JP2002350755A - レーザ走査装置およびそれを用いた画像形成装置 - Google Patents
レーザ走査装置およびそれを用いた画像形成装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】レーザビームの中心軸とアパーチャの開口の中
心とを容易に一致させることができるレーザ走査装置を
提供する。良好な出力画像を得ることができる画像形成
装置を提供する。 【解決手段】レーザダイオード１，２から、出射された
レーザビームＬ１，Ｌ２は、入射されたレーザ光を平行
光にするコリメータ３，４、ビームの角度（進行方向）
を調整するウェッジプリズム５，６を経て、ビーム近接
部材１２に導かれる。ビーム近接部材１２は、ミラー７
とハーフミラー面８ａを備えたビーム合成器８とが保持
部材９に保持されて構成されている。保持部材９のウェ
ッジプリズム５，６に対向した側には、アパーチャ１９
が備えられている。
心とを容易に一致させることができるレーザ走査装置を
提供する。良好な出力画像を得ることができる画像形成
装置を提供する。 【解決手段】レーザダイオード１，２から、出射された
レーザビームＬ１，Ｌ２は、入射されたレーザ光を平行
光にするコリメータ３，４、ビームの角度（進行方向）
を調整するウェッジプリズム５，６を経て、ビーム近接
部材１２に導かれる。ビーム近接部材１２は、ミラー７
とハーフミラー面８ａを備えたビーム合成器８とが保持
部材９に保持されて構成されている。保持部材９のウェ
ッジプリズム５，６に対向した側には、アパーチャ１９
が備えられている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、複数のレーザビー
ムを走査するためのレーザ走査装置およびそれを用いた
画像形成装置に関する。
ムを走査するためのレーザ走査装置およびそれを用いた
画像形成装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】高速で印刷を行うことができるプリンタ
の代表的なものとして、レーザビームプリンタがある。
レーザビームプリンタは、レーザ走査装置によって、た
とえばドラム状の感光体上をレーザビームで走査するこ
とにより、感光体上に静電潜像を形成し、静電潜像をト
ナーによって現像して可視のトナー像を形成し、トナー
像を用紙上に転写することによって出力画像を得るもの
である。印刷速度を向上させるために、複数（たとえば
２本）のレーザビームを用いて、感光体上に静電潜像を
形成するものもある。この場合、１本のレーザビームを
用いた場合と比べて、静電潜像を高速に形成することが
できるため、出力画像を高速で得ることができる。
の代表的なものとして、レーザビームプリンタがある。
レーザビームプリンタは、レーザ走査装置によって、た
とえばドラム状の感光体上をレーザビームで走査するこ
とにより、感光体上に静電潜像を形成し、静電潜像をト
ナーによって現像して可視のトナー像を形成し、トナー
像を用紙上に転写することによって出力画像を得るもの
である。印刷速度を向上させるために、複数（たとえば
２本）のレーザビームを用いて、感光体上に静電潜像を
形成するものもある。この場合、１本のレーザビームを
用いた場合と比べて、静電潜像を高速に形成することが
できるため、出力画像を高速で得ることができる。
【０００３】また、プリンタの重要な特性の１つに、出
力画像のきめ細やかさ、すなわち解像度がある。レーザ
ビームプリンタにおいて、解像度を高くするためには、
感光体に照射されるレーザビームの径が小さくされる。
すなわち、ビーム径の小さなレーザビームにより、感光
体上に解像度の高い静電潜像を形成できるので、解像度
の高い出力画像が得られる。図３は、従来のレーザビー
ムプリンタの一部の構造を示す図解図である。図３で
は、レーザビームを生成して走査するレーザ走査装置６
３および感光体ドラム６２のみを示している。
力画像のきめ細やかさ、すなわち解像度がある。レーザ
ビームプリンタにおいて、解像度を高くするためには、
感光体に照射されるレーザビームの径が小さくされる。
すなわち、ビーム径の小さなレーザビームにより、感光
体上に解像度の高い静電潜像を形成できるので、解像度
の高い出力画像が得られる。図３は、従来のレーザビー
ムプリンタの一部の構造を示す図解図である。図３で
は、レーザビームを生成して走査するレーザ走査装置６
３および感光体ドラム６２のみを示している。
【０００４】レーザ走査装置６３の概略は、レーザダイ
オードユニット６４で生成され調整されたレーザビーム
Ｌ５１，Ｌ５２が、ポリゴンミラー６０で反射されて感
光体ドラム６２の方へ導かれる構成となっている。ポリ
ゴンミラー６０が高速で回転することにより、レーザビ
ームＬ５１，Ｌ５２は感光体ドラム６２上を感光体ドラ
ム６２の長さ方向（主走査方向）に走査される。ポリゴ
ンミラー６０は一定の角速度で回転するが、ｆθレンズ
６１により、レーザビームＬ５１，Ｌ５２は感光体ドラ
ム６２上を等速度で走査するようにされる。
オードユニット６４で生成され調整されたレーザビーム
Ｌ５１，Ｌ５２が、ポリゴンミラー６０で反射されて感
光体ドラム６２の方へ導かれる構成となっている。ポリ
ゴンミラー６０が高速で回転することにより、レーザビ
ームＬ５１，Ｌ５２は感光体ドラム６２上を感光体ドラ
ム６２の長さ方向（主走査方向）に走査される。ポリゴ
ンミラー６０は一定の角速度で回転するが、ｆθレンズ
６１により、レーザビームＬ５１，Ｌ５２は感光体ドラ
ム６２上を等速度で走査するようにされる。
【０００５】レーザダイオードユニット６４において、
レーザダイオード５１，５２から出射されたレーザビー
ムＬ５１，Ｌ５２は、ビームを平行光にするコリメータ
レンズを備えたコリメータ５３，５４、ビームの角度
（進行方向）を調整するウェッジプリズム５５，５６を
経て、ミラー面５７ａおよびハーフミラー面５７ｂを備
えたプリズム５７に導かれる。２本のレーザビームＬ５
１，Ｌ５２は、プリズム５７により互いに平行で近接し
たビームとされる。
レーザダイオード５１，５２から出射されたレーザビー
ムＬ５１，Ｌ５２は、ビームを平行光にするコリメータ
レンズを備えたコリメータ５３，５４、ビームの角度
（進行方向）を調整するウェッジプリズム５５，５６を
経て、ミラー面５７ａおよびハーフミラー面５７ｂを備
えたプリズム５７に導かれる。２本のレーザビームＬ５
１，Ｌ５２は、プリズム５７により互いに平行で近接し
たビームとされる。
【０００６】さらに、レーザビームＬ５１，Ｌ５２は、
感光体ドラム６２上で主走査方向と垂直方向（副走査方
向）に結像させるシリンドリカルレンズ５８を経て、ア
パーチャ５９の開口を通過する。アパーチャ５９によ
り、レーザビームＬ５１，Ｌ５２は絞られ、同時にビー
ム断面の形が整えられる。すなわち、レーザビームＬ５
１，Ｌ５２の光路において、アパーチャ５９より前のレ
ーザビームＬ５１，Ｌ５２の断面は、アパーチャ５９の
開口より大きく拡がっており、アパーチャ５９の開口を
通ることにより、レーザビームＬ５１，Ｌ５２の所定の
領域以上に拡がった部分は遮断される。これにより、感
光体ドラム６２上には、ビーム径の小さなレーザビーム
Ｌ５１，Ｌ５２が照射されるので、解像度の高い静電潜
像が形成され、解像度が高い出力画像が得られる。
感光体ドラム６２上で主走査方向と垂直方向（副走査方
向）に結像させるシリンドリカルレンズ５８を経て、ア
パーチャ５９の開口を通過する。アパーチャ５９によ
り、レーザビームＬ５１，Ｌ５２は絞られ、同時にビー
ム断面の形が整えられる。すなわち、レーザビームＬ５
１，Ｌ５２の光路において、アパーチャ５９より前のレ
ーザビームＬ５１，Ｌ５２の断面は、アパーチャ５９の
開口より大きく拡がっており、アパーチャ５９の開口を
通ることにより、レーザビームＬ５１，Ｌ５２の所定の
領域以上に拡がった部分は遮断される。これにより、感
光体ドラム６２上には、ビーム径の小さなレーザビーム
Ｌ５１，Ｌ５２が照射されるので、解像度の高い静電潜
像が形成され、解像度が高い出力画像が得られる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ところが、この構成の
レーザ走査装置６３において、アパーチャ５９は光源で
あるレーザダイオード５１，５２から長い距離をおいて
配置されており、レーザダイオード５１，５２からアパ
ーチャ５９に至る光路は長い。したがって、レーザビー
ムＬ５１，Ｌ５２の中心軸と、アパーチャ５９の開口の
中心とがずれやすくなる。なぜなら、レーザダイオード
５１，５２近傍でのレーザビームＬ５１，Ｌ５２の方向
にわずかなずれがあると、レーザダイオード５１，５２
から長い光路を経た位置では、レーザビームＬ５１，Ｌ
５２に大きなずれが生じるからである。
レーザ走査装置６３において、アパーチャ５９は光源で
あるレーザダイオード５１，５２から長い距離をおいて
配置されており、レーザダイオード５１，５２からアパ
ーチャ５９に至る光路は長い。したがって、レーザビー
ムＬ５１，Ｌ５２の中心軸と、アパーチャ５９の開口の
中心とがずれやすくなる。なぜなら、レーザダイオード
５１，５２近傍でのレーザビームＬ５１，Ｌ５２の方向
にわずかなずれがあると、レーザダイオード５１，５２
から長い光路を経た位置では、レーザビームＬ５１，Ｌ
５２に大きなずれが生じるからである。
【０００８】レーザビームＬ５１，Ｌ５２は、その中心
軸から離れるに従い単位面積あたりの光量（エネルギ
ー）が急激に減少する。したがって、レーザビームＬ５
１，Ｌ５２が、上述のずれが生じた状態でアパーチャ５
９の開口を通過すると、ビーム断面中央領域の光がアパ
ーチャ５９によって遮断されるので、アパーチャ５９通
過後の光量は著しく小さくなる。これにより、感光体ド
ラム６２上に良好な静電潜像が形成されなくなり、出力
画像の質が劣化する。
軸から離れるに従い単位面積あたりの光量（エネルギ
ー）が急激に減少する。したがって、レーザビームＬ５
１，Ｌ５２が、上述のずれが生じた状態でアパーチャ５
９の開口を通過すると、ビーム断面中央領域の光がアパ
ーチャ５９によって遮断されるので、アパーチャ５９通
過後の光量は著しく小さくなる。これにより、感光体ド
ラム６２上に良好な静電潜像が形成されなくなり、出力
画像の質が劣化する。
【０００９】そこで、この発明の目的は、レーザビーム
の中心軸とアパーチャの開口の中心とを容易に一致させ
ることができるレーザ走査装置を提供することである。
この発明の他の目的は、良好な出力画像を得ることがで
きる画像形成装置を提供することである。
の中心軸とアパーチャの開口の中心とを容易に一致させ
ることができるレーザ走査装置を提供することである。
この発明の他の目的は、良好な出力画像を得ることがで
きる画像形成装置を提供することである。
【００１０】
【課題を解決するための手段および発明の効果】上記の
課題を解決するための請求項１記載の発明は、複数のレ
ーザ光源（１，２，２１，２２）と、上記複数のレーザ
光源からのレーザ光をそれぞれ平行光のレーザビーム
（Ｌ１，Ｌ２，Ｌ２１，Ｌ２２）にする複数の平行光形
成手段（３，４，２３，２４）と、上記複数のレーザビ
ームを互いにほぼ平行で近接したビームとするためのビ
ーム近接手段（１２，２９）と、上記レーザビームの光
路において、上記平行光形成手段と上記ビーム近接手段
との間のいずれかの位置に配置され、上記レーザビーム
の断面において一定領域内のレーザ光のみを通過させる
ことによって、整形されたレーザビームを生成するアパ
ーチャ（１９，２７，２８）とを備えたことを特徴とす
るレーザ走査装置（１７）である。
課題を解決するための請求項１記載の発明は、複数のレ
ーザ光源（１，２，２１，２２）と、上記複数のレーザ
光源からのレーザ光をそれぞれ平行光のレーザビーム
（Ｌ１，Ｌ２，Ｌ２１，Ｌ２２）にする複数の平行光形
成手段（３，４，２３，２４）と、上記複数のレーザビ
ームを互いにほぼ平行で近接したビームとするためのビ
ーム近接手段（１２，２９）と、上記レーザビームの光
路において、上記平行光形成手段と上記ビーム近接手段
との間のいずれかの位置に配置され、上記レーザビーム
の断面において一定領域内のレーザ光のみを通過させる
ことによって、整形されたレーザビームを生成するアパ
ーチャ（１９，２７，２８）とを備えたことを特徴とす
るレーザ走査装置（１７）である。
【００１１】なお、括弧内の英数字は、後述の実施形態
における対応構成要素等を表す。以下、この項において
同じである。平行光形成手段は、たとえば、コリメータ
レンズとすることができる。ビーム近接手段は、たとえ
ば、ハーフミラーとすることができる。レーザビームが
２本の場合、ハーフミラーを透過した一方のレーザビー
ムと、ハーフミラーで反射された他方のレーザビームと
が近接するようにすることにより、互いに離れた光源か
ら得られた２本のレーザビームを、互いにほぼ平行で近
接したものとすることができる。一方または他方のレー
ザビームをハーフミラーの方へ導くため、さらにミラー
が備えられていてもよい。
における対応構成要素等を表す。以下、この項において
同じである。平行光形成手段は、たとえば、コリメータ
レンズとすることができる。ビーム近接手段は、たとえ
ば、ハーフミラーとすることができる。レーザビームが
２本の場合、ハーフミラーを透過した一方のレーザビー
ムと、ハーフミラーで反射された他方のレーザビームと
が近接するようにすることにより、互いに離れた光源か
ら得られた２本のレーザビームを、互いにほぼ平行で近
接したものとすることができる。一方または他方のレー
ザビームをハーフミラーの方へ導くため、さらにミラー
が備えられていてもよい。
【００１２】この発明によれば、アパーチャは平行光形
成手段とビーム近接手段との間に配置される。したがっ
て、光源（たとえば、レーザダイオード）とアパーチャ
との距離（光路）を短くすることができる。これによ
り、レーザビームの中心軸とアパーチャの開口の中心と
を容易に一致させることができる。すなわち、レーザビ
ームは、単位面積あたりの光量（エネルギー）が最も大
きい中心軸近傍の部分のみがアパーチャの開口を通過で
き、周縁部のレーザ光は遮断される。
成手段とビーム近接手段との間に配置される。したがっ
て、光源（たとえば、レーザダイオード）とアパーチャ
との距離（光路）を短くすることができる。これによ
り、レーザビームの中心軸とアパーチャの開口の中心と
を容易に一致させることができる。すなわち、レーザビ
ームは、単位面積あたりの光量（エネルギー）が最も大
きい中心軸近傍の部分のみがアパーチャの開口を通過で
き、周縁部のレーザ光は遮断される。
【００１３】光源は、レーザダイオード（半導体レー
ザ）以外に、ガスレーザ（たとえば、Ｈｅ−Ｎｅレー
ザ）などであってもよい。アパーチャは、請求項２記載
のようにビーム近接手段を保持するビーム近接手段保持
部材（９）に設けられていてもよく、請求項３記載のよ
うに平行光形成手段を保持する平行光形成手段保持部材
に設けられていてもよい。これらの場合、アパーチャを
別個に設けた場合に比して、ビーム近接手段や平行光形
成手段などとアパーチャの開口との相対的な位置関係を
一定に保ちやすい。
ザ）以外に、ガスレーザ（たとえば、Ｈｅ−Ｎｅレー
ザ）などであってもよい。アパーチャは、請求項２記載
のようにビーム近接手段を保持するビーム近接手段保持
部材（９）に設けられていてもよく、請求項３記載のよ
うに平行光形成手段を保持する平行光形成手段保持部材
に設けられていてもよい。これらの場合、アパーチャを
別個に設けた場合に比して、ビーム近接手段や平行光形
成手段などとアパーチャの開口との相対的な位置関係を
一定に保ちやすい。
【００１４】請求項４記載の発明は、感光体（１６）
と、この感光体に静電潜像を書き込むための請求項１な
いし３のいずれかに記載のレーザ走査装置とを備えたこ
とを特徴とする画像形成装置である。請求項１ないし３
のいずれかに記載のレーザ走査装置により、感光体上に
良好な静電潜像を形成することができるので、このよう
なレーザ走査装置を備えた画像形成装置は、良好な出力
画像を得ることができる。画像形成装置の種類は、たと
えば、プリンタ、複写機、ファクシミリ装置などとする
ことができる。
と、この感光体に静電潜像を書き込むための請求項１な
いし３のいずれかに記載のレーザ走査装置とを備えたこ
とを特徴とする画像形成装置である。請求項１ないし３
のいずれかに記載のレーザ走査装置により、感光体上に
良好な静電潜像を形成することができるので、このよう
なレーザ走査装置を備えた画像形成装置は、良好な出力
画像を得ることができる。画像形成装置の種類は、たと
えば、プリンタ、複写機、ファクシミリ装置などとする
ことができる。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下では、添付図面を参照して、
本発明の実施の形態について詳細に説明する。図１は、
本発明の一実施形態に係るレーザビームプリンタの一部
の構造を示す図解図である。図１では、レーザビームを
生成して走査するレーザ走査装置１７および感光体１６
のみを示している。
本発明の実施の形態について詳細に説明する。図１は、
本発明の一実施形態に係るレーザビームプリンタの一部
の構造を示す図解図である。図１では、レーザビームを
生成して走査するレーザ走査装置１７および感光体１６
のみを示している。
【００１６】レーザ走査装置１７は、いわゆる２ビーム
のレーザ走査装置であり、２本のレーザビームＬ１，Ｌ
２をドラム状の感光体１６に照射することにより、感光
体１６上に静電潜像を高速に形成することができる。こ
のレーザ走査装置１７は、レーザダイオードユニット１
８で生成され調整されたレーザビームＬ１，Ｌ２が、ポ
リゴンミラー１４で反射されて感光体１６の方へ導かれ
る構成となっている。ポリゴンミラー１４が高速で回転
することにより、レーザビームＬ１，Ｌ２は感光体１６
上を感光体１６の長さ方向（主走査方向）に走査され
る。ポリゴンミラー１４は一定の角速度で回転するが、
ｆθレンズ１５により、レーザビームＬ１，Ｌ２は感光
体１６上を等速度で走査するようにされる。感光体１６
が回転軸Ａを中心に回転しながらレーザビームＬ１，Ｌ
２の走査が繰り返されることにより、主走査方向と垂直
方向（副走査方向）にもレーザビームＬ１，Ｌ２が照射
される部分が移動する。これにより、感光体１６の周面
に２次元的な静電潜像が形成される。
のレーザ走査装置であり、２本のレーザビームＬ１，Ｌ
２をドラム状の感光体１６に照射することにより、感光
体１６上に静電潜像を高速に形成することができる。こ
のレーザ走査装置１７は、レーザダイオードユニット１
８で生成され調整されたレーザビームＬ１，Ｌ２が、ポ
リゴンミラー１４で反射されて感光体１６の方へ導かれ
る構成となっている。ポリゴンミラー１４が高速で回転
することにより、レーザビームＬ１，Ｌ２は感光体１６
上を感光体１６の長さ方向（主走査方向）に走査され
る。ポリゴンミラー１４は一定の角速度で回転するが、
ｆθレンズ１５により、レーザビームＬ１，Ｌ２は感光
体１６上を等速度で走査するようにされる。感光体１６
が回転軸Ａを中心に回転しながらレーザビームＬ１，Ｌ
２の走査が繰り返されることにより、主走査方向と垂直
方向（副走査方向）にもレーザビームＬ１，Ｌ２が照射
される部分が移動する。これにより、感光体１６の周面
に２次元的な静電潜像が形成される。
【００１７】レーザダイオードユニット１８において、
レーザダイオード１，２から、ある角度幅で拡がるよう
に出射されたレーザビームＬ１，Ｌ２は、コリメータ
３，４を通ることにより、概略平行光とされる。コリメ
ータ３，４は、コリメータレンズが保持部材に保持され
てなる。その後、レーザビームＬ１，Ｌ２は、ウェッジ
プリズム５，６を通ることにより、ビームの角度（進行
方向）が調整される。次に、レーザビームＬ１，Ｌ２
は、ビーム近接部材１２に導かれる。ビーム近接部材１
２は、ミラー７とハーフミラー面８ａを備えたビーム合
成器８とが保持部材９に保持されて構成されている。保
持部材９のウェッジプリズム５，６に対向した側には、
開口１０，１１が設けられた遮光板であるアパーチャ１
９が備えられている。
レーザダイオード１，２から、ある角度幅で拡がるよう
に出射されたレーザビームＬ１，Ｌ２は、コリメータ
３，４を通ることにより、概略平行光とされる。コリメ
ータ３，４は、コリメータレンズが保持部材に保持され
てなる。その後、レーザビームＬ１，Ｌ２は、ウェッジ
プリズム５，６を通ることにより、ビームの角度（進行
方向）が調整される。次に、レーザビームＬ１，Ｌ２
は、ビーム近接部材１２に導かれる。ビーム近接部材１
２は、ミラー７とハーフミラー面８ａを備えたビーム合
成器８とが保持部材９に保持されて構成されている。保
持部材９のウェッジプリズム５，６に対向した側には、
開口１０，１１が設けられた遮光板であるアパーチャ１
９が備えられている。
【００１８】レーザビームＬ１，Ｌ２は、開口１０，１
１を通って絞られ、同時にビーム断面の形が整えられ
る。すなわち、レーザビームＬ１，Ｌ２の光路におい
て、開口１０，１１より前のレーザビームＬ１，Ｌ２
は、開口１０，１１より大きく拡がっている。レーザビ
ームＬ１，Ｌ２は、開口１０，１１の部分のみがアパー
チャ１９を通過でき、その周縁の部分は遮断される。こ
れにより、感光体１６上にビーム径の小さなレーザビー
ムＬ１，Ｌ２を与えられる。
１を通って絞られ、同時にビーム断面の形が整えられ
る。すなわち、レーザビームＬ１，Ｌ２の光路におい
て、開口１０，１１より前のレーザビームＬ１，Ｌ２
は、開口１０，１１より大きく拡がっている。レーザビ
ームＬ１，Ｌ２は、開口１０，１１の部分のみがアパー
チャ１９を通過でき、その周縁の部分は遮断される。こ
れにより、感光体１６上にビーム径の小さなレーザビー
ムＬ１，Ｌ２を与えられる。
【００１９】開口１１を通過したレーザビームＬ２の一
部は、ビーム合成器８のハーフミラー面８ａを透過して
直進する。開口１０を通過したレーザビームＬ１は、ミ
ラー７で全反射されて、ビーム合成器８の方へ導かれ、
ハーフミラー面８ａでその一部が反射される。ハーフミ
ラー面８ａで反射したレーザビームＬ１と、ハーフミラ
ー面８ａを透過したレーザビームＬ２とは、互いにほぼ
平行で近接した状態となる。
部は、ビーム合成器８のハーフミラー面８ａを透過して
直進する。開口１０を通過したレーザビームＬ１は、ミ
ラー７で全反射されて、ビーム合成器８の方へ導かれ、
ハーフミラー面８ａでその一部が反射される。ハーフミ
ラー面８ａで反射したレーザビームＬ１と、ハーフミラ
ー面８ａを透過したレーザビームＬ２とは、互いにほぼ
平行で近接した状態となる。
【００２０】さらに、レーザビームＬ１，Ｌ２は、シリ
ンドリカルレンズ１３により、副走査方向に関してポリ
ゴンミラー１４の反射面近傍で収束するように結像され
る。感光体１６の表面は、予め一様に帯電されており、
レーザビームＬ１，Ｌ２が照射されることにより静電潜
像が形成される。その後、静電潜像は現像装置（図示し
ない）によりトナー像とされ、トナー像が用紙に転写さ
れて定着されることにより、出力画像が得られる。
ンドリカルレンズ１３により、副走査方向に関してポリ
ゴンミラー１４の反射面近傍で収束するように結像され
る。感光体１６の表面は、予め一様に帯電されており、
レーザビームＬ１，Ｌ２が照射されることにより静電潜
像が形成される。その後、静電潜像は現像装置（図示し
ない）によりトナー像とされ、トナー像が用紙に転写さ
れて定着されることにより、出力画像が得られる。
【００２１】以上の実施形態のレーザ走査装置１７にお
いては、従来のレーザ走査装置６３（図３参照）と比較
して、アパーチャ１９の開口１０，１１は、レーザダイ
オード１，２の近くに配置されている。すなわち、光源
からアパーチャ１９の開口１０，１１に至る光路は短
い。したがって、レーザビームＬ１，Ｌ２の中心軸とア
パーチャ１９の開口１０，１１の中心とを、容易に一致
させることができる。これにより、レーザビームＬ１，
Ｌ２は、単位面積あたりの光量（エネルギー）が最も大
きい中心軸近傍の部分が、アパーチャ１９の開口１０，
１１を通過する。したがって、感光体１６上に充分大き
なエネルギーのレーザビームＬ１，Ｌ２を与えることが
できるので、良好な静電潜像を形成できる。
いては、従来のレーザ走査装置６３（図３参照）と比較
して、アパーチャ１９の開口１０，１１は、レーザダイ
オード１，２の近くに配置されている。すなわち、光源
からアパーチャ１９の開口１０，１１に至る光路は短
い。したがって、レーザビームＬ１，Ｌ２の中心軸とア
パーチャ１９の開口１０，１１の中心とを、容易に一致
させることができる。これにより、レーザビームＬ１，
Ｌ２は、単位面積あたりの光量（エネルギー）が最も大
きい中心軸近傍の部分が、アパーチャ１９の開口１０，
１１を通過する。したがって、感光体１６上に充分大き
なエネルギーのレーザビームＬ１，Ｌ２を与えることが
できるので、良好な静電潜像を形成できる。
【００２２】また、アパーチャ１９は保持部材９に設け
られている。これにより、単独の部材として、たとえ
ば、保持部材９とウェッジプリズム５，６との間などに
設けた場合と比べて、ビーム近接部材１２やウェッジプ
リズム５，６などの光学部材との相対的な位置関係を安
定に保つことができる。このようなレーザビームプリン
タは、良好な出力画像を得ることができる。図２は、本
発明の他の実施形態に係るレーザビームプリンタの一部
の構造を示す図解図である。図２では、レーザ走査装置
のうちレーザダイオードユニットのみを示している。
られている。これにより、単独の部材として、たとえ
ば、保持部材９とウェッジプリズム５，６との間などに
設けた場合と比べて、ビーム近接部材１２やウェッジプ
リズム５，６などの光学部材との相対的な位置関係を安
定に保つことができる。このようなレーザビームプリン
タは、良好な出力画像を得ることができる。図２は、本
発明の他の実施形態に係るレーザビームプリンタの一部
の構造を示す図解図である。図２では、レーザ走査装置
のうちレーザダイオードユニットのみを示している。
【００２３】レーザダイオード２１，２２から、ある角
度幅で拡がるように出射されたレーザビームＬ２１，Ｌ
２２は、コリメータ２３，２４を通ることにより、概略
平行光とされる。コリメータ２３，２４は、コリメータ
レンズが保持部材に保持されてなる。その後、レーザビ
ームＬ２１，Ｌ２２は、ウェッジプリズム２５，２６の
方へ導かれる。コリメータ２３，２４において、コリメ
ータレンズの保持部材のウェッジプリズム２５，２６に
対向した面には、アパーチャ２７，２８が設けられてい
る。レーザビームＬ２１，Ｌ２２は、アパーチャ２７，
２８の開口を通ることにより絞られ、同時にビーム断面
の形が整えられる。
度幅で拡がるように出射されたレーザビームＬ２１，Ｌ
２２は、コリメータ２３，２４を通ることにより、概略
平行光とされる。コリメータ２３，２４は、コリメータ
レンズが保持部材に保持されてなる。その後、レーザビ
ームＬ２１，Ｌ２２は、ウェッジプリズム２５，２６の
方へ導かれる。コリメータ２３，２４において、コリメ
ータレンズの保持部材のウェッジプリズム２５，２６に
対向した面には、アパーチャ２７，２８が設けられてい
る。レーザビームＬ２１，Ｌ２２は、アパーチャ２７，
２８の開口を通ることにより絞られ、同時にビーム断面
の形が整えられる。
【００２４】次に、２本のレーザビームＬ２１，Ｌ２２
は、プリズム２９に導かれる。プリズム２９は、平行に
配されたミラー面２９ａとハーフミラー面２９ｂとを備
えている。レーザビームＬ２２の一部は、ハーフミラー
面２９ｂを透過して直進する。レーザビームＬ２１は、
ミラー面２９ａで全反射されてハーフミラー面２９ｂの
方へ導かれ、ハーフミラー面２９ｂでその一部が反射さ
れる。ハーフミラー面２９ｂで反射したレーザビームＬ
２１と、ハーフミラー面２９ｂを透過したレーザビーム
Ｌ２２とは、互いにほぼ平行で近接した状態となる。
は、プリズム２９に導かれる。プリズム２９は、平行に
配されたミラー面２９ａとハーフミラー面２９ｂとを備
えている。レーザビームＬ２２の一部は、ハーフミラー
面２９ｂを透過して直進する。レーザビームＬ２１は、
ミラー面２９ａで全反射されてハーフミラー面２９ｂの
方へ導かれ、ハーフミラー面２９ｂでその一部が反射さ
れる。ハーフミラー面２９ｂで反射したレーザビームＬ
２１と、ハーフミラー面２９ｂを透過したレーザビーム
Ｌ２２とは、互いにほぼ平行で近接した状態となる。
【００２５】その後、レーザビームＬ２１，Ｌ２２は、
図１の実施形態と同様シリンドリカルレンズ、ポリゴン
ミラー、ｆθレンズなどを経て感光体上に導かれる。こ
の実施形態では、図１に示す実施形態のレーザ走査装置
と比べて、アパーチャ２７はさらにレーザダイオード２
１，２２の近くに配されている。したがって、レーザビ
ームＬ２１，Ｌ２２の中心軸とアパーチャ２７，２８の
開口の中心とを、さらに容易に一致させることができ
る。
図１の実施形態と同様シリンドリカルレンズ、ポリゴン
ミラー、ｆθレンズなどを経て感光体上に導かれる。こ
の実施形態では、図１に示す実施形態のレーザ走査装置
と比べて、アパーチャ２７はさらにレーザダイオード２
１，２２の近くに配されている。したがって、レーザビ
ームＬ２１，Ｌ２２の中心軸とアパーチャ２７，２８の
開口の中心とを、さらに容易に一致させることができ
る。
【００２６】ビーム近接手段として、図２に示すような
プリズム２９を用いた場合、アパーチャは、プリズム２
９のウェッジプリズム２５，２６に対向した表面に形成
された遮光性の膜に開口が設けられたものであってもよ
い。本発明に係るレーザ走査装置は、レーザビームプリ
ンタ以外に、複写機やファクシミリ装置など他の種類の
画像形成装置に採用することができる。その他、特許請
求の範囲に記載された事項の範囲で種々の変更を施すこ
とが可能である。
プリズム２９を用いた場合、アパーチャは、プリズム２
９のウェッジプリズム２５，２６に対向した表面に形成
された遮光性の膜に開口が設けられたものであってもよ
い。本発明に係るレーザ走査装置は、レーザビームプリ
ンタ以外に、複写機やファクシミリ装置など他の種類の
画像形成装置に採用することができる。その他、特許請
求の範囲に記載された事項の範囲で種々の変更を施すこ
とが可能である。
【図１】本発明の一実施形態に係るレーザビームプリン
タの一部の構造を示す図解図である。
タの一部の構造を示す図解図である。
【図２】本発明の他の実施形態に係るレーザビームプリ
ンタの一部の構造を示す図解図である。
ンタの一部の構造を示す図解図である。
【図３】従来のレーザビームプリンタの一部の構造を示
す図解図である。
す図解図である。
１，２，２１，２２ レーザダイオード ３，４，２３，２４ コリメータ ５，６，２５，２６ ウェッジプリズム １０，１１ 開口 ７ ミラー ８ ビーム合成器 ９ 保持部材 １２ ビーム近接部材 １６ 感光体 １７ レーザ走査装置 １９，２７，２８ アパーチャ ２９ プリズム
フロントページの続き (72)発明者 米今 義伸 大阪府大阪市中央区玉造１丁目２番28号 京セラミタ株式会社内 (72)発明者 木山 正則 大阪府大阪市中央区玉造１丁目２番28号 京セラミタ株式会社内 (72)発明者 二宮 裕一 大阪府大阪市中央区玉造１丁目２番28号 京セラミタ株式会社内 (72)発明者 栗原 隆之 大阪府大阪市中央区玉造１丁目２番28号 京セラミタ株式会社内 (72)発明者 杉村 英樹 大阪府大阪市中央区玉造１丁目２番28号 京セラミタ株式会社内 Ｆターム(参考） 2C362 AA34 AA40 AA42 AA43 BA57 BA58 BA61 BA81 BA82 BA84 DA03 2H045 AA01 BA22 BA33 DA02 2H076 AB05 AB06 AB08 AB09 AB12 AB18 AB22 EA04
Claims (4)
- 【請求項１】複数のレーザ光源と、 上記複数のレーザ光源からのレーザ光をそれぞれ平行光
のレーザビームにする複数の平行光形成手段と、 上記複数のレーザビームを互いにほぼ平行で近接したビ
ームとするためのビーム近接手段と、 上記レーザビームの光路において、上記平行光形成手段
と上記ビーム近接手段との間のいずれかの位置に配置さ
れ、上記レーザビームの断面において一定領域内のレー
ザ光のみを通過させることによって、整形されたレーザ
ビームを生成するアパーチャとを備えたことを特徴とす
るレーザ走査装置。 - 【請求項２】上記アパーチャが、上記ビーム近接手段を
保持するビーム近接手段保持部材に設けられていること
を特徴とする請求項１記載のレーザ走査装置。 - 【請求項３】上記アパーチャが、上記平行光形成手段を
保持する平行光形成手段保持部材に設けられていること
を特徴とする請求項１記載のレーザ走査装置。 - 【請求項４】感光体と、この感光体に静電潜像を書き込
むための請求項１ないし３のいずれかに記載のレーザ走
査装置とを備えたことを特徴とする画像形成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001155923A JP2002350755A (ja) | 2001-05-24 | 2001-05-24 | レーザ走査装置およびそれを用いた画像形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001155923A JP2002350755A (ja) | 2001-05-24 | 2001-05-24 | レーザ走査装置およびそれを用いた画像形成装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002350755A true JP2002350755A (ja) | 2002-12-04 |
Family
ID=19000022
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001155923A Pending JP2002350755A (ja) | 2001-05-24 | 2001-05-24 | レーザ走査装置およびそれを用いた画像形成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002350755A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007256514A (ja) * | 2006-03-22 | 2007-10-04 | Kyocera Mita Corp | レーザビーム走査ユニットの製造方法、レーザビーム走査ユニット、画像形成装置及びレーザビーム走査ユニットの調整方法 |
-
2001
- 2001-05-24 JP JP2001155923A patent/JP2002350755A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007256514A (ja) * | 2006-03-22 | 2007-10-04 | Kyocera Mita Corp | レーザビーム走査ユニットの製造方法、レーザビーム走査ユニット、画像形成装置及びレーザビーム走査ユニットの調整方法 |
| JP4632981B2 (ja) * | 2006-03-22 | 2011-02-16 | 京セラミタ株式会社 | レーザビーム走査ユニットの製造方法、レーザビーム走査ユニット、画像形成装置及びレーザビーム走査ユニットの調整方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040507 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040602 |
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| A521 | Written amendment |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040831 |
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