JP2002351055A - フォトマスクの欠陥修正方法 - Google Patents
フォトマスクの欠陥修正方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 円形の透過パターン内の黒欠陥の修正の作業
性が飛躍的に向上するとともに、修正精度においてもほ
ぼ設計通りの修正が可能であるフォトマスクの欠陥修正
方法を提供する。 【解決手段】 レーザ光１１を可変矩形アパーチャ１４
にて整形し、この矩形に整形されたレーザ光を結像レン
ズ１５を通してフォトマスク１上の黒欠陥部分に結像さ
せて黒欠陥を除去するレーザ修正装置を用い、前記結像
レンズ１５のフォーカスを意図的にずらすことによっ
て、結像レンズを通過する矩形レーザ光が、フォトマス
ク１上で例えば円形又は略円形のレーザ修正領域を形成
するようにして、黒欠陥を除去することを特徴とする。
性が飛躍的に向上するとともに、修正精度においてもほ
ぼ設計通りの修正が可能であるフォトマスクの欠陥修正
方法を提供する。 【解決手段】 レーザ光１１を可変矩形アパーチャ１４
にて整形し、この矩形に整形されたレーザ光を結像レン
ズ１５を通してフォトマスク１上の黒欠陥部分に結像さ
せて黒欠陥を除去するレーザ修正装置を用い、前記結像
レンズ１５のフォーカスを意図的にずらすことによっ
て、結像レンズを通過する矩形レーザ光が、フォトマス
ク１上で例えば円形又は略円形のレーザ修正領域を形成
するようにして、黒欠陥を除去することを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、フォトマスクにお
ける黒欠陥の欠陥修正方法等に関する。
ける黒欠陥の欠陥修正方法等に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば、反射型液晶ディスプレイにおけ
る反射板層を形成するためのフォトマスクは、円形の透
過パターン又は遮光パターンを有しており、この円形の
透過パターン又は遮光パターンを用いて反射板層に、す
り鉢状の窪みを形成しその傾斜部分で入射光を反射させ
て反射板の作用をもたせる技術が近年登場している。
る反射板層を形成するためのフォトマスクは、円形の透
過パターン又は遮光パターンを有しており、この円形の
透過パターン又は遮光パターンを用いて反射板層に、す
り鉢状の窪みを形成しその傾斜部分で入射光を反射させ
て反射板の作用をもたせる技術が近年登場している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】例えば、円形の透過パ
ターン上に発生した黒欠陥の修正は、現在、図６に示す
ような方法で行っている。図６（１）に、フォトマスク
１上の円形の透過パターン２上に黒欠陥４が発生した様
子を示す。フォトマスク１は、透明基板上に形成された
遮光膜３に、円形の透過パターン２（遮光膜３のない円
形の透過部）を形成してなる。黒欠陥４は、円形の透過
パターンを形成すべき部分に、遮光膜がエッチングされ
ずに残留した場合や、洗浄では落ちない異物が付着した
場合などに発生する。上記黒欠陥４を修正するには、ま
ず、レーザ修正装置（レーザリペア装置）における可変
矩形アパーチャ（矩形の縦横の長さを調整可能なスリッ
ト）を調整し、図６（２）に示すように、円形の透過パ
ターン２の直径と同じ長さの辺を有する正方形のレーザ
修正領域５がマスク表面に形成されるようにするととも
に、正方形のレーザ修正領域５が円形の透過パターン２
に外接するように位置合わせ行う（図６（２）右側の拡
大図）。上記図６（２）に示す状態で、正方形のレーザ
修正領域５にレーザ光を照射した後の状態を図６（３）
に示す。この場合、円形の透過パターン２内の黒欠陥は
除去されるが、正方形の四隅に相当する正常部分の遮光
膜も除去されてしまい、正方形の透過パターン６が形成
されてしまう。次に、正方形の透過パターン６の四隅
に、レーザＣＶＤ装置によって、図６（４）に示すよう
にレーザＣＶＤ膜（遮光膜）７を斜め４５°に成膜領域
を回転して順次成膜し、正八角形状の透過パターン８
（図６（４）右側の拡大図）を形成する。
ターン上に発生した黒欠陥の修正は、現在、図６に示す
ような方法で行っている。図６（１）に、フォトマスク
１上の円形の透過パターン２上に黒欠陥４が発生した様
子を示す。フォトマスク１は、透明基板上に形成された
遮光膜３に、円形の透過パターン２（遮光膜３のない円
形の透過部）を形成してなる。黒欠陥４は、円形の透過
パターンを形成すべき部分に、遮光膜がエッチングされ
ずに残留した場合や、洗浄では落ちない異物が付着した
場合などに発生する。上記黒欠陥４を修正するには、ま
ず、レーザ修正装置（レーザリペア装置）における可変
矩形アパーチャ（矩形の縦横の長さを調整可能なスリッ
ト）を調整し、図６（２）に示すように、円形の透過パ
ターン２の直径と同じ長さの辺を有する正方形のレーザ
修正領域５がマスク表面に形成されるようにするととも
に、正方形のレーザ修正領域５が円形の透過パターン２
に外接するように位置合わせ行う（図６（２）右側の拡
大図）。上記図６（２）に示す状態で、正方形のレーザ
修正領域５にレーザ光を照射した後の状態を図６（３）
に示す。この場合、円形の透過パターン２内の黒欠陥は
除去されるが、正方形の四隅に相当する正常部分の遮光
膜も除去されてしまい、正方形の透過パターン６が形成
されてしまう。次に、正方形の透過パターン６の四隅
に、レーザＣＶＤ装置によって、図６（４）に示すよう
にレーザＣＶＤ膜（遮光膜）７を斜め４５°に成膜領域
を回転して順次成膜し、正八角形状の透過パターン８
（図６（４）右側の拡大図）を形成する。
【０００４】上述したように、円形の透過パターン上に
黒欠陥が発生した場合の修正は、レーザ修正装置によっ
て正方形の透過パターンを形成する工程と、正方形の透
過パターンの四隅に、レーザＣＶＤ装置によって、レー
ザＣＶＤ膜（遮光膜）を成膜する工程の併用作業が必要
とされることから、修正に膨大な時間を費やしていた。
また、欠陥修正によって得られるパターンは、八角形状
の透過パターンであるため、もともとの設計パターンで
ある円形パターンに対して修正精度が悪かった。さら
に、修正によって完全な八角形状の透過パターンを形成
することは実際には難しいことからも修正精度が悪かっ
た。このような問題は、パターンの全部又は一部が欠落
してしまう白欠陥についても同様に発生した。
黒欠陥が発生した場合の修正は、レーザ修正装置によっ
て正方形の透過パターンを形成する工程と、正方形の透
過パターンの四隅に、レーザＣＶＤ装置によって、レー
ザＣＶＤ膜（遮光膜）を成膜する工程の併用作業が必要
とされることから、修正に膨大な時間を費やしていた。
また、欠陥修正によって得られるパターンは、八角形状
の透過パターンであるため、もともとの設計パターンで
ある円形パターンに対して修正精度が悪かった。さら
に、修正によって完全な八角形状の透過パターンを形成
することは実際には難しいことからも修正精度が悪かっ
た。このような問題は、パターンの全部又は一部が欠落
してしまう白欠陥についても同様に発生した。
【０００５】本発明は、上述した背景の下なされたもの
であり、円形の透過パターン内の黒欠陥の修正の作業性
が飛躍的に向上するとともに、修正精度においてもほぼ
設計通りの修正が可能であるフォトマスクの欠陥修正方
法等の提供を目的とする。
であり、円形の透過パターン内の黒欠陥の修正の作業性
が飛躍的に向上するとともに、修正精度においてもほぼ
設計通りの修正が可能であるフォトマスクの欠陥修正方
法等の提供を目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は以下の構成を有
する。
する。
【０００７】（構成１） レーザ光を可変矩形アパーチ
ャにて整形し、この矩形に整形されたレーザ光を結像レ
ンズを通してフォトマスク上の黒欠陥部分に結像させて
黒欠陥を除去するレーザ修正装置を用い、前記結像レン
ズのフォーカスを意図的にずらすことによって、結像レ
ンズを通過する矩形レーザ光が、フォトマスク上に矩形
から変形された状態のレーザ修正領域を形成するように
して、黒欠陥を除去することを特徴とするフォトマスク
の欠陥修正方法。 （構成２） レーザ光を可変矩形アパーチャにて整形
し、この矩形に整形されたレーザ光を結像レンズを通し
てフォトマスク上の黒欠陥部分に結像させて黒欠陥を除
去するレーザ修正装置を用い、前記結像レンズのフォー
カスを意図的にずらすことによって、結像レンズを通過
する矩形レーザ光が、フォトマスク上に円形又は略円形
のレーザ修正領域を形成するようにして、黒欠陥を除去
することを特徴とするフォトマスクの欠陥修正方法。 （構成３） 請求項１又は２記載の欠陥修正方法を用い
て、反射型液晶ディスプレイにおける反射板層を形成す
るためのフォトマスクにおける円形の透過パターン又は
略円形の透過パターン上の黒欠陥の修正を行うことを特
徴とする反射板マスクの欠陥修正方法。
ャにて整形し、この矩形に整形されたレーザ光を結像レ
ンズを通してフォトマスク上の黒欠陥部分に結像させて
黒欠陥を除去するレーザ修正装置を用い、前記結像レン
ズのフォーカスを意図的にずらすことによって、結像レ
ンズを通過する矩形レーザ光が、フォトマスク上に矩形
から変形された状態のレーザ修正領域を形成するように
して、黒欠陥を除去することを特徴とするフォトマスク
の欠陥修正方法。 （構成２） レーザ光を可変矩形アパーチャにて整形
し、この矩形に整形されたレーザ光を結像レンズを通し
てフォトマスク上の黒欠陥部分に結像させて黒欠陥を除
去するレーザ修正装置を用い、前記結像レンズのフォー
カスを意図的にずらすことによって、結像レンズを通過
する矩形レーザ光が、フォトマスク上に円形又は略円形
のレーザ修正領域を形成するようにして、黒欠陥を除去
することを特徴とするフォトマスクの欠陥修正方法。 （構成３） 請求項１又は２記載の欠陥修正方法を用い
て、反射型液晶ディスプレイにおける反射板層を形成す
るためのフォトマスクにおける円形の透過パターン又は
略円形の透過パターン上の黒欠陥の修正を行うことを特
徴とする反射板マスクの欠陥修正方法。
【０００８】（構成４） レーザ光を可変矩形アパーチ
ャにて整形し、この矩形に整形されたレーザ光を結像レ
ンズを通してフォトマスク上の白欠陥部分に結像させて
修正膜を形成するレーザ修正装置を用い、前記結像レン
ズのフォーカスを意図的にずらすことによって、結像レ
ンズを通過する矩形レーザ光が、フォトマスク上に矩形
から変形された状態のレーザ修正領域を形成するように
して、修正膜を形成して白欠陥を修正することを特徴と
するフォトマスクの欠陥修正方法。 （構成５） レーザ光を可変矩形アパーチャにて整形
し、この矩形に整形されたレーザ光を結像レンズを通し
てフォトマスク上の白欠陥部分に結像させて修正膜を形
成するレーザ修正装置を用い、前記結像レンズのフォー
カスを意図的にずらすことによって、結像レンズを通過
する矩形レーザ光が、フォトマスク上に円形又は略円形
のレーザ修正領域を形成するようにして、修正膜を形成
して白欠陥を修正することを特徴とするフォトマスクの
欠陥修正方法。 （構成６） 構成４又は５記載の欠陥修正方法を用い
て、反射型液晶ディスプレイにおける反射板層を形成す
るためのフォトマスクにおける円形の遮光パターン又は
略円形の遮光パターン上の白欠陥の修正を行うことを特
徴とする反射板マスクの欠陥修正方法。 （構成７） 構成１〜６のいずれかに記載の欠陥修正方
法によって、欠陥修正が施されたことを特徴とするフォ
トマスク。
ャにて整形し、この矩形に整形されたレーザ光を結像レ
ンズを通してフォトマスク上の白欠陥部分に結像させて
修正膜を形成するレーザ修正装置を用い、前記結像レン
ズのフォーカスを意図的にずらすことによって、結像レ
ンズを通過する矩形レーザ光が、フォトマスク上に矩形
から変形された状態のレーザ修正領域を形成するように
して、修正膜を形成して白欠陥を修正することを特徴と
するフォトマスクの欠陥修正方法。 （構成５） レーザ光を可変矩形アパーチャにて整形
し、この矩形に整形されたレーザ光を結像レンズを通し
てフォトマスク上の白欠陥部分に結像させて修正膜を形
成するレーザ修正装置を用い、前記結像レンズのフォー
カスを意図的にずらすことによって、結像レンズを通過
する矩形レーザ光が、フォトマスク上に円形又は略円形
のレーザ修正領域を形成するようにして、修正膜を形成
して白欠陥を修正することを特徴とするフォトマスクの
欠陥修正方法。 （構成６） 構成４又は５記載の欠陥修正方法を用い
て、反射型液晶ディスプレイにおける反射板層を形成す
るためのフォトマスクにおける円形の遮光パターン又は
略円形の遮光パターン上の白欠陥の修正を行うことを特
徴とする反射板マスクの欠陥修正方法。 （構成７） 構成１〜６のいずれかに記載の欠陥修正方
法によって、欠陥修正が施されたことを特徴とするフォ
トマスク。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て説明する。実施の形態１ 図１はレーザ修正装置の原理を説明するための斜視図、
図２はレーザ修正装置（レーザＣＶＤリペア装置）の概
略構成を説明するための模式図である。これらの図面に
おいて、レーザービーム１１は、ビームエキスパンダ１
２によって広げられ、平凸レンズ１３によって平行光線
とされ、矩形に可変可能な可変矩形アパーチャ１４で整
形され、結像レンズ（対物レンズ）１５によって縮小さ
れてフォトマスク１上に結像され、矩形アパーチャの像
である矩形のレーザ修正領域を形成する。図２におい
て、パイロット光１６は、可変矩形アパーチャ１４のフ
ォトマスク１上の像である矩形のレーザ修正領域をレー
ザ照射前に顕微鏡１７によって確認するため、及び、欠
陥位置に顕微鏡１７によってレーザ修正領域を位置合わ
せするため、の照明系である。なお、欠陥位置とレーザ
修正領域との位置合わせは、マクスが載置されたＸＹ粗
動ステージで大まかに位置合わせし、その後ＸＹ微動ス
テージにて正確に位置合わせする。この装置において
は、レーザ照射によって膜を除去（黒欠陥の修正）する
ことができるレーザ除去機能（レーザリペア機能）と、
レーザ照射によって膜を成膜（白欠陥の修正）すること
ができるレーザ成膜機能（レーザ光ＣＶＤ機能）とを有
する。
て説明する。実施の形態１ 図１はレーザ修正装置の原理を説明するための斜視図、
図２はレーザ修正装置（レーザＣＶＤリペア装置）の概
略構成を説明するための模式図である。これらの図面に
おいて、レーザービーム１１は、ビームエキスパンダ１
２によって広げられ、平凸レンズ１３によって平行光線
とされ、矩形に可変可能な可変矩形アパーチャ１４で整
形され、結像レンズ（対物レンズ）１５によって縮小さ
れてフォトマスク１上に結像され、矩形アパーチャの像
である矩形のレーザ修正領域を形成する。図２におい
て、パイロット光１６は、可変矩形アパーチャ１４のフ
ォトマスク１上の像である矩形のレーザ修正領域をレー
ザ照射前に顕微鏡１７によって確認するため、及び、欠
陥位置に顕微鏡１７によってレーザ修正領域を位置合わ
せするため、の照明系である。なお、欠陥位置とレーザ
修正領域との位置合わせは、マクスが載置されたＸＹ粗
動ステージで大まかに位置合わせし、その後ＸＹ微動ス
テージにて正確に位置合わせする。この装置において
は、レーザ照射によって膜を除去（黒欠陥の修正）する
ことができるレーザ除去機能（レーザリペア機能）と、
レーザ照射によって膜を成膜（白欠陥の修正）すること
ができるレーザ成膜機能（レーザ光ＣＶＤ機能）とを有
する。
【００１０】図３に、本発明の一実施の形態にかかるフ
ォトマスクの欠陥修正方法の手順を示す。図３（１）
に、フォトマスク１上の円形の透過パターン２上に黒欠
陥４が発生した様子を示す。フォトマスク１は、透明基
板上に形成された遮光膜３に、円形の透過パターン２
（遮光膜３のない円形の透過部）を形成してなる。上記
黒欠陥４を修正するには、まず、レーザ修正装置（レー
ザリペア機能）における可変矩形アパーチャを調整し、
図３（２）に示すように、円形の透過パターン２の直径
と同じ長さの辺を有する正方形のレーザ修正領域５がフ
ォトマスク１表面に形成されるようにするとともに、正
方形のレーザ修正領域５が円形の透過パターン２に外接
するように位置合わせ行う（図３（２）右側の拡大
図）。次いで、結像レンズのフォーカスを意図的にずら
す（ｄｅ ｆｏｃｕｓをかける）、すなわち図２におけ
るフォトマスク１と結像レンズ１５との距離を結像レン
ズ１５をＺ軸方向に動かして調節することによって、図
３（３）に示すように、結像レンズ１５を通過する矩形
レーザ光が、フォトマスク上で円形のレーザ修正領域を
形成するようにする。これにより円形の透過パターン２
とほぼ同一形状・同一サイズの円形のレーザ修正領域
５’が形成できる（図３（３）右側の拡大図）。この状
態では、円形の透過パターン２と円形のレーザ修正領域
５’が一致している。この状態でレーザを照射すると、
図３（４）に示すように、黒欠陥を除去することがで
き、ほぼ設計通りの円形の透過パターン２に修正でき
る。
ォトマスクの欠陥修正方法の手順を示す。図３（１）
に、フォトマスク１上の円形の透過パターン２上に黒欠
陥４が発生した様子を示す。フォトマスク１は、透明基
板上に形成された遮光膜３に、円形の透過パターン２
（遮光膜３のない円形の透過部）を形成してなる。上記
黒欠陥４を修正するには、まず、レーザ修正装置（レー
ザリペア機能）における可変矩形アパーチャを調整し、
図３（２）に示すように、円形の透過パターン２の直径
と同じ長さの辺を有する正方形のレーザ修正領域５がフ
ォトマスク１表面に形成されるようにするとともに、正
方形のレーザ修正領域５が円形の透過パターン２に外接
するように位置合わせ行う（図３（２）右側の拡大
図）。次いで、結像レンズのフォーカスを意図的にずら
す（ｄｅ ｆｏｃｕｓをかける）、すなわち図２におけ
るフォトマスク１と結像レンズ１５との距離を結像レン
ズ１５をＺ軸方向に動かして調節することによって、図
３（３）に示すように、結像レンズ１５を通過する矩形
レーザ光が、フォトマスク上で円形のレーザ修正領域を
形成するようにする。これにより円形の透過パターン２
とほぼ同一形状・同一サイズの円形のレーザ修正領域
５’が形成できる（図３（３）右側の拡大図）。この状
態では、円形の透過パターン２と円形のレーザ修正領域
５’が一致している。この状態でレーザを照射すると、
図３（４）に示すように、黒欠陥を除去することがで
き、ほぼ設計通りの円形の透過パターン２に修正でき
る。
【００１１】実施例 ＮＥＣ製レーザ修正装置を用い、直径５μｍφの円形の
透過パターンに対し、５μｍ角の正方形のレーザ修正領
域をマスク表面上に形成し、さらに結像レンズのフォー
カスを意図的にずらすことによって直径５μｍφの円形
のレーザ修正領域をマスク表面上に形成し、図３に示す
ように黒欠陥４を有する直径５μｍφの円形の透過パタ
ーン２に位置合わせして修正を行った。具体的には、結
像レンズをフォーカスが合った状態（５μｍ角の正方形
のレーザ修正領域が形成される状態）から、Ｚ軸方向に
１０μｍ程度ずらす（Ｚ軸パルスモータにおける１パル
スが０．５μｍである場合２０パルス前後ずらす）こと
によって、直径５μｍφの円形のレーザ修正領域をマス
ク表面上に形成して黒欠陥の修正を行った。その結果、
ほぼ設計通りの修正が可能であった。また、直径３〜２
０μｍφの円形の透過パターンについても同様の修正を
行ったが、ほぼ設計通りの修正が可能であり、この範囲
では、サイズに無関係に適用可能であることを確認し
た。さらに、フォーカスを意図的にずらすことによっ
て、略円形〜正方形の角が丸味を帯びた形状などのレー
ザ修正領域が形成され、欠陥修正に利用できることを確
認した。なお、反射型液晶ディスプレイにおける反射板
層を形成するためのフォトマスクにおける円形の透過パ
ターンは、通常４〜１０μｍφ程度と大きく、この範囲
ではサイズに無関係にほぼ設計通りの修正が現行の修正
装置では可能であるので、本発明の欠陥修正方法はこの
反射板層を形成するためのフォトマスクの修正に特に適
する。
透過パターンに対し、５μｍ角の正方形のレーザ修正領
域をマスク表面上に形成し、さらに結像レンズのフォー
カスを意図的にずらすことによって直径５μｍφの円形
のレーザ修正領域をマスク表面上に形成し、図３に示す
ように黒欠陥４を有する直径５μｍφの円形の透過パタ
ーン２に位置合わせして修正を行った。具体的には、結
像レンズをフォーカスが合った状態（５μｍ角の正方形
のレーザ修正領域が形成される状態）から、Ｚ軸方向に
１０μｍ程度ずらす（Ｚ軸パルスモータにおける１パル
スが０．５μｍである場合２０パルス前後ずらす）こと
によって、直径５μｍφの円形のレーザ修正領域をマス
ク表面上に形成して黒欠陥の修正を行った。その結果、
ほぼ設計通りの修正が可能であった。また、直径３〜２
０μｍφの円形の透過パターンについても同様の修正を
行ったが、ほぼ設計通りの修正が可能であり、この範囲
では、サイズに無関係に適用可能であることを確認し
た。さらに、フォーカスを意図的にずらすことによっ
て、略円形〜正方形の角が丸味を帯びた形状などのレー
ザ修正領域が形成され、欠陥修正に利用できることを確
認した。なお、反射型液晶ディスプレイにおける反射板
層を形成するためのフォトマスクにおける円形の透過パ
ターンは、通常４〜１０μｍφ程度と大きく、この範囲
ではサイズに無関係にほぼ設計通りの修正が現行の修正
装置では可能であるので、本発明の欠陥修正方法はこの
反射板層を形成するためのフォトマスクの修正に特に適
する。
【００１２】実施の形態２ 実施の形態２は、実施の形態１と同様の装置におけるレ
ーザ成膜機能（レーザ光ＣＶＤ機能）を用いて白欠陥を
修正したものである。図４に、本発明の一実施の形態に
かかるフォトマスクの欠陥修正方法の手順を示す。図４
（１）に、フォトマスク２１上の円形の遮光パターン２
２のうちの一つの円形遮光パターンが完全に欠落した白
欠陥２４が発生した様子を示す。フォトマスク２１は、
透明基板上の透明領域２３に、円形の遮光パターン２２
（遮光膜からなる円形の遮光部）を形成してなる。上記
白欠陥２４を修正するには、まず、レーザ修正装置（レ
ーザＣＶＤ機能）における可変矩形アパーチャを調整
し、図４（２）に示すように、円形の遮光パターン２２
の直径と同じ長さの辺を有する正方形のレーザ修正領域
２５がフォトマスク２１表面に形成されるようにすると
ともに、正方形のレーザ修正領域２５が完全に欠落した
円形の遮光パターン２４’に外接した位置に来るように
位置合わせ行う（図４（２）右側の拡大図）。次いで、
結像レンズのフォーカスを意図的にずらす（ｄｅ ｆｏ
ｃｕｓをかける）、すなわち図２におけるフォトマスク
１と結像レンズ１５との距離を結像レンズ１５をＺ軸方
向に動かして調節することによって、図４（３）に示す
ように、結像レンズ１５を通過する矩形レーザ光が、フ
ォトマスク上で円形のレーザ修正領域を形成するように
する。これにより円形の遮光パターン２２とほぼ同一形
状・同一サイズの円形のレーザ修正領域２５’が形成で
きる。この状態でレーザを照射すると、図４（４）に示
すように、修正膜（遮光膜）を形成することができ、ほ
ぼ設計通りの円形の遮光パターン２２に修正できる。
尚、上記の例では、円形遮光パターンが完全に欠落した
白欠陥２４について修正を行ったが、図５に示すような
円形遮光パターンの一部が欠落した白欠陥が発生した円
形遮光パターン２６の修正を行う場合は、最初に白欠陥
部分を含む円形遮光パターン２６をレーザリペア機能に
て除去し、その後上記のようにレーザ成膜機能（レーザ
光ＣＶＤ機能）を用いて修正パターンの成膜を行うこと
ができる。また、図５に示すような円形遮光パターンの
一部が欠落した白欠陥が発生した円形遮光パターン２６
上に重ねて、上記のようにレーザ成膜機能（レーザ光Ｃ
ＶＤ機能）を用いて修正パターンの成膜を行い、白欠陥
の修正を行うこともできる。
ーザ成膜機能（レーザ光ＣＶＤ機能）を用いて白欠陥を
修正したものである。図４に、本発明の一実施の形態に
かかるフォトマスクの欠陥修正方法の手順を示す。図４
（１）に、フォトマスク２１上の円形の遮光パターン２
２のうちの一つの円形遮光パターンが完全に欠落した白
欠陥２４が発生した様子を示す。フォトマスク２１は、
透明基板上の透明領域２３に、円形の遮光パターン２２
（遮光膜からなる円形の遮光部）を形成してなる。上記
白欠陥２４を修正するには、まず、レーザ修正装置（レ
ーザＣＶＤ機能）における可変矩形アパーチャを調整
し、図４（２）に示すように、円形の遮光パターン２２
の直径と同じ長さの辺を有する正方形のレーザ修正領域
２５がフォトマスク２１表面に形成されるようにすると
ともに、正方形のレーザ修正領域２５が完全に欠落した
円形の遮光パターン２４’に外接した位置に来るように
位置合わせ行う（図４（２）右側の拡大図）。次いで、
結像レンズのフォーカスを意図的にずらす（ｄｅ ｆｏ
ｃｕｓをかける）、すなわち図２におけるフォトマスク
１と結像レンズ１５との距離を結像レンズ１５をＺ軸方
向に動かして調節することによって、図４（３）に示す
ように、結像レンズ１５を通過する矩形レーザ光が、フ
ォトマスク上で円形のレーザ修正領域を形成するように
する。これにより円形の遮光パターン２２とほぼ同一形
状・同一サイズの円形のレーザ修正領域２５’が形成で
きる。この状態でレーザを照射すると、図４（４）に示
すように、修正膜（遮光膜）を形成することができ、ほ
ぼ設計通りの円形の遮光パターン２２に修正できる。
尚、上記の例では、円形遮光パターンが完全に欠落した
白欠陥２４について修正を行ったが、図５に示すような
円形遮光パターンの一部が欠落した白欠陥が発生した円
形遮光パターン２６の修正を行う場合は、最初に白欠陥
部分を含む円形遮光パターン２６をレーザリペア機能に
て除去し、その後上記のようにレーザ成膜機能（レーザ
光ＣＶＤ機能）を用いて修正パターンの成膜を行うこと
ができる。また、図５に示すような円形遮光パターンの
一部が欠落した白欠陥が発生した円形遮光パターン２６
上に重ねて、上記のようにレーザ成膜機能（レーザ光Ｃ
ＶＤ機能）を用いて修正パターンの成膜を行い、白欠陥
の修正を行うこともできる。
【００１３】実施の形態３ 実施の形態３は、円形に可変できるアパーチャと、矩形
に可変できるアパーチャとの双方を有するレーザ修正装
置に関する。このレーザ修正装置では、例えば、図２に
おける矩形に可変できるアパーチャに隣接して、円形に
可変できるアパーチャを設ける。円形に可変できるアパ
ーチャは例えば、カメラの絞りと同様の機構を採用でき
る。この場合、レーザ照射に耐性のある材料で円形に可
変できるアパーチャ機構を作製する。このレーザ修正装
置によれば、従来より一般的な矩形に可変できるアパー
チャによる修正に加え、円形に可変できるアパーチャに
よる特殊な修正を行うことができ、さらに、矩形に可変
できるアパーチャと円形に可変できるアパーチャとの組
合せ（重ね合わせ）によって複雑な形状の特殊な修正に
対応可能である。このような修正装置は汎用性を兼備し
ていることから開発の負担を低減できる。
に可変できるアパーチャとの双方を有するレーザ修正装
置に関する。このレーザ修正装置では、例えば、図２に
おける矩形に可変できるアパーチャに隣接して、円形に
可変できるアパーチャを設ける。円形に可変できるアパ
ーチャは例えば、カメラの絞りと同様の機構を採用でき
る。この場合、レーザ照射に耐性のある材料で円形に可
変できるアパーチャ機構を作製する。このレーザ修正装
置によれば、従来より一般的な矩形に可変できるアパー
チャによる修正に加え、円形に可変できるアパーチャに
よる特殊な修正を行うことができ、さらに、矩形に可変
できるアパーチャと円形に可変できるアパーチャとの組
合せ（重ね合わせ）によって複雑な形状の特殊な修正に
対応可能である。このような修正装置は汎用性を兼備し
ていることから開発の負担を低減できる。
【００１４】なお、本発明は上述した実施の形態等に限
定されるものではない。例えば、本発明の欠陥修正方法
は、フォトマスクにおける略円形である正多角形（例え
ば八角形以上）の透過パターン又は遮光パターンの修正
に利用できる。この場合設計通りの修正ではないが、フ
ォトマスクを使用して実際に露光を行う際に、八角形状
の透過パターンを透過した露光光は、又は八角形状の遮
光パターンの外側を透過した露光光は、ほぼ円形パター
ンとして解像されるため、円形の透過パターン又は遮光
パターンに修正しても問題はない。同様に、フォトマス
クの設計上は正多角形（例えば八角形以上）の透過パタ
ーン又は遮光パターンであるが、実際に作製されたフォ
トマスク上では略円形の透過パターン又は遮光パターン
である場合、この略円形の透過パターン又は遮光パター
ンの修正に本発明の欠陥修正方法を利用できる。また、
本発明の欠陥修正方法では、略円形、楕円形などのレー
ザ修正領域を形成して黒欠陥又は白欠陥の修正を行うこ
とができる。さらに、本発明の欠陥修正方法では、円
形、略円形、楕円形などのレーザ修正領域の一部を利用
して黒欠陥又は白欠陥の修正を行うことができる。例え
ば、ライン状の遮光透過パターンの辺とつながる凸状の
黒欠陥が発生した場合、この凸状の黒欠陥が発生した部
分におけるライン状の遮光透過パターンの辺に、円形、
略円形、楕円形などのレーザ修正領域が接するようにし
て、黒欠陥の除去を行うことができる。本発明でいうフ
ォトマスクには、位相シフトマスク等が含まれる。
定されるものではない。例えば、本発明の欠陥修正方法
は、フォトマスクにおける略円形である正多角形（例え
ば八角形以上）の透過パターン又は遮光パターンの修正
に利用できる。この場合設計通りの修正ではないが、フ
ォトマスクを使用して実際に露光を行う際に、八角形状
の透過パターンを透過した露光光は、又は八角形状の遮
光パターンの外側を透過した露光光は、ほぼ円形パター
ンとして解像されるため、円形の透過パターン又は遮光
パターンに修正しても問題はない。同様に、フォトマス
クの設計上は正多角形（例えば八角形以上）の透過パタ
ーン又は遮光パターンであるが、実際に作製されたフォ
トマスク上では略円形の透過パターン又は遮光パターン
である場合、この略円形の透過パターン又は遮光パター
ンの修正に本発明の欠陥修正方法を利用できる。また、
本発明の欠陥修正方法では、略円形、楕円形などのレー
ザ修正領域を形成して黒欠陥又は白欠陥の修正を行うこ
とができる。さらに、本発明の欠陥修正方法では、円
形、略円形、楕円形などのレーザ修正領域の一部を利用
して黒欠陥又は白欠陥の修正を行うことができる。例え
ば、ライン状の遮光透過パターンの辺とつながる凸状の
黒欠陥が発生した場合、この凸状の黒欠陥が発生した部
分におけるライン状の遮光透過パターンの辺に、円形、
略円形、楕円形などのレーザ修正領域が接するようにし
て、黒欠陥の除去を行うことができる。本発明でいうフ
ォトマスクには、位相シフトマスク等が含まれる。
【００１５】
【発明の効果】以上説明したように本発明のフォトマス
クの欠陥修正方法によれば、円形の透過パターン内の黒
欠陥又は円形の遮光パターンの白欠陥の修正の作業性が
飛躍的に向上する。また、修正精度においてもほぼ設計
通りの修正が可能である。また、本発明では、既存の装
置で対応できるのでコスト面の寄与が極めて大きい。
クの欠陥修正方法によれば、円形の透過パターン内の黒
欠陥又は円形の遮光パターンの白欠陥の修正の作業性が
飛躍的に向上する。また、修正精度においてもほぼ設計
通りの修正が可能である。また、本発明では、既存の装
置で対応できるのでコスト面の寄与が極めて大きい。
【図１】レーザ修正装置の原理を説明するための斜視図
である。
である。
【図２】レーザ修正装置の概略構成を説明するための模
式図である。
式図である。
【図３】本発明の一実施の形態にかかるフォトマスクの
欠陥修正方法の手順を説明するための部分平面図であ
る。
欠陥修正方法の手順を説明するための部分平面図であ
る。
【図４】本発明の他の実施の形態にかかるフォトマスク
の欠陥修正方法の手順を説明するための部分平面図であ
る。
の欠陥修正方法の手順を説明するための部分平面図であ
る。
【図５】本発明の他の実施の形態にかかる変形例を説明
するための部分平面図である。
するための部分平面図である。
【図６】従来のフォトマスクの欠陥修正方法の手順を説
明するための部分平面図である。
明するための部分平面図である。
１ フォトマスク ２ 円形の透過パターン ３ 遮光膜 ４ 黒欠陥 ５ 正方形のレーザ修正領域 ５’ 円形のレーザ修正領域 １１ レーザービーム １２ ビームエキスパンダ １３ 平凸レンズ １４ 可変矩形アパーチャ １５ 結像レンズ １６ パイロット光 １７ 顕微鏡５
Claims (7)
- 【請求項１】 レーザ光を可変矩形アパーチャにて整形
し、この矩形に整形されたレーザ光を結像レンズを通し
てフォトマスク上の黒欠陥部分に結像させて黒欠陥を除
去するレーザ修正装置を用い、 前記結像レンズのフォーカスを意図的にずらすことによ
って、結像レンズを通過する矩形レーザ光が、フォトマ
スク上に矩形から変形された状態のレーザ修正領域を形
成するようにして、黒欠陥を除去することを特徴とする
フォトマスクの欠陥修正方法。 - 【請求項２】 レーザ光を可変矩形アパーチャにて整形
し、この矩形に整形されたレーザ光を結像レンズを通し
てフォトマスク上の黒欠陥部分に結像させて黒欠陥を除
去するレーザ修正装置を用い、 前記結像レンズのフォーカスを意図的にずらすことによ
って、結像レンズを通過する矩形レーザ光が、フォトマ
スク上に円形又は略円形のレーザ修正領域を形成するよ
うにして、黒欠陥を除去することを特徴とするフォトマ
スクの欠陥修正方法。 - 【請求項３】 請求項１又は２記載の欠陥修正方法を用
いて、反射型液晶ディスプレイにおける反射板層を形成
するためのフォトマスクにおける円形の透過パターン又
は略円形の透過パターン上の黒欠陥の修正を行うことを
特徴とする反射板マスクの欠陥修正方法。 - 【請求項４】 レーザ光を可変矩形アパーチャにて整形
し、この矩形に整形されたレーザ光を結像レンズを通し
てフォトマスク上の白欠陥部分に結像させて修正膜を形
成するレーザ修正装置を用い、 前記結像レンズのフォーカスを意図的にずらすことによ
って、結像レンズを通過する矩形レーザ光が、フォトマ
スク上に矩形から変形された状態のレーザ修正領域を形
成するようにして、修正膜を形成して白欠陥を修正する
ことを特徴とするフォトマスクの欠陥修正方法。 - 【請求項５】 レーザ光を可変矩形アパーチャにて整形
し、この矩形に整形されたレーザ光を結像レンズを通し
てフォトマスク上の白欠陥部分に結像させて修正膜を形
成するレーザ修正装置を用い、 前記結像レンズのフォーカスを意図的にずらすことによ
って、結像レンズを通過する矩形レーザ光が、フォトマ
スク上に円形又は略円形のレーザ修正領域を形成するよ
うにして、修正膜を形成して白欠陥を修正することを特
徴とするフォトマスクの欠陥修正方法。 - 【請求項６】 請求項４又は５記載の欠陥修正方法を用
いて、反射型液晶ディスプレイにおける反射板層を形成
するためのフォトマスクにおける円形の遮光パターン又
は略円形の遮光パターン上の白欠陥の修正を行うことを
特徴とする反射板マスクの欠陥修正方法。 - 【請求項７】 請求項１〜６のいずれかに記載の欠陥修
正方法によって、欠陥修正が施されたことを特徴とする
フォトマスク。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002055311A JP3590388B2 (ja) | 2001-03-23 | 2002-03-01 | フォトマスクの欠陥修正方法 |
| TW091105552A TW531691B (en) | 2001-03-23 | 2002-03-22 | Defect correcting method and device of photomask |
| KR1020020015710A KR100665963B1 (ko) | 2001-03-23 | 2002-03-22 | 포토 마스크의 결함 수정 방법 및 포토 마스크 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001084101 | 2001-03-23 | ||
| JP2001-84101 | 2001-03-23 | ||
| JP2002055311A JP3590388B2 (ja) | 2001-03-23 | 2002-03-01 | フォトマスクの欠陥修正方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002351055A true JP2002351055A (ja) | 2002-12-04 |
| JP3590388B2 JP3590388B2 (ja) | 2004-11-17 |
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ID=26611864
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002055311A Expired - Fee Related JP3590388B2 (ja) | 2001-03-23 | 2002-03-01 | フォトマスクの欠陥修正方法 |
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|---|---|
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| KR (1) | KR100665963B1 (ja) |
| TW (1) | TW531691B (ja) |
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| US8828628B2 (en) | 2008-09-01 | 2014-09-09 | D2S, Inc. | Method and system for design of a reticle to be manufactured using variable shaped beam lithography |
| US9057956B2 (en) | 2011-02-28 | 2015-06-16 | D2S, Inc. | Method and system for design of enhanced edge slope patterns for charged particle beam lithography |
| US9164372B2 (en) | 2009-08-26 | 2015-10-20 | D2S, Inc. | Method and system for forming non-manhattan patterns using variable shaped beam lithography |
| US9323140B2 (en) | 2008-09-01 | 2016-04-26 | D2S, Inc. | Method and system for forming a pattern on a reticle using charged particle beam lithography |
| US9341936B2 (en) | 2008-09-01 | 2016-05-17 | D2S, Inc. | Method and system for forming a pattern on a reticle using charged particle beam lithography |
| US9372391B2 (en) | 2008-09-01 | 2016-06-21 | D2S, Inc. | Method and system for forming patterns using charged particle beam lithography with variable pattern dosage |
| US9612530B2 (en) | 2011-02-28 | 2017-04-04 | D2S, Inc. | Method and system for design of enhanced edge slope patterns for charged particle beam lithography |
| KR20170113184A (ko) * | 2016-03-25 | 2017-10-12 | 호야 가부시키가이샤 | 패턴 수정 방법, 포토마스크의 제조 방법, 포토마스크 및 수정막 형성 장치 |
| US11797801B2 (en) | 2021-03-16 | 2023-10-24 | Ceramic Data Solutions GmbH | Data carrier, reading method and system utilizing super resolution techniques |
| US11798590B2 (en) * | 2020-08-11 | 2023-10-24 | Ceramic Data Solutions GmbH | Data recording on ceramic material |
| US11875207B2 (en) | 2020-07-03 | 2024-01-16 | Ceramic Data Solutions GmbH | Information storage method and information storage medium with increased storage density by multi-bit coding |
| US11935572B2 (en) | 2020-07-03 | 2024-03-19 | Ceramic Data Solutions GmbH | Increased storage capacity for a method for long-term storage of information and storage medium therefor |
| US12070818B2 (en) | 2019-08-14 | 2024-08-27 | Ceramic Data Solutions GmbH | Method for long-term storage of information and storage medium therefor |
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-
2002
- 2002-03-01 JP JP2002055311A patent/JP3590388B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2002-03-22 KR KR1020020015710A patent/KR100665963B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2002-03-22 TW TW091105552A patent/TW531691B/zh not_active IP Right Cessation
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