前記第2の画素のリセット時の前記第1の画素のドレイ
ン領域のLOWレベル電位は、前記第1の画素の光電変
換領域の電位深さよりも高い電位に設定されたことを特
徴とする固体撮像装置。 - 【請求項2】 半導体基板上に、各々入射光を光電変換
するための光電変換領域と、前記光電変換で得られた信
号電荷を読み出すための読み出しトランジスタと、前記
読み出された信号電荷を蓄えるための蓄積領域と、前記
蓄積領域の電位がゲートに加わることで前記読み出され
た信号電荷を検出するための検出トランジスタと、前記
蓄積領域の信号電荷をリセットするためのリセットトラ
ンジスタと、前記リセットトランジスタを介して前記蓄
積領域へパルス電圧を供給するためのドレイン領域とを
有する複数の増幅型単位画素を二次元状に配列した固体
撮像装置において、 前記複数の増幅型単位画素のうちの第1の画素の読み出
しトランジスタへの読み出しパルスと、前記第1の画素
に対して列方向に隣接する第2の画素のリセットトラン
ジスタへのリセットパルスとを共通のゲート線で供給す
るように構成され、 前記第2の画素のリセット時の前記第1の画素のドレイ
ン領域のLOWレベル電位は、前記第1の画素の光電変
換領域の電位深さよりも低い電位に設定されたことを特
徴とする固体撮像装置。 - 【請求項3】 請求項1又は2に記載の固体撮像装置に
おいて、 前記第1の画素のリセットトランジスタのゲートにLO
Wレベル電圧が与えられた場合の当該ゲート下のポテン
シャルは、前記第1の画素のドレイン領域のLOWレベ
ル電位よりも高い電位に設定されたことを特徴とする固
体撮像装置。 - 【請求項4】 半導体基板上に、各々入射光を光電変換
するための光電変換領域と、前記光電変換で得られた信
号電荷を読み出すための読み出しトランジスタと、前記
読み出された信号電荷を蓄えるための蓄積領域と、前記
蓄積領域の電位がゲートに加わることで前記読み出され
た信号電荷を検出するための検出トランジスタと、前記
蓄積領域の信号電荷をリセットするためのリセットトラ
ンジスタと、前記リセットトランジスタを介して前記蓄
積領域へパルス電圧を供給するためのドレイン領域とを
有する複数の増幅型単位画素を二次元状に配列した固体
撮像装置において、 前記複数の増幅型単位画素のうちの第1の画素の読み出
しトランジスタへの読み出しパルスと、前記第1の画素
に対して列方向に隣接する第2の画素のリセットトラン
ジスタへのリセットパルスとを共通のゲート線で供給す
るように構成され、かつ、 前記各画素の読み出しトランジスタのゲートに与えられ
るLOWレベル電圧は、当該画素のリセットトランジス
タのゲートに与えられるLOWレベル電圧よりも低い電
圧となるように設定されたことを特徴とする固体撮像装
置。 - 【請求項5】 請求項1〜4のいずれか1項に記載の固
体撮像装置において、 前記複数の増幅型単位画素のうちのある行を選択するた
めの垂直シフトレジスタと、 前記垂直シフトレジスタのある段の出力を用いて前記第
1の画素の読み出しパルスを、前記垂直シフトレジスタ
の次段の出力を用いて前記第2の画素のリセットパルス
をそれぞれ生成し、かつ該生成した読み出しパルスとリ
セットパルスとの論理和を表す信号を前記共通のゲート
線に与えるための回路とを更に備えたことを特徴とする
固体撮像装置。 - 【請求項6】 請求項5記載の固体撮像装置において、 前記回路は、2つのAND回路と、該両AND回路の出
力のワイヤードOR接続とにより構成され、 前記2つのAND回路の各々は、 キャパシタと、 前記キャパシタを充電するように前記キャパシタの一端
に第1の信号を印加するためのスイッチと、 前記キャパシタの他端に第2の信号を印加するための手
段と、 ゲートが前記キャパシタの一端に、ドレインが前記キャ
パシタの他端に、ソースが前記ワイヤードORの接続点
にそれぞれ結合された逆流防止用トランジスタとを有す
ることを特徴とする固体撮像装置。 - 【請求項7】 請求項1〜4のいずれか1項に記載の固
体撮像装置において、 前記複数の増幅型単位画素のドレイン領域は1行毎に異
なるドレイン線に、前記複数の増幅型単位画素の検出ト
ランジスタは1列毎に異なる信号線にそれぞれ接続さ
れ、かつ、 前記ドレイン線と前記信号線とは、互いに異なる層でか
つ交差するように配線されたことを特徴とする固体撮像
装置。 - 【請求項8】 請求項7記載の固体撮像装置において、 前記複数の増幅型単位画素のうちのある行を選択するた
めの垂直シフトレジスタと、 前記垂直シフトレジスタのある段の出力を用いて前記第
1の画素の読み出しパルスを、前記垂直シフトレジスタ
の次段の出力を用いて前記第2の画素のリセットパルス
をそれぞれ生成し、かつ該生成した読み出しパルスとリ
セットパルスとの論理和を表す信号を、対応する行の共
通ゲート線に与えるための第1の回路と、 前記垂直シフトレジスタの出力のうち前記読み出しパル
スと同じ段の出力を用いて生成した電源パルスを、対応
する行のドレイン線に与えるための第2の回路とを更に
備えたことを特徴とする固体撮像装置。 - 【請求項9】 請求項7又は8に記載の固体撮像装置に
おいて、 前記ゲート線と前記ドレイン線とは、同一の配線層で形
成されていることを特徴とする固体撮像装置。 - 【請求項10】 請求項7〜9のいずれか1項に記載の
固体撮像装置において、 前記蓄積領域と前記検出トランジスタのゲートとを結ぶ
配線は、第1層目の遮光性金属からなることを特徴とす
る固体撮像装置。 - 【請求項11】 請求項7〜10のいずれか1項に記載
の固体撮像装置において、 前記蓄積領域と前記検出トランジスタのゲートとを結ぶ
配線と、前記ドレイン線とは、前記ゲート線より上層の
第1層目金属からなり、かつ、 前記信号線は、前記第1層目金属より上層の第2層目金
属からなることを特徴とする固体撮像装置。 - 【請求項12】 請求項7〜10のいずれか1項に記載
の固体撮像装置において、 前記蓄積領域と前記検出トランジスタのゲートとを結ぶ
配線と、前記信号線とは、前記ゲート線より上層の第1
層目金属からなり、かつ、 前記ドレイン線は、前記第1層目金属より上層の第2層
目金属からなることを特徴とする固体撮像装置。 - 【請求項13】 半導体基板上に、各々入射光を光電変
換するための光電変換領域と、前記光電変換で得られた
信号電荷を読み出すための読み出しトランジスタと、前
記読み出された信号電荷を蓄えるための蓄積領域と、前
記蓄積領域の電位がゲートに加わることで前記読み出さ
れた信号電荷を検出するための検出トランジスタと、前
記蓄積領域の信号電荷をリセットするためのリセットト
ランジスタと、前記リセットトランジスタを介して前記
蓄積領域へパルス電圧を供給するためのドレイン領域と
を有する複数の増幅型単位画素を二次元状に配列した固
体撮像装置において、 前記複数の増幅型単位画素のうちの第1の画素の読み出
しトランジスタへの読み出しパルスと、前記第1の画素
に対して列方向に隣接する第2の画素のリセットトラン
ジスタへのリセットパルスとを共通のゲート線で供給す
るように構成され、 前記第2の画素のリセット時の前記第1の画素のドレイ
ン領域の電位はHIGHレベル電位に、前記第2の画素
において前記光電変換で得られた信号電荷が前記読み出
しトランジスタにより前記蓄積領域に読み出されて前記
検出トランジスタが動作する時の前記第1の画素のドレ
イン領域の電位はLOWレベル電位にそれぞれ設定さ
れ、かつ、 前記第1の画素のリセットトランジスタのゲートにLO
Wレベル電圧が与えられた場合の当該ゲート下のポテン
シャルは、前記第1の画素の光電変換領域の電位深さよ
りも高い電位に設定されたことを特徴とする固体撮像装
置。 - 【請求項14】 請求項13記載の固体撮像装置におい
て、 前記ドレイン領域のLOWレベル電位がゼロであること
を特徴とする固体撮像装置。 - 【請求項15】 半導体基板上に、各々入射光を光電変
換するための光電変換領域と、前記光電変換で得られた
信号電荷を読み出すための読み出しトランジスタと、前
記読み出された信号電荷を蓄えるための蓄積領域と、前
記蓄積領域の電位がゲートに加わることで前記読み出さ
れた信号電荷を検出するための検出トランジスタと、前
記蓄積領域の信号電荷をリセットするためのリセットト
ランジスタと、前記リセットトランジスタを介して前記
蓄積領域の信号電荷をリセットする電圧を供給するため
のドレイン領域とを有する複数の増幅型単位画素を二次
元状に配列した固体撮像装置において、 前記複数の増幅型単位画素のドレイン領域は、遮光膜を
兼ねる単一のドレイン層に接続されたことを特徴とする
固体撮像装置。
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KR100947539B1 (ko) | 2003-12-01 | 2010-03-12 | 삼성전자주식회사 | 패턴 인식 패널 |
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2002
- 2002-03-01 JP JP2002055204A patent/JP2002354343A/ja active Pending
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