JP4997748B2 - フォーカスモニターマークを有するフォトマスクの転写シミュレーション方法 - Google Patents
フォーカスモニターマークを有するフォトマスクの転写シミュレーション方法 Download PDFInfo
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Description
カスモニターマークを配置したフォーカスモニターマークを有するフォトマスクの転写シミュレーション方法に関する。
( a ) リソグラフィシミュレーション顕微鏡にレベリングステージからなるフォーカス制御システムを付加する工程。
( b )フォーカスモニターマークを有するフォトマスクを前記フォーカス制御システムのレベリングステージに載置、保持する工程。
( c ) フォーカスモニターマークを用いて、透過光強度のコントラストがピークになるジャストフォーカスを求め、そのジャストフォーカスを示すフォーカスモニターマークの高さ位置を前記フォーカス制御システムの制御手段に保存する工程。
( d ) リソグラフィシミュレーション顕微鏡の対物レンズをフォトマスクのメインパターン内に設定された測定対象パターンにX Y ステージにて移動し、前記フォーカス制御システムのレベリングステージにて、測定対象パターンの高さ位置を、フォーカスモニターマークの高さ位置と同じにする工程。
( e ) リソグラフィシミュレーション顕微鏡にて測定対象パターンのリソグラフィシミュレーションを行う工程。
( f ) ( d ) 及び( e ) の工程を必要回数繰り返す工程。
域11に形成されたメインパターン10の透過光強度のコントラストを測定した結果を図4に示す。メインパターン10は、レベンソン位相シフトマスクやCPLと呼ばれる開口部の透明基板を掘り込むことを特徴とするマスクパターンであり、リソグラフィシミュレーション顕微鏡の透過光強度のコントラストがピークに達するように、リソグラフィシミュレーション顕微鏡の対物レンズの高さ位置を調整しても、そのときにジャストフォーカスにならない。
11……転写有効領域
12……転写有効領域外
20……フォーカスモニターマーク
30……フォトマスク
40……レベリングステージ
50……光源
60……フォーカスセンサー
70……制御手段
80……フォーカス制御システム
Claims (1)
- 透明基板上にメインパターンが形成されてなる転写有効領域とパターンが形成されていない転写有効領域外とが設けられたフォトマスクの前記パターンが形成されていない転写有効領域外にフォーカス位置が制御可能なフォーカスモニターマークを有するフォトマスクの転写シミュレーション方法であって、少なくとも以下の工程を具備することを特徴とするフォトマスクの転写シミュレーション方法。
(a)リソグラフィシミュレーション顕微鏡にレベリングステージからなるフォーカス制御システムを付加する工程。
(b)フォーカスモニターマークを有するフォトマスクを前記フォーカス制御システムのレベリングステージに載置、保持する工程。
(c)フォーカスモニターマークを用いて、可視〜赤外の光線の透過光強度のコントラストがピークになるジャストフォーカスの高さ位置、傾きをレベリングステージにて調整し、そのジャストフォーカスを示すフォーカスモニターマークの高さ位置を前記フォーカス制御システムの制御手段に保存する工程。
(d)リソグラフィシミュレーション顕微鏡の対物レンズをフォトマスクのメインパターン内に設定された測定対象パターンにXYステージにて移動し、前記フォーカス制御システムのレベリングステージにて、測定対象パターンの高さ位置を、フォーカスモニターマークの高さ位置と同じにする工程。
(e)リソグラフィシミュレーション顕微鏡にて測定対象パターンのリソグラフィシミュレーションを行う工程。
(f)(d)及び(e)の工程を必要回数繰り返す工程としたものである。
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